JPH09199027A - Manufacture of phosphor pattern - Google Patents

Manufacture of phosphor pattern

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JPH09199027A
JPH09199027A JP8008307A JP830796A JPH09199027A JP H09199027 A JPH09199027 A JP H09199027A JP 8008307 A JP8008307 A JP 8008307A JP 830796 A JP830796 A JP 830796A JP H09199027 A JPH09199027 A JP H09199027A
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JP
Japan
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phosphor
photosensitive
resin composition
photosensitive resin
composition layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP8008307A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Nojiri
剛 野尻
Hideyasu Tachiki
秀康 立木
Hiroyuki Tanaka
裕之 田仲
Seiji Tai
誠司 田井
Yumiko Wada
有美子 和田
Seikichi Tanno
清吉 丹野
Hajime Kakumaru
肇 角丸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Priority to EP03024548A priority patent/EP1387384A1/en
Priority to EP97100866A priority patent/EP0785565A1/en
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Priority to US08/787,112 priority patent/US6329111B1/en
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Priority to KR1019990010648A priority patent/KR100301914B1/en
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Priority to US10/166,079 priority patent/US20030090193A1/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of phosphor pattern, which can embed a phosphor pattern in a space of a board for PDP, namely, which can form a photosensitive resin composition layer having the phosphor on a barrier-rib surface and on the bottom surface of the space of a PDP board and which can accuratefy form a phosphor pattern into the even shape without generating the color mixture. SOLUTION: On a board 1 for plasma display (PDP board), which is formed with a barrier-rib 2, a photosensitive thermoplastic resin layer 6 is heated for pressure application on a photosensitive resin composition layer 5, which includes the phosphor (I). At this stage, the photosensitive thermoplastic resin layer 6 is press applied by a heating roll 7 so that the photosensitive resin composition layer 5 is sufficiently adhered to a surface of the PDP board, which is formed with the barrier-rib 2. The photosensitive resin composition layer 5 and the photosensitive thermoplastic resin layer 6 are embedded in the space of the barrier-rib 2 in the laminated condition by heating for pressure application (II). An upper part of the thermoplastic resin layer 6 is irradiated with the active beam 9 so as to form an image through a photo- mask 8 for optical hardening (III), and developing is performed so as to eliminate an unnecessary part, and furthermore, burning is performed so as to eliminate the unnecessary part and form a phosphor pattern.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、蛍光体パターンの
製造法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a phosphor pattern.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。ＰＤＰは、ガ
ラスからなる平板状の前面板と背面板とが互いに平行に
かつ対向して配設され、両者はその間に設けられたバリ
アリブにより一定の間隔に保持されており、前面板、背
面板及びバリアリブに囲まれた空間で放電する構造にな
っている。このような空間には、表示のための蛍光体が
塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線に
よって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認で
きるようになっている。2. Description of the Related Art Conventionally, as one of flat panel displays, a plasma display panel (hereinafter, referred to as a PDP) capable of performing multicolor display by providing a phosphor which emits light by plasma discharge has been known. In the PDP, a flat plate-shaped front plate and a rear plate made of glass are arranged in parallel and opposite to each other, and both of them are held at a constant interval by a barrier rib provided therebetween. Also, the structure is such that discharge occurs in the space surrounded by the barrier ribs. In such a space, a phosphor for display is applied, and the phosphor is caused to emit light by ultraviolet rays generated from the sealing gas by discharge, so that the light can be visually recognized by an observer.

【０００３】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液もしくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって塗布する方法が提
案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開平
１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号公
報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液状である
ため、蛍光体の沈澱等による分散不良が生じやすく、ま
たスラリー液に液状の感光性レジストを用いた場合に
は、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくなる等の
欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方法は印
刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化への対応
は困難である等の問題がある。Conventionally, a method of providing this phosphor is as follows.
A method of applying a slurry solution or paste in which phosphors of each color are dispersed by a printing method such as screen printing has been proposed. And Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-155142. However, since the above-mentioned phosphor dispersion slurry liquid is liquid, poor dispersion due to precipitation of the phosphor is likely to occur, and when a liquid photosensitive resist is used for the slurry liquid, it is preserved by promoting a dark reaction and the like. It has disadvantages such as poor stability. Furthermore, since printing methods such as screen printing are inferior in printing accuracy, there is a problem that it will be difficult to cope with future large screen PDPs.

【０００４】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光体
を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感光
性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加熱
圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に埋
め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により紫
外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水溶
液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成に
より不必要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに
蛍光体パターンを形成するものである。従って、前記Ｐ
ＤＰ用基板の空間に蛍光体パターンを形成する際には、
蛍光体の分散性を確認する必要はなく、また、蛍光体分
散スラリー液若しくはペーストに比べて保存安定性にも
優れている。さらに、写真法を用いるため、精度良く蛍
光体パターンを形成することができる。In order to solve these problems, a method using a photosensitive element containing a phosphor (also referred to as a photosensitive film) has been proposed (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 6-273925).
Issue). The method of using a photosensitive element means that a photosensitive resin layer containing a phosphor of a photosensitive element composed of a photosensitive resin layer containing a phosphor and a support film is heat-pressed (laminated) to form a PDP substrate. It is embedded in a space and then imagewise exposed to actinic light such as ultraviolet rays by a photographic method using a negative film. Then, the unexposed portion is removed with a developing solution such as an alkaline aqueous solution, and the unexposed portion is further baked. By removing the necessary organic components, the phosphor pattern is formed only on the necessary portions. Therefore, P
When forming a phosphor pattern in the space of the DP substrate,
It is not necessary to check the dispersibility of the phosphor, and the storage stability is superior to that of the phosphor dispersion slurry or paste. Furthermore, since a photographic method is used, a phosphor pattern can be formed with high accuracy.

【０００５】しかし、従来の方法により感光性エレメン
トを使用して蛍光体を含有する感光性樹脂層を、ラミネ
ートにより前記ＰＤＰ用基板の空間（セル内）に埋め込
むと、バリアリブ壁面及び空間底面上に蛍光体パターン
を均一な層厚、形状で形成することが困難であった。However, when a photosensitive resin layer containing a phosphor is buried in a space (in a cell) of the PDP substrate by lamination using a photosensitive element by a conventional method, the barrier rib wall surface and the space bottom surface are left behind. It was difficult to form a phosphor pattern with a uniform thickness and shape.

【０００６】[0006]

【発明が解決しようとする課題】請求項１記載の発明
は、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板
のバリアリブ壁面及び空間底面上における蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均
一な形状の蛍光体パターンを、混色なく形成できる蛍光
体パターンの製造法を提供するものである。請求項２記
載の発明は、請求項１記載の発明の効果に加えて、さら
に作業性及び膜べりの抑制に優れる蛍光体パターンの製
造法を提供するものである。請求項３記載の発明は、請
求項１又は２記載の発明の効果に加えて、より作業性に
優れる蛍光体パターンの製造法を提供するものである。
請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載の発明
の効果に加えて、より作業性に優れる蛍光体パターンの
製造法を提供するものである。請求項５記載の発明は、
請求項１、２、３又は４記載の発明の効果に加えて、よ
り作業性に優れる蛍光体パターンの製造法を提供するも
のである。According to the first aspect of the invention, the embedding property in the space of the PDP substrate (of the photosensitive resin composition layer containing a phosphor on the barrier rib wall surface and the space bottom surface of the PDP substrate is described). (EN) Provided is a method for producing a phosphor pattern, which is excellent in formability) and which can form a highly accurate and uniform shape phosphor pattern without color mixing. In addition to the effect of the invention described in claim 1, the invention described in claim 2 provides a method for producing a phosphor pattern which is excellent in workability and suppression of film slippage. In addition to the effect of the invention described in claim 1 or 2, the invention described in claim 3 provides a method of manufacturing a phosphor pattern that is more excellent in workability.
In addition to the effect of the invention described in claim 1, 2 or 3, the invention according to claim 4 provides a method for manufacturing a phosphor pattern having a better workability. The invention according to claim 5 is
In addition to the effect of the invention described in claim 1, 2, 3 or 4, the present invention provides a method of manufacturing a phosphor pattern which is more excellent in workability.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ｉ）バリア
リブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板上
に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の上部
に（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配置された状態で、
（Ｂ）層を加熱圧着する工程、 （II）活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程および （IV）焼成により不要分を除去する工程 の各工程を含むことを特徴とする蛍光体パターンの製造
法に関する。また、本発明は、（Ｉ）〜（III）の各工
程を繰り返して、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物からなる多色のパターンを形成し
た後、（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形
成する前記蛍光体パターンの製造法に関する。Means for Solving the Problems The present invention provides (B) a photosensitive resin composition layer (A) on a substrate for a plasma display panel on which (I) barrier ribs are formed, and (B) a photosensitive layer on the photosensitive resin composition layer. In the state in which the flexible thermoplastic resin layer is arranged,
Each step of (B) the step of thermocompression bonding the layer, (II) the step of imagewise irradiation with actinic rays, (III) the step of removing unnecessary portions by development, and (IV) the step of removing unnecessary portions by baking The present invention relates to a method for producing a phosphor pattern, which comprises: In addition, the present invention repeats each of the steps (I) to (III) to form a multicolored pattern of a photosensitive resin composition containing a phosphor that emits red, green and blue, and then ( The present invention relates to the method for producing a phosphor pattern, wherein the step IV) is performed to form a multicolor phosphor pattern.

【０００８】また、本発明は、（Ａ）蛍光体を含有感光
性樹脂組成物層が、（ａ）フィルム性付与ポリマ、
（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽
和化合物、（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを生
成する光開始剤及び（ｄ）蛍光体を含むものである前記
蛍光体パターンの製造法に関する。また、本発明は、
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が、（ｅ）熱可塑性樹
脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性
不飽和化合物及び（ｇ）活性光の照射により遊離ラジカ
ルを生成する光開始剤を含むものである前記蛍光体パタ
ーンの製造法に関する。また、本発明は、（III）現像
により不要部を除去する工程において、（Ａ）層及び
（Ｂ）層が、同一の現像液を使用して現像する前記蛍光
体パターンの製造法に関する。Further, in the present invention, (A) a photosensitive resin composition layer containing a phosphor is (a) a film property imparting polymer,
Production of the phosphor pattern comprising (b) a photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal, (c) a photoinitiator which generates a free radical upon irradiation with active light, and (d) a phosphor. Concerning the law. Also, the present invention
(B) The photosensitive thermoplastic resin layer generates (e) a thermoplastic resin, (f) a photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal, and (g) a free radical upon irradiation with active light. And a photoinitiator for producing the phosphor pattern. Further, the present invention relates to the method for producing the phosphor pattern, wherein (A) layer and (B) layer are developed using the same developing solution in the step (III) of removing an unnecessary portion by development.

【０００９】[0009]

【発明の実施の形態】本発明の蛍光体パターンの製造法
は、（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレ
イパネル用基板上に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層の上部に（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配
置された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着する工程、（II）
活性光線を像的に照射する工程、（III）現像により不
要部を除去する工程および（IV）焼成により不要分を除
去する工程の各工程を含むことを特徴とする。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The method for producing a phosphor pattern of the present invention comprises: (I) an upper portion of a photosensitive resin composition layer containing (A) a phosphor on a substrate for a plasma display panel having barrier ribs formed thereon. (B) a step of thermocompression-bonding the layer (B) while the layer (B) of the photosensitive thermoplastic resin is arranged in the layer,
The method is characterized by including the steps of imagewise irradiation with actinic rays, (III) a step of removing unnecessary portions by development, and (IV) a step of removing unnecessary portions by baking.

【００１０】本発明におけるバリアリブが形成されたプ
ラズマディスプレイパネル用基板（ＰＤＰ用基板）とし
ては、例えば、透明な接着のための表面処理を施してい
てもよい、ガラス板、合成樹脂板等の基板に、電極及び
バリアリブが形成されたものなどが挙げられる。バリア
リブの形成には、特に制限なく、公知の材料を使用でき
るが、例えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガラス
（酸化鉛等）、溶剤などを含むリブ材を用いることがで
きる。また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリアリブの
他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電極、抵抗
体等が形成されていてもよい。これらのものを、基板へ
形成する方法としては、特に制限はなく、例えば、基板
に、蒸着、スパッタリング、メッキ、塗布、印刷等の方
法で電極を形成することができ、印刷法、サンドブラス
ト法、埋め込み法等の方法でバリアリブを形成すること
ができる。The substrate for plasma display panel (PDP substrate) on which the barrier ribs are formed in the present invention may be, for example, a substrate such as a glass plate or a synthetic resin plate which may be surface-treated for transparent adhesion. Examples thereof include those having electrodes and barrier ribs formed thereon. For forming the barrier rib, a known material can be used without any particular limitation. For example, a rib material containing silica, a thermosetting resin, a low-melting glass (such as lead oxide), a solvent, or the like can be used. Further, in addition to the electrodes and the barrier ribs, a dielectric film, an insulating film, an auxiliary electrode, a resistor, and the like may be formed on the PDP substrate as necessary. There is no particular limitation on the method of forming these on the substrate, and for example, electrodes can be formed on the substrate by a method such as vapor deposition, sputtering, plating, coating, or printing, a printing method, a sandblast method, The barrier rib can be formed by a method such as an embedding method.

