JPH09222500A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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- JPH09222500A JPH09222500A JP5369096A JP5369096A JPH09222500A JP H09222500 A JPH09222500 A JP H09222500A JP 5369096 A JP5369096 A JP 5369096A JP 5369096 A JP5369096 A JP 5369096A JP H09222500 A JPH09222500 A JP H09222500A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、電子線を酸素を含んだ雰囲気中で
照射する際に発生するオゾンを分解するオゾン分解処理
装置を具備することにより、装置のランニングコストの
低減、装置の長寿命化が可能で、環境汚染等の恐れがな
い電子線照射装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物
に電子線を照射する電子線照射装置において、前記雰囲
気中の水分量を低減させるための乾燥装置を通したガス
を照射室に供給してなり、かつ照射室内で生成した排気
ガス中のオゾンを分解処理する装置を具備して構成す
る。
照射する際に発生するオゾンを分解するオゾン分解処理
装置を具備することにより、装置のランニングコストの
低減、装置の長寿命化が可能で、環境汚染等の恐れがな
い電子線照射装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物
に電子線を照射する電子線照射装置において、前記雰囲
気中の水分量を低減させるための乾燥装置を通したガス
を照射室に供給してなり、かつ照射室内で生成した排気
ガス中のオゾンを分解処理する装置を具備して構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線の照射によ
り照射室内に発生するオゾンの分解処理装置を備えた電
子線照射装置に関し、特にオゾン分解処理装置の寿命特
性の改善に関する。
り照射室内に発生するオゾンの分解処理装置を備えた電
子線照射装置に関し、特にオゾン分解処理装置の寿命特
性の改善に関する。
【０００２】
【従来の技術】比較的加速電圧が低い電子線照射による
応用例として、高分子のラジカル反応を利用したものが
多く、例えば重合反応により樹脂を硬化させたり、架橋
反応により架橋させたりするものがある。このラジカル
反応において、照射雰囲気中に酸素が存在する場合、酸
素が活性化されて高分子中のラジカルとこの酸素が結合
し、高分子中のラジカル反応が阻害されるという問題が
ある。そこで、照射雰囲気中に不活性ガス、例えば価格
の安い高純度の窒素ガスを供給して、酸素濃度を低減さ
せることが行われている。そして、排気ガス中にオゾン
が生成することがないので、その分解処理を考慮する必
要はなかった。
応用例として、高分子のラジカル反応を利用したものが
多く、例えば重合反応により樹脂を硬化させたり、架橋
反応により架橋させたりするものがある。このラジカル
反応において、照射雰囲気中に酸素が存在する場合、酸
素が活性化されて高分子中のラジカルとこの酸素が結合
し、高分子中のラジカル反応が阻害されるという問題が
ある。そこで、照射雰囲気中に不活性ガス、例えば価格
の安い高純度の窒素ガスを供給して、酸素濃度を低減さ
せることが行われている。そして、排気ガス中にオゾン
が生成することがないので、その分解処理を考慮する必
要はなかった。
【０００３】近年、装置のランニングコストを低減する
ために、酸素を含んだ雰囲気中で電子線照射しても反応
が進むカチオン重合タイプの樹脂の研究がされている。
又、ラミネーションや殺菌・滅菌処理の場合は、酸素を
含んだ雰囲気中の照射では何ら問題とならないためこの
