JPH0917827A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH0917827A
JPH0917827A JP16422595A JP16422595A JPH0917827A JP H0917827 A JPH0917827 A JP H0917827A JP 16422595 A JP16422595 A JP 16422595A JP 16422595 A JP16422595 A JP 16422595A JP H0917827 A JPH0917827 A JP H0917827A
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semiconductor device
semiconductor chip
cap
semiconductor
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Akira Okada
晃 岡田
Masae Minamizawa
正栄 南澤
Toshio Hamano
寿夫 浜野
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Fujitsu Ltd
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Fujitsu Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は半導体チップを基板にフリップチップ
実装する半導体装置に関し、製品コストの低減を図ると
共に実装時の信頼性及び放熱効率の向上を図ることを目
的とする。 【構成】半導体チップ21と、この半導体チップがフリッ
プチップボンディング法により実装される基板22と、半
導体チップ21を封止するよう基板22上に配設され封止樹
脂24と、この封止樹脂24上に半導体チップ21と熱的に接
続される構成で配設されたキャップ23とを具備してお
り、半導体チップ21をスペーサとして機能させ、この半
導体チップ21によりキャップ23と基板22との間に介在す
る封止樹脂24の基板23に対する高さを一定に規制する構
成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に係り、特に
半導体チップを基板にフリップチップ実装する半導体装
置に関する。近年の半導体装置においては、半導体チッ
プの動作速度の高速化が益々進み、入出力回路の配線長
による速度遅延が無視できなくなってきている。このた
め、従来の金属ワイヤを用いた接続法に変わる接続法と
して、より配線長の短くなるフリップチップ接続法が実
用されつつある。
【0002】一方、近年の半導体装置における高速化及
び高密度化に伴い、半導体チップの発熱量は増大する傾
向にあり、よって放熱性の向上を図る必要がある。ま
た、半導体装置の小型化及び実装基板に対する表面実装
化に伴い、実装時における信頼性を向上させる必要もあ
る。
【0003】よって、上記フリップチップ接続法を用い
た半導体装置においても、放熱性及び実装時における信
頼性を向上させることが望まれている。
【0004】
【従来の技術】従来におけるフリップチップ接続法を採
用した半導体装置を図10乃至図12に示す。図10に
示す半導体装置1は、半導体チップ2を実装する基板と
して多層セラミック基板3を用いたものである。多層セ
ラミック基板3はその内部に半導体チップ2が収納され
るキャビティ4が形成されている。このキャビティ4の
底部には接続パターン5が形成されており、半導体チッ
プ2の下面に形成された半田バンプ6はこの接続パター
ン5にフリップチップ接続される。
【0005】また、多層セラミック基板3の上部には金
属キャップ7が半田等のろう材8により接合され、これ
により半導体チップ2は多層セラミック基板3内に封止
される。更に、多層セラミック基板3の底面には外部接
続端子となるボール9が配設されており、この各ボール
9は多層セラミック基板3の内部配線及び接続パターン
5を介して半導体チップ2と電気的に接続されている。
【0006】一方、図11に示す半導体装置10は、半
導体チップ2を実装する基板としてガラス−エポキシ基
板(以下、ガラエポ基板という)11を用いたものであ
る。ガラエポ基板11の上面中央部分には接続パターン
