JPH09199470A - スピンドライヤー - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体ウェハ１２を乾燥するスピンドライヤー
において、半導体ウェハ１２の自然乾燥を防ぎ一様に水
切り乾燥をし、自然乾燥による跡を残さない。 【解決手段】ターンテーブル２内に純水９を満たし半導
体ウェハ１２に純水の液膜を形成させてから純水９を引
き抜き、遠心力で水切りし乾燥する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、水洗した後の半導
体ウェハ面に残る水滴を遠心力で飛散させ水切り乾燥さ
せるスピンドライヤーに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造工程においては、半導
体ウェハが表面処理された後に、洗浄液の残りが付着し
そのまま蒸発して表面が汚染したりしないように、純水
などのプール槽に浸漬させ、半導体ウェハ面に純水の液
滴を付着させ、この液滴を水切りすることで乾燥が行な
われていた。

【０００３】この乾燥には、まず、薬液処理後の半導体
ウェハをプール槽とよばれる純水を満たしたタンクにカ
セットとともに入れ半導体ウェハを純水に浸漬する。次
に、スピンドライヤーのターンテーブルのカセット収納
籠に半導体ウェハの複数枚を収納したカセットを取付け
る。次に、ターンテーブルを高速回転させ、その遠心力
で半導体ウェハの水分が分離され半導体ウェハを乾燥さ
せていた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来のスピン
ドライヤーでは、半導体ウェハを収納したカセットの複
数個をプール槽から引出しターンテーブルのそれぞれの
籠に取付けるという準備作業が多くの時間を費やす。そ
の結果、この準備時間が経過する間に、最初に取付けた
カセットの半導体ウェハに付着する水滴が乾燥し、総べ
ての半導体ウェハが均一に乾燥されないという問題があ
る。また、水分が蒸発した結果、水滴に含まれていた異
物が半導体ウェハに残り、この異物が酸化や膜付け工程
における膜ムラを引き起す原因ともなる。

【０００５】さらに、処理後の半導体ウェハをプール槽
に浸漬するといった操作は、乾燥作業のスループットを
著しく低下させるし、スピンドライヤーの近くに比較的
な大きなプール槽を配置しなけばならないということ
は、床面積の有効利用の観点から問題であった。

【０００６】従って、本発明の目的は、自然乾燥の発生
による乾燥むらを起すこと無く半導体ウェハの全てを均
一に乾燥することのできより小型のスピンドライヤーを
提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、複数枚
の半導体ウェハを収納するカセットが装填される籠部材
の複数個を内側に等配に取り付けるとともに供給され前
記半導体ウェハを浸漬させる純水を蓄くわえる円筒状の
槽を具備するターンテーブルと、このターンテーブルの
中心にあって下方に伸び複数の純水の噴出口をもつノズ
ルと、前記純水が排出された前記槽を回転させ前記半導
体ウェハ面の該純水の液滴を遠心力で飛散させる回転機
構とを備えるスピンドライヤーである。

【０００８】

【発明の実施の形態】次に、本発明について図面を参照
して説明する。

【０００９】図１（ａ）および（ｂ）に本発明の一実施
の形態におけるスピンドライヤーの動作順に示す断面図
である。このスピンドライヤーは、図１に示すように、
ターンテーブル２を円筒状の容器にし、その底部に回転
バランスが取れるように開閉弁５を均等に配設し半導体
ウェハ１２が純水９に浸漬されるように純水を蓄くわえ
るようにしたことである。また、純水を供給するための
ノズル１は蓋８に取付けられ、開閉弁６を開くことによ
りノズル１の噴出口からカセット１１の半導体ウェハ１
２の面に純水を流し出すようになっている。

【００１０】次に、このスピンドライヤーによる半導体
ウェハの乾燥動作を説明する。まず、図１（ａ）に示す
ように、薬液処理が終了し洗浄済みの半導体ウェハが収
納されたカセット１１をターンテーブル２の籠３に取付
ける。バランス良くターンテーブル２の籠３にカセット
１１を取付けたら、カバー１０の開口を蓋８で閉じ、開
閉弁６を開きノズル１より純水を噴出させる。純水９は
矢印に示すように流れターンテーブル２に蓄くわえられ
る。

【００１１】純粋９がターンテーブル２をオーバーフロ
ーしたら、図１（ｂ）に示すように、開閉弁６を閉じ開
閉弁５を開く、このことにより純水９は開閉弁５を通し
て流れ排出口７から機外に排出される。このとき、カセ
ット１１内の全ての半導体ウェハ１２の面には水張りさ
れた状態になっている。ターテーブル２からの純水の引
き抜き終了後、回転機構４を動作させターンテーブル２
を回転する。このことにより半導体ウェハ１２の水は遠
心力により水切りされ乾燥させられる。

【００１２】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、スピンド
ライヤーに取付け後半導体ウェハの面に純水を供給し、
自然乾燥が起きない内に水切り乾燥するので、総べての
半導体ウェハが一様に乾燥できるという効果がある。ま
た、自然乾燥による乾燥が起きないことから、自然乾燥
により残された異物による後工程における膜むらの発生
は皆無となった。

【００１３】また、ターンテーブル自体が純粋を蓄める
プール槽に代用できるので、従来のように大型のプール
槽は不要となり、乾燥機としてより小型化が図ることが
できた。さらに、プール槽による半導体ウェハの浸漬作
業の廃止により、乾燥作業の工程を短縮できスループッ
トの向上が図ることができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施の形態におけるスピンドライヤ
ーの動作順に示す断面図である。

【符号の説明】

１ ノズル ２ ターンテーブル ３ 籠 ４ 回転機構 ５，６ 開閉弁 ７ 排出口 ８ 蓋 ９ 純水 １０ カバー １１ カセット １２ 半導体ウェハ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数枚の半導体ウェハを収納するカセッ
   トが装填される籠部材の複数個を内側に等配に取り付け
   るとともに供給され前記半導体ウェハを浸漬させる純水
   を蓄くわえる円筒状の槽を具備するターンテーブルと、
   このターンテーブルの中心にあって下方に伸び複数の純
   水の噴出口をもつノズルと、前記純水が排出された前記
   槽を回転させ前記半導体ウェハ面の該純水の液滴を遠心
   力で飛散させる回転機構とを備えることを特徴とするス
   ピンドライヤー。