雰囲気中の処理が行なえるが、反面オゾンが発生するこ
とから低純度でコストが安い窒素ガスを供給したり、こ
の雰囲気中で照射して発生するオゾンを分解処理して排
気するようにしている。
ために、酸素を含んだ雰囲気中で電子線照射しても反応
が進むカチオン重合タイプの樹脂の研究がされている。
又、ラミネーションや殺菌・滅菌処理の場合は、酸素を
含んだ雰囲気中の照射では何ら問題とならないためこの
雰囲気中の処理が行なえるが、反面オゾンが発生するこ
とから低純度でコストが安い窒素ガスを供給したり、こ
の雰囲気中で照射して発生するオゾンを分解処理して排
気するようにしている。
【０００４】酸素を含んだ雰囲気中における電子線照射
により生じる反応につては、特開平７ー２０２９５号公
報に詳細に記載されているが、オゾン及び窒素酸化物が
生成することが知られている。又、一般にオゾン処理に
ついては活性炭や金属系の触媒が利用されている。そし
て、従来装置では排気ガスはオゾンと窒素酸化物及び大
気中の水分を含んだ状態でオゾン分解処理装置に導入さ
れている。
により生じる反応につては、特開平７ー２０２９５号公
報に詳細に記載されているが、オゾン及び窒素酸化物が
生成することが知られている。又、一般にオゾン処理に
ついては活性炭や金属系の触媒が利用されている。そし
て、従来装置では排気ガスはオゾンと窒素酸化物及び大
気中の水分を含んだ状態でオゾン分解処理装置に導入さ
れている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記オ
ゾン処理に用いる活性炭は分解処理能力の寿命が短く、
しかも固体である活性炭が粉化して粉塵を生じるという
問題がある。又、金属系の触媒を利用すれば寿命は半永
久であるが、触媒表面に他の物質等が被着してしまうと
その分解能力が消失してしまう。そして、電子線を照射
した場合オゾンと同時に窒素酸化物が生成され、かつ窒
素酸化物は水分があると、水に溶解して硝酸となる。こ
の硝酸は反応性が高く、金属系の触媒と反応して触媒の
表面は硝化物に変化してしまう。その結果としてオゾン
の分解処理能力は低下してしまうという問題がある。更
に、オゾンや窒素酸化物はオキシダントの中に含まれて
おり、大気汚染を引き起こす汚染物質の一つであるた
め、それらの物質は分解処理して排気することが望まし
い。
ゾン処理に用いる活性炭は分解処理能力の寿命が短く、
しかも固体である活性炭が粉化して粉塵を生じるという
問題がある。又、金属系の触媒を利用すれば寿命は半永
久であるが、触媒表面に他の物質等が被着してしまうと
その分解能力が消失してしまう。そして、電子線を照射
した場合オゾンと同時に窒素酸化物が生成され、かつ窒
素酸化物は水分があると、水に溶解して硝酸となる。こ
の硝酸は反応性が高く、金属系の触媒と反応して触媒の
表面は硝化物に変化してしまう。その結果としてオゾン
の分解処理能力は低下してしまうという問題がある。更
に、オゾンや窒素酸化物はオキシダントの中に含まれて
おり、大気汚染を引き起こす汚染物質の一つであるた
め、それらの物質は分解処理して排気することが望まし
い。
【０００６】本発明は前記に鑑みてなされたものであ
り、電子線を酸素を含んだ雰囲気中で照射する際に発生
するオゾンを分解するオゾン分解処理装置を具備するこ
とにより、装置のランニングコストの低減、装置の長寿
命化が可能で、環境汚染等の恐れがない電子線照射装置
を提供することを目的とする。又、オゾンを精度よく分
解処理すると共に窒素酸化物や硝酸等の処理も行ない、
大気汚染が生じない電子線照射装置を提供することを目
的とする。
り、電子線を酸素を含んだ雰囲気中で照射する際に発生
するオゾンを分解するオゾン分解処理装置を具備するこ
とにより、装置のランニングコストの低減、装置の長寿
命化が可能で、環境汚染等の恐れがない電子線照射装置
を提供することを目的とする。又、オゾンを精度よく分
解処理すると共に窒素酸化物や硝酸等の処理も行ない、