【００１１】バリアリブは、通常、高さが２０〜５００
μｍ、幅が２０〜２００μｍとされる。バリアリブで囲
まれた放電空間の形状には、特に制限はなく、格子状、
ストライプ状、ハニカム状、３角形状、楕円形状等が可
能であるが、通常、図１及び図２等に示すような、格子
状又はストライプ状の放電空間が形成される。図１及び
図２において、基板１上には、バリアリブ２が形成され
ており、図１では格子状放電空間３が、図２ではストラ
イプ状放電空間４が形成されている。放電空間の大きさ
は、ＰＤＰの大きさと解像度によって決められ、通常、
図１のような格子状放電空間であれば、縦及び横の長さ
は、５０μｍ〜１mmとなり、図２のようなストライプ状
放電空間であれば、間隔は、３０μｍ〜１mmとなる。The barrier ribs usually have a height of 20 to 500.
The width is 20 μm to 200 μm. There is no particular limitation on the shape of the discharge space surrounded by the barrier ribs,
Although a stripe shape, a honeycomb shape, a triangular shape, an elliptical shape, and the like are possible, a grid-like or stripe-like discharge space is usually formed as shown in FIGS. 1 and 2, a barrier rib 2 is formed on a substrate 1, a grid-shaped discharge space 3 is formed in FIG. 1, and a stripe-shaped discharge space 4 is formed in FIG. The size of the discharge space is determined by the size and resolution of the PDP.
In the case of a grid-shaped discharge space as shown in FIG. 1, the vertical and horizontal lengths are 50 μm to 1 mm, and in the case of a striped discharge space as shown in FIG. 2, the interval is 30 μm to 1 mm.

【００１２】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層としては、蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物を含む層であれば特に制限はないが、例えば、
（ａ）フィルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチレン性
不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光
の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び
（ｄ）蛍光体を含む層等が好ましいものとして挙げられ
る。The photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) in the present invention is not particularly limited as long as it is a layer containing the photosensitive resin composition containing the phosphor.
(A) a film property imparting polymer, (b) a photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal, (c) a photoinitiator which produces a free radical upon irradiation with active light, and (d) a phosphor. Preferred examples include layers containing the same.

【００１３】（ａ）フィルム性付与ポリマとしては、ビ
ニル共重合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられる
ビニル単量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸
メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタ
クリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル
酸ｎ−プロピル、アクリル酸iso−プロピル、メタクリ
ル酸iso−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリ
ル酸ｎ−ブチル、アクリル酸iso−ブチル、メタアクリ
ル酸iso−ブチル、アクリル酸sec−ブチル、メタクリル
酸sec−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル
酸tert−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル酸ペ
ンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシル、
アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アクリル
酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アク
リル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デシ
ル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタク
リル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリル
酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリル
酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリル
酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル酸
エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコシ
ル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロペ
ンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シク
ロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル酸
シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニル、
アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシエチ
ル、アクリル酸メトキシジエチレングリコール、メタク
リル酸メトキシジエチレングリコール、アクリル酸メト
キシジプロピレングリコール、メタクリル酸メトキシジ
プロピレングリコール、アクリル酸メトキシトリエチレ
ングリコール、メタクリル酸メトキシトリエチレングリ
コール、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル
酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエ
チル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸
ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエ
チル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタクリル
酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロエチ
ル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２−フ
ルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、アク
リル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノエチ
ル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、
塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、ブタ
ジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリルアミド、
メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロニト
リル等が挙げられる。これらは単独で又は２種類以上を
組み合わせて使用される。The (a) film property imparting polymer is preferably a vinyl copolymer, and examples of the vinyl monomer used in the vinyl copolymer include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid and itaconic acid. , Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-propyl acrylate, n-propyl methacrylate, iso-propyl acrylate, iso-propyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-methacrylate -Butyl, iso-butyl acrylate, iso-butyl methacrylate, sec-butyl acrylate, sec-butyl methacrylate, tert-butyl acrylate, tert-butyl methacrylate, pentyl acrylate, pentyl methacrylate, acrylic acid Hexyl, hexyl methacrylate,
Heptyl acrylate, heptyl methacrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, octyl acrylate, octyl methacrylate, nonyl acrylate, nonyl methacrylate, decyl acrylate, decyl methacrylate, dodecyl acrylate, methacrylic acid Dodecyl, tetradecyl acrylate, tetradecyl methacrylate, hexadecyl acrylate, hexadecyl methacrylate, octadecyl acrylate, octadecyl methacrylate, eicosyl acrylate, eicosyl methacrylate, docosyl acrylate, docosyl methacrylate, cyclopentyl acrylate, cyclopentyl methacrylate, Cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cycloheptyl acrylate, cycloheptyl methacrylate, Benzyl acrylic acid, benzyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate,
Methoxyethyl acrylate, methoxyethyl methacrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol methacrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol methacrylate, acrylic acid 2-hydroxyethyl, 2-hydroxyethyl methacrylate, dimethylaminoethyl acrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl acrylate, diethylaminoethyl methacrylate, dimethylaminopropyl acrylate, dimethylaminopropyl methacrylate, 2-acrylic acid acrylate Chloroethyl, 2-chloroethyl methacrylate, 2-fluoroethyl acrylate, 2-fluoroethyl acrylic acid, acrylic acid 2-cyanoethyl methacrylate, 2-cyanoethyl, styrene, alpha-methyl styrene, vinyl toluene,
Vinyl chloride, vinyl acetate, N-vinylpyrrolidone, butadiene, isoprene, chloroprene, acrylamide,
Examples include methacrylamide, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【００１４】（ａ）フィルム性付与ポリマの重量平均分
子量は、５，０００〜３００，０００とすることが好ま
しく、２０，０００〜１５０，０００とすることがより
好ましい。この重量平均分子量が、５，０００未満で
は、感光性エレメントとした場合にフィルム形成性及び
可とう性が低下する傾向があり、３００，０００を超え
ると、現像性（不要部が現像により、容易に除去できる
性質）が低下する傾向がある。なお、重量平均分子量
は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により
測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて換算した値で
ある。The weight average molecular weight of the (a) film imparting polymer is preferably 5,000 to 300,000, more preferably 20,000 to 150,000. If the weight average molecular weight is less than 5,000, the film formability and flexibility of the photosensitive element tend to decrease, and if it exceeds 300,000, the developability (unnecessary portions are easily developed by development). Tend to be reduced). The weight average molecular weight is a value measured by gel permeation chromatography and converted using a standard polystyrene calibration curve.

【００１５】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
が、公知の各種現像液により現像可能となるように、
（ａ）フィルム性付与ポリマのカルボキシル基含有率
（酸価（mgKOH/g）で規定できる）を適宜調整すること
ができる。例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム等
のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を、
９０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、９０
未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を超え
ると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパター
ンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が低
下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶液と一種
以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する
場合には、酸価を、１６〜２６０とすることが好まし
い。この酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾向
があり、２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向
がある。さらに、１，１，１−トリクロロエタン等の有
機溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を含有
しなくても良い。Further, in order that the photosensitive resin composition containing the phosphor can be developed by various known developing solutions,
(A) The carboxyl group content (which can be defined by the acid value (mgKOH / g)) of the film property imparting polymer can be appropriately adjusted. For example, when developing using an aqueous alkali solution such as sodium carbonate or potassium carbonate, the acid value
It is preferably 90 to 260. This acid value is 90
If it is less than 260, development tends to be difficult, and if it exceeds 260, the developer resistance (the property that the portion which is not removed by development and becomes the remaining pattern is not attacked by the developer) tends to deteriorate. In the case of developing using an aqueous developer containing water or an alkaline aqueous solution and one or more organic solvents, the acid value is preferably 16 to 260. When the acid value is less than 16, development tends to be difficult, and when it exceeds 260, developer resistance tends to decrease. Further, when an organic solvent developer such as 1,1,1-trichloroethane is used, it does not need to contain a carboxyl group.

【００１６】（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合性多官能
モノマとして知られているものを全て用いることができ
る。例えば、多価アルコールのアクリレート又はメタク
リレート（ジエチレングリコールジアクリレート、ジエ
チレングリコールジメタクリレート、テトラエチレング
リコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジ
メタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ポリエチレングリコールジメタアクリレート、テト
ラプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピ
レングリコールジメタクリレート、ヘキサプロピレング
リコールジアクリレート、ヘキサプロピレングリコール
ジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリ
レート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−
ノナンジオールジアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
メタクリレート等）、エポキシアクリレート又はエポキ
シメタクリレート（２，２−ビス（４−メタクリロキシ
エトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アク
リロキシエトキシフェニル）プロパン、ビスフェノール
Ａ／エピクロルヒドリン系のエポキシ樹脂のアクリル酸
又はメタクリル酸付加物等）、分子中にベンゼン環を有
する低分子不飽和ポリエステルのアクリレート又はメタ
クリレート（無水フタル酸／ネオペンチルグリコール／
アクリル酸＝１／２／２（モル比）の縮合物等）、トリ
メチロールプロパントリグリシジルエーテルのアクリル
酸又はメタクリル酸との付加物、トリメチルヘキサメチ
レンジイソシアネートと２価アルコールのアクリル酸モ
ノエステル又はメタクリル酸モノエステルとの反応で得
られるウレタンアクリレート化合物又はウレタンメタク
リレート化合物、トリス（アクリロキシエチル）イソシ
アヌレート、トリス（メタクリロキシエチル）イソシア
ヌレート、ポリスチリルエチルアクリレート、ポリスチ
リルエチルメタクリレート、４−（２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジニル）アクリレート、４−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジニル）メタクリレー
ト、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノール
Ａジメタクリレートなどが挙げられる。これらは単独で
又は２種類以上を組み合わせて使用されるが、本発明に
おける（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層は、
焼成により不要な有機成分を除去する必要があるため、
熱分解性が良好であるポリエチレングリコールジメタク
リレートが好ましい。As the photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal (b), all those conventionally known as photopolymerizable polyfunctional monomers can be used. For example, acrylates or methacrylates of polyhydric alcohols (diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, tetrapropylene glycol diacrylate, tetrapropylene glycol Dimethacrylate, hexapropylene glycol diacrylate, hexapropylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate,
Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate,
1,6-hexanediol dimethacrylate, 1,9-
Nonanediol diacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, etc., epoxy acrylate or epoxy methacrylate (2,2-bis (4-methacryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4-acryloxy) (Ethoxyphenyl) propane, bisphenol A / epoxychlorohydrin type epoxy resin acrylic acid or methacrylic acid adduct, etc.), acrylate or methacrylate of a low molecular unsaturated polyester having a benzene ring in the molecule (phthalic anhydride / neopentyl glycol /
Condensate of acrylic acid = 1/2/2 (molar ratio), adduct of trimethylolpropane triglycidyl ether with acrylic acid or methacrylic acid, acrylic acid monoester or methacrylic acid of trimethylhexamethylene diisocyanate and dihydric alcohol Urethane acrylate compound or urethane methacrylate compound obtained by reaction with acid monoester, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, tris (methacryloxyethyl) isocyanurate, polystyrylethyl acrylate, polystyrylethyl methacrylate, 4- (2, 2,6,6-tetramethylpiperidinyl) acrylate, 4- (2,2
2,6,6-tetramethylpiperidinyl) methacrylate, bisphenol A diacrylate, bisphenol A dimethacrylate and the like can be mentioned. These are used alone or in combination of two or more, but the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor in the present invention is
Since it is necessary to remove unnecessary organic components by firing,
Polyethylene glycol dimethacrylate, which has good thermal decomposability, is preferred.

【００１７】（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成する光開始剤としては、例えば、芳香族ケトン（ベ
ンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジ
アミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−
テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４
−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２
−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリ
ノフェニル）−ブタノン−１、２，２−ジメトキシ−
１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ
−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−メチル−１
−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルフォリノ
プロパノン−１、２，４−ジエチルチオキサントン、２
−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン等）、
ベンゾインエーテル（ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル
等）、ベンゾイン（メチルベンゾイン、エチルベンゾイ
ン等）、ベンジル誘導体（ベンジルジメチルケタール
等）、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体
（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイ
ミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，
５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、
２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミ
ダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，
５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキ
シフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量
体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニ
ルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェ
ニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等）、
アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジン、１，７−
ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等）などが挙
げられる。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせ
て使用される。(C) Photoinitiators which generate free radicals by irradiation with active light include, for example, aromatic ketones (benzophenone, N, N'-tetramethyl-4,4'-diaminobenzophenone (Michler's ketone), N. , N'-
Tetraethyl-4,4'-diaminobenzophenone, 4
-Methoxy-4'-dimethylaminobenzophenone, 2
-Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1,2,2-dimethoxy-
1,2-diphenylethan-1-one, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-methyl-1
-(4- (methylthio) phenyl) -2-morpholinopropanone-1,2,4-diethylthioxanthone, 2
-Ethylanthraquinone, phenanthrenequinone, etc.),
Benzoin ether (benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin phenyl ether, etc.), benzoin (methylbenzoin, ethylbenzoin, etc.), benzyl derivative (benzyldimethylketal, etc.), 2,4,5-triarylimidazole dimer (2 -(O-chlorophenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2- (o-chlorophenyl) -4,
5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer,
2- (o-fluorophenyl) -4,5-phenylimidazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,
5-diphenylimidazole dimer, 2- (p-methoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) -5-phenylimidazole dimer, 2- ( 2,4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenylimidazole dimer),
Acridine derivative (9-phenylacridine, 1,7-
Bis (9,9′-acridinyl) heptane, etc.) and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【００１８】（ｄ）蛍光体としては、特に限定はなく、
通常の金属酸化物を主体とするものが使用できる。赤色
発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ
3(ＰＯ4)2：Ｍｎ、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ、ＹＶＯ4：Ｅｕ、
(Ｙ，Ｇｄ)ＢＯ3：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3(ＰＯ4)2：Ｍｎ、
(ＺｎＣｄ)Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ2Ｏ等が挙げられる。緑色発
色の蛍光体としては、例えば、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ｚｎ2Ｓ
ｉＯ4：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、Ｇ
ｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12：Ｃｅ、ＺｎＳ：Ｃｕ，
Ａｌ、Ｙ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ，
Ａｌ＋Ｉｎ2Ｏ3、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂ、ＢａＯ・６
Ａｌ2Ｏ3：Ｍｎ等が挙げられる。青色発色の蛍光体とし
ては、例えば、ＺｎＳ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ、Ｚ
ｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｕ，Ｇａ，
Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ＋Ｉｎ2Ｏ3、Ｃａ2Ｂ5Ｏ9Ｃｌ：Ｅ
ｕ2+、(Ｓｒ，Ｃａ，Ｂａ，Ｍｇ)10(ＰＯ4)6Ｃｌ2：Ｅ
ｕ2+、Ｓｒ10(ＰＯ4)6Ｃｌ2：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ10
Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、ＢａＭｇ
Ａｌ16Ｏ26：Ｅｕ2+等が挙げられる。(D) The phosphor is not particularly limited,
Those mainly composed of ordinary metal oxides can be used. Examples of the red-coloring phosphor include Y 2 O 2 S: Eu and Zn.
3 (PO 4 ) 2 : Mn, Y 2 O 3 : Eu, YVO 4 : Eu,
(Y, Gd) BO 3 : Eu, γ-Zn 3 (PO 4 ) 2 : Mn,
(ZnCd) S: Ag + In 2 O and the like. Examples of green phosphors include ZnS: Cu and Zn 2 S.
iO 4 : Mn, ZnS: Cu + Zn 2 SiO 4 : Mn, G
d 2 O 2 S: Tb, Y 3 Al 5 O 12 : Ce, ZnS: Cu,
Al, Y 2 O 2 S: Tb, ZnO: Zn, ZnS: Cu,
Al + In 2 O 3 , LaPO 4 : Ce, Tb, BaO · 6
Al 2 O 3: Mn, and the like. Examples of blue-colored phosphors include ZnS: Ag, ZnS: Ag, Al, and Z.
nS: Ag, Ga, Al, ZnS: Ag, Cu, Ga,
Cl, ZnS: Ag + In 2 O 3 , Ca 2 B 5 O 9 Cl: E
u 2+ , (Sr, Ca, Ba, Mg) 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : E
u 2+ , Sr 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , BaMgAl 10
O 17 : Eu 2+ , BaMgAl 14 O 23 : Eu 2+ , BaMg
Al 16 O 26 : Eu 2+ and the like can be mentioned.

