JPH09174751A - 薄層積重体で被覆した透明基材 - Google Patents
薄層積重体で被覆した透明基材Info
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- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 太陽放射線及び／又は長波長赤外線に作用す
ることができる金属層を少なくとも一つ含み、熱的及び
光学的特性が向上して、特に放射率が小さく且つ光透過
率が大きい薄層の積重体で被覆された透明基材を提供す
る。 【解決手段】 この透明基材は、誘電材料を基にした
「上方」及び「下方」の二つのコーティングの間に配置
された、赤外領域での特性及び／又は太陽放射線に関し
ての特性を持つ「機能性」層、とりわけ低放射率の金属
層を少なくとも一つ含む薄層積重体を備えており、当該
機能性層の下にある「下方」コーティングが、ケイ素又
は金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さ
が１６ｎｍに等しいかそれより厚くて当該機能性層と直
接接する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製
の少なくとも二つの異なる層を含むものである。
ることができる金属層を少なくとも一つ含み、熱的及び
光学的特性が向上して、特に放射率が小さく且つ光透過
率が大きい薄層の積重体で被覆された透明基材を提供す
る。 【解決手段】 この透明基材は、誘電材料を基にした
「上方」及び「下方」の二つのコーティングの間に配置
された、赤外領域での特性及び／又は太陽放射線に関し
ての特性を持つ「機能性」層、とりわけ低放射率の金属
層を少なくとも一つ含む薄層積重体を備えており、当該
機能性層の下にある「下方」コーティングが、ケイ素又
は金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さ
が１６ｎｍに等しいかそれより厚くて当該機能性層と直
接接する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製
の少なくとも二つの異なる層を含むものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明基材、特にガ
ラス製又はポリカーボネート（ＰＣ）もしくはポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）タイプの硬質プラスチッ
ク製の基材に関し、これらの基材は、太陽放射線及び／
又は長波長赤外線に作用することができる金属層を少な
くとも一つ含む薄層の積重体で被覆される。
ラス製又はポリカーボネート（ＰＣ）もしくはポリメチ
ルメタクリレート（ＰＭＭＡ）タイプの硬質プラスチッ
ク製の基材に関し、これらの基材は、太陽放射線及び／
又は長波長赤外線に作用することができる金属層を少な
くとも一つ含む薄層の積重体で被覆される。
【０００２】本発明はまた、そのような基材を断熱窓ガ
ラスパネル及び／又は日射遮蔽（ａｎｔｉ−ｓｏｌａ
ｒ）窓ガラスを製造するために使用することに関する。
これらは、空調の負荷を低下させること及び／又は車室
のガラスをはめた面がますます増加することにより引き
起こされる過剰の加熱を減少させることを特に目的とし
て、建物にも車両にも取り付けようとするものである。
ラスパネル及び／又は日射遮蔽（ａｎｔｉ−ｓｏｌａ
ｒ）窓ガラスを製造するために使用することに関する。
これらは、空調の負荷を低下させること及び／又は車室
のガラスをはめた面がますます増加することにより引き
起こされる過剰の加熱を減少させることを特に目的とし
て、建物にも車両にも取り付けようとするものである。
【０００３】
【従来の技術】基材にとりわけ低放射特性を与えようと
する既知のタイプの薄層積重体は、金属酸化物の層ある
いは例えばＳｉ3 Ｎ4 の如き窒化物の層といったような
誘電材料の二つの層の間に少なくとも一つの金属層、例
えば銀層の如きものを配置したものからなる。この積重
体は一般に、必要に応じ磁場により支援される、例えば
スパッタリングのような、真空技術を使って行われる連
続の成長（堆積）により得られる。一般に、銀層は上の
誘電性コーティングを成長させる前に、「犠牲」層と呼
ばれる薄い金属層で覆われる。
する既知のタイプの薄層積重体は、金属酸化物の層ある
いは例えばＳｉ3 Ｎ4 の如き窒化物の層といったような
誘電材料の二つの層の間に少なくとも一つの金属層、例
えば銀層の如きものを配置したものからなる。この積重
体は一般に、必要に応じ磁場により支援される、例えば
スパッタリングのような、真空技術を使って行われる連
続の成長（堆積）により得られる。一般に、銀層は上の
誘電性コーティングを成長させる前に、「犠牲」層と呼
ばれる薄い金属層で覆われる。
【０００４】銀層はとりわけ熱的性能特性を、特に被覆
された窓ガラスパネルの放射率に関して、決定する一方
で、誘電材料の層は、第一にそれらは基材の光学的外観
に干渉的に作用するので、更にそれらは銀層を化学的及
び／又は機械的な攻撃から保護するのを可能にすること
から、いくつかの役割を果たす。
された窓ガラスパネルの放射率に関して、決定する一方
で、誘電材料の層は、第一にそれらは基材の光学的外観
に干渉的に作用するので、更にそれらは銀層を化学的及
び／又は機械的な攻撃から保護するのを可能にすること
から、いくつかの役割を果たす。
【０００５】従って、この種の低放射率積重体を備えた
窓ガラスパネルには、特に断熱窓ガラスの用途がある。
予め決定された構造の断熱窓ガラスパネルの場合には、
実際のところ、熱透過率は特に、ガラス板の間の空間の
範囲を定めている二つのガラス表面の放射率により決定
される。未被覆のガラス表面の放射率εは比較的高く、
およそ０．８５である。ガラス表面の間の放射線の交換
は、中間のガス空間に向けられる面に放射率ε≦０．１
の放射性の弱いコーティングを施したガラス板を用いる
ことにより、多少なくすことができる。このようにし
て、熱伝導率Ｋが１．３Ｗ／ｍ2 ・Ｋ以下の断熱窓ガラ
スパネルを製造することが可能であり、それらの小さい
値のおかげでエネルギーを節約することができる。熱伝
導率Ｋが小さいことに加えて、最適な断熱窓ガラスパネ
ルはまたできる限り大きい太陽エネルギー係数（ｓｏｌ
ａｒ ｆａｃｔｏｒ）、すなわち太陽エネルギーの受け