12が形成されており、半導体チップ2の下面に形成さ
れた半田バンプ6はこの接続パターン12にフリップチ
ップ接続される。
【0007】また、ガラエポ基板11の外周位置には接
着樹脂13により枠状のダム14が配設されている。こ
のガラエポ基板11及びダム14により形成されるキャ
ビティ内に封止樹脂15がポッティングされ半導体装置
10が封止される構成となっている。また、ガラエポ基
板11の底面には外部接続端子となるボール16が配設
されており、この各ボール16はガラエポ基板11に形
成されたスルーホール(図示せず)及び接続パターン1
2を介して半導体チップ2と電気的に接続されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、図10に示
した半導体装置1では、基板として高価な多層セラミッ
ク基板3を用いていたため、半導体装置1の製品コスト
が高くなるという問題点があった。
【0009】また、半導体チップ2を気密封止するため
に多層セラミック基板3の上面にろう材8を用いて金属
キャップ7を配設した構成とされたいたため、半導体チ
ップ2は中空封止となる。このため、半導体チップ2で
発生した熱を放熱することができず、半導体チップ2の
放熱効率が悪いという問題点があった。
【0010】一方、図11に示した半導体装置10で
は、基板としてガラエポ基板11を用いているため、多
層セラミック基板3を用いた半導体装置1に比べると製
品コストの低減が図れる。しかるに、半導体装置10
は、ガラエポ基板11及びダム14により形成されるキ
ャビティ内に封止樹脂15をポッティングする構成であ
るため、封止樹脂量のばらつき,ポッティング位置,及
び樹脂の粘性等の種々の条件により、図12に示すよう
に封止樹脂15に偏りが発生するおれがある。このよう
に封止樹脂15に偏りが発生すると、半導体装置10を
実装基板に実装する際の信頼性が低下してしまう。
【0011】即ち、半導体装置10を実装基板に実装す
る際、一般にハンドリング装置を用いて実装処理を行う
が、上記のように封止樹脂15に偏りがあるとハンドリ
ング装置の把持部17が図12に示すように半導体装置
10を適宜に把持することができず、偏った状態で把持
することとなる。ハンドリング装置は、この偏った状態
のままで半導体装置10を実装基板に実装するため、実
装基板上において半導体装置10は傾いた状態となり、
全てのボール16を実装基板に対して適宜に半田付けす
ることができなくなる。よって、半導体装置10と実装
基板との間で接続不良箇所が発生し、従って実装時にお
ける信頼性が低下してしまう。
【0012】更に、図11に示した半導体装置10で
は、半導体チップ2が熱伝導性が良好でない封止樹脂1
5により封止されるため、半導体チップ2で発生した熱
を放熱することができず半導体チップ2の放熱効率が悪
いという問題点があった。本発明は上記の点に鑑みてな
されたものであり、製品コストの低減を図ると共に実装
時の信頼性及び放熱効率の向上を図った半導体チップを
提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題は、下記の手段
を講じることにより解決するこができる。請求項1記載
の発明では、半導体チップと、前記半導体チップがフリ
ップチップボンディング法により実装される基板と、前
記半導体チップを封止するよう前記基板上に配設され封
止樹脂と、前記封止樹脂上に前記半導体チップと熱的に
接続される構成で配設されたキャップとを具備してお
り、前記キャップと前記基板との間にスペーサとして前
記半導体チップを配設し、この半導体チップにより前記
キャップと前記基板との間に介在する封止樹脂の前記基
板に対する高さを一定に規制する構成としたことを特徴
とするものである。
【0014】また、請求項2記載の発明では、前記請求
項1記載の半導体装置において、前記基板として樹脂基
板を用いたことを特徴とするものである。また、請求項
3記載の発明では、前記請求項1または2記載の半導体
装置において、前記半導体チップと前記キャップとの間
に熱伝導性の良好なペースト材を介装したことを特徴と
するものである。
【0015】また、請求項4記載の発明では、前記請求
項3記載のにおいて、前記ペースト材として、金属フィ
ラー入り樹脂ペースト,非金属系フィラー入り樹脂ペー