大気汚染が生じない電子線照射装置を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明は酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物に
電子線を照射し、前記雰囲気中の水分量を低減させるた
めの乾燥装置を通したガスを照射室に供給してなり、か
つ照射室内で生成した排気ガス中のオゾンを分解処理す
る装置を具備してなる。又、前記雰囲気中の水分量を５
ｇ／ｍ3 以下とし、前記オゾン分解処理装置は金属系の
触媒で構成される。更に、酸素と窒素を含んだ雰囲気中
で被照射物に電子線を照射し、照射室内で生成した排気
ガス中の窒素酸化物あるいは硝酸を除去する装置と、そ
の後段にオゾン分解処理装置を具備してなる。
め、本発明は酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物に
電子線を照射し、前記雰囲気中の水分量を低減させるた
めの乾燥装置を通したガスを照射室に供給してなり、か
つ照射室内で生成した排気ガス中のオゾンを分解処理す
る装置を具備してなる。又、前記雰囲気中の水分量を５
ｇ／ｍ3 以下とし、前記オゾン分解処理装置は金属系の
触媒で構成される。更に、酸素と窒素を含んだ雰囲気中
で被照射物に電子線を照射し、照射室内で生成した排気
ガス中の窒素酸化物あるいは硝酸を除去する装置と、そ
の後段にオゾン分解処理装置を具備してなる。
【０００８】
【作用】前記構成により、電子線を酸素を含んだ雰囲気
中で照射する際、及びその後の排気において水分が少な
い状態に維持できるので、窒素酸化物が硝酸に変化する
ことがなく、排気ガス中のオゾンを分解処理する触媒の
表面を侵すことことがないので、触媒のオゾン分解能力
を永く維持することができる。又、オゾン分解用触媒の
表面と反応する硝酸が分解触媒に導入される前に吸収処
理されてしまうので、排気ガスのオゾンを分解処理する
触媒の表面を侵すことことがないので、触媒のオゾン分
解能力を永く維持することができる。更に、オキシダン
トの一物質である窒素酸化物は処理された状態で排気さ
れる。
中で照射する際、及びその後の排気において水分が少な
い状態に維持できるので、窒素酸化物が硝酸に変化する
ことがなく、排気ガス中のオゾンを分解処理する触媒の
表面を侵すことことがないので、触媒のオゾン分解能力
を永く維持することができる。又、オゾン分解用触媒の
表面と反応する硝酸が分解触媒に導入される前に吸収処
理されてしまうので、排気ガスのオゾンを分解処理する
触媒の表面を侵すことことがないので、触媒のオゾン分
解能力を永く維持することができる。更に、オキシダン
トの一物質である窒素酸化物は処理された状態で排気さ
れる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照して説明する。図１は本発明の一実施例である電子線
照射装置の概略構成図である。本実施例の電子線照射装
置は化学重合や殺菌・滅菌処理に利用されるものであ
り、電子線発生部１０と、照射室２０と、照射窓部３０
とを備えるものである。電子線発生部１０は、電子線を
発生するターミナル１２とターミナル１２で発生した電
子線を真空空間（加速空間）で加速する加速管１４とを
有するものである。また、電子線発生部１０の内部は、
電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐ
こととフィラメント１２ａの酸化を防ぐため、図示しな
いポンプ等により１.３×１０-4〜１.３×１０-5Ｐａの
真空に保たれている。ターミナル１２は、熱電子を放出
する線状のフィラメント１２ａと、フィラメント１２ａ
を支持するガン構造体１２ｂと、フィラメント１２ａで
発生した熱電子をコントロールするグリッド１２ｃとを
有する。
照して説明する。図１は本発明の一実施例である電子線
照射装置の概略構成図である。本実施例の電子線照射装
置は化学重合や殺菌・滅菌処理に利用されるものであ
り、電子線発生部１０と、照射室２０と、照射窓部３０