【００１９】（ａ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとしてロール状で供給した場合、
蛍光体含有感光性樹脂がロール端部からしみ出す（以下
エッジフュージョンと記す）ことにより、感光性エレメ
ントのラミネート時にロールからの繰り出しが困難とな
り、またしみ出した部分がＰＤＰ用基板の空間に部分的
に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著しく低下する等の
問題が生じたり、フィルム形成性が低下する等の傾向が
あり、９０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向
がある。The amount of the component (a) is preferably 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total amount of the components (a) and (b). preferable. When the compounding amount is less than 10 parts by weight, when the photosensitive element is supplied in a roll form,
Since the phosphor-containing photosensitive resin exudes from the end of the roll (hereinafter referred to as edge fusion), it becomes difficult to feed the photosensitive element from the roll during lamination of the photosensitive element, and the extruded portion is partially located in the space of the PDP substrate. In particular, there is a tendency that the film is excessively embedded, the production yield is remarkably reduced, the film-forming property is lowered, and if it exceeds 90 parts by weight, the sensitivity tends to be insufficient.

【００２０】（ｂ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感度が不充分
となる傾向があり、９０重量部を超えると、感光性エレ
メントとした場合に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成
性が低下する等の傾向がある。The blending amount of the component (b) is preferably 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, when the total amount of the components (a) and (b) is 100 parts by weight. preferable. If the amount is less than 10 parts by weight, the sensitivity of the photosensitive resin composition containing the phosphor tends to be insufficient. If the amount is more than 90 parts by weight, the phosphor is used as a photosensitive element. The photosensitive resin composition contained tends to exude from the edge due to the flow, or the film-forming property tends to decrease.

【００２１】（ｃ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感度
が不充分となる傾向があり、３０重量部を超えると、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物の露光表面での活性光
の吸収が増大して、内部の光硬化が不充分となる傾向が
ある。The blending amount of the component (c) is 0.01 to 3 relative to 100 parts by weight of the total amount of the components (a) and (b).
The amount is preferably 0 part by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight. If the content is less than 0.01 parts by weight, the sensitivity of the photosensitive resin composition containing the phosphor tends to be insufficient, and if it exceeds 30 parts by weight, the photosensitive resin composition containing the phosphor is present. The absorption of active light on the exposed surface of the product tends to increase, and internal photocuring tends to be insufficient.

【００２２】（ｄ）成分の配合量は、（ａ）成分、
（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、１０〜３００重量部とすることが好ましく、５０〜
２５０重量部とすることがより好ましく、７０〜２００
重量部とすることが特に好ましい。この配合量が、１０
重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場合に発光効
率が低下する傾向があり、３００重量部を超えると、感
光性エレメントとした場合に、フィルム形成性が低下し
たり、可とう性が低下する傾向がある。The blending amount of the component (d) is as follows:
The total amount of the components (b) and (c) is 100 parts by weight, preferably 10 to 300 parts by weight, and 50 to 50 parts by weight.
More preferably 250 parts by weight, 70 to 200
It is particularly preferred to use parts by weight. This blending amount is 10
If the amount is less than part by weight, the luminous efficiency tends to decrease when light is emitted as a PDP. If the amount exceeds 300 parts by weight, the film formability or flexibility decreases when the photosensitive element is used. Tend.

【００２３】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、長
期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良好にするために、
カルボキシル基を有する化合物を含有させることができ
る。カルボキシル基を有する化合物としては、例えば、
飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二
塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が挙げられ
る。The photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor of the present invention does not cause thickening for a long period of time and has good storage stability.
A compound having a carboxyl group can be contained. As the compound having a carboxyl group, for example,
Examples include saturated fatty acids, unsaturated fatty acids, aliphatic dibasic acids, aromatic dibasic acids, aliphatic tribasic acids, aromatic tribasic acids, and the like.

【００２４】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。Specifically, for example, formic acid, acetic acid, chloroacetic acid, dichloroacetic acid, trichloroacetic acid, propionic acid,
Capric, undecanoic, lauric, tridecanoic, myristic, pentadecanoic, palmitic, heptadecanoic, stearic, nonadecanoic, arachidic, palmitooleic, oleic, elaidic, linolenic, linoleic, Oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, monomethyl malonate,
Monoethyl malonate, succinic acid, methylsuccinic acid, adipic acid, methyladipic acid, pimelic acid, suberic acid,
Azelaic acid, sebacic acid, maleic acid, itaconic acid,
Examples include phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, citric acid, salicylic acid, pyruvic acid, malic acid and the like. Among them, oxalic acid, malonic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, citric acid and the like are preferable, and oxalic acid, malonic acid, citric acid and the like are more preferable in terms of a high effect of suppressing thickening. These are used alone or in combination of two or more.

【００２５】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不充分となる傾向が
ある。The compounding amount of the compound having a carboxyl group is 0.01 to 30 with respect to 100 parts by weight of the component (a).
It is preferable to use parts by weight. When the blending amount is 0.01
If the amount is less than 30 parts by weight, the effect of storage stability tends to decrease, and if it exceeds 30 parts by weight, sensitivity tends to be insufficient.

【００２６】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、蛍
光体の分散を良好とするために、分散剤を添加すること
が好ましい。分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル
系、ベントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘク
トライト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイ
デライト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪
族エステル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系ア
ニオン活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボ
ン酸系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アク
リル共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。A dispersant is preferably added to the photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor in the present invention in order to improve the dispersion of the phosphor. . Dispersants include inorganic dispersants (silica gel, bentonite, kaolinite, talc, hectorite, montmorillonite, saponite, beidellite, etc.), and organic dispersants (aliphatic amide, aliphatic ester). Polyethylene oxide type, sulfate type anion activator, polycarboxylic acid amine salt type, polycarboxylic acid type, polyamide type, polymer polyether type, acrylic copolymer type, special silicon type, etc.).
These can be used alone or in combination of two or more.

【００２７】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）が低
下する傾向がある。The amount of the dispersant used is not particularly limited, and is 0.01 to 10 relative to 100 parts by weight of the component (a).
It is preferably 0 parts by weight. This usage is 0.0
If it is less than 1 part by weight, the effect of addition tends not to be exhibited,
If the amount exceeds 100 parts by weight, pattern formation accuracy (the property of obtaining a pattern formed of a photosensitive resin composition containing a phosphor, which is dimensionally accurate and desired in a desired shape after development) tends to decrease.

【００２８】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物には、焼
成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離しないようにする
ために、結着剤を使用することが好ましい。結着剤とし
ては、例えば、低融点ガラス、金属アルコキシド、シラ
ンカップリング剤等が挙げられる。これらは単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。結着剤の使用量
としては、特に制限はなく、（ｄ）成分１００重量部に
対して、０．０１〜１００重量部とすることが好まし
く、０．０５〜５０重量部とすることがより好ましく、
０．１〜３０重量部とすることが特に好ましい。この使
用量が、０．０１重量部未満では、蛍光体の結着効果が
発現しない傾向があり、１００重量部を超えると、発光
効率が低下する傾向がある。The photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor in the present invention is bonded to prevent the phosphor from peeling off from the PDP substrate after firing. It is preferable to use a binder. Examples of the binder include a low-melting glass, a metal alkoxide, and a silane coupling agent. These are used alone or in combination of two or more. The amount of the binder used is not particularly limited, and is preferably 0.01 to 100 parts by weight, more preferably 0.05 to 50 parts by weight, relative to 100 parts by weight of the component (d). Preferably
It is particularly preferred that the amount be 0.1 to 30 parts by weight. If the amount is less than 0.01 part by weight, the binding effect of the phosphor tends not to be exhibited, and if it exceeds 100 parts by weight, the luminous efficiency tends to decrease.

【００２９】また、本発明における（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に
は、染料、発色剤、可塑剤、顔料、重合禁止剤、表面改
質剤、安定剤、密着性付与剤、熱硬化剤等を必要に応じ
て添加することができる。Further, the photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor in the present invention contains a dye, a color former, a plasticizer, a pigment, a polymerization inhibitor, and a surface modification. Agents, stabilizers, adhesion promoters, thermosetting agents and the like can be added as necessary.

【００３０】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層は、これを構成する前記各成分を溶解
又は分散可能な溶剤に、溶解又は混合させることによ
り、均一に分散した溶液とし、支持体フィルム上に、塗
布、乾燥することにより感光性エレメントとして得るこ
とができる。The photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor in the present invention is a solution in which the above-mentioned components constituting the solution are uniformly dispersed by dissolving or mixing in a solvent capable of dissolving or dispersing. Then, a photosensitive element can be obtained by coating and drying on a support film.

【００３１】前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤とし
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ-ブチロラクトン、Ｎ-メチルピロリド
ン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチレ
ン、メチルアルコール、エチルアルコール等があげられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
される。Examples of the solvent capable of dissolving or dispersing the above components include toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, tetramethylsulfone, Examples include diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, chloroform, methylene chloride, methyl alcohol, ethyl alcohol and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【００３２】支持体フィルムとしては、化学的及び熱的
に安定であり、また、可とう性の物質で構成された、例
えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、その
中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンが
好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好まし
い。この支持体フィルムの厚さは、５〜１００μｍとす
ることがが好ましく、１０〜３０μｍとすることがより
好ましい。塗布方法としては、公知の方法を用いること
ができ、例えば、ナイフコート法、ロールコート法、ス
プレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、カ
ーテンコート法等が挙げられる。乾燥温度は、６０〜１
３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、３分〜１時
間とすることが好ましい。The support film includes, for example, polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, which are chemically and thermally stable and made of a flexible material. Among them, polyethylene is preferable. Terephthalate and polyethylene are preferable, and polyethylene terephthalate is more preferable. The thickness of the support film is preferably 5 to 100 μm, more preferably 10 to 30 μm. As a coating method, a known method can be used, and examples thereof include a knife coating method, a roll coating method, a spray coating method, a gravure coating method, a bar coating method and a curtain coating method. Drying temperature is 60-1
The temperature is preferably 30 ° C., and the drying time is preferably 3 minutes to 1 hour.

【００３３】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜
１００μｍとすることが好ましく、２０〜８０μｍとす
ることがより好ましい。この厚さが、１０μｍ未満で
は、焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低
下する傾向があり、１００μｍを超えると、焼成後の蛍
光体パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して
発光効率が低下する傾向がある。The thickness of the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor in the present invention is not particularly limited, but may be from 10 to 10.
The thickness is preferably 100 μm, more preferably 20 to 80 μm. If the thickness is less than 10 μm, the phosphor pattern after firing tends to be thin and the luminous efficiency tends to decrease. If the thickness exceeds 100 μm, the phosphor pattern after firing becomes thick and the emission area of the phosphor screen decreases. As a result, the luminous efficiency tends to decrease.

【００３４】本発明における（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフ
ィルムを積層することができる。カバーフィルムとして
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フ
ィルムと（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層と
の接着力よりも、カバーフィルムと（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいもので
あることが好ましい。このようにして得られる感光性エ
レメントは、ロール状に巻いて保管可能とすることがで
きる。On the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) in the present invention, a peelable cover film can be further laminated. Examples of the cover film include polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polycarbonate, and the like. The cover film and the (A) fluorescent material are more inferior to the adhesive force between the support film and the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer. It is preferable that the adhesive strength with the photosensitive resin composition layer containing the body is smaller. The photosensitive element thus obtained can be stored in a roll.