スト,又はろう材のいずれかを用いたことを特徴とする
ものである。
【0016】また、請求項5記載の発明では、前記請求
項1乃至4のいずれかに記載の半導体装置において、前
記キャップに放熱フィンを設けたことを特徴とするもの
である。また、請求項6記載の発明では、前記請求項1
乃至4のいずれかに記載の半導体装置において、前記キ
ャップの前記半導体チップと対向する位置に、前記半導
体チップと熱的に接続される放熱部材が配設される開口
部を形成したことを特徴とするものである。
【0017】また、請求項7記載の発明では、前記請求
項6記載の半導体装置において、前記開口部内に熱伝導
性の良好なペースト材を介装したことを特徴とするもの
である。
【0018】更に、請求項8記載の発明では、前記請求
項7記載のにおいて、前記ペースト材として、金属フィ
ラー入り樹脂ペースト,非金属系フィラー入り樹脂ペー
スト,又はろう材のいずれかを用いたことを特徴とする
ものである。
【0019】
【作用】上記の各手段は、次のように作用する。請求項
1記載の発明によれば、キャップと基板との間にスペー
サを配設し、このスペーサによりキャップと基板との間
に介在する封止樹脂の基板に対する高さを一定に規制す
る構成としたことにより、半導体装置の上面は基板に対
して均一な高さとなり、偏りの発生を防止することがで
きる。よって、半導体装置を実装基板に実装する際、半
導体装置が傾いて実装されることを防止できる。これに
より、実装基板に対して半導体装置を確実に実装するこ
とができ、実装時における信頼性を向上させることがで
きる。また、スペーサとして半導体チップを用いたこと
により、別個にスペーサとなる部材を配設する構成に比
べて組み立て性の向上及び製品コストの低減を図ること
ができる。
【0020】また、請求項2記載の発明によれば、基板
としてセラミック基板等に比べて安価な樹脂基板を用い
たことにより、製品コストの低減を図ることができる。
また、請求項3及び7記載の発明によれば、半導体チッ
プとキャップとの間に熱伝導性の良好なペースト材を介
装したことにより、半導体チップで発生した熱はペース
ト材を介してキャップに熱伝導し放熱されるため、放熱
効率を向上させることができる。
【0021】また、請求項4及び8記載の発明によれ
ば、ペースト材として金属フィラー入り樹脂ペースト,
非金属系フィラー入り樹脂ペースト,又はろう材のいず
れかを用いたことにより、半導体チップとキャップとの
熱的接合性及び機械的接合性を共に向上でき、放熱性及
び半導体装置の信頼性の向上を図ることができる。
【0022】また、請求項5記載の発明によれば、キャ
ップに放熱フィンを設けたことにより、更に半導体チッ
プで発生する熱の放熱効率を向上させることができる。
更に、請求項6記載の発明によれば、キャップの半導体
チップと対向する位置に、半導体チップと熱的に接続さ
れる放熱部材が配設される開口部を形成したことによ
り、放熱部材を配設しない状態で半導体装置を実装基板
に実装し、その後に放熱部材を半導体装置に配設するこ
とが可能となる。よって、一般に形状の大きな放熱部材
をいわゆる後付けすることができるため、これによって
も半導体装置の実装性を向上させることができる。
【0023】
【実施例】次に本発明の実施例について図面と共に説明
する。図1は本発明の第1実施例である半導体装置20
を示している。この半導体装置20はいわゆるBGA(B
all Grid Array) タイプの半導体装置であり、大略する
と半導体チップ21,基板22,キャップ23,及び封
止樹脂24等により構成されている。
【0024】半導体チップ21は、その底面に複数の半
田バンプ25が形成されており、この半田バンプ25を
基板22の上面に形成された接続パターン26にフリッ
プチップ接続されることにより、半導体チップ21は基
板22に搭載される。このように、半田バンプ25を用
いて半導体チップ21を基板22にフリップチップ接続
する構成とすることにより、ワイヤを用いた接続方法に
比べて配線長を短くすることができ、半導体チップ21
の動作速度が高速化してもこれに対応させることができ
る。
【0025】基板22は例えばガラス−エポキシ製の樹
脂製基板であり、図10に示した従来用いられていた多
層セラミック基板に比べて安価なものである。従って、
基板22として樹脂製基板を用いることにより半導体装