とを備えるものである。電子線発生部１０は、電子線を
発生するターミナル１２とターミナル１２で発生した電
子線を真空空間（加速空間）で加速する加速管１４とを
有するものである。また、電子線発生部１０の内部は、
電子が気体分子と衝突してエネルギーを失うことを防ぐ
こととフィラメント１２ａの酸化を防ぐため、図示しな
いポンプ等により１.３×１０-4〜１.３×１０-5Ｐａの
真空に保たれている。ターミナル１２は、熱電子を放出
する線状のフィラメント１２ａと、フィラメント１２ａ
を支持するガン構造体１２ｂと、フィラメント１２ａで
発生した熱電子をコントロールするグリッド１２ｃとを
有する。
【００１０】また、図２に示すように、電子発生部１０
にはフィラメント１２ａを加熱して熱電子を発生させる
ための加熱用電源１６ａと、フィラメント１２ａとグリ
ッド１２ｃとの間に電圧を印加する制御用直流電源１６
ｂと、グリッド１２ｃと照射窓部３０に設けられた窓箔
３２との間に電圧を印加する加速用直流電源１６ｃとが
設けられている。照射室２０は、被処理物に電子線を照
射する照射空間２２を含むものである。本実施例の場合
は、照射室２０の内部は酸素を含んだ雰囲気としてい
る。また、被処理物２４は照射室２０内をコンベア等の
搬送手段（図示せず）により、図１において左側から右
側に移動する。なお、電子線発生部１０及び照射室２０
の周囲は電子線照射時に二次的に発生するＸ線が外部へ
漏出しないように、鉛遮蔽が施されている。
にはフィラメント１２ａを加熱して熱電子を発生させる
ための加熱用電源１６ａと、フィラメント１２ａとグリ
ッド１２ｃとの間に電圧を印加する制御用直流電源１６
ｂと、グリッド１２ｃと照射窓部３０に設けられた窓箔
３２との間に電圧を印加する加速用直流電源１６ｃとが
設けられている。照射室２０は、被処理物に電子線を照
射する照射空間２２を含むものである。本実施例の場合
は、照射室２０の内部は酸素を含んだ雰囲気としてい
る。また、被処理物２４は照射室２０内をコンベア等の
搬送手段（図示せず）により、図１において左側から右
側に移動する。なお、電子線発生部１０及び照射室２０
の周囲は電子線照射時に二次的に発生するＸ線が外部へ
漏出しないように、鉛遮蔽が施されている。
【００１１】照射窓部３０は、金属箔からなる窓箔３２
と、窓箔３２を冷却すると共に窓箔３２を支持する窓枠
構造体３４とを有するものである。窓箔３２は電子線発
生部１０内の真空雰囲気と照射室２０内の酸素を含んだ
雰囲気とを仕切るものであり、また窓箔３２を介して照
射室２０内に電子線を取り出すものである。窓箔３２に
使用される金属として厚さ約１０μｍ程度のチタンＴｉ
がある。通常は、窓箔３２として、機械的な取扱いやす
さから厚さ約１３μｍのＴｉ箔が最もよく使用されてい
る。
と、窓箔３２を冷却すると共に窓箔３２を支持する窓枠
構造体３４とを有するものである。窓箔３２は電子線発
生部１０内の真空雰囲気と照射室２０内の酸素を含んだ
雰囲気とを仕切るものであり、また窓箔３２を介して照
射室２０内に電子線を取り出すものである。窓箔３２に
使用される金属として厚さ約１０μｍ程度のチタンＴｉ
がある。通常は、窓箔３２として、機械的な取扱いやす
さから厚さ約１３μｍのＴｉ箔が最もよく使用されてい
る。
【００１２】加熱用電源１６ａによりフィラメント１２
ａに電流を通じて加熱するとフィラメント１２ａは熱電
子を放出し、この熱電子はフィラメント１２ａとグリッ
ド１２ｃとの間に印加された制御用直流電源１６ｂの制
御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、グ
リッド１２ｃを通過したものだけが電子線として有効に
取り出される。そして、このグリッド１２ｃから取り出
された電子線は、グリッド１２ｃと窓箔３２との間に印
加された加速用直流電源１６ｃの加速電圧により加速管
１４内の加速空間で加速された後、窓箔３２を突き抜
け、照射窓部３０の下方の照射室２０内を搬送される被
処理物に照射される。なお、通常は加熱用電源１６ａと