【００３５】本発明における（Ｂ）熱可塑性樹脂層を構
成する樹脂としては、加熱圧着時の温度で軟化するもの
であれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩
化ビニリデン、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポ
リアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エステル、エ
チレンと酢酸ビニルの共重合体、エチレンとアクリル酸
エステルの共重合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合
体、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エ
ステルとの共重合体、ビニルトルエンとアクリル酸エス
テル又はメタクリル酸エステルとの共重合体、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。The resin constituting the thermoplastic resin layer (B) in the present invention is not particularly limited as long as it softens at the temperature during thermocompression bonding, and examples thereof include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride and polyvinyl acetate. , Polyvinylidene chloride, polystyrene, polyvinyltoluene, polyacrylic acid ester, polymethacrylic acid ester, ethylene / vinyl acetate copolymer, ethylene / acrylic acid ester copolymer, vinyl chloride / vinyl acetate copolymer, styrene And acrylic acid ester or methacrylic acid ester copolymer, vinyl toluene and acrylic acid ester or methacrylic acid ester copolymer, polyvinyl alcohol resin (polyacrylic acid ester or polymethacrylic acid ester hydrolyzate, poly Ethyl vinyl acetate hydrolyzate Hydrolyzate of copolymer of vinyl acetate and vinyl acetate, hydrolyzate of copolymer of ethylene and acrylic acid ester, hydrolyzate of copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate, styrene and acrylic acid ester or Hydrolyzate of copolymer with methacrylic acid ester, hydrolyzate of copolymer of vinyltoluene and acrylic acid ester or methacrylic acid ester, etc.), water-soluble salt of carboxyalkyl cellulose, water-soluble cellulose ethers, carboxy Examples thereof include water-soluble salts of alkyl starch, polyvinylpyrrolidone, unsaturated carboxylic acids, and resins having a carboxyl group obtained by copolymerizing an unsaturated monomer copolymerizable therewith.

【００３６】また、本発明における（Ｂ）熱可塑性樹脂
層は、混色防止、作業性の向上等の点から、（ｅ）熱可
塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基を有する光
重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光の照射により遊離
ラジカルを生成する光開始剤を含有してなる感光性樹脂
組成物により構成することもできる。Further, the (B) thermoplastic resin layer in the present invention comprises (e) a thermoplastic resin and (f) a photopolymerization having an ethylenically unsaturated group at the terminal, from the viewpoints of preventing color mixture and improving workability. It may also be composed of a photosensitive resin composition containing a polyunsaturated compound and (g) a photoinitiator that generates a free radical upon irradiation with active light.

【００３７】（ｅ）熱可塑性樹脂としては、前記した
（Ｂ）熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として使用可能な
樹脂及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を
構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ａ）フィルム
性付与ポリマを使用することができる。（ｆ）末端にエ
チレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物として
は、前記した（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層を構成する感光性樹脂組成物に使用可能な（ｂ）末端
にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物を
使用することができる。（ｇ）活性光の照射により遊離
ラジカルを生成する光開始剤としては、前記した（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構成する感光性
樹脂組成物に使用可能な（ｃ）活性光の照射により遊離
ラジカルを生成する光開始剤を使用することができる。As the thermoplastic resin (e), the resin which can be used as the resin constituting the thermoplastic resin layer (B) and the photosensitive resin constituting the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) are used. The (a) film property imparting polymer that can be used in the resin composition can be used. (F) The photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal can be used in the photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin composition layer containing the above-mentioned (A) phosphor ( b) A photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal can be used. (G) As the photoinitiator which generates a free radical upon irradiation with active light, the above-mentioned (A)
It is possible to use (c) a photoinitiator which generates a free radical upon irradiation with active light, which can be used in the photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin composition layer containing a phosphor.

【００３８】（ｅ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感光性エレメントとした場合に、感光性樹脂組成物
が流動によって端部からしみ出したり、フィルム形成性
が低下する等の傾向があり、９０重量部を超えると、感
度が不充分となる傾向がある。The compounding amount of the component (e) is preferably 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, when the total amount of the components (e) and (f) is 100 parts by weight. preferable. If the blending amount is less than 10 parts by weight, when it is used as a photosensitive element, the photosensitive resin composition tends to exude from the end portion due to flow, the film formability may be deteriorated, and 90 parts by weight may be used. If it exceeds, the sensitivity tends to be insufficient.

【００３９】（ｆ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、感度が不充分となる傾向があり、９０重量部を超え
ると、感光性エレメントとした場合に、流動によって端
部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する等の傾
向がある。The compounding amount of the component (f) is preferably 10 to 90 parts by weight, more preferably 20 to 80 parts by weight, when the total amount of the components (e) and (f) is 100 parts by weight. preferable. If the amount is less than 10 parts by weight, the sensitivity tends to be insufficient. If the amount is more than 90 parts by weight, when the photosensitive element is used, it exudes from the edge due to the flow and the film-forming property is deteriorated. Tend to do so.

【００４０】（ｇ）成分の配合量は、（ｅ）成分及び
（ｆ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、感度が不充分となる傾向があり、３０重量
部を超えると、露光表面での活性光の吸収が増大して、
内部の光硬化が不充分となる傾向がある。The compounding amount of the component (g) is 0.01 to 3 relative to 100 parts by weight of the total amount of the components (e) and (f).
The amount is preferably 0 part by weight, more preferably 0.1 to 20 parts by weight. If the amount is less than 0.01 parts by weight, the sensitivity tends to be insufficient, and if it exceeds 30 parts by weight, absorption of active light on the exposed surface increases,
Internal photocuring tends to be inadequate.

【００４１】また、（Ｂ）熱可塑性樹脂層は、後述する
現像工程において、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層及び（Ｂ）熱可塑性樹脂層が、同一の現像液を
使用して現像できるものであることが、工程を少なくで
きる点から好ましい。同一の現像液で現像できるものと
しては、水又はアルカリ水溶液に可溶なものが挙げられ
る。The (B) thermoplastic resin layer uses the same developing solution for the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer and the (B) thermoplastic resin layer in the developing step described later. It is preferable that the development can be carried out by doing so from the viewpoint that the number of steps can be reduced. Those which can be developed with the same developer include those which are soluble in water or an aqueous alkaline solution.

【００４２】水又はアルカリ水溶液に可溶な（Ｂ）熱可
塑性樹脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニ
ルアルコール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリ
メタクリル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの
加水分解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水
分解物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の
加水分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加
水分解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリ
ル酸エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエ
ンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの
共重合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロ
ースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボ
キシアルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリド
ン、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単
量体を共重合することにより得られるカルボキシル基を
有する樹脂などが挙げられる。Examples of the resin which constitutes the thermoplastic resin layer (B) soluble in water or an aqueous alkaline solution include polyvinyl alcohol resins (hydrolysates of polyacrylic acid ester or polymethacrylic acid ester, polyvinyl acetate, etc.). Hydrolyzate, hydrolyzate of copolymer of ethylene and vinyl acetate, hydrolyzate of copolymer of ethylene and acrylate, hydrolyzate of copolymer of vinyl chloride and vinyl acetate, styrene Hydrolyzate of copolymer of acrylic acid ester or methacrylic acid ester, hydrolyzate of copolymer of vinyltoluene and acrylic acid ester or methacrylic acid ester, etc.), water-soluble salt of carboxyalkyl cellulose, water-soluble cellulose Ethers, water-soluble salts of carboxyalkyl starch, polyvinylpyrrolidone, unsaturated carvone A resin having a carboxyl group obtained by copolymerizing these copolymerizable unsaturated monomer and the like.

【００４３】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、前記（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する（ａ）フィルム性付与ポリ
マに使用可能なビニル単量体とを共重合して得られるビ
ニル共重合体などを使用することが好ましい。不飽和カ
ルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合
することにより得られるカルボキシル基を有する樹脂
は、重量平均分子量が、５，０００〜３００，０００と
することが好ましく、２０，０００〜１５０，０００と
することがより好ましい。この重量平均分子量が、５，
０００未満では、感光性エレメントとした場合にフィル
ム形成性及び可とう性が低下する傾向があり、３００，
０００を超えると、現像性が低下する傾向がある。Examples of the resin having a carboxyl group obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated monomer copolymerizable therewith include, for example, unsaturated carboxylic acids (acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid). , Fumaric acid, itaconic acid, etc.) and (a) a vinyl monomer that can be used in the film property imparting polymer constituting the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A). It is preferable to use a vinyl copolymer or the like. The weight average molecular weight of the resin having a carboxyl group obtained by copolymerizing an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated monomer copolymerizable therewith is preferably 5,000 to 300,000, 20 It is more preferable to set it as 1,000 to 150,000. This weight average molecular weight is 5,
When it is less than 000, the film-forming property and flexibility of the photosensitive element tend to decrease,
If it exceeds 000, the developability tends to decrease.

【００４４】また、アルカリ水溶液に可溶な（Ｂ）熱可
塑性樹脂層として、公知の各種現像液により現像可能と
なるように、不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂のカルボキシル基含有率（酸価（mg
KOH/g）で規定できる）を適宜調整することができる。
例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水
溶液を用いて現像する場合には、酸価が、９０〜２６０
とすることが好ましい。この酸価が、９０未満では、現
像が困難となる傾向があり、２６０を超えると、耐現像
液性が低下する傾向がある。また、水又はアルカリ水溶
液と一種以上の有機溶剤とからなる水系現像液を用いて
現像する場合には、酸価が、１６〜２６０とすることが
好ましい。この酸価が、１６未満では、現像が困難とな
る傾向があり、２６０を超えると、耐現像液性が低下す
る傾向がある。Further, as the thermoplastic resin layer (B) soluble in an alkaline aqueous solution, an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated monomer copolymerizable therewith are added so that the thermoplastic resin layer can be developed by various known developing solutions. The carboxyl group content of the resin having a carboxyl group obtained by copolymerization (acid value (mg
KOH / g)) can be adjusted appropriately.
For example, in the case of developing using an alkaline aqueous solution such as sodium carbonate or potassium carbonate, the acid value is 90 to 260.
It is preferable that If the acid value is less than 90, development tends to be difficult, and if it exceeds 260, developer resistance tends to decrease. In the case of developing using an aqueous developer comprising water or an aqueous alkali solution and one or more organic solvents, the acid value is preferably from 16 to 260. When the acid value is less than 16, development tends to be difficult, and when it exceeds 260, developer resistance tends to decrease.

【００４５】また、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層のフ
ィルム性を良好なものとするために、上記した（Ｂ）熱
可塑性樹脂層を構成する樹脂中に、可塑剤を添加するこ
とができる。可塑剤としては、ポリプロピレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、
ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレ
ジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェー
ト、ビフェニルジフェニルフォスフェート等が挙げられ
る。In order to improve the film property of the (B) photosensitive thermoplastic resin layer, a plasticizer may be added to the resin constituting the (B) thermoplastic resin layer. it can. As a plasticizer, polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate,
Examples thereof include diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, biphenyl diphenyl phosphate and the like.

【００４６】本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層は、これを構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一な溶液とし、前記した支
持体フィルム上に、ナイフコート法、ロールコート法、
スプレーコート法、グラビアコート法、バーコート法、
カーテンコート法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、
乾燥することによりフィルム状に形成することができ
る。（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂を溶
解する溶剤としては、例えば、水、トルエン、アセト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メ
チルセロソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチルラクト
ン、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テ
トラメチルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ク
ロロホルム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチル
アルコール等が挙げられる。これらは単独で又は２種類
以上を組み合わせて使用される。The (B) photosensitive thermoplastic resin layer in the present invention is made into a uniform solution by dissolving or mixing it in a solvent that dissolves the resin constituting the resin, and a knife is formed on the support film described above. Coating method, roll coating method,
Spray coating, gravure coating, bar coating,
Coating using a known coating method such as a curtain coating method,
A film can be formed by drying. Examples of the solvent (B) for dissolving the resin forming the photosensitive thermoplastic resin layer include water, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, γ-butyl lactone, N-methylpyrrolidone. , Dimethylformamide, tetramethyl sulfone, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, chloroform, methylene chloride, methyl alcohol, ethyl alcohol and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【００４７】本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層の厚さは、特に制限はないが、ＰＤＰ用基板の空間
への埋め込み性等の点から、１０〜２００μｍとするこ
とが好ましく、２０〜１００μｍとすることがより好ま
しい。また、本発明における（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層の上には、さらに剥離可能なカバーフィルムを積層
することができる。カバーフィルムとしては、ポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層との接着力よりも、カバ
ーフィルムと（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層との接着力
の方が小さいものが好ましい。このようにしてフィルム
状に形成された（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層は、ロー
ル状に巻いて保管可能とすることができる。The thickness of the (B) photosensitive thermoplastic resin layer in the present invention is not particularly limited, but is preferably 10 to 200 μm from the viewpoint of embedding in the space of the PDP substrate, and the like. It is more preferable that the thickness is 20 to 100 μm. Further, a peelable cover film can be further laminated on the (B) photosensitive thermoplastic resin layer in the present invention. As the cover film, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate,
Examples thereof include polycarbonate and the like, in which the adhesive force between the cover film and the (B) photosensitive thermoplastic resin layer is smaller than the adhesive force between the support film and the (B) photosensitive thermoplastic resin layer. preferable. The (B) photosensitive thermoplastic resin layer thus formed into a film can be wound in a roll and can be stored.

【００４８】以下、本発明の蛍光体パターンの製造法の
各工程について、図３及び図４を用いて詳述する。な
お、図３及び図４は、本発明の蛍光体パターンの製造法
の各工程を示した模式図である。Hereinafter, each step of the method for producing a phosphor pattern of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIGS. 3 and 4 are schematic views showing each step of the method for producing a phosphor pattern of the present invention.

【００４９】〔（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
ディスプレイパネル用基板上に、（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層の上部に（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層が配置された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着する工
程〕バリアリブ２が形成されたＰＤＰ用基板１上に、前
記（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を積層
させた状態を図３（Ｉ）に示した。図３（Ｉ）におい
て、バリアリブ２が形成されたＰＤＰ用基板１上に、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を積層さ
せる方法としては、例えば、前記した感光性エレメント
を用いて積層させる方法等が挙げられる。[(I) On a substrate for a plasma display panel having barrier ribs formed thereon, (B) a photosensitive thermoplastic resin layer (B) is disposed on top of a photosensitive resin composition layer containing a phosphor. Step of heating and press-bonding the layer (B) in this state] A state in which the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) is laminated on the PDP substrate 1 on which the barrier ribs 2 are formed. 3 (I). In FIG. 3 (I), on the PDP substrate 1 on which the barrier ribs 2 are formed,
Examples of the method of laminating (A) the phosphor-containing photosensitive resin composition layer 5 include a method of laminating using the above-mentioned photosensitive element.