置20の製品コストの低減を図ることができる。尚、基
板22の材料はガラス−エポキシ以外にも他の材質より
なる樹脂製基板を用いることは可能であり、またフレキ
シブル・プリント基板の適用も考えられる。
【0026】この基板22の上面には前述した半導体チ
ップ21に形成された半田バンプ25が接合される接続
パターン26が形成されると共に、下面には接続パッド
28が形成されている。この接続パッド28は、外部接
続端子となるボール(半田ボール)27が配設されてい
る。
【0027】また、基板上面に形成された接続パターン
26と基板下面に形成された接続パッド28とは、基板
22を上下に貫通するよう形成されたスルーホール(図
示せず)により電気的に接続された構成とされている。
前述したように、この基板22には半導体チップ21が
フリップチップ接続により搭載される。
【0028】キャップ23は平板形状を有しており、例
えばアルミニウム等の熱伝導性の高い金属材料により形
成されている。このキャップ23は半導体チップ21の
上部に位置しており、キャップ23と基板22との間に
は封止樹脂24が介装され、またキャップ23と半導体
チップ21との間にはペースト材29が介装された構成
とされている。このキャップ23は、後述する封止樹脂
24の高さ位置規制を行う他に、半導体チップ21で発
生する熱を放熱する放熱板としても機能する。
【0029】封止樹脂24は例えば熱硬化性のプラスチ
ックであるエポキシ樹脂であり、この封止樹脂24によ
り半導体チップ21は封止され、外部に対し保護された
構成となる。また、ペースト材29はキャップ23と半
導体チップ21とを熱的にかつ機械的に接続させる機能
を奏するものであり、金属フィラー(例えば銀)入り樹
脂ペースト,非金属系フィラー(例えばシリコン)入り
樹脂ペースト,又はろう材(例えば半田)等を用いるこ
とが可能である。
【0030】金属フィラー入り樹脂ペーストは熱伝導性
が高いため、ペースト材29として金属フィラー入り樹
脂ペーストを用いることにより、半導体チップ21で発
生した熱を効率よくキャップ23に熱伝達することが可
能となり、よって放熱特性を向上させることができる。
また、非金属系フィラー入り樹脂ペーストは、金属フィ
ラー入り樹脂ペーストに比べて熱伝導性は劣るものの、
安価であるため半導体装置20のコスト低減に寄与でき
る。更に、ろう材は、上記した金属フィラー入り樹脂ペ
ースト及び非金属系フィラー入り樹脂ペーストに比べて
配設時における加熱温度が高くなる傾向があるが、安価
でかつ熱伝導性も良好である。
【0031】ここで、上記構成とされた半導体装置20
において、封止樹脂24の基板22の上面からの高さに
注目し、以下説明する。前記したように、封止樹脂24
は基板22の上面とキャップ23との間に介装されるも
のであるため、その高さ位置はキャップ23の高さ位置
に規制されることとなる。一方、キャップ23は半導体
チップ21の上部にペースト材29を介して配設される
ものである。ペースト材29の厚さは、実際は微小な厚
さ寸法(図には明確化するために実際よりも厚く描いて
いる)であるため、実質的にキャップ23の基板22か
らの離間距離は半導体チップ21の高さ寸法により規制
される。
【0032】即ち、半導体チップ21はキャップ23の
基板22からの離間距離を一定に保つスペーサとして機
能する。このように、半導体チップ21をスペーサとし
て用い、キャップ23の基板22からの離間距離を一定
に保つことにより、キャップ23と基板22との間に介
装される封止樹脂24の高さも偏りのない均一な状態と
なる。
【0033】よって、半導体装置20を実装基板(図示
せず)に実装する際、ハンドリング装置の把持部(図1
2参照)により半導体装置20を把持しても半導体装置
20は正規に(傾きなく)把持される。このため、半導
体装置20は実装基板に対して常に正常な状態(傾きの
ない状態)で実装されるため、ボール27と実装基板と
の接続不良の発生を防止でき、これにより実装時におけ
る信頼性を向上させることができる。
【0034】また本実施例の構成では、スペーサとして
半導体チップ21を用いているため、半導体チップ21
と別個にスペーサとなる部材を新たに配設する必要はな
い。このため、部品点数の増加を防止でき、組み立て性
の向上及び製品コストの低減を図ることができる。尚、
半導体チップ21を必ずスペーサとして用いる必要はな