加速用直流電源１６ｃとを所定の値に設定し、制御用直
流電源１６ｂを可変にすることにより、ビーム電流の調
整を行なっている。
ａに電流を通じて加熱するとフィラメント１２ａは熱電
子を放出し、この熱電子はフィラメント１２ａとグリッ
ド１２ｃとの間に印加された制御用直流電源１６ｂの制
御電圧により四方八方に引き寄せられる。このうち、グ
リッド１２ｃを通過したものだけが電子線として有効に
取り出される。そして、このグリッド１２ｃから取り出
された電子線は、グリッド１２ｃと窓箔３２との間に印
加された加速用直流電源１６ｃの加速電圧により加速管
１４内の加速空間で加速された後、窓箔３２を突き抜
け、照射窓部３０の下方の照射室２０内を搬送される被
処理物に照射される。なお、通常は加熱用電源１６ａと
加速用直流電源１６ｃとを所定の値に設定し、制御用直
流電源１６ｂを可変にすることにより、ビーム電流の調
整を行なっている。
【００１３】図３は本発明に係わる電子線照射装置の一
構成例であり、上記電子線照射装置として岩崎電気株式
会社製ＣＢ２５０/１５/１８０Ｌを使用し、照射室内に
供給する酸素を含んだ雰囲気を乾燥するための装置とし
て、圧縮空気除湿器１を使用する。この除湿器の能力は
大気圧露点が−２℃〜−１５℃のもので、乾燥空気の供
給はコンプレッサー４からの空気を５μｍのフィルター
３を通し、供給圧力を調節するレギレーター２の後に圧
縮空気除湿器１に通して除湿した状態で行なう。この場
合の供給流量は１００ｌ／ｍｉｎ．である。
構成例であり、上記電子線照射装置として岩崎電気株式
会社製ＣＢ２５０/１５/１８０Ｌを使用し、照射室内に
供給する酸素を含んだ雰囲気を乾燥するための装置とし
て、圧縮空気除湿器１を使用する。この除湿器の能力は
大気圧露点が−２℃〜−１５℃のもので、乾燥空気の供
給はコンプレッサー４からの空気を５μｍのフィルター
３を通し、供給圧力を調節するレギレーター２の後に圧
縮空気除湿器１に通して除湿した状態で行なう。この場
合の供給流量は１００ｌ／ｍｉｎ．である。
【００１４】次に、実験例について説明する。供給ガス
を乾燥装置としての除湿器１の通過の有無により、オゾ
ン分解触媒の出入口における窒素酸化物の濃度の割合を
確認することとした。オゾン分解触媒はマンガン系のハ
ニカム式のものを使用し、窒素酸化物の濃度は北川式検
知管により測定を行なった。この場合の照射室の温度は
２５℃で湿度は６８％ＲＨである。この窒素酸化物の濃
度の測定結果を表１に示す。
を乾燥装置としての除湿器１の通過の有無により、オゾ
ン分解触媒の出入口における窒素酸化物の濃度の割合を
確認することとした。オゾン分解触媒はマンガン系のハ
ニカム式のものを使用し、窒素酸化物の濃度は北川式検
知管により測定を行なった。この場合の照射室の温度は
２５℃で湿度は６８％ＲＨである。この窒素酸化物の濃
度の測定結果を表１に示す。
【００１５】
【表１】
【００１６】又、前記実験例におけるオゾン分解は、分
解触媒が最新のものであったので、オゾンの入口濃度は
５０ｐｐｍが出口濃度で０.１ｐｐｍ以下であった。更
に、除湿器の有無により、ライフテストを５００時間実
施した後に、それぞれのオゾン分解能力を測定したとこ
ろ、除湿器なしの場合は、オゾンの入口濃度は５０ｐｐ
ｍが出口で３ｐｐｍとなった。一方、除湿器ありでは初
期特性を維持し、出口濃度で０.１ｐｐｍ以下であっ
た。
解触媒が最新のものであったので、オゾンの入口濃度は
５０ｐｐｍが出口濃度で０.１ｐｐｍ以下であった。更
に、除湿器の有無により、ライフテストを５００時間実
施した後に、それぞれのオゾン分解能力を測定したとこ
ろ、除湿器なしの場合は、オゾンの入口濃度は５０ｐｐ
ｍが出口で３ｐｐｍとなった。一方、除湿器ありでは初
期特性を維持し、出口濃度で０.１ｐｐｍ以下であっ
た。
【００１７】前記実験例の除湿器は大気露点温度が低
く、飽和水分量もほとんど除去されている状態である
が、実際には水分量が低いものがよいが、結露を起こさ
ないことが最低条件であり、通常の照射雰囲気から考え