身の利用が多くなるように、従って建物のエネルギー収
支に都合がよいように、できるだけ大きい、標準規格Ｄ
ＩＮ ６７５０７で定義された係数Ｇにより表されるも
のを持たなくてはならない。この係数Ｇは、窓ガラスパ
ネルを通って直接透過したエネルギーと吸収により熱く
なる窓ガラスパネルにより建物の室内又は車室内に再放
射されるエネルギーの合計である。更に、外部の空間へ
のこの窓ガラスパネルの反射の色は、通常の断熱窓ガラ
スパネルのそれと同じように中性（無色相）でなくては
ならない。
窓ガラスパネルには、特に断熱窓ガラスの用途がある。
予め決定された構造の断熱窓ガラスパネルの場合には、
実際のところ、熱透過率は特に、ガラス板の間の空間の
範囲を定めている二つのガラス表面の放射率により決定
される。未被覆のガラス表面の放射率εは比較的高く、
およそ０．８５である。ガラス表面の間の放射線の交換
は、中間のガス空間に向けられる面に放射率ε≦０．１
の放射性の弱いコーティングを施したガラス板を用いる
ことにより、多少なくすことができる。このようにし
て、熱伝導率Ｋが１．３Ｗ／ｍ2 ・Ｋ以下の断熱窓ガラ
スパネルを製造することが可能であり、それらの小さい
値のおかげでエネルギーを節約することができる。熱伝
導率Ｋが小さいことに加えて、最適な断熱窓ガラスパネ
ルはまたできる限り大きい太陽エネルギー係数（ｓｏｌ
ａｒ ｆａｃｔｏｒ）、すなわち太陽エネルギーの受け
身の利用が多くなるように、従って建物のエネルギー収
支に都合がよいように、できるだけ大きい、標準規格Ｄ
ＩＮ ６７５０７で定義された係数Ｇにより表されるも
のを持たなくてはならない。この係数Ｇは、窓ガラスパ
ネルを通って直接透過したエネルギーと吸収により熱く
なる窓ガラスパネルにより建物の室内又は車室内に再放
射されるエネルギーの合計である。更に、外部の空間へ
のこの窓ガラスパネルの反射の色は、通常の断熱窓ガラ
スパネルのそれと同じように中性（無色相）でなくては
ならない。
【０００６】銀で作られた機能性層を含む多層積重体の
放射率の低下は、実際問題としてはより厚い銀層を用い
ることで行うことができる。ところが、銀層の厚さを増
すことは、この場合においては低下する光透過率により
制限される。これに、厚い銀層はもはや中性の反射色を
持つことができないという事実が付加される。それにも
かかわらず、十分に高い光透過率をなおも維持し且つ同
時に中性の反射色を維持しながら比較的厚い銀層で低放
射率を得ることが所望される場合には、これは誘電材料
のコーティングを、とりわけいくつかの異なる誘電材料
層から作ることにより、適切に選ぶという条件で可能で
あるに過ぎない。
放射率の低下は、実際問題としてはより厚い銀層を用い
ることで行うことができる。ところが、銀層の厚さを増
すことは、この場合においては低下する光透過率により
制限される。これに、厚い銀層はもはや中性の反射色を
持つことができないという事実が付加される。それにも
かかわらず、十分に高い光透過率をなおも維持し且つ同
時に中性の反射色を維持しながら比較的厚い銀層で低放
射率を得ることが所望される場合には、これは誘電材料
のコーティングを、とりわけいくつかの異なる誘電材料
層から作ることにより、適切に選ぶという条件で可能で
あるに過ぎない。
【０００７】所望の光学的特性をそれにより達成するこ
とができる上述の種類の多層系は、ヨーロッパ特許第０
３３２１７７号明細書から知られている。この既知の多
層系では、二つの誘電性コーティングのうちの一方はお
のおのが屈折率がおよそ２．３５の１以上の層からな
り、そして他方のコーティングは屈折率がそれより著し
く低い１以上の層からなる。酸化ビスマスが、屈折率が
およそ２．３５の層としての必要を満たす。
とができる上述の種類の多層系は、ヨーロッパ特許第０
３３２１７７号明細書から知られている。この既知の多
層系では、二つの誘電性コーティングのうちの一方はお
のおのが屈折率がおよそ２．３５の１以上の層からな
り、そして他方のコーティングは屈折率がそれより著し
く低い１以上の層からなる。酸化ビスマスが、屈折率が
およそ２．３５の層としての必要を満たす。
【０００８】誘電材料の「多層」コーティングを有する
系も、ドイツ特許出願公開第３９４１０２７号明細書及
びフランス特許出願公開第２６４１２７１号明細書から
知られている。この積重体においては、「下方」誘電性
コーティング（すなわち基材に一番近いコーティング）
が、酸化スズ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ビ
スマス及びこれらの酸化物のうちの２種以上のものの混
合物により形成される群に属する金属酸化物の少なくと
も一つの層と、厚さが最高で１５ｎｍ、好ましくは５〜
１３ｎｍであり、銀層と隣接する、酸化亜鉛層とからな
る。銀層の下の薄い酸化亜鉛層は、銀層に都合のよい影
響を及ぼすが、とは言えそれは酸化亜鉛層の厚さが最高
許容値の１５ｎｍ未満である場合に認められるだけであ
る、と述べられている。もっと厚いＺｎＯの層は、なお
もこれらの刊行物によれば、化学的により脆いと述べら
れており、その結果として、それらは薄層積重体全体の
耐久性の低下を招く。
系も、ドイツ特許出願公開第３９４１０２７号明細書及
びフランス特許出願公開第２６４１２７１号明細書から
知られている。この積重体においては、「下方」誘電性
コーティング（すなわち基材に一番近いコーティング）
が、酸化スズ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ビ
スマス及びこれらの酸化物のうちの２種以上のものの混
合物により形成される群に属する金属酸化物の少なくと
も一つの層と、厚さが最高で１５ｎｍ、好ましくは５〜
１３ｎｍであり、銀層と隣接する、酸化亜鉛層とからな
る。銀層の下の薄い酸化亜鉛層は、銀層に都合のよい影
響を及ぼすが、とは言えそれは酸化亜鉛層の厚さが最高
許容値の１５ｎｍ未満である場合に認められるだけであ
る、と述べられている。もっと厚いＺｎＯの層は、なお
もこれらの刊行物によれば、化学的により脆いと述べら
れており、その結果として、それらは薄層積重体全体の
耐久性の低下を招く。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、熱的及び光学的な特性が両方とも向上しており、と
りわけ放射率が小さく且つ光透過率が大きい、１以上の
機能性層を有する新しいタイプの積重体を明らかにする
ことである。