く、上記した第1実施例に比べて組み立て性及び経済性
に劣るものの、スペーサとなる部材を半導体チップ21
とは別個に設けた構成としてもよい。
【0035】続いて、上記構成とされた第1実施例に係
る半導体装置20の製造方法について図2乃至図4を用
いて説明する。尚、図2乃至図4に示す構成において、
図1に示す構成と同一構成については同一符号を附して
説明する。半導体装置20を製造するには、先ず予め別
工程で製造した半導体チップ21と基板22を用意し、
図2に示されるように、半導体チップ21を基板22の
上面に形成されている接続パターン26にフリップチッ
プ接続する。
【0036】続いて、基板22に搭載された半導体チッ
プ21の上面にペースト材29を塗布し、また半導体チ
ップ21の配設位置を回避して封止樹脂24をチップ周
囲にポッティング等により配設する。この際、まだペー
スト材29及び封止樹脂24は所定の粘度は有している
ものの硬化はしていなため、その上面は図3に示される
ように湾曲或いは偏りを有した状態となっている。
【0037】上記のようにペースト材29及び封止樹脂
24が配設されると、続いてペースト材29及び封止樹
脂24の上部にキャップ23を載置し、このキャップ2
3が半導体チップ21の上面と当接するまで荷重を印加
して押圧する。このように、キャップ23が半導体チッ
プ21に向け押圧されることにより、ペースト材29は
半導体チップ21の上面で広がり、同様に封止樹脂24
は基板22の上面で広がる。
【0038】そして、キャップ23が半導体チップ21
の上面と当接した時点で、スペーサとして機能する半導
体チップ21によりキャップ23の基板22に対する高
さ位置が決まる。また、キャップ23の基板22に対す
る高さ位置が決まることにより、キャップ23と基板2
2との間に介装される封止樹脂24の高さも規定され
る。このため、封止樹脂24の高さは、封止樹脂24の
充填量,充填方法等に拘わらず、偏りのない均一な高さ
となる。
【0039】続いて、図4に示されるように、加熱処理
を行い封止樹脂24及びペースト材29を熱硬化させ、
これにより図1に示す半導体装置20が製造される。上
記した半導体装置20の製造方法は、スペーサとして半
導体チップ21を用いてるためキャップ23の高さを規
制するための治具等は不要であり、また従来から用いら
れている製造工程を利用することができるため、半導体
装置20を容易に製造することができる。
【0040】続いて、図5乃至図7を用いて本発明の第
2乃至第4実施例について説明する。尚、以下説明する
各実施例において、図1に示した第1実施例に係る半導
体装置20と対応する構成については、図5乃至図7に
おいて同一符号を附してその説明を省略する。
【0041】図5は、本発明の第2実施例である半導体
装置30を示している。本実施例に係る半導体装置30
は、第1実施例に係る半導体装置20で用いていたペー
スト材29を用いることなく、半導体チップ21の上面
に直接キャップ23を当接させた構成としたことを特徴
とするものである。
【0042】このように、キャップ23を半導体チップ
21に直接当接させる構成としたことにより、部品点数
の削減及び組み立て工数の低減を図ることができ、半導
体装置30の製品コスト低減を図ることができる。ま
た、ペースト材29に起因したキャップ23の傾きの発
生を防止することもできる。
【0043】尚、本実施例においては、キャップ23は
封止樹脂24により接着された構成となるため、封止樹
脂24の材質をキャップ23と接着性の良好な材質に選
定する必要がある。図6は、本発明の第3実施例である
半導体装置40を示している。
【0044】本実施例に係る半導体装置40は、第1実
施例に係る半導体装置20で用いたキャップ23に放熱
フィン41を設けたことを特徴とするものである。この
放熱フィン41はキャップ23と一体的に形成した構成
としてもよく、またキャップ23の上部に放熱フィン4
1を取り付けた構成としてもよい。
【0045】上記のようにキャップ23に放熱フィン4
1を設けることにより、外気との接触面積を広くするこ
とができるため、キャップ23のみで放熱する構成に比
べ、半導体チップ21で発生した熱をより効率よく放熱
することができる。図7は、本発明の第4実施例である
半導体装置50を示している。
【0046】本実施例に係る半導体装置50は、キャッ