て０℃以下の飽和水分量で十分である。０℃の水分量は
５ｇ／ｍ3 である。
く、飽和水分量もほとんど除去されている状態である
が、実際には水分量が低いものがよいが、結露を起こさ
ないことが最低条件であり、通常の照射雰囲気から考え
て０℃以下の飽和水分量で十分である。０℃の水分量は
５ｇ／ｍ3 である。
【００１８】なお、電子線照射装置の構成材料は金属で
構成されている部分、例えば電子線照射窓のクランプ材
等があり、触媒と同様に硝酸と反応し、またオゾンの酸
化力から腐食が促進されることがある。そこで、本発明
を実施することにより、この現象も妨止することができ
る。
構成されている部分、例えば電子線照射窓のクランプ材
等があり、触媒と同様に硝酸と反応し、またオゾンの酸
化力から腐食が促進されることがある。そこで、本発明
を実施することにより、この現象も妨止することができ
る。
【００１９】図４は本発明に係わる電子線照射装置の他
の構成例であり、電子線照射装置として岩崎電気株式会
社製のＣＢ２５０/１５/１８０Ｌを使用する。電子線を
照射室の照射空間２２に照射するとオゾンと窒素酸化物
が生成する。空間内に水分が存在する場合、窒素酸化物
は水に溶けて硝酸になる。そのようなガスの状態で排気
口４１に吸引され、窒素酸化物及び硝酸を吸収処理する
装置４２に導入される。吸収装置４２には吸収液４５と
して例えば水が満たされていて、窒素酸化物と硝酸とを
吸収する。窒素酸化物のうち一酸化窒素は水には非常に
わずかしか溶けないが二酸化窒素は良く溶ける。
の構成例であり、電子線照射装置として岩崎電気株式会
社製のＣＢ２５０/１５/１８０Ｌを使用する。電子線を
照射室の照射空間２２に照射するとオゾンと窒素酸化物
が生成する。空間内に水分が存在する場合、窒素酸化物
は水に溶けて硝酸になる。そのようなガスの状態で排気
口４１に吸引され、窒素酸化物及び硝酸を吸収処理する
装置４２に導入される。吸収装置４２には吸収液４５と
して例えば水が満たされていて、窒素酸化物と硝酸とを
吸収する。窒素酸化物のうち一酸化窒素は水には非常に
わずかしか溶けないが二酸化窒素は良く溶ける。
【００２０】電子線照射の場合、オゾンが同時に生成さ
れているため一酸化窒素は酸化されて二酸化窒素になる
ので、排気ガス中の窒素酸化物は吸収液４５に吸収され
る。この吸収効率をあげるために、排気ガスは例えばガ
ラスフィルターで微細な気泡として吸収液４５に接触さ
せていることと接触時間を長く取るために縦長の容器に
している。また容器の材質として、排気ガスが酸化力の
強いものであるため、ガラスや塩化ビニルなどが選定さ
れる。排気ガスは吸収装置４２の後に、オゾン分解装置
４３に導入されオゾンの分解が行われる。そして、排気
用のファン４４またはポンプを通り排気される。
れているため一酸化窒素は酸化されて二酸化窒素になる
ので、排気ガス中の窒素酸化物は吸収液４５に吸収され
る。この吸収効率をあげるために、排気ガスは例えばガ
ラスフィルターで微細な気泡として吸収液４５に接触さ
せていることと接触時間を長く取るために縦長の容器に
している。また容器の材質として、排気ガスが酸化力の
強いものであるため、ガラスや塩化ビニルなどが選定さ
れる。排気ガスは吸収装置４２の後に、オゾン分解装置
４３に導入されオゾンの分解が行われる。そして、排気
用のファン４４またはポンプを通り排気される。
【００２１】そして、吸収装置４２の有無による窒素酸
化物の濃度変化とオゾン分解装置４３の寿命等の確認を
行った。この場合の排気流量は１００ｌ／ｍｉｎ．であ
る。その窒素酸化物の濃度の測定結果は表２のとおりで
ある。 （以下、余白）
化物の濃度変化とオゾン分解装置４３の寿命等の確認を
行った。この場合の排気流量は１００ｌ／ｍｉｎ．であ
る。その窒素酸化物の濃度の測定結果は表２のとおりで
ある。 （以下、余白）
【００２２】
【表２】
【００２３】又、前記実験例におけるオゾンの分解は、
分解触媒が初期であったことから、入口でのオゾン濃度
は５０ｐｐｍが出口濃度で０．１ｐｐｍ以下であった。