は、熱的及び光学的な特性が両方とも向上しており、と
りわけ放射率が小さく且つ光透過率が大きい、１以上の
機能性層を有する新しいタイプの積重体を明らかにする
ことである。
【００１０】本発明の目的は、より詳しく言えば、この
タイプの薄層積重体であって、銀層の下に配置されてい
る酸化亜鉛層を含み、そして一方においてはこの酸化亜
鉛層の都合のよい効果を活用し、そして他方において高
い化学的耐性と高い物理的強度、なお且つ低輻射率と高
い全エネルギー透過率を、透過と反射の両方における色
の高度の中立性とともに、同時に得るのを可能にする薄
層積重体を明らかにすることである。好ましくは、本発
明の目的はまた、必要に応じて磁場により支援される、
とりわけスパッタリングの方法を利用して、技術的な製
造上の困難なしに速い成長（堆積）速度で、そのような
積重体を工業的規模で製造できるようにすることであ
る。
タイプの薄層積重体であって、銀層の下に配置されてい
る酸化亜鉛層を含み、そして一方においてはこの酸化亜
鉛層の都合のよい効果を活用し、そして他方において高
い化学的耐性と高い物理的強度、なお且つ低輻射率と高
い全エネルギー透過率を、透過と反射の両方における色
の高度の中立性とともに、同時に得るのを可能にする薄
層積重体を明らかにすることである。好ましくは、本発
明の目的はまた、必要に応じて磁場により支援される、
とりわけスパッタリングの方法を利用して、技術的な製
造上の困難なしに速い成長（堆積）速度で、そのような
積重体を工業的規模で製造できるようにすることであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の主題は、とりわ
けガラス製（又はポリカーボネートもしくはＰＭＭＡタ
イプの任意の他の硬質プラスチック製）の、透明基材で
あって、赤外領域での特性及び／又は太陽放射線に関し
ての特性を持つ層、とりわけ低放射率の金属層を少なく
とも一つ含む薄層の積重体を備えた透明基材である。こ
の層は、以下において「機能性」層という用語で表さ
れ、そしてこれはとりわけ、銀で又は銀を基にした材料
で製作される。
けガラス製（又はポリカーボネートもしくはＰＭＭＡタ
イプの任意の他の硬質プラスチック製）の、透明基材で
あって、赤外領域での特性及び／又は太陽放射線に関し
ての特性を持つ層、とりわけ低放射率の金属層を少なく
とも一つ含む薄層の積重体を備えた透明基材である。こ
の層は、以下において「機能性」層という用語で表さ
れ、そしてこれはとりわけ、銀で又は銀を基にした材料
で製作される。
【００１２】この機能性層は、誘電材料製の二つのコー
ティングの間、すなわち基材に一番近いいわゆる「下
方」コーティングと基材から一番遠いいわゆる「上方」
コーティングの間に配置される。機能性層の下にあるコ
ーティング、従って「下方」コーティングは、ケイ素又
は金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さ
が１６ｎｍに等しいかそれより厚くて機能性層と直接接
する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製の少
なくとも二つの異なる層を含む。
ティングの間、すなわち基材に一番近いいわゆる「下
方」コーティングと基材から一番遠いいわゆる「上方」
コーティングの間に配置される。機能性層の下にあるコ
ーティング、従って「下方」コーティングは、ケイ素又
は金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さ
が１６ｎｍに等しいかそれより厚くて機能性層と直接接
する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製の少
なくとも二つの異なる層を含む。
【００１３】本発明によれば、機能性層は好ましくは銀
を基礎材料とし、とりわけ厚さが７〜２５ｎｍ、好まし
くは１０〜１４ｎｍ、特におよそ１２ｎｍのものであ
る。
を基礎材料とし、とりわけ厚さが７〜２５ｎｍ、好まし
くは１０〜１４ｎｍ、特におよそ１２ｎｍのものであ
る。
【００１４】「下方」コーティングにおける酸化亜鉛を
基にした層は、好ましくは、１６〜３５ｎｍの間で選ば
れた厚さ、とりわけ１６〜２５ｎｍ、特におよそ２２ｎ
ｍの厚さを有する。
基にした層は、好ましくは、１６〜３５ｎｍの間で選ば
れた厚さ、とりわけ１６〜２５ｎｍ、特におよそ２２ｎ
ｍの厚さを有する。
【００１５】「下方」コーティングは好ましくは、この
酸化亜鉛層の下に、酸化ビスマスもしくは酸化スズタイ
プの金属酸化物を基にした、あるいは窒化ケイ素を基に
した、別の層を含む。この第二の層は有利には、厚さが
５〜３５ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍである。
酸化亜鉛層の下に、酸化ビスマスもしくは酸化スズタイ
プの金属酸化物を基にした、あるいは窒化ケイ素を基に
した、別の層を含む。この第二の層は有利には、厚さが
５〜３５ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍである。
【００１６】必要に応じて、機能性層の上に、ニオブ、
チタン、スズ又はタンタルタイプの金属を基にした、あ
るいはニッケル−クロム、タンタル−クロム又はニオブ
−クロムタイプの金属合金を基にした、とりわけ厚さが
０．５〜６ｎｍ、好ましくは１〜３ｎｍの、犠牲層と呼
ばれる薄層を配置することができる。それは、その役割
が機能性層の上に後に誘電材料を成長（堆積）させる際
に、通常は反応性スパッタリングにより行われる成長
（堆積）の際、すなわちそれが金属酸化物である場合酸
素の存在下で行われる成長（堆積）の際に、機能性層を
酸化から保護することであるので、「犠牲」層と呼ばれ
る。従って、最終製品において、この犠牲層はその厚さ
と成長条件に依存して、部分的あるいは完全に酸化され
ている。
チタン、スズ又はタンタルタイプの金属を基にした、あ
るいはニッケル−クロム、タンタル−クロム又はニオブ
−クロムタイプの金属合金を基にした、とりわけ厚さが
０．５〜６ｎｍ、好ましくは１〜３ｎｍの、犠牲層と呼
ばれる薄層を配置することができる。それは、その役割
が機能性層の上に後に誘電材料を成長（堆積）させる際
に、通常は反応性スパッタリングにより行われる成長
（堆積）の際、すなわちそれが金属酸化物である場合酸
素の存在下で行われる成長（堆積）の際に、機能性層を
酸化から保護することであるので、「犠牲」層と呼ばれ
る。従って、最終製品において、この犠牲層はその厚さ
と成長条件に依存して、部分的あるいは完全に酸化され
ている。
【００１７】機能性層の上にある誘電材料の「上方」コ
ーティングは、有利には、酸化スズ、酸化タンタル、酸
化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタンもしくは酸化ビスマス
を基にした層を少なくとも一つ、及び／又は窒化ケイ素
の層を含む。
ーティングは、有利には、酸化スズ、酸化タンタル、酸
化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタンもしくは酸化ビスマス
を基にした層を少なくとも一つ、及び／又は窒化ケイ素
の層を含む。
【００１８】この「上方」コーティングは有利には、酸
化スズを基にした、とりわけ厚さが２〜３５ｎｍ、好ま
しくは５〜３０ｎｍの層を少なくとも一つと、酸化ビス
マスを基にした、とりわけ厚さが５〜３５ｎｍ、好まし
くは１５〜３０ｎｍの層を含む。
化スズを基にした、とりわけ厚さが２〜３５ｎｍ、好ま
しくは５〜３０ｎｍの層を少なくとも一つと、酸化ビス
マスを基にした、とりわけ厚さが５〜３５ｎｍ、好まし
くは１５〜３０ｎｍの層を含む。
【００１９】酸化スズを基にした上記の層は、厚さが５
〜２５ｎｍ、とりわけ５〜１５ｎｍのものが特に選ばれ
る。同じことが酸化ビスマスを基にした層について言え
る。
〜２５ｎｍ、とりわけ５〜１５ｎｍのものが特に選ばれ
る。同じことが酸化ビスマスを基にした層について言え
る。
【００２０】「上方」コーティングの場合、本発明は二
つの態様を提案する。すなわち、酸化ビスマス層が酸化
スズ層の上にあるか、あるいはそれは酸化ビスマス層の
上にある酸化スズ層である。
つの態様を提案する。すなわち、酸化ビスマス層が酸化
スズ層の上にあるか、あるいはそれは酸化ビスマス層の
上にある酸化スズ層である。
【００２１】「上方」コーティングは、複数の層を有利
に含むことができ、その最後のものは耐久性がより高
い。それはとりわけ酸化チタンを基にした層でよい。そ
の厚さは好ましくは３〜１０ｎｍの間で選ばれる。
に含むことができ、その最後のものは耐久性がより高
い。それはとりわけ酸化チタンを基にした層でよい。そ
の厚さは好ましくは３〜１０ｎｍの間で選ばれる。
【００２２】本発明の対象はまた、そのような積重体で
被覆した基材を少なくとも一つ取り入れた低放射率の断
熱タイプの多重窓ガラスパネルである。それが二重窓ガ
ラスパネルである場合、多重層は好ましくは面３として
及び／又は面２として配置され、一方それが三重窓ガラ
スパネルである場合、それは積重体を面３として又は面
５としてあるいはこれらの面の両方に有するとすること
ができる。（慣用的に、面には、窓ガラスパネルが取り
付けられたとして外側から番号がつけられることが思い
出されよう。）
被覆した基材を少なくとも一つ取り入れた低放射率の断
熱タイプの多重窓ガラスパネルである。それが二重窓ガ
ラスパネルである場合、多重層は好ましくは面３として
及び／又は面２として配置され、一方それが三重窓ガラ
スパネルである場合、それは積重体を面３として又は面
５としてあるいはこれらの面の両方に有するとすること
ができる。（慣用的に、面には、窓ガラスパネルが取り
付けられたとして外側から番号がつけられることが思い
出されよう。）
【００２３】本発明はまた、そのような多重層で被覆さ
れた基材を少なくとも一つ取り入れた積層窓ガラスパネ
ルにも関する。それらは、日射遮蔽窓ガラスとして有利
に使用することができ、そして特に、それらの光透過率
が高いことを条件に、自動車に取り付けるのに有用であ
る。銀タイプの、赤外領域での特性を有する層に電流導
線を配線することにより、それらを加熱窓ガラスとして
使用することも可能である。これは、放射率が小さいそ
のような層はまた導電率が高いためである。
れた基材を少なくとも一つ取り入れた積層窓ガラスパネ
ルにも関する。それらは、日射遮蔽窓ガラスとして有利
に使用することができ、そして特に、それらの光透過率
が高いことを条件に、自動車に取り付けるのに有用であ
る。銀タイプの、赤外領域での特性を有する層に電流導
線を配線することにより、それらを加熱窓ガラスとして
使用することも可能である。これは、放射率が小さいそ
のような層はまた導電率が高いためである。
【００２４】本発明による基材の用途は、それらが断熱
多重窓ガラスパネルの製造と積層窓ガラスパネルの製造
の両方に使用することができるため、このように非常に
様々である。
多重窓ガラスパネルの製造と積層窓ガラスパネルの製造
の両方に使用することができるため、このように非常に
様々である。
【００２５】例えば、放射率が０．０５に等しいかそれ
未満であり、とりわけ０．０４５未満であるが、それに
もかかわらず光の透過率が非常に高いままであり、実際
に７５％に等しいかそれより高くなることができる二重
窓ガラスパネルを製造することが可能である。これらの
二重窓ガラスパネルはまた、およそ１．１Ｗ／ｍ2 ・Ｋ
の熱伝導率Ｋ及び／又はおよそ５８〜６０％の係数Ｇを
有することもできる。
未満であり、とりわけ０．０４５未満であるが、それに
もかかわらず光の透過率が非常に高いままであり、実際
に７５％に等しいかそれより高くなることができる二重
窓ガラスパネルを製造することが可能である。これらの
二重窓ガラスパネルはまた、およそ１．１Ｗ／ｍ2 ・Ｋ
の熱伝導率Ｋ及び／又はおよそ５８〜６０％の係数Ｇを
有することもできる。
【００２６】本発明はまた、一つだけでなくいくつかの
機能性層を有する、例えば誘電材料を基にした三つのコ
ーティングの間に挟まれた二つの機能性層を有する基材
に対して有利に適用することもできることは言うまでも
ない。この場合には、機能性層のうちの少なくとも一方
に本発明による「下方」コーティングを設ける。銀層の
厚さとこれらの銀層の各面の誘電性コーティングの全体
の厚さは、有利には、ヨーロッパ特許出願公開第０６３
８５２８号明細書で推奨されている範囲内で選ぶことが
できる。
機能性層を有する、例えば誘電材料を基にした三つのコ
ーティングの間に挟まれた二つの機能性層を有する基材
に対して有利に適用することもできることは言うまでも
ない。この場合には、機能性層のうちの少なくとも一方
に本発明による「下方」コーティングを設ける。銀層の
厚さとこれらの銀層の各面の誘電性コーティングの全体
の厚さは、有利には、ヨーロッパ特許出願公開第０６３