プ51の半導体チップ21と対向する位置の全部或いは
一部に、半導体チップ21と熱的に接続される放熱部材
52(本実施例では放熱フィンを例に挙げている)が配
設される開口部53を形成したことを特徴とするもので
ある。
【0047】上記のように、半導体チップ21と熱的に
接続される放熱部材52が配設される開口部53をキャ
ップ51に形成したことにより、放熱部材52を配設し
ない状態で半導体装置50を実装基板に実装し、その後
に放熱部材52を半導体装置50に配設することが可能
となる。即ち、半導体装置50の実装後に放熱部材52
を後付けすることが可能となる。
【0048】一般に、放熱部材52は放熱効率を高める
ために大きな形状とされている。従って、形状の大なる
放熱部材52を半導体装置50に装着した状態で実装基
板に実装するのは面倒である。また、半導体装置50を
使用するユーザ側において放熱部材52の種類を選定す
る場合もある。
【0049】よって、放熱部材52が配設される開口部
53をキャップ51に形成し、放熱部材52を半導体装
置50の実装後に後付けできる構成とすることにより、
半導体装置50の実装作業を容易に行うことができ、ま
たユーザの要求にも答えることが可能となる。
【0050】但し、キャップ51に開口部53を形成す
ることにより、先に図3を用いて説明した封止樹脂24
の配設時に、この封止樹脂24が半導体チップ21の上
面に漏出するおそれがある。このため、半導体装置50
の製造においては、図8及び図9に示す製造方法を行
う。
【0051】即ち、キャップ51を半導体チップ21に
押圧する際、図8に示すように、予めキャップ51に形
成された開口部53にシリコンゴム等のマスク54を配
設しておく。そして、この開口部53にマスク54が配
設されたキャップ51を半導体チップ21に押圧するこ
とにより、開口部53はマスク54により塞がれている
ため、基板22上に配設された封止樹脂24をキャップ
51により押圧しても、この封止樹脂24が半導体チッ
プ21の上面に漏出することを防止することができる。
【0052】そして、図8に示す状態において、加熱処
理を行い封止樹脂24を硬化させ、その後にマスク54
をキャップ51から取り外す。マスク54はシリコンゴ
ム等の可撓性を有した材質により形成されているため、
マスク54をキャップ51から取り外す作業は容易に行
うことができる。
【0053】続いて、開口部53内の半導体チップ21
の上面が露出した部分に、図9に示すようにペースト材
29を配設し、放熱部材52が取り付けられる前状態の
半導体装置50が形成される。尚、上記したように、ユ
ーザ側で放熱部材52の取付を行う場合には、図9に示
す状態で出荷が行われる。
【0054】
【発明の効果】上述の如く、本発明によれば下記の種々
の効果を実現することができる。請求項1記載の発明に
よれば、半導体装置の上面は基板に対して均一な高さと
なり偏りの発生を防止することができるため、半導体装
置を実装基板に実装する際に半導体装置が傾いて実装さ
れることを防止できる。これにより、実装基板に対して
半導体装置を確実に実装することができ、実装時におけ
る信頼性を向上させることができる。また、別個にスペ
ーサとなる部材を配設する構成に比べて組み立て性の向
上及び製品コストの低減を図ることができる。
【0055】また、請求項2記載の発明によれば、樹脂
基板はセラミック基板等に比べて安価であるため、半導
体装置の製品コストの削減を図ることができる。また、
請求項3及び7記載の発明によれば、半導体チップで発
生した熱はペースト材を介してキャップに熱伝導し放熱
されるため、放熱効率を向上させることができる。
【0056】また、請求項4及び8記載の発明によれ
ば、半導体チップとキャップとの熱的接合性及び機械的
接合性を共に向上でき、放熱性及び半導体装置の信頼性
の向上を図ることができる。また、請求項5記載の発明
によれば、更に半導体チップで発生する熱の放熱効率を
向上させることができる。
【0057】更に、請求項6記載の発明によれば、一般
に形状の大きな放熱部材をいわゆる後付けすることがで
きるため、これによっても半導体装置の実装性の向上を
図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例である半導体装置を示す断
面図である。