【００５０】感光性エレメントを用いる場合は、感光性
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブ
を形成した面に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層５が接するように、圧着ロール等で圧着させるこ
とにより積層することができる。この時の圧着圧力は、
１×１０2〜１×１０7Paとすることが好ましく、５×１
０2〜５×１０6Paとすることがより好ましく、１×１０
4〜１×１０6Paとすることが特に好ましい。この圧着圧
力が、１×１０2Pa未満では、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層５が、ＰＤＰ基板上に充分に密着で
きない傾向があり、１×１０7Paを超えると、ＰＤＰ用
基板のバリアリブが破壊される傾向がある。In the case of using a photosensitive element, when a cover film is present on the photosensitive element, after removing the cover film, the (A) phosphor is contained on the surface of the PDP substrate on which the barrier rib is formed. The photosensitive resin composition layer 5 can be laminated by pressing the photosensitive resin composition layer 5 with a pressing roll or the like. The crimping pressure at this time is
It is preferably 1 × 10 2 to 1 × 10 7 Pa, and 5 × 1
0 2 to 5 × 10 6 Pa is more preferable, and 1 × 10
It is particularly preferable that the pressure is 4 to 1 × 10 6 Pa. When the pressure bonding pressure is less than 1 × 10 2 Pa, the photosensitive resin composition layer 5 containing the (A) phosphor tends to be insufficiently adhered to the PDP substrate, and when it exceeds 1 × 10 7 Pa. The barrier ribs of the PDP substrate tend to be destroyed.

【００５１】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等
の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもできる。
なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４０
０μｍとすることが好ましい。Further, from the viewpoint of further improving the embedding ability of the photosensitive resin composition layer 5 containing the (A) phosphor into the space, the surface of the pressure bonding roll is highly flexible such as rubber and plastic. It is also possible to use a material.
The thickness of the layer made of highly flexible material is 200 to 40.
Preferably, it is 0 μm.

【００５２】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、加熱ロール等により感光性エレメントを加熱しな
がら、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面に圧着し
て積層することもできる。加熱圧着時の加熱温度は、１
０〜１３０℃とすることが好ましく、２０〜１２０℃と
することがより好ましく、３０〜１１０℃とすることが
特に好ましい。この加熱温度が、１０℃未満では、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が、ＰＤ
Ｐ基板上に充分に密着できない傾向があり、１３０℃を
超えると、（Ａ）蛍光体を有する感光性樹脂組成物層５
が熱硬化する傾向がある。また、加熱圧着時の圧着圧力
は、１×１０2〜１×１０7Paとすることが好ましく、５
×１０2〜５×１０6Paとすることがより好ましく、１×
１０4〜１×１０6Paとすることが特に好ましい。この圧
着圧力が、１×１０2Pa未満では、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５が、ＰＤＰ基板上に充分に密
着できない傾向があり、１×１０7Paを超えると、ＰＤ
Ｐ用基板のバリアリブが破壊される傾向がある。Further, from the viewpoint of further improving the embedding ability of the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) into the space, the barrier rib of the PDP substrate is heated while heating the photosensitive element with a heating roll or the like. It can also be laminated by pressing on the surface on which is formed. The heating temperature during thermocompression bonding is 1
The temperature is preferably from 0 to 130 ° C, more preferably from 20 to 120 ° C, and particularly preferably from 30 to 110 ° C. If the heating temperature is less than 10 ° C.,
(A) The photosensitive resin composition layer 5 containing a phosphor is
When the temperature exceeds 130 ° C., (A) the photosensitive resin composition layer 5 having a phosphor
Have a tendency to thermoset. Further, the pressure for pressure bonding during heating is preferably 1 × 10 2 to 1 × 10 7 Pa.
More preferably, it is set to × 10 2 to 5 × 10 6 Pa, and 1 ×
Particularly preferably, it is 10 4 to 1 × 10 6 Pa. When the pressure bonding pressure is less than 1 × 10 2 Pa, the photosensitive resin composition layer 5 containing the (A) phosphor tends to be insufficiently adhered to the PDP substrate, and when it exceeds 1 × 10 7 Pa. , PD
The barrier rib of the P substrate tends to be destroyed.

【００５３】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブを形成したＰＤＰ用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させ
る点から、前記ＰＤＰ用基板の予熱処理を行うことが好
ましい。さらに、同様の目的で、４×１０3Pa以下の減
圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うことも
できる。また、このように積層が完了した後、３０〜１
５０℃の範囲で、１〜１２０分間、加熱することもでき
る。この際、支持体フィルムを必要に応じて除去するこ
ともできる。If the photosensitive element is heated as described above, it is not necessary to preheat the substrate for PDP on which the barrier ribs are formed, but (A) the space of the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor. From the viewpoint of further improving the burying property into the substrate, it is preferable to preheat the PDP substrate. Further, for the same purpose, the above-described pressure bonding and thermocompression bonding operations can be performed under a reduced pressure of 4 × 10 3 Pa or less. After the completion of the lamination, 30 to 1
Heating can also be performed at 50 ° C. for 1 to 120 minutes. At this time, the support film can be removed as necessary.

【００５４】（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層５の上部に、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６を配置
し、加熱圧着しながら（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層５及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６を積
層させた状態を図３（II）に示した。図３（II）におい
て、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５の上
部に、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６を配置し、加熱
圧着させる方法としては、例えば、図３（Ｉ）の状態の
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５の上に、
支持体フィルムが存在している場合には、支持体フィル
ムを除去後、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層５の上部に、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６（カバ
ーフィルムが存在しているときは、そのカバーフィルム
を除去した後）を配置し、加熱ロール７等により加熱圧
着する方法などが挙げられる。(A) A photosensitive thermoplastic resin layer 6 (B) is placed on top of the photosensitive resin composition layer 5 containing a phosphor, and (A) a photosensitive resin containing a phosphor while thermocompression bonding. 3 (II) shows a state in which the photosensitive resin composition layer 5 and the (B) photosensitive thermoplastic resin layer 6 are laminated. In FIG. 3 (II), as a method of disposing (B) the photosensitive thermoplastic resin layer 6 on the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) and performing thermocompression bonding, for example, On the photosensitive resin composition layer 5 containing the (A) phosphor in the state of FIG. 3 (I),
When the support film is present, after the support film is removed, (B) the photosensitive thermoplastic resin layer 6 ((B) is provided on the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A). When the cover film is present, (after removing the cover film), the cover film is placed, and heating and pressure bonding is performed by the heating roll 7 or the like.

【００５５】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超える
と、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が熱
硬化する傾向がある。また、加熱圧着時の圧着圧力は、
１×１０4〜１×１０7Paとすることが好ましく、２×１
０4〜５×１０6Paとすることがより好ましく、４×１０
4〜１×１０6Paとすることが特に好ましい。この圧着圧
力が、１×１０4Pa未満では、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への埋め込み
性が低下する傾向があり、１×１０7Paを超えると、Ｐ
ＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向がある。The heating temperature during thermocompression bonding is 10 to 130 ° C.
The temperature is preferably set to 20 to 120 ° C, more preferably 30 to 110 ° C. If the heating temperature is lower than 10 ° C., the embedding property of the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer 5 into the space of the PDP substrate tends to decrease, and if the heating temperature exceeds 130 ° C., (A) The photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor tends to be thermally cured. Also, the compression pressure during heat compression is
It is preferably 1 × 10 4 to 1 × 10 7 Pa, and 2 × 1
It is more preferable that the pressure is 0 4 to 5 × 10 6 Pa, and 4 × 10
It is particularly preferable that the pressure is 4 to 1 × 10 6 Pa. When the pressure bonding pressure is less than 1 × 10 4 Pa, the embedding property of the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) into the space of the PDP substrate tends to decrease, and 1 × 10 7 Pa is used. When exceeded, P
The barrier ribs of the DP substrate tend to be broken.

【００５６】（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６を前記の
ように加熱すれば、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理すること
は必要ではないが、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を
積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することが好ましい。
この時の予熱温度は、３０〜１３０℃とすることが好ま
しく、また、予熱時間は、０．５〜２０分間とすること
が好ましい。また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等
の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもできる。
なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４０
０μｍとすることが好ましい。(B) If the photosensitive thermoplastic resin layer 6 is heated as described above, it is possible to preheat the PDP substrate on which (A) the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor is laminated. Although not necessary, the photosensitive resin composition layer 5 containing the (A) phosphor is laminated from the viewpoint of further improving the embeddability of the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) into the space. It is preferable to preheat the PDP substrate.
The preheating temperature at this time is preferably 30 to 130 ° C., and the preheating time is preferably 0.5 to 20 minutes. Further, from the viewpoint of further improving the embedding property of the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) into the space, the surface of the pressure-bonding roll is made of a flexible material such as rubber or plastic. Can also be used.
The thickness of the layer made of highly flexible material is 200 to 40.
Preferably, it is 0 μm.

【００５７】さらに、同様の目的で、４×１０3Pa以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行うこ
ともできる。また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
時、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６の上に支持体フィ
ルムが存在する場合には、その支持体フィルムを必要に
応じて除去してもよい。このようにして、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層５をＰＤＰ用基板の空間
に均一に形成することができる。Further, for the same purpose, the above-mentioned press-bonding and thermocompression-bonding operations can be carried out under a reduced pressure of 4 × 10 3 Pa or less. After the lamination is completed, 30 to 150 ° C
Can be heated for 1 to 120 minutes. At this time, if a support film is present on the (B) photosensitive thermoplastic resin layer 6, the support film may be removed as necessary. In this manner, (A) the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor can be uniformly formed in the space of the PDP substrate.

【００５８】また、本発明における（Ｉ）工程では、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５と（Ｂ）
感光性の熱可塑性樹脂層６とを、２層同時に加熱圧着し
ながら積層させることもできる。２層同時に加熱圧着さ
せる時の加熱圧着条件としては、前記（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層６を加熱圧着させる時の条件を用いること
ができる。In the step (I) of the present invention,
(A) Photosensitive resin composition layer 5 containing phosphor and (B)
It is also possible to laminate the two layers of the photosensitive thermoplastic resin layer 6 by thermocompression bonding at the same time. As the thermocompression bonding conditions when the two layers are thermocompressed at the same time, the conditions for thermocompressing the (B) photosensitive thermoplastic resin layer 6 can be used.

【００５９】〔（II）活性光線を像的に照射する工程〕
活性光線９を像的に照射する状態を図３（III）に示し
た。図３（III）において、活性光線９を像的に照射す
る方法としては、図３（II）の状態の（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層６の上部に、ネガフィルム、ポジフィルム
等のフォトマスク８を介して、活性光線９を像的に照射
することができる。この時、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層６の上に支持体フィルムが存在する場合は、その支
持体フィルムを積層したまま活性光線９を像的に照射し
てもよく、また、支持体フィルムを除去した後に活性光
線９を像的に照射してもよい。なお、この時、（Ｂ）感
光性の熱可塑性樹脂層６は、（Ａ）蛍光体を有する感光
性樹脂組成物層５と同時に光硬化することとなる。[(II) Step of Imagewise Irradiation with Actinic Light]
FIG. 3 (III) shows a state in which the actinic ray 9 is imagewise irradiated. In FIG. 3 (III), as a method of irradiating the actinic ray 9 imagewise, a negative film, a positive film, or the like is formed on the upper part of the (B) photosensitive thermoplastic resin layer 6 in the state of FIG. 3 (II). The actinic ray 9 can be imagewise irradiated through the photomask 8. At this time, when a support film is present on the (B) photosensitive thermoplastic resin layer 6, the actinic ray 9 may be imagewise irradiated with the support film laminated, and The actinic ray 9 may be imagewise irradiated after removing the body film. At this time, (B) the photosensitive thermoplastic resin layer 6 is photocured at the same time as (A) the photosensitive resin composition layer 5 having a phosphor.

【００６０】活性光線９としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。
光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域において最大で
あるので、その場合の活性光源は、紫外線を有効に放射
するものにすべきである。また、光開始剤が可視光線に
感受するもの、例えば、９、１０−フェナンスレンキノ
ン等である場合には、活性光線９としては、可視光が用
いられ、その光源としては、前記のもの以外に写真用フ
ラッド電球、太陽ランプ等も使用することができる。As the actinic ray 9, a known actinic light source can be used, and examples thereof include light emitted from carbon arc, mercury vapor arc, xenon arc, and the like.
Since the photoinitiator sensitivity is usually maximum in the UV region, the actinic light source in that case should be one that effectively emits UV light. When the photoinitiator is sensitive to visible light, for example, 9,10-phenanthrenequinone or the like, visible light is used as the active light 9, and the light source is as described above. In addition, a photo flood bulb, a sun lamp, and the like can be used.

【００６１】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕現像により不要部を除去した状態を図４（IV）に示
した。なお、図４（IV）において、５′は光硬化後の蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物及び６′は光硬化後の
熱可塑性樹脂層である。図４（IV）において、現像方法
としては、例えば、図３（III）の状態の後、（Ｂ）感
光性の熱可塑性樹脂層６の上に支持体フィルムが存在す
る場合には、これを除去した後、アルカリ水溶液、水系
現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレ
ー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知
方法により現像を行い、不要部を除去する方法等が挙げ
られる。[(III) Step of Removing Unnecessary Portion by Development] A state in which the unnecessary portion is removed by development is shown in FIG. 4 (IV). In FIG. 4 (IV), 5'denotes a photosensitive resin composition containing a phosphor after photocuring, and 6'denotes a thermoplastic resin layer after photocuring. In FIG. 4 (IV), as a developing method, for example, after the state of FIG. 3 (III), if a support film is present on the (B) photosensitive thermoplastic resin layer 6, this is used. After removal, a known developer such as an alkaline aqueous solution, a water-based developer, or an organic solvent is used to perform development by a known method such as spraying, rocking dipping, brushing, or scraping, and a method of removing an unnecessary portion, etc. Can be mentioned.