８５２８号明細書で推奨されている範囲内で選ぶことが
できる。
【００２７】（この出願の用語法によれば、基材に一番
近い銀層上の「上方」コーティングは、実際のところ、
二つの銀層を分離する誘電性コーティングになる。）
近い銀層上の「上方」コーティングは、実際のところ、
二つの銀層を分離する誘電性コーティングになる。）
【００２８】次に、本発明による積重体の構造に関して
より詳しく説明する。
より詳しく説明する。
【００２９】好ましい態様によれば、本発明による積重
体の構造は、下方コーティングの金属酸化物の二つの層
が厚さ１５〜２５ｎｍの酸化ビスマス層と、銀層に隣接
した厚さ１６〜２２ｎｍの酸化亜鉛層からなること、そ
して上方コーティングの金属酸化物の二つの層が厚さ５
〜３０ｎｍ、好ましくは５〜２５ｎｍの酸化スズ層と、
厚さ１５〜３０ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍの酸化
ビスマス層とからなることを特徴とする。
体の構造は、下方コーティングの金属酸化物の二つの層
が厚さ１５〜２５ｎｍの酸化ビスマス層と、銀層に隣接
した厚さ１６〜２２ｎｍの酸化亜鉛層からなること、そ
して上方コーティングの金属酸化物の二つの層が厚さ５
〜３０ｎｍ、好ましくは５〜２５ｎｍの酸化スズ層と、
厚さ１５〜３０ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍの酸化
ビスマス層とからなることを特徴とする。
【００３０】酸化ビスマス層は、必ずしも純粋な酸化ビ
スマスからなる必要はない。それらは、場合により、少
量の他の金属酸化物又は金属化合物を、これらの層の光
学的特性、特に屈折率が結果として実質的に変更されな
いことを条件に、含有してもよい。同じことが、誘電材
料のコーティングのこのほかの全ての層について、とり
わけＺｎＯを基にする層について言える。
スマスからなる必要はない。それらは、場合により、少
量の他の金属酸化物又は金属化合物を、これらの層の光
学的特性、特に屈折率が結果として実質的に変更されな
いことを条件に、含有してもよい。同じことが、誘電材
料のコーティングのこのほかの全ての層について、とり
わけＺｎＯを基にする層について言える。
【００３１】実際、驚くべきことに、結果として化学的
耐性を低下させ、そして銀層の下の酸化亜鉛層の厚さを
増加させる場合に予期された銀層が物理的に弱くなるこ
とに関連する欠点は、多重層が本発明による構造を有す
る場合には予想に反して具体的に現れないということが
分かった。詳しく言えば、厚さが１５ｎｍより厚い酸化
亜鉛層において起こる酸化亜鉛層の結晶成長は、銀層の
放射率にとって最終的に非常に有利であることが分かっ
た。実際に、少なくとも部分的に結晶性の酸化亜鉛層の
おかげで、その後でスパッタリングされる銀も実質的に
結晶状態で成長するようである。銀層の結晶構造は電荷
キャリヤの移動度を上昇させ、こうして放射率εを更に
低下させる。と言うのは、放射率εは次の数式
耐性を低下させ、そして銀層の下の酸化亜鉛層の厚さを
増加させる場合に予期された銀層が物理的に弱くなるこ
とに関連する欠点は、多重層が本発明による構造を有す
る場合には予想に反して具体的に現れないということが
分かった。詳しく言えば、厚さが１５ｎｍより厚い酸化
亜鉛層において起こる酸化亜鉛層の結晶成長は、銀層の
放射率にとって最終的に非常に有利であることが分かっ
た。実際に、少なくとも部分的に結晶性の酸化亜鉛層の
おかげで、その後でスパッタリングされる銀も実質的に
結晶状態で成長するようである。銀層の結晶構造は電荷
キャリヤの移動度を上昇させ、こうして放射率εを更に
低下させる。と言うのは、放射率εは次の数式
【００３２】
【数１】
【００３３】に従って、銀層の電子の移動度μに反比例
するからである。この式のｅは素電荷に相当する定数で
あり、ｎは電荷キャリヤの密度であり、μは電荷キャリ
ヤの移動度であり、ｄは銀層の厚さである。
するからである。この式のｅは素電荷に相当する定数で
あり、ｎは電荷キャリヤの密度であり、μは電荷キャリ
ヤの移動度であり、ｄは銀層の厚さである。
【００３４】同時に、高屈折率の酸化ビスマス層を酸化
亜鉛から作られた低屈折率の層と組み合わせる「下方」
コーティングを使用することにより、積重体は、製造公
差の範囲内で層の厚さが少し変動しても変わらない非常
に中性の透過の色と非常に中性の反射の色を基材の全体
に与えると規定することが可能である。この中立性は、
「上方」コーティングとして、酸化ビスマス層とＳｎＯ
2 タイプの屈折率がより低い層との組み合わせも使用す
る場合になお一層著しい。
亜鉛から作られた低屈折率の層と組み合わせる「下方」
コーティングを使用することにより、積重体は、製造公
差の範囲内で層の厚さが少し変動しても変わらない非常
に中性の透過の色と非常に中性の反射の色を基材の全体
に与えると規定することが可能である。この中立性は、
「上方」コーティングとして、酸化ビスマス層とＳｎＯ
2 タイプの屈折率がより低い層との組み合わせも使用す
る場合になお一層著しい。
【００３５】最後に、本発明による多層構造は、機能性
層の両側で酸化ビスマスを基にした層を使用する好まし
い態様によれば、屈折率が高い材料のこの層のおかげ
で、厚さが１２ｎｍ以上の銀層が適用される場合におい
ても、銀層の上下において、銀層に最適な中性色（無彩
色）の効果を及ぼし、このことからできるだけ低い放射
率を得るのに都合がよくなるという追加の利点をもたら
し、こうして、測色目標値を被覆された基材の熱的性能
特性に関連したものと一致させることが可能である。
層の両側で酸化ビスマスを基にした層を使用する好まし
い態様によれば、屈折率が高い材料のこの層のおかげ
で、厚さが１２ｎｍ以上の銀層が適用される場合におい
ても、銀層の上下において、銀層に最適な中性色（無彩
色）の効果を及ぼし、このことからできるだけ低い放射
率を得るのに都合がよくなるという追加の利点をもたら
し、こうして、測色目標値を被覆された基材の熱的性能
特性に関連したものと一致させることが可能である。
【００３６】既に明らかにされたように、屈折率の高い
酸化ビスマス層は、「上方」コーティングにおいて、犠
牲層と酸化スズ層との間かあるいは酸化スズ層の上に、
配置することができる。可能性のあるこれらの配置の両
方とも、両方の場合において所望の方向の多層積重体の
性質を向上させるため活用することができる特別な利点
を提供することが分かった。こうして、例えば、酸化ビ