更に、吸収装置の有無によるライフテストを５００時間
実施した後に、それぞれのオゾン分解能力を測定したと
ころ、吸収装置なしの場合、オゾンは入口濃度が５０ｐ
ｐｍが出口で３ｐｐｍとなった。一方、吸収装置ありで
は初期特性を維持し、出口濃度で０．１ｐｐｍ以下であ
った。なお、ライフテスト中吸収液４５のＰＨが低下
（酸性）して、酸濃度が高くなるので定期的に交換する
ことが望まれる。今回の場合２５０時間で１回、吸収液
を交換した。
分解触媒が初期であったことから、入口でのオゾン濃度
は５０ｐｐｍが出口濃度で０．１ｐｐｍ以下であった。
更に、吸収装置の有無によるライフテストを５００時間
実施した後に、それぞれのオゾン分解能力を測定したと
ころ、吸収装置なしの場合、オゾンは入口濃度が５０ｐ
ｐｍが出口で３ｐｐｍとなった。一方、吸収装置ありで
は初期特性を維持し、出口濃度で０．１ｐｐｍ以下であ
った。なお、ライフテスト中吸収液４５のＰＨが低下
（酸性）して、酸濃度が高くなるので定期的に交換する
ことが望まれる。今回の場合２５０時間で１回、吸収液
を交換した。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係わる電子線照射装置は、水分量の低い乾燥空気を照
射室に供給し、その状態でオゾンを分解する触媒を通す
ことによって、オゾン分解触媒の処理能力の低下を招く
ことがなく、環境汚染の恐れがなく、装置の長寿命化及
びトータルコストの低減ができる等の利点がある。
に係わる電子線照射装置は、水分量の低い乾燥空気を照
射室に供給し、その状態でオゾンを分解する触媒を通す
ことによって、オゾン分解触媒の処理能力の低下を招く
ことがなく、環境汚染の恐れがなく、装置の長寿命化及
びトータルコストの低減ができる等の利点がある。
【００２４】又、酸素と窒素を含んだ雰囲気中で電子線
照射を行う場合に発生する排気ガス中の窒素酸化物や硝
酸を吸収除去する装置の後段にオゾン分解装置を位置さ
せることにより、オゾン分解触媒の処理能力の低下を招
くことがなく寿命が長くなる。更に、排気ガスのオキシ
ダント濃度は非常に低濃度となり大気汚染防止ができる
等の利点がある。
照射を行う場合に発生する排気ガス中の窒素酸化物や硝
酸を吸収除去する装置の後段にオゾン分解装置を位置さ
せることにより、オゾン分解触媒の処理能力の低下を招
くことがなく寿命が長くなる。更に、排気ガスのオキシ
ダント濃度は非常に低濃度となり大気汚染防止ができる
等の利点がある。
【図１】本発明の一実施例である電子線照射装置の要部
断面図である。
断面図である。
【図２】同じく、電子線発生部の概略回路図である。
【図３】本発明の実施例に係わる電子線照射装置の一構
成図である。
成図である。
【図４】同じく、電子線照射装置の他の構成図である。
１ 除湿器 ４１ 排気口 ２ レギレーター ４２ 吸収装置 ３ フィルター ４３ オゾン分
解触媒入り装置 ４ コンプレッサー ４４ 排気ファ
ン ５ オゾン分解触媒入り装置 ４５ 吸収液 ６ 排気ファン １０ 電子線発生部 １２ ターミナル １２ａ フィラメント １２ｂ ガン構造体 １２ｃ グリッド １４ 加速管 ２０ 照射室 ２２ 照射空間 ３０ 照射窓部 ３２ 窓箔 ３４ 窓枠構造体
解触媒入り装置 ４ コンプレッサー ４４ 排気ファ
ン ５ オゾン分解触媒入り装置 ４５ 吸収液 ６ 排気ファン １０ 電子線発生部 １２ ターミナル １２ａ フィラメント １２ｂ ガン構造体 １２ｃ グリッド １４ 加速管 ２０ 照射室 ２２ 照射空間 ３０ 照射窓部 ３２ 窓箔 ３４ 窓枠構造体
Claims (3)
- 【請求項１】 酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物
に電子線を照射する電子線照射装置において、前記雰囲
気中の水分量を低減させるための乾燥装置を通したガス
を照射室に供給してなり、かつ照射室内で生成した排気
ガス中のオゾンを分解処理する装置を具備してなる電子
線照射装置。 - 【請求項２】 前記雰囲気中の水分量を５ｇ／ｍ3 以下