【００６２】不要部を除去する場合には、まず、（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を溶解しない
水、アルカリ水溶液、半溶剤水溶液、半溶剤アルカリ水
溶液、有機溶剤等を用いて、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層６の不要部を溶解により除去した後に、現像液を用
いて、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５の
不要部を除去してもよく、また、（Ｂ）感光性の熱可塑
性樹脂層６が、前記した（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層５及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６
が、同一の現像液を使用して現像できるものである場合
には、その現像液を用いて、（Ａ）蛍光体を含有感光性
樹脂組成物層５の不要部及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹
脂層６の不要部を一工程で除去することもできる。ま
た、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５の不
要部及び（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６の不要部を除
去する方法として、ドライ現像にて、それぞれ単独に又
は一工程で行うこともできる。When removing the unnecessary portion, first, (A)
By using water, an alkaline aqueous solution, a semisolvent aqueous solution, a semisolvent alkaline aqueous solution, an organic solvent, or the like that does not dissolve the phosphor-containing photosensitive resin composition layer 5, (B) the unnecessary portion of the photosensitive thermoplastic resin layer 6 After removing by dissolving, the unnecessary portion of the photosensitive resin composition layer (A) containing the phosphor (A) may be removed using a developing solution, and (B) the photosensitive thermoplastic resin layer. 6 is a photosensitive resin composition layer 5 containing the above-mentioned (A) phosphor and (B) a photosensitive thermoplastic resin layer 6
However, when the developing solution can be developed using the same developing solution, the developing solution is used to remove unnecessary parts of the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer 5 and (B) the photosensitive material. The unnecessary part of the thermoplastic resin layer 6 can be removed in one step. Further, as a method of removing the unnecessary portion of the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A) and the unnecessary portion of the photosensitive thermoplastic resin layer 6 (B), each of them may be dry-developed alone or It can also be performed in one step.

【００６３】なお、この時、光硬化後の蛍光体を有する
感光性樹脂組成物層５′の上部には、光硬化後の感光性
の熱可塑性樹脂層６′が残存することとなり、後述す
る、赤、緑及び青に発色する蛍光体を有する感光性樹脂
組成物からなる多色のパターンを形成する際に、混色防
止及び膜べり防止の効果に優れたものとなる。At this time, the photosensitive thermoplastic resin layer 6'after photocuring remains on the photosensitive resin composition layer 5'having the phosphor after photocuring, which will be described later. When forming a multi-colored pattern made of a photosensitive resin composition having a phosphor that emits red, green, and blue, the effect of preventing color mixing and film slippage is excellent.

【００６４】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。現像に用いるアルカリ水溶液のpH
は、９〜１１とすることが好ましく、また、その温度
は、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５及び
（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層６の現像性に合わせて調
整することができる。また、アルカリ水溶液中には、表
面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機
溶剤等を混入させることができる。Examples of the base of the aqueous alkali solution include alkali hydroxides (hydroxides of lithium, sodium or potassium, etc.), alkali carbonates (carbonates or bicarbonates of lithium, sodium or potassium, etc.), alkali metal phosphates ( Potassium phosphate, sodium phosphate, etc.), alkali metal pyrophosphates (sodium pyrophosphate, potassium pyrophosphate, etc.), tetramethylammonium hydroxide, triethanolamine and the like, among which sodium carbonate, tetramethylammonium hydroxide And the like are preferred. PH of aqueous alkaline solution used for development
Is preferably 9 to 11, and the temperature is adjusted according to the developability of (A) the phosphor-containing photosensitive resin composition layer 5 and (B) the photosensitive thermoplastic resin layer 6. Can be adjusted. Further, a surfactant, a defoaming agent, a small amount of an organic solvent for accelerating the development and the like can be mixed in the alkaline aqueous solution.

【００６５】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と一種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。
ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、前記物質以外
に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム、エタノー
ルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、
２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１、３−プロパン
ジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホ
リン、水酸化テトラメチルアンモニウム等が挙げられ
る。水系現像液のpHは、８〜１２とすることが好まし
く、９〜１０とすることがより好ましい。Examples of the water-based developer include water or an alkaline aqueous solution and one or more organic solvents.
Here, as the base of the alkaline aqueous solution, in addition to the above substances, for example, borax, sodium metasilicate, ethanolamine, ethylenediamine, diethylenetriamine,
2-amino-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 1,3-diaminopropanol-2-morpholine, tetramethylammonium hydroxide and the like can be mentioned. The pH of the aqueous developer is preferably from 8 to 12, more preferably from 9 to 10.

【００６６】有機溶剤としては、例えば、三アセトンア
ルコール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアル
コキシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。また、
水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入す
ることができる。単独で用いる有機溶剤現像液として
は、例えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチ
ルピロリドン、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロ
ヘキサノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラク
トン等が挙げられる。これらの有機溶剤は、引火防止の
ため、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。Examples of the organic solvent include triacetone alcohol, acetone, ethyl acetate, alkoxyethanol having an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, butyl alcohol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, Diethylene glycol monobutyl ether and the like can be mentioned. These can be used alone or 2
Used in combination with more than one type. The concentration of the organic solvent is usually in the range of 2 to 90% by weight, and the temperature can be adjusted according to the developability. Also,
A small amount of a surfactant, a defoaming agent or the like can be mixed in the aqueous developer. Examples of the organic solvent developer used alone include 1,1,1-trichloroethane, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and γ-butyrolactone. Water may be added to these organic solvents in the range of 1 to 20% by weight in order to prevent ignition.

【００６７】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性等を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外
線照射や加熱を行うこともできる。この時の、紫外線の
照射量は、通常、０．２〜１０J/cm2であり、照射の際
に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度は、
６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００〜１８０
℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、１５
〜９０分間とすることが好ましい。これらの紫外線の照
射と加熱は、照射と加熱を別々に行ってもよく、どちら
を先に行ってもよい。Further, after the development, for the purpose of improving the adhesion and chemical resistance of the phosphor-containing photoresist on the surface of the space of the PDP substrate, ultraviolet irradiation or heating with a high pressure mercury lamp or the like can be performed. At this time, the irradiation amount of ultraviolet rays is usually 0.2 to 10 J / cm 2 , and heating can be accompanied during irradiation. Also, the temperature during heating is
The temperature is preferably 60 to 180 ° C., and 100 to 180
C. is more preferable. The heating time is 15
It is preferably set to 90 minutes. Irradiation and heating of these ultraviolet rays may be performed separately from irradiation and heating, and either may be performed first.

【００６８】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕焼成により不要分を除去した後の蛍光体パターンを
形成した状態を図４（Ｖ）に示した。なお、図４（Ｖ）
において、１０は蛍光体パターンである。図４（Ｖ）に
おいて、焼成方法としては、特に制限はなく、公知の焼
成方法を使用し、蛍光体及び結着剤以外の不要分を除去
し、蛍光体パターンを形成することができる。この時
の、焼成温度は、３５０〜８００℃とすることが好まし
く、４００〜６００℃とすることがより好ましい。ま
た、焼成時間は、３〜１２０分間とすることが好まし
く、５〜９０分間とすることがより好ましい。[(IV) Step of Removing Unnecessary Part by Burning] FIG. 4 (V) shows a state in which the phosphor pattern after removing the unnecessary part by baking is formed. FIG. 4 (V)
In the above, 10 is a phosphor pattern. In FIG. 4 (V), the firing method is not particularly limited, and a known firing method can be used to remove unnecessary components other than the phosphor and the binder to form a phosphor pattern. The firing temperature at this time is preferably 350 to 800 ° C, and more preferably 400 to 600 ° C. The firing time is preferably from 3 to 120 minutes, more preferably from 5 to 90 minutes.

【００６９】本発明の蛍光体パターンの製造法は、
（Ｉ）〜（III）の各工程を１色毎に繰り返して、赤
色、緑色及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層からなる多色パターンを形成した後、（IV）
の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成すること
が、膜べりの抑制（１色目及び２色目の光硬化後の蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層は、（III）の工程に
おいて、数回現像液にさらされるが、これらの光硬化後
の蛍光体を有する感光性樹脂組成物層は、光硬化後の感
光性の熱可塑性樹脂組成物層６′に被覆されており、直
接、現像液にさらされないために、膜べりを抑制するこ
とができる）及び工程数を低減できる点から好ましい。
本発明において、赤色、青色及び緑色に発色するそれぞ
れの蛍光体を単独で含む（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層５は、赤色、青色及び緑色の各色につい
て、どの様な順番でも行うことができる。The method for producing the phosphor pattern of the present invention is as follows:
After repeating the steps (I) to (III) for each color to form a multicolor pattern composed of a photosensitive resin composition layer containing a phosphor that emits red, green and blue, (IV)
In order to form a multicolor phosphor pattern by performing the step of (3), it is possible to suppress film slippage (the photosensitive resin composition layer containing the phosphor of the first and second colors after photocuring is The photosensitive resin composition layer having the phosphor after photo-curing, which is exposed to the developing solution several times, is directly coated on the photosensitive thermoplastic resin composition layer 6 ′ after photo-curing. In addition, since it is not exposed to a developing solution, film slippage can be suppressed) and the number of steps can be reduced, which is preferable.
In the present invention, the photosensitive resin composition layer 5 containing the phosphor (A), which contains each phosphor that emits red, blue, and green independently, is formed in any order for the red, blue, and green colors. But you can do it.

【００７０】本発明における（Ｉ）〜（III）の各工程
を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色する
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む多色パター
ンを形成した状態を図５に示した。図５において、５′
ａは１色目のパターン、５′ｂは２色目のパターン及び
５′ｃは３色目のパターンである。また、本発明におけ
る（IV）の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成し
た状態を図６に示した。図６において、１０ａは１色目
の蛍光体パターン、１０ｂは２色目の蛍光体パターン及
び１０ｃは３色目の蛍光体パターンである。The steps (I) to (III) in the present invention are repeated for each color to form a multicolor pattern including a photosensitive resin composition layer containing a phosphor that emits red, green and blue. The state in which it was formed is shown in FIG. In FIG. 5, 5 '
a is the first color pattern, 5'b is the second color pattern, and 5'c is the third color pattern. Further, FIG. 6 shows a state in which the step (IV) in the present invention is performed to form a multicolor phosphor pattern. In FIG. 6, 10a is a phosphor pattern for the first color, 10b is a phosphor pattern for the second color, and 10c is a phosphor pattern for the third color.

【００７１】[0071]

【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。 製造例１ 〔フィルム性付与ポリマ（ａ−１）の作製〕撹拌機、還
流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラス
コに、表１に示すを仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０
℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表
１に示すを４時間かけて均一に滴下した。の滴下
後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量
が８０，０００、酸価が１３０mgKOH/gのフィルム性付
与ポリマ（ａ−１）を得た。The present invention will be described below with reference to examples. Production Example 1 [Fabrication of Film-Providing Polymer (a-1)] A flask equipped with a stirrer, a reflux condenser, an inert gas inlet and a thermometer was charged with the composition shown in Table 1, and the content was 80
The temperature was raised to 0 ° C., and while maintaining the reaction temperature at 80 ° C. ± 2 ° C., as shown in Table 1 was uniformly added dropwise over 4 hours. After dropwise addition, stirring was continued at 80 ° C. ± 2 ° C. for 6 hours to obtain a film property imparting polymer (a-1) having a weight average molecular weight of 80,000 and an acid value of 130 mgKOH / g.

【００７２】[0072]

【表１】 [Table 1]

【００７３】製造例２ 〔フィルム性付与ポリマ（ａ−２）の作製〕製造例１に
おいて、のメタクリル酸を４重量部に、メタクリル酸
メチルを８６重量部に、メタクリル酸ｎ−ブチルを１０
重量部に代えた以外は、製造例１と同様にして、重量平
均分子量が８０，０００、酸価が２６mgKOH/gのフィル
ム性付与ポリマ（ａ−２）を得た。Production Example 2 [Production of Film-Providing Polymer (a-2)] In Production Example 1, 4 parts by weight of methacrylic acid, 86 parts by weight of methyl methacrylate and 10 parts of n-butyl methacrylate were prepared.
A film-forming polymer (a-2) having a weight average molecular weight of 80,000 and an acid value of 26 mgKOH / g was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that parts by weight were replaced.

【００７４】製造例３ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−１）の作製〕表２に示す材料を、
ライカイ機を用いて１５分間混合し、赤色の蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物溶液を調製した。Production Example 3 [Production of Photosensitive Element (A-1) Including (A) Phosphor-Containing Photosensitive Resin Composition Layer]
The mixture was mixed for 15 minutes using a Reiki machine to prepare a photosensitive resin composition solution containing a red phosphor.

【００７５】[0075]

【表２】 [Table 2]

【００７６】得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエ
チレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、８０
〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤
を除去し、赤色の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を形成した。得られた（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。次いで、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層の上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィルムをカ
バーフィルムとして張り合わせて、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−
１）を作製した。The resulting solution was evenly coated on a polyethylene terephthalate film having a thickness of 20 μm, and 80
The solvent was removed by drying for 10 minutes with a hot air convection dryer at ˜110 ° C. to form a photosensitive resin composition layer containing a red (A) phosphor. The thickness of the obtained photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) after drying was 60 μm. Next, a polyethylene film having a thickness of 25 μm is laminated as a cover film on the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer to include the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer. Photosensitive element (A-
1) was produced.

【００７７】製造例４ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−２）の作製〕表２に示す材料に代
えて、表３に示す材料を使用した以外は、製造例３と同
様にして、赤色の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を形成した。得られた（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。Production Example 4 [(A) Production of Photosensitive Element (A-2) Including Phosphor-Containing Photosensitive Resin Composition Layer] Instead of the material shown in Table 2, the material shown in Table 3 is used. A photosensitive resin composition layer containing a red (A) phosphor was formed in the same manner as in Production Example 3 except for the above. The thickness of the obtained photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) after drying was 60 μm.

【００７８】[0078]

【表３】 [Table 3]

【００７９】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメ
ント（Ａ−２）を作製した。Then, in the same manner as in Production Example 3, a photosensitive element (A-2) containing a photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) was prepared.

【００８０】製造例５ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−３）の作製〕表２に示す材料に代
えて、表４に示す材料を使用した以外は、製造例３と同
様にして、赤色の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を形成した。得られた（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。Production Example 5 [(A) Preparation of Photosensitive Element (A-3) Containing Phosphor-Containing Photosensitive Resin Composition Layer] Instead of the material shown in Table 2, the material shown in Table 4 is used. A photosensitive resin composition layer containing a red (A) phosphor was formed in the same manner as in Production Example 3 except for the above. The thickness of the obtained photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) after drying was 60 μm.

【００８１】[0081]

【表４】 [Table 4]

【００８２】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメ
ント（Ａ−３）を作製した。Then, in the same manner as in Production Example 3, a photosensitive element (A-3) containing a photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) was prepared.

【００８３】製造例６ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−４）の作製〕表２に示す材料に代
えて、表５に示す材料を使用した以外は、製造例３と同
様にして、青色の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を形成した。得られた（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。Production Example 6 [(A) Preparation of Photosensitive Element (A-4) Including Phosphor-Containing Photosensitive Resin Composition Layer] The materials shown in Table 5 were used instead of the materials shown in Table 2. A photosensitive resin composition layer containing a blue (A) phosphor was formed in the same manner as in Production Example 3 except for the above. The thickness of the obtained photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) after drying was 60 μm.

【００８４】[0084]

【表５】 [Table 5]

【００８５】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメ
ント（Ａ−４）を作製した。Then, in the same manner as in Production Example 3, a photosensitive element (A-4) containing a photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) was prepared.

【００８６】製造例７ 〔（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−５）の作製〕表２に示す材料に代
えて、表６に示す材料を使用した以外は、製造例３と同
様にして、緑色の（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層を形成した。得られた（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層の乾燥後の厚さは、６０μｍであっ
た。Production Example 7 [(A) Preparation of Photosensitive Element (A-5) Including Phosphor-Containing Photosensitive Resin Composition Layer] The materials shown in Table 6 were used instead of the materials shown in Table 2. A photosensitive resin composition layer containing a green (A) phosphor was formed in the same manner as in Production Example 3 except for the above. The thickness of the obtained photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) after drying was 60 μm.

【００８７】[0087]

【表６】 [Table 6]

【００８８】次いで、製造例３と同様にして、（Ａ）蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメ
ント（Ａ−５）を作製した。Then, in the same manner as in Production Example 3, a photosensitive element (A-5) containing a photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) was prepared.

【００８９】製造例８ 〔（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−
１）の作製）表７に示す材料からなる樹脂溶液を、２０
μｍの厚さのポリエチレンテレフタレートフィルム上に
均一に塗布し、８０〜１１０℃の熱風対流式乾燥機で１
０分間乾燥して蒸留水を除去し、（Ｂ）感光性の熱可塑
性樹脂層を形成した。得られた（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μｍであった。Production Example 8 [(B) Film Containing Photosensitive Thermoplastic Resin Layer (B-
1) Preparation of resin solution containing the materials shown in Table 7
It is evenly coated on a polyethylene terephthalate film having a thickness of μm, and it is 1 with a hot air convection dryer at 80 to 110 ° C.
Distilled water was removed by drying for 0 minutes to form (B) a photosensitive thermoplastic resin layer. The thickness of the obtained (B) photosensitive thermoplastic resin layer after drying was 70 μm.

【００９０】[0090]

【表７】 [Table 7]

【００９１】次いで、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層の
上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィルムをカバー
フィルムとして張り合わせて、（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層を含むフィルム（Ｂ−１）を作製した。Next, a polyethylene film having a thickness of 25 μm is laminated as a cover film on the (B) photosensitive thermoplastic resin layer to form a film (B-1) containing the photosensitive thermoplastic resin layer (B-1). ) Was produced.

【００９２】製造例９ 〔熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−２）の作製）表
７に示す材料に代えて、表８に示す材料を使用した以外
は、製造例８と同様にして、熱可塑性樹脂層を形成し
た。得られた熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、７０μ
ｍであった。Production Example 9 [Production of Film (B-2) Containing Thermoplastic Resin Layer] In the same manner as in Production Example 8 except that the materials shown in Table 8 were used instead of the materials shown in Table 7. A thermoplastic resin layer was formed. The thickness of the obtained thermoplastic resin layer after drying was 70 μm.
m.

【００９３】[0093]

【表８】 [Table 8]

【００９４】次いで、製造例８と同様にして、熱可塑性
樹脂層を含むフィルム（Ｂ−２）を作製した。Then, in the same manner as in Production Example 8, a film (B-2) containing a thermoplastic resin layer was produced.

【００９５】製造例３〜７で得られた（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ
−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）、（Ａ−４）及び（Ａ
−５）並びに製造例８〜９で得られた（Ｂ）感光性の熱
可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−１）及び熱可塑性樹
脂層を含むフィルム（Ｂ−２）について、エッジフュー
ジョン性を下記の方法で評価し、結果を表９に示した。A photosensitive element (A) containing a photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) obtained in Production Examples 3 to 7.
-1), (A-2), (A-3), (A-4) and (A
-5) and the edge fusion properties of the film (B-1) containing the photosensitive thermoplastic resin layer (B) obtained in Production Examples 8 to 9 and the film (B-2) containing the thermoplastic resin layer. The evaluation was performed by the following method, and the results are shown in Table 9.

【００９６】〔エッジフュージョン性〕ロール状に巻き
取られた長さ９０ｍの（Ａ）蛍光体を有する感光性樹脂
組成物層からなる感光性エレメント及び（Ｂ）感光性の
熱可塑性樹脂層からなるフィルムを、温度が２３℃、湿
度が６０％Ｒｈで保管し、ロール側面から感光層及び樹
脂層のしみ出しの様子を、６カ月間にわたって目視で評
価した。評価基準は次の通りである。 ○：エッジフュージョン性が良好なもの（６カ月間でも
感光層のしみ出しがないもの） ×：エッジフュージョン性が不良なもの（６カ月間で感
光層のしみ出しが発生したもの）[Edge Fusion Property] A photosensitive element composed of a photosensitive resin composition layer having (A) a phosphor having a length of 90 m and wound in a roll shape, and (B) composed of a photosensitive thermoplastic resin layer. The film was stored at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 60% Rh, and the appearance of seeping of the photosensitive layer and the resin layer from the side surface of the roll was visually evaluated for 6 months. The evaluation criteria are as follows. ◯: Good edge fusion property (no bleeding of the photosensitive layer even after 6 months) X: Poor edge fusion property (between the bleeding of the photosensitive layer during 6 months)

【００９７】[0097]

【表９】 [Table 9]

【００９８】表９から、製造例５で作製した（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメン
ト（Ａ−３）のみが、エッジフュージョン性が劣り、感
光性エレメントとしては、使用することが困難なもので
あった。From Table 9, only the photosensitive element (A-3) containing the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) prepared in Production Example 5 was inferior in edge fusion property, and thus, as a photosensitive element. Was difficult to use.

【００９９】〔蛍光体パターンの作製〕 実施例１ 〔（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板上に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層の上部に（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が配置
された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着する工程〕ＰＤＰ用
基板（ストライプ状のバイアリブ、バイアリブ間の開口
幅１５０μｍ、バイアリブの幅７０μｍ、バイアリブの
高さ１５０μｍ）のバイアリブが形成された側に、製造
例３で得られた（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成
物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）を、ポリエチレ
ンフィルムを剥がしながら、真空ラミネータ（日立化成
工業(株)製、商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、ヒートシ
ュー温度が３０℃、ラミネート速度が１．５ｍ／分、気
圧が４０００Pa以下、圧着圧力が５×１０4Paで積層し
た。[Preparation of Phosphor Pattern] Example 1 [(I) On a substrate for a plasma display panel having barrier ribs formed thereon, (A) a photosensitive resin composition layer containing a phosphor (B) above the photosensitive resin composition layer. The step of thermocompression-bonding the layer (B) in a state where the photosensitive thermoplastic resin layer is arranged] PDP substrate (striped via ribs, opening width between via ribs 150 μm, via rib width 70 μm, via rib height 150 μm ), On the side where the via rib is formed, the photosensitive element (A-1) containing the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor obtained in Production Example 3 is vacuumed while peeling the polyethylene film. Using a laminator (Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name VLM-1 type), heat shoe temperature is 30 ° C., laminating speed is 1.5 m / min, atmospheric pressure is 4000 Pa or less, pressure bonding Force is laminated with 5 × 10 4 Pa.

【０１００】次いで、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）のポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離し、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層上に、製造例６で得られ
た（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−
１）を、ポリエチレンフィルムを剥がしながら、ラミネ
ータ（日立化成工業(株)製、商品名ＨＬＭ−３０００
型）を用いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート
速度が０．５ｍ／分、圧着圧力が４×１０5Paで積層し
た。Then, the polyethylene terephthalate film of the photosensitive element (A-1) containing the photosensitive resin composition layer containing the (A) phosphor is peeled off to obtain the photosensitive resin composition containing the (A) phosphor. A film (B-) containing the (B) photosensitive thermoplastic resin layer obtained in Production Example 6 on the layer (B-
1), while peeling off the polyethylene film, laminator (Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name HLM-3000)
Using a mold, lamination was performed at a lamination temperature of 110 ° C., a lamination speed of 0.5 m / min, and a pressure of 4 × 10 5 Pa.

【０１０１】〔（II）活性光線を像的に照射する工程〕
次いで、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルム
（Ｂ−１）のポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、試験用フォトマスクを密着させて、(株)オーク製作
所製、ＨＭＷ−５９０型露光機を使用し、１００mJ/cm2
で活性光線を像的に照射した。[(II) Step of irradiating actinic rays imagewise]
Then, a test photomask was brought into close contact with (B) a polyethylene terephthalate film of the film (B-1) containing a photosensitive thermoplastic resin layer, and an HMW-590 type exposure machine manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd. was used. Used, 100mJ / cm 2
The image was irradiated with actinic rays.

【０１０２】〔（III）現像により不要部を除去する工
程〕次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置した
後、１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いて、３０℃で
７０秒間スプレー現像した。現像後、８０℃で１０分間
乾燥し、東芝電材(株)製東芝紫外線照射装置を使用し
て、３J/cm2の紫外線照射を行った。[(III) Step of Removing Unnecessary Parts by Development] Next, after irradiation with actinic rays, the mixture was left at room temperature for 1 hour, and then spray-developed for 70 seconds at 30 ° C. using a 1 wt% sodium carbonate aqueous solution. . After the development, the film was dried at 80 ° C. for 10 minutes and was irradiated with ultraviolet rays of 3 J / cm 2 by using a Toshiba ultraviolet ray irradiation device manufactured by Toshiba Denshi Co., Ltd.

【０１０３】〔（IV）焼成により不要分を除去する工
程〕次いで、５５０℃で３０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に
蛍光体パターンを形成させた。[(IV) Step of Removing Unnecessary Parts by Baking] Next, heat treatment (baking) is performed at 550 ° C. for 30 minutes to remove unnecessary resin components, and a phosphor pattern is formed in the space of the PDP substrate. Formed.

【０１０４】〔蛍光体パターンの評価〕得られた蛍光体
パターンの断面を、実体顕微鏡及びＳＥＭにより目視に
て観察し、蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を
表１０に示した。評価基準は次の通りである。 ○：蛍光体層がＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ壁面及
びセル底面上）に均一に形成されている ×：蛍光体層がＰＤＰ用基板の空間（バリアリブ壁面及
びセル底面上）に均一に形成されていない[Evaluation of Phosphor Pattern] The cross section of the obtained phosphor pattern was visually observed with a stereoscopic microscope and SEM to evaluate the formation state of the phosphor pattern. The results are shown in Table 10. The evaluation criteria are as follows. ：: The phosphor layer is uniformly formed in the space of the PDP substrate (on the barrier rib wall surface and the cell bottom surface). X: The phosphor layer is uniformly formed in the space of the PDP substrate (on the barrier rib wall surface and the cell bottom surface). Not

【０１０５】実施例２ 実施例１において、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）に代えて、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光
性エレメント（Ａ−２）とし、（III）現像により不要
部を除去する工程を、下記に示すように代えた以外は、
実施例１と同様にして、蛍光体パターンを形成し、得ら
れた蛍光体パターンの形成状況を評価し、結果を表１０
に示した。 〔（III）現像により不要部を除去する工程〕１重量％
炭酸ナトリウム水溶液を用いて現像した後、さらに、５
重量％のホウ砂及び２０重量％のブチルカルビトールの
水溶液を用いて現像した。Example 2 In place of the photosensitive element (A-1) containing the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) in Example 1,
(A) A photosensitive element (A-2) including a photosensitive resin composition layer containing a phosphor, and (III) except that the step of removing an unnecessary portion by development is changed as shown below,
A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1, the formation state of the obtained phosphor pattern was evaluated, and the results are shown in Table 10.
It was shown to. [(III) Step of removing unnecessary portion by development] 1% by weight
After developing with an aqueous solution of sodium carbonate,
Development was carried out using an aqueous solution of borax at 20% by weight and butyl carbitol at 20% by weight.

【０１０６】実施例３ 実施例１において、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）に代えて、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光
性エレメント（Ａ−４）とした以外は、実施例１と同様
にして、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パタ
ーンの形成状況を評価し、結果を表１０に示した。Example 3 In place of the photosensitive element (A-1) containing the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) in Example 1,
(A) A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive element (A-4) including the photosensitive resin composition layer containing the phosphor was used, and the obtained phosphor pattern was obtained. The formation state of was evaluated and the results are shown in Table 10.

【０１０７】実施例４ 実施例１において、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）に代えて、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光
性エレメント（Ａ−５）とした以外は、実施例１と同様
にして、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パタ
ーンの形成状況を評価し、結果を表１０に示した。Example 4 In place of the photosensitive element (A-1) containing the photosensitive resin composition layer containing the phosphor (A) in Example 1,
(A) A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the photosensitive element (A-5) including the photosensitive resin composition layer containing the phosphor was formed, and the obtained phosphor pattern was obtained. The formation state of was evaluated and the results are shown in Table 10.

【０１０８】比較例１ 実施例１において、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム（Ｂ−１）を使用しなかった以外は、実施例
１と同様にして、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍
光体パターンの形成状況を評価し、結果を表１０に示し
た。Comparative Example 1 A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1 except that the film (B-1) containing (B) the photosensitive thermoplastic resin layer was not used. Then, the formation state of the obtained phosphor pattern was evaluated, and the results are shown in Table 10.

【０１０９】比較例２ 実施例１において、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム（Ｂ−１）に代えて、熱可塑性樹脂層を含む
フィルム（Ｂ−２）とした以外は、実施例１と同様にし
て、蛍光体パターンを形成し、得られた蛍光体パターン
の形成状況を評価し、結果を表１０に示した。Comparative Example 2 The procedure of Example 1 was repeated except that the film (B-1) containing a photosensitive thermoplastic resin layer (B) was replaced with a film (B-2) containing a thermoplastic resin layer. A phosphor pattern was formed in the same manner as in Example 1, and the formation status of the obtained phosphor pattern was evaluated. The results are shown in Table 10.

【０１１０】[0110]

【表１０】 [Table 10]

【０１１１】〔多色の蛍光体パターンの作製〕 実施例５ 実施例１における（Ｉ）〜（III）の工程を行って得ら
れた、１色目の赤色のパターンが形成された基板を用い
て、実施例３における（Ｉ）〜（III）の工程を行い、
２色目の青色のパターンを形成し、次いで、実施例４に
おける（Ｉ）〜（III）の工程を行い、３色目の緑色の
パターンを形成して多色のパターンを作製した。得られ
た多色のパターンの膜べり状況を、実体顕微鏡及びＳＥ
Ｍにより目視にて観察した結果、膜べりは発生していな
いものであった。次に、得られた多色のパターンを、実
施例１における（IV）の工程を行い、多色の蛍光体パタ
ーンを作製した。得られた多色の蛍光体パターンを、Ｅ
ＤＡＸ社製 ＰＶ９９００型「エネルギー分散型Ｘ線分
析装置（ＸＭＡ）」（加速電圧 ２０kV）を用いて、各
色毎に、蛍光体の組成を測定し、混色の有無を確認した
結果、混色は見られなかった。[Production of Multicolor Phosphor Pattern] Example 5 Using a substrate on which a red pattern of the first color is formed, which is obtained by performing the steps (I) to (III) in Example 1. The steps (I) to (III) in Example 3 are performed,
A second-color blue pattern was formed, and then the steps (I) to (III) in Example 4 were performed to form a third-color green pattern to prepare a multicolor pattern. The state of the resulting multi-colored film slippage was confirmed by a stereoscopic microscope and SE.
As a result of visual observation with M, no film slippage occurred. Next, the obtained multicolor pattern was subjected to the step (IV) in Example 1 to prepare a multicolor phosphor pattern. The obtained multicolor phosphor pattern is
Using the DAX PV9900 type “energy dispersive X-ray analyzer (XMA)” (accelerating voltage 20 kV), the composition of the phosphor was measured for each color, and the presence or absence of color mixing was confirmed. There wasn't.

【０１１２】比較例３ 実施例５において、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含
むフィルム（Ｂ−１）に代えて、熱可塑性樹脂層を含む
フィルム（Ｂ−２）とした以外は、実施例５と同様にし
て、多色のパターンを作製し、得られた多色のパターン
の膜べり状況を、実施例５と同様にして観察した結果、
膜べりが発生していた。また、得られた多色のパターン
を、実施例５と同様にして、多色の蛍光体パターンを作
製し、得られた多色の蛍光体パターンを、実施例５と同
様にして混色の有無を確認した結果、混色が見られた。Comparative Example 3 The procedure of Example 5 was repeated except that the film (B-1) containing the photosensitive thermoplastic resin layer (B) was replaced with the film (B-2) containing a thermoplastic resin layer. A multicolor pattern was prepared in the same manner as in Example 5, and the film slippage of the obtained multicolor pattern was observed in the same manner as in Example 5, as a result,
Membrane slip had occurred. Further, the obtained multicolored phosphor pattern was prepared in the same manner as in Example 5 to prepare a multicolored phosphor pattern, and the obtained multicolored phosphor pattern was prepared in the same manner as in Example 5 to determine whether or not there is color mixing. As a result, the mixed color was observed.

【０１１３】表１０、実施例５及び比較例３の結果か
ら、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィルムを使
用した実施例１〜４は、ＰＤＰ用基板の空間における蛍
光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基板のバリアリブ壁面
及び空間底面上への埋め込み性）が良好であり、これと
比較して、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフィル
ムを使用しなかった比較例１は、ＰＤＰ用基板の空間に
おける蛍光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基板のバリア
リブ壁面及び空間底面上への埋め込み性）が劣ることが
わかる。また、（Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層を含むフ
ィルム（Ｂ−１）に代えて、熱可塑性樹脂層を含むフィ
ルム（Ｂ−２）を使用した比較例２は、ＰＤＰ用基板の
空間における蛍光体パターンの形成性（ＰＤＰ用基板の
バリアリブ壁面及び空間底面上への埋め込み性）は良好
であったが、比較例３のように、膜べりが発生し、多色
の蛍光体パターンを形成した場合に、混色が発生するも
のであることがわかった。From the results of Table 10, Example 5 and Comparative Example 3, Examples 1 to 4 using (B) the film containing the photosensitive thermoplastic resin layer show the phosphor pattern in the space of the PDP substrate. Formability (fillability on the barrier rib wall surface and space bottom surface of the PDP substrate) was good, and in comparison with this, (B) Comparative Example 1 in which a film containing a photosensitive thermoplastic resin layer was not used. Indicates that the phosphor pattern formation property in the space of the PDP substrate (embeddability on the barrier rib wall surface and space bottom surface of the PDP substrate) is poor. Further, in Comparative Example 2 in which the film (B-2) containing the thermoplastic resin layer was used instead of the film (B-1) containing the photosensitive thermoplastic resin layer (B), in the space of the PDP substrate. The phosphor pattern formation property (fillability on the barrier rib wall surface and the space bottom face of the PDP substrate) was good, but as in Comparative Example 3, film slippage occurred and a multicolor phosphor pattern was formed. It was found that color mixing occurs in the case.

【０１１４】[0114]

【発明の効果】請求項１記載の蛍光体パターンの製造法
は、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性（ＰＤＰ用基板
のバリアリブ壁面及び空間底面上における蛍光体を有す
る感光性樹脂組成物層の形成性）が優れ、高精度で均一
な形状の蛍光体パターンを、混色なく形成できる。請求
項２記載の蛍光体パターンの製造法は、請求項１記載の
蛍光体パターンの製造法の効果を奏し、さらに作業性及
び膜べりの抑制に優れるものである。請求項３記載の蛍
光体パターンの製造法は、請求項１又は２記載の蛍光体
パターンの製造法の効果を奏し、より作業性に優れるも
のである。請求項４記載の蛍光体パターンの製造法は、
請求項１、２又は３記載の蛍光体パターンの製造法の効
果を奏し、より作業性に優れるものである。請求項５記
載の蛍光体パターンの製造法は、請求項１、２、３又は
４記載の蛍光体パターンの製造法の効果を奏し、より作
業性に優れるものである。According to the method of manufacturing a phosphor pattern according to the first aspect of the present invention, the embedding property in the space of the PDP substrate (of the photosensitive resin composition layer having the phosphor on the barrier rib wall surface and space bottom of the PDP substrate is It is possible to form a highly accurate and uniform phosphor pattern with no color mixture. The method for producing a phosphor pattern according to claim 2 has the effects of the method for producing a phosphor pattern according to claim 1, and is excellent in workability and suppression of film slippage. The method of manufacturing a phosphor pattern according to claim 3 has the effects of the method of manufacturing a phosphor pattern according to claim 1 or 2, and is more excellent in workability. The manufacturing method of the phosphor pattern according to claim 4,
The effect of the method for manufacturing a phosphor pattern according to claim 1, 2 or 3 is exhibited, and the workability is further improved. The method of manufacturing a phosphor pattern according to claim 5 has the effects of the method of manufacturing a phosphor pattern according to claim 1, 2, 3 or 4, and is more excellent in workability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】バリアリブが形成さされたＰＤＰ用基板の一例
を示した模式図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a PDP substrate on which barrier ribs are formed.

【図２】バリアリブが形成さされたＰＤＰ用基板の一例
を示した模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing an example of a PDP substrate on which barrier ribs are formed.

【図３】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。FIG. 3 is a schematic view showing each step of the method for producing a phosphor pattern of the present invention.

【図４】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。FIG. 4 is a schematic view showing each step of the method for producing a phosphor pattern of the present invention.

【図５】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。FIG. 5 is a schematic view showing a state in which a multicolor pattern composed of a photosensitive resin composition layer containing a phosphor is formed.

【図６】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。FIG. 6 is a schematic diagram showing a state in which a multicolor phosphor pattern is formed.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ …基板 ２ …バリアリブ ３ …格子状放電空間 ４ …ストライプ状放電空間 ５ …蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ５′…光硬化後の蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ５′ａ…１色目のパターン ５′ｂ…２色目のパターン ５′ｃ…３色目のパターン ６ …感光性の熱可塑性樹脂層 ６′…光硬化後の感光性の熱可塑性樹脂層 ７ …加熱ロール ８ …フォトマスク ９ …活性光線 １０ …蛍光体パターン １０ａ…１色目の蛍光体パターン １０ｂ…２色目の蛍光体パターン １０ｃ…３色目の蛍光体パターン DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Barrier rib 3 ... Lattice discharge space 4 ... Stripe discharge space 5 ... Photosensitive resin composition layer 5'having a phosphor 5 '... Photosensitive resin composition layer 5'a having a phosphor after photocuring ... 1st color pattern 5'b ... 2nd color pattern 5'c ... 3rd color pattern 6 ... Photosensitive thermoplastic resin layer 6 '... Photosensitive photosensitive thermoplastic resin layer 7 ... Heating roll 8 ... Photomask 9 ... Actinic ray 10 ... Phosphor pattern 10a ... 1st color phosphor pattern 10b ... 2nd color phosphor pattern 10c ... 3rd color phosphor pattern

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 和田 有美子 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 丹野 清吉 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 角丸 肇 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Seiji Tai, 4-13-1, Higashimachi, Hitachi, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd., Ibaraki Research Laboratory (72) Yumiko Wada, 4-13, Higashimachi, Hitachi, Ibaraki No. 1 Inside Hitachi Chemical Co., Ltd. Ibaraki Research Institute (72) Inventor Kiyoshi Yoshi Tanno 4-13-1, Higashimachi, Hitachi City, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd. Yamazaki Factory (72) Inventor Hajime Kakumaru Hitachi City, Ibaraki Prefecture 4-13-1, Higashimachi Hitachi Chemical Co., Ltd. Yamazaki Factory

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 （Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
ディスプレイパネル用基板上に、（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層の上部に（Ｂ）感光性の熱可塑性
樹脂層が配置された状態で、（Ｂ）層を加熱圧着する工
程、 （II）活性光線を像的に照射する工程、 （III）現像により不要部を除去する工程および （IV）焼成により不要分を除去する工程の各工程を含む
ことを特徴とする蛍光体パターンの製造法。1. A plasma display panel substrate having (I) a barrier rib formed thereon, and (B) a photosensitive thermoplastic resin layer disposed on top of the (A) phosphor-containing photosensitive resin composition layer. (B) layer under heat and pressure bonding, (II) imagewise irradiation with actinic rays, (III) removing unnecessary parts by development, and (IV) removing unnecessary parts by baking. A method for manufacturing a phosphor pattern, comprising each step of steps. 【請求項２】 （Ｉ）〜（III）の各工程を繰り返し
て、赤、緑及び青に発色する蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物からなる多色のパターンを形成した後、（IV）
の工程を行ない多色の蛍光体パターンを形成する請求項
１記載の蛍光体パターンの製造法。2. The steps (I) to (III) are repeated to form a multicolored pattern of a photosensitive resin composition containing a phosphor that emits red, green and blue, and then (IV) )
The method of manufacturing a phosphor pattern according to claim 1, wherein the phosphor pattern of multicolor is formed by performing the step of. 【請求項３】 （Ａ）蛍光体を含有感光性樹脂組成物層
が、（ａ）フィルム性付与ポリマ、（ｂ）末端にエチレ
ン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活
性光の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び
（ｄ）蛍光体を含むものである請求項１、２又は３記載
の蛍光体パターンの製造法。3. A photosensitive resin composition layer containing (A) a phosphor, (a) a film property imparting polymer, (b) a photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the end, (c) The method for producing a phosphor pattern according to claim 1, 2 or 3, which further comprises (d) a phosphor and a photoinitiator which generates a free radical upon irradiation with active light. 【請求項４】 （Ｂ）感光性の熱可塑性樹脂層が、
（ｅ）熱可塑性樹脂、（ｆ）末端にエチレン性不飽和基
を有する光重合性不飽和化合物及び（ｇ）活性光の照射
により遊離ラジカルを生成する光開始剤を含むものであ
る請求項１、２、３又は４記載の蛍光体パターンの製造
法。4. The (B) photosensitive thermoplastic resin layer comprises:
The thermoplastic resin (e), (f) a photopolymerizable unsaturated compound having an ethylenically unsaturated group at the terminal, and (g) a photoinitiator which produces a free radical upon irradiation with active light. 3. The method for producing a phosphor pattern according to 3 or 4. 【請求項５】 （III）現像により不要部を除去する工
程において、（Ａ）層及び（Ｂ）層が、同一の現像液を
使用して現像する請求項１、２、３、４又は５記載の蛍
光体パターンの製造法。5. The method according to claim 1, wherein the layer (A) and the layer (B) are developed using the same developing solution in the step (III) of removing the unnecessary portion by development. A method for producing the described phosphor pattern.
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US09/927,548 US6416931B2 (en) 1996-01-22 2001-08-13 Photosensitive element for preparing a phosphor pattern
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