スマス層が銀層に隣接している場合により大きくなる効
果が係数Ｇに及ぼされるのに対し、酸化スズ層を上層と
して配置すると多層積重体の化学的耐性が特に高くな
る、と述べることができる。
酸化ビスマス層は、「上方」コーティングにおいて、犠
牲層と酸化スズ層との間かあるいは酸化スズ層の上に、
配置することができる。可能性のあるこれらの配置の両
方とも、両方の場合において所望の方向の多層積重体の
性質を向上させるため活用することができる特別な利点
を提供することが分かった。こうして、例えば、酸化ビ
スマス層が銀層に隣接している場合により大きくなる効
果が係数Ｇに及ぼされるのに対し、酸化スズ層を上層と
して配置すると多層積重体の化学的耐性が特に高くな
る、と述べることができる。
【００３７】更に、酸化スズ層の上に酸化ビスマス層を
配置することにより、酸化ビスマス層及び銀層間の可能
性のある交換によって銀の酸化の危険が低下し、そのた
めこの場合には、金属の犠牲層をより薄くなるように選
ぶことができるという利点がもたらされる。その上に、
既知の「ソラリゼーション（ｓｏｌａｒｉｚａｔｉｏ
ｎ）」効果を避けるため取られる対策を省くことができ
る。「ソラリゼーション」とは、紫外線の影響により銀
層が黒くなることを意味し、これは酸化ビスマス層が銀
層と隣合っている場合に現れることがある。
配置することにより、酸化ビスマス層及び銀層間の可能
性のある交換によって銀の酸化の危険が低下し、そのた
めこの場合には、金属の犠牲層をより薄くなるように選
ぶことができるという利点がもたらされる。その上に、
既知の「ソラリゼーション（ｓｏｌａｒｉｚａｔｉｏ
ｎ）」効果を避けるため取られる対策を省くことができ
る。「ソラリゼーション」とは、紫外線の影響により銀
層が黒くなることを意味し、これは酸化ビスマス層が銀
層と隣合っている場合に現れることがある。
【００３８】原則として、金属の犠牲層としては、銀に
対するよりも酸素に対する親和性の方が高い、この目的
のために普通に使用されている既知の金属を使用するこ
とが可能であり、これらの金属は金属の形態であるいは
亜酸化物として銀層の上に成長（堆積）させられる。厚
さが１〜３ｎｍのニッケル−クロムの層が特に有効であ
ることが分かった。
対するよりも酸素に対する親和性の方が高い、この目的
のために普通に使用されている既知の金属を使用するこ
とが可能であり、これらの金属は金属の形態であるいは
亜酸化物として銀層の上に成長（堆積）させられる。厚
さが１〜３ｎｍのニッケル−クロムの層が特に有効であ
ることが分かった。
【００３９】基本的に、多層積重体を基材へ適用する方
法は、本発明による多層系の光学的性質を決定するのに
いかなる役割も演じることがない。とは言え、下記に示
す例においては、層は例外なくスパッタリング法を使用
して成長させ、そして全体を通して、最良の結果は工業
的条件下でこの方法を用いることで得られるように見え
る。
法は、本発明による多層系の光学的性質を決定するのに
いかなる役割も演じることがない。とは言え、下記に示
す例においては、層は例外なくスパッタリング法を使用
して成長させ、そして全体を通して、最良の結果は工業
的条件下でこの方法を用いることで得られるように見え
る。
【００４０】
【実施例】本発明による多層積重体の好ましい態様の例
を以下に示す。
を以下に示す。
【００４１】〔実施例１〕 ガラス Ｂｉ2 Ｏ3 ２０ｎｍ ＺｎＯ １６ｎｍ Ａｇ １２ｎｍ ＮｉＣｒ（６０／４０） ２ｎｍ ＳｎＯ2 １２ｎｍ Ｂｉ2 Ｏ3 ２０ｎｍ
【００４２】この多層系を、磁場に支援されるスパッタ
リングを使用して連続式のコーティング工場で製造す
る。これらの酸化物層は金属ターゲットを使って、既知
のやり方でもって、すなわち酸素を含有するアルゴン雰
囲気中で反応スパッタリングさせる。金属の銀層のスパ
ッタリングは水素を５体積％添加したアルゴン雰囲気で
行い、金属の犠牲層のスパッタリングは純粋アルゴン中
で行う。ガラス板は、厚さ４ｍｍの透明なソーダ−石灰
ケイ酸塩フロートガラスである。
リングを使用して連続式のコーティング工場で製造す
る。これらの酸化物層は金属ターゲットを使って、既知
のやり方でもって、すなわち酸素を含有するアルゴン雰
囲気中で反応スパッタリングさせる。金属の銀層のスパ
ッタリングは水素を５体積％添加したアルゴン雰囲気で
行い、金属の犠牲層のスパッタリングは純粋アルゴン中
で行う。ガラス板は、厚さ４ｍｍの透明なソーダ−石灰
ケイ酸塩フロートガラスである。
【００４３】こうして被覆したガラス板は、ε（放射
率）が０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光の
透過率が７７％であるという光学的特性を有する。
率）が０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光の
透過率が７７％であるという光学的特性を有する。
【００４４】このように被覆した２枚のガラス板からな
り且つ１６ｍｍの中間のガス空間を含み、この中間のガ
ス空間にアルゴンが満たされていて、そして被覆された
ガラス表面が内側のガス空間の方に向いている断熱用窓
ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ ６７５０７による係
数Ｇが５８％であり、そして標準規格ＤＩＮ ５２６１
２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ2 ・Ｋである。
り且つ１６ｍｍの中間のガス空間を含み、この中間のガ
ス空間にアルゴンが満たされていて、そして被覆された
ガラス表面が内側のガス空間の方に向いている断熱用窓
ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ ６７５０７による係
数Ｇが５８％であり、そして標準規格ＤＩＮ ５２６１
２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ2 ・Ｋである。
【００４５】〔実施例２〕同じタイプの厚さ４ｍｍのフ
ロートガラス板に下記の積重体を被覆した。
ロートガラス板に下記の積重体を被覆した。
【００４６】ガラス Ｂｉ2 Ｏ3 １９ｎｍ ＺｎＯ １８ｎｍ Ａｇ １２ｎｍ ＮｉＣｒ ２ｎｍ ＳｎＯ2 １０ｎｍ Ｂｉ2 Ｏ3 １８ｎｍ ＴｉＯ2 ６ｎｍ
【００４７】この事例において、ＴｉＯ2 の被覆層は多
層積重体のための保護層として働く。ＴｉＯ2 は下にあ
るＢｉ2 Ｏ3 層とほぼ同じ光学的特性を持つので、Ｂｉ
2 Ｏ 3 層の厚さはＴｉＯ2 層の厚さと同じ量だけ減少す
る。こうして、Ｂｉ2 Ｏ3 ／ＴｉＯ2 の連続したものの
光学的厚さは一定のままである（層の光学的厚さはその
幾何学的な厚さとその屈折率との積である）。この多層
積重体の耐蝕性は、二酸化チタンの層によって明らかに
増大する。
層積重体のための保護層として働く。ＴｉＯ2 は下にあ
るＢｉ2 Ｏ3 層とほぼ同じ光学的特性を持つので、Ｂｉ
2 Ｏ 3 層の厚さはＴｉＯ2 層の厚さと同じ量だけ減少す
る。こうして、Ｂｉ2 Ｏ3 ／ＴｉＯ2 の連続したものの
光学的厚さは一定のままである（層の光学的厚さはその
幾何学的な厚さとその屈折率との積である）。この多層
積重体の耐蝕性は、二酸化チタンの層によって明らかに
増大する。
【００４８】この被覆ガラス板は、εが０．０３であ
り、ＤＩＮ ６７５０７による光の透過率が７７％であ
るという光学的特性を有する。
り、ＤＩＮ ６７５０７による光の透過率が７７％であ
るという光学的特性を有する。
【００４９】これらの被覆ガラス板から製作されそして
実施例１におけるのと同じ構造を持ち且つ同じようにア
ルゴンを充填した断熱用窓ガラスパネルは、標準規格Ｄ
ＩＮ６７５０７による係数Ｇが５８％であり、そして標
準規格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ
／ｍ2 ・Ｋである。
実施例１におけるのと同じ構造を持ち且つ同じようにア
ルゴンを充填した断熱用窓ガラスパネルは、標準規格Ｄ
ＩＮ６７５０７による係数Ｇが５８％であり、そして標
準規格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ
／ｍ2 ・Ｋである。
【００５０】〔実施例３〕下記の構造を有する多重層を
厚さが４ｍｍの同じフロートガラスの板に適用する。
厚さが４ｍｍの同じフロートガラスの板に適用する。
【００５１】ガラス Ｂｉ2 Ｏ3 １９ｎｍ ＺｎＯ １６ｎｍ Ａｇ １２ｎｍ ＮｉＣｒ ２ｎｍ Ｂｉ2 Ｏ3 １７ｎｍ ＳｎＯ2 ２５ｎｍ
【００５２】この被覆ガラス板の光学的特性の測定か
ら、εが０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光
の透過率が７７％であるという結果が得られる。
ら、εが０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光
の透過率が７７％であるという結果が得られる。
【００５３】このようにして被覆した２枚のガラス板を
使い、アルゴンを満たして、先の例におけるのと同じよ
うに作った断熱用窓ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ
６７５０７による係数Ｇが６０％であり、そして標準規
格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ
2 ・Ｋである。
使い、アルゴンを満たして、先の例におけるのと同じよ
うに作った断熱用窓ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ
６７５０７による係数Ｇが６０％であり、そして標準規
格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ
2 ・Ｋである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０３Ｃ 17/36 Ｃ０３Ｃ 17/36
Claims (15)
- 【請求項１】 誘電材料を基にした「上方」及び「下
方」の二つのコーティングの間に配置された、赤外領域
での特性及び／又は太陽放射線に関しての特性を持つ
「機能性」層、とりわけ低放射率の金属層を少なくとも
一つ含む薄層の積重体を備えた透明基材、とりわけガラ
ス製の透明基材であって、上記赤外領域での特性を持つ
層の下にある上記「下方」コーティングが、ケイ素又は
金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さが
１６ｎｍに等しいかそれより厚くて上記機能性層と直接
接する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製の
少なくとも二つの異なる層を含むことを特徴とする透明
基材。 - 【請求項２】 前記赤外領域での特性を持つ層が銀を基
礎材料としており、とりわけ厚さが７〜２５ｎｍ、好ま
しくは１０〜１４ｎｍであることを特徴とする、請求項
１記載の基材。 - 【請求項３】 前記「下方」コーティングにおいて前記
酸化亜鉛を基にする層の厚さが１６〜３５ｎｍ、とりわ
け１６〜２５ｎｍ、特におよそ２２ｎｍであることを特
徴とする、請求項１又は２記載の基材。 - 【請求項４】 誘電材料製の前記「下方」コーティング
が前記酸化亜鉛層の下に、酸化ビスマスもしくは酸化ス
ズタイプの金属酸化物を基にした、あるいはＳｉ3 Ｎ4
タイプの窒化ケイ素を基にした、とりわけ厚さが５〜３
５ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍの層を含むことを特
徴とする、請求項１から３までのいずれか一つに記載の
基材。 - 【請求項５】 前記機能性層が、ニオブ、チタン、ス
ズ、タンタルといった金属あるいはニッケル−クロム、
タンタル−クロムもしくはニオブ−クロムといった金属
合金を基にしていてとりわけ厚さが０．５〜６ｎｍ、好
ましくは１〜３ｎｍの犠牲層で覆われていることを特徴
とする、請求項１から４までのいずれか一つに記載の基
材。 - 【請求項６】 前記機能性層より上の誘電材料を基にし
た前記「上方」コーティングが、酸化スズ、酸化亜鉛、
酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タンタル及び酸化ビスマ
スからなる群より選ばれた金属酸化物の薄層を少なくと
も一つ、及び／又は窒化ケイ素の層を含むことを特徴と
する、請求項１から５までのいずれか一つに記載の基
材。 - 【請求項７】 前記「上方」の誘電性コーティングが、
酸化スズを基にし、とりわけ厚さが２〜３５ｎｍ、好ま
しくは５〜３０ｎｍの層を少なくとも一つ、そして酸化
ビスマスを基にし、とりわけ厚さが５〜３５ｎｍ、好ま
しくは１５〜３０ｎｍの層を含むことを特徴とする、請
求項６記載の基材。 - 【請求項８】 誘電材料製の前記「上方」コーティング
の酸化スズを基にした層の厚さが５〜２５ｎｍであり、
とりわけ５〜１５ｎｍであること、当該コーティングの
前記酸化ビスマス層の厚さが５〜１５ｎｍであることを
特徴とする、請求項７記載の基材。 - 【請求項９】 前記酸化ビスマス層が誘電材料製の前記
「上方」コーティングの前記酸化スズ層の上にあること
を特徴とする、請求項７又は８記載の基材。 - 【請求項１０】 前記酸化スズ層が誘電材料製の前記
「上方」コーティングの前記酸化ビスマス層の上にある
ことを特徴とする、請求項７又は８記載の基材。 - 【請求項１１】 前記誘電材料のコーティングが複数の
薄層を含み、それらのうちの最後のものがより高い耐久
性を有し、とりわけ酸化チタンを基礎材料としており、
好ましくは３〜１０ｎｍの厚さであることを特徴とす
る、請求項１から１０までのいずれか一つに記載の基
材。 - 【請求項１２】 二つの「機能性」層を含む薄層の積重
体を備えていることを特徴とする、請求項１から１１ま
でのいずれか一つに記載の基材。 - 【請求項１３】 請求項１から１２までのいずれか一つ
に記載の基材を少なくとも一つ取り入れていることを特
徴とする、低放射率の多重窓ガラスパネル。 - 【請求項１４】 請求項１から１２までのいずれか一つ
に記載の基材を取り入れていて、且つ、放射率が０．０
５に等しいかそれ未満、とりわけ０．０４５未満であ
り、光の透過率ＴL が７５％に等しいかそれより高いこ
とを特徴とする、低放射率の二重窓ガラスパネル。 - 【請求項１５】 請求項１から１２までのいずれか一つ
に記載の基材を取り入れていて、且つ、熱伝導率Ｋがお
よそ１．１Ｗ／ｍ2 ・Ｋ及び／又は係数Ｇがおよそ５８
〜６０％であることを特徴とする、低放射率の二重窓ガ
ラスパネル。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19541937:5 | 1995-11-10 | ||
| DE19541937A DE19541937C1 (de) | 1995-11-10 | 1995-11-10 | Wärmedämmendes Schichtsystem mit niedriger Emissivität, hoher Transmission und neutraler Ansicht in Reflexion und Transmission |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09174751A true JPH09174751A (ja) | 1997-07-08 |
| JP4011656B2 JP4011656B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=7777128
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29876496A Expired - Fee Related JP4011656B2 (ja) | 1995-11-10 | 1996-11-11 | 薄層積重体で被覆した透明基材 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5837361A (ja) |
| EP (2) | EP0773197A1 (ja) |
| JP (1) | JP4011656B2 (ja) |
| DE (1) | DE19541937C1 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| WO2006088108A1 (ja) * | 2005-02-17 | 2006-08-24 | Asahi Glass Company, Limited | 導電性積層体、プラズマディスプレイ用電磁波遮蔽フィルムおよびプラズマディスプレイ用保護板 |
| JP2009528932A (ja) * | 2006-03-06 | 2009-08-13 | サン−ゴバン グラス フランス | 熱特性を有する積層体を含む基材 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2728559B1 (fr) * | 1994-12-23 | 1997-01-31 | Saint Gobain Vitrage | Substrats en verre revetus d'un empilement de couches minces a proprietes de reflexion dans l'infrarouge et/ou dans le domaine du rayonnement solaire |
| JPH10213708A (ja) * | 1997-01-29 | 1998-08-11 | Alps Electric Co Ltd | 光吸収フィルタ |
| DE19726966C1 (de) * | 1997-06-25 | 1999-01-28 | Flachglas Ag | Verfahren zur Herstellung einer transparenten Silberschicht mit hoher spezifischer elektrischer Leitfähigkeit , Glasscheibe mit einem Dünnschichtsystem mit einer solchen Silberschicht und deren Verwendung |
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| HU224415B1 (hu) | 1998-12-18 | 2005-08-29 | č< îáęâá< | Bevonatos üvegtábla, és eljárás annak előállítására |
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| WO2004011382A2 (en) | 2002-07-31 | 2004-02-05 | Cardinal Cg Compagny | Temperable high shading performance coatings |
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