【図2】本発明の第1実施例に係る半導体装置の製造方
法を説明するための図であり、半導体チップを基板に搭
載する工程を示す図である。
【図3】本発明の第1実施例に係る半導体装置の製造方
法を説明するための図であり、配設された樹脂の上面に
キャップを配設する工程を説明する図である。
【図4】本発明の第1実施例に係る半導体装置の製造方
法を説明するための図であり、キャップを配設後に樹脂
を硬化させる工程を説明するめたの図である。
【図5】本発明の第2実施例である半導体装置を示す断
面図である。
【図6】本発明の第3実施例である半導体装置を示す断
面図である。
【図7】本発明の第4実施例である半導体装置を示す断
面図である。
【図8】本発明の第4実施例である半導体装置の製造方
法を説明するための図であり、キャップを配設する工程
を説明するための図である。
【図9】本発明の第4実施例である半導体装置の製造方
法を説明するための図であり、ペーストを配設する工程
を説明するための図である。
【図10】従来の半導体装置の一例を示す図であり、半
導体チップを実装する基板として多層セラミック基板を
用いた例を示す断面図である。
【図11】従来の半導体装置の一例を示す図であり、半
導体チップを実装する基板としてガラエポ基板を用いた
例を示す断面図である。
【図12】図11に示す半導体装置の問題点を説明する
ための断面図である。
【符号の説明】
20,30,40 半導体装置 21 半導体チップ 22 基板 23,51 キャップ 24 封止樹脂 25 半田バンプ 26 接続パターン 27 ボール 29 ペースト材 41 放熱フィン 52 放熱部材 53 開口部 54 マスク

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップと、 前記半導体チップがフリップチップボンディング法によ
    り実装される基板と、 前記半導体チップを封止するよう前記基板上に配設され
    封止樹脂と、 前記封止樹脂上に前記半導体チップと熱的に接続される
    構成で配設されたキャップとを具備しており、 前記キャップと前記基板との間にスペーサとして前記半
    導体チップを配設し、前記半導体チップにより前記キャ
    ップと前記基板との間に介在する封止樹脂の前記基板に
    対する高さを一定に規制する構成としたことを特徴とす
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体装置において、 前記基板として樹脂基板を用いたことを特徴とする半導
    体装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の半導体装置にお
    いて、 前記半導体チップと前記キャップとの間に熱伝導性の良
    好なペースト材を介装したことを特徴とする半導体装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載のにおいて、 前記ペースト材として、金属フィラー入り樹脂ペース
    ト,非金属系フィラー入り樹脂ペースト,又はろう材の
    いずれかを用いたことを特徴とする半導体装置。
  5. 【請求項5】 請求項1乃至4のいずれかに記載の半導
    体装置において、 前記キャップに放熱フィンを設けたことを特徴とする半
    導体装置。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至4のいずれかに記載の半導
    体装置において、 前記キャップの前記半導体チップと対向する位置に、前
    記半導体チップと熱的に接続される放熱部材が配設され
    る開口部を形成したことを特徴とする半導体装置。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の半導体装置において、 前記半導体チップと前記放熱部材との間に熱伝導性の良
    好なペースト材を介装したことを特徴とする半導体装
    置。
  8. 【請求項8】 請求項7記載のにおいて、 前記ペースト材として、金属フィラー入り樹脂ペース
    ト,非金属系フィラー入り樹脂ペースト,又はろう材の
    いずれかを用いたことを特徴とする半導体装置。
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