とし、前記オゾン分解処理装置は金属系の触媒で構成さ
れていることを特徴とする請求項１項記載の電子線照射
装置。 - 【請求項３】 酸素と窒素を含んだ雰囲気中で被照射物
に電子線を照射する電子線照射装置において、照射室内
で生成した排気ガス中の窒素酸化物あるいは硝酸を除去
する装置と、その後段にオゾン分解処理装置を具備して
なる電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5369096A JPH09222500A (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5369096A JPH09222500A (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 電子線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09222500A true JPH09222500A (ja) | 1997-08-26 |
Family
ID=12949819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5369096A Pending JPH09222500A (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09222500A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008081868A1 (ja) | 2006-12-28 | 2008-07-10 | Shibuya Kogyo Co., Ltd. | 容器殺菌装置 |
| JP2016512162A (ja) * | 2013-03-08 | 2016-04-25 | ザイレコ，インコーポレイテッド | プロセスガスの制御 |
| CN109390071A (zh) * | 2018-09-26 | 2019-02-26 | 浙江美浓世纪集团有限公司 | 一种在eb固化电子帘加速器中使用的制氮脱氧方法 |
-
1996
- 1996-02-19 JP JP5369096A patent/JPH09222500A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008081868A1 (ja) | 2006-12-28 | 2008-07-10 | Shibuya Kogyo Co., Ltd. | 容器殺菌装置 |
| JP2008162651A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Shibuya Kogyo Co Ltd | 容器殺菌装置 |
| US8373138B2 (en) | 2006-12-28 | 2013-02-12 | Shibuya Kogyo Co., Ltd. | Vessel sterilization apparatus |
| JP2016512162A (ja) * | 2013-03-08 | 2016-04-25 | ザイレコ，インコーポレイテッド | プロセスガスの制御 |
| CN109390071A (zh) * | 2018-09-26 | 2019-02-26 | 浙江美浓世纪集团有限公司 | 一种在eb固化电子帘加速器中使用的制氮脱氧方法 |
| CN109390071B (zh) * | 2018-09-26 | 2021-04-27 | 浙江美浓世纪集团有限公司 | 一种在eb固化电子帘加速器中使用的制氮脱氧方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041206 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050329 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |