CN116075490A - 设计用于低u值和较高g值的具有ir反射层的涂覆制品及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
一种涂覆制品，该涂覆制品包括低发射率(低‑E)涂层，该涂层具有至少一个诸如银等材料的红外(IR)反射层或包含银等材料的IR反射层。低‑E涂层被设计成使得涂覆制品可实现低U值与高太阳热增益(g值)的组合。在该银上方的该涂层的顶部电介质部分中，提供高‑低‑高折射率序列。这允许对于给定的银厚度获得低U值和较高g值。本文中的涂覆制品可用于绝缘玻璃(IG)窗单元中，或者用于其他合适的应用中，诸如单片式窗应用、层压窗和/或类似应用。
Description
相关专利申请
本申请要求于2020年10月1日提交的美国专利申请号16/948812的优先权，该申请据此全文以引用方式并入本文。
技术领域
本发明涉及一种具有低发射率(低-E)涂层的涂覆制品，该涂层包括诸如银等材料的红外(IR)反射层或包括包含银等材料的IR反射层。设计低-E涂层，使得涂覆制品可实现低U值与高太阳热增益(g值)的组合。已经令人惊讶和出乎意料地发现，在银上方的涂层的顶部电介质部分中提供关于折射率(n)的高-低-高序列允许获得低U值和较高g值(即，允许实现低U值，而不显著牺牲g值)。其他期望的特征包括以下中的一个或多个：高可见光透射率、一致且低的发射率值、在任选的热处理(诸如热回火)时的热稳定性以及期望的着色和/或反射率值。本文中的涂覆制品可用于绝缘玻璃(IG)窗单元中，或者用于其他合适的应用中，诸如单片式窗应用、层压窗和/或类似应用。
背景技术和发明内容
涂覆制品在本领域中已知用于窗应用，诸如绝缘玻璃(IG)窗单元、车窗、单片式窗和/或类似应用。在某些示例性情况下，涂覆制品的设计者通常力图在IG窗单元中实现高可见光透射率、期望的颜色、低发射率(或发射性)、低薄层电阻(Rs)和/或低U值的组合。高可见光透射率和期望的着色可允许涂覆制品用于需要这些特性的应用中，诸如在IG或车窗应用中，而低发射率和低薄层电阻允许此类涂覆制品阻挡大量的IR发射，以便减少例如车辆或建筑物内部的不期望的加热。
低-E涂层通常通过溅射沉积在玻璃基底上。涂层或涂覆制品的发射率和/或薄层电阻值在很大程度上由通常由银等制成的一个或多个IR反射层驱动。
美国专利号10,100,202(其公开内容据此全文以引用方式并入本文)公开了以下低-E涂层，其中列出的厚度以
计：
表1(示例性材料/厚度；美国专利号10,100,202)
通常希望在温和气候和寒冷气候下(诸如在欧洲)实现IG窗单元的低U值。在这方面的传统涂覆制品，诸如上述美国专利号10,100,202的涂覆制品，是单个银叠堆，其中银基层与中/高折射率电介质层一起提供。低U值通常需要较厚的银层(即，可通过加厚银基层来降低U值)，但加厚银则通常导致较高的反射值和较低且较窄的透射窗。这负面地影响太阳热增益(g值)，其是在许多情况下期望同样高的重要参数。换句话说，在常规涂层中，为了降低U值而加厚银通常也导致g值降低，这是不期望的。因此，用于实现较低U值的常规设计在反射颜色和g值上折衷以获得所需的U值和发射率。
鉴于上述情况，应当理解，在本领域中存在对包括低-E涂层的涂覆制品的需求，该低-E涂层被设计成实现低U值和高太阳热增益(g值)的组合。换句话说，在本领域中存在对可以实现低U值而不包括g值的低-E涂层设计的需求。还期望提供还可实现以下中的一个或多个的此类涂层：高可见光透射率、低发射率、在任选的热处理(诸如热回火)时的热稳定性以及期望的着色和/或反射率值。
已经令人惊讶且出乎意料地发现，在银上方的涂层的顶部电介质部分中提供关于折射率(n)的高-低-高序列允许获得低U值和较高g值。换句话说，这允许实现低U值，而不显著牺牲g值。该序列可以包括，例如，包括夹在(直接或间接地)至少第一层和第二层之间的低折射率层，诸如氧化硅(例如SiO2，其可以光学地掺杂有其他材料，诸如Al和/或N)等的层序列，该第一层和第二层各自具有至少2.0、更优选地至少2.10的折射率(n)，并且有时一个或多个具有至少2.20的折射率。示例性高折射率层包含例如氧化钛(例如TiO2)和/或氧化锆(例如ZrO2)。本文中的折射率(n)被认为是在550nm处的。
在本发明的某些示例性实施方案中，提供了一种包括涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元，该涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，该涂层包括依次远离该玻璃基底的以下层：电介质层；包含氧化锌的层；包含银的红外(IR)反射层，该包含银的该IR反射层位于该基底上包含氧化锌的层上方并且直接接触该包含氧化锌的层；以及第一高折射率电介质层，该第一高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，位于该基底上在至少该IR反射层上方；第二高折射率电介质层，该第二高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，位于该基底上在至少该第一高折射率电介质层上方；低折射率电介质层，该低折射率电介质层具有不大于1.70的折射率，位于至少该第一高折射率电介质层与第二高折射率电介质层之间，其中该涂层仅含有一个银基IR反射层，并且其中该IG窗单元具有不大于1.20的U值和至少0.550的g值。
在本发明的示例性实施方案中，提供了一种包括涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元，该涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，该涂层包括依次远离该玻璃基底的以下层：包含氮氧化硅锆的电介质层；包含氧化钛的层；包含氧化锌的层；包含银的红外(IR)反射层，该包含银的IR反射层位于该基底上在该包含氧化锌的层上方并且直接接触该包含氧化锌的层；以及包含金属氧化物的层，该包含金属氧化物的层位于至少包含该银的IR反射层上方；包含钛氧化物的另一层，该包含钛氧化物的另一层位于该基底上在至少该IR反射层上方；包含锆氧化物的层，该包含锆氧化物的层位于该基底上在至少该包含钛氧化物的另一层上方；包含氧化硅的层，该包含氧化硅的层位于至少该包含钛氧化物的另一层与该包含锆氧化物的层之间，其中该涂层仅含有一个银基IR反射层，并且其中该IG窗单元具有不大于1.10的U值和至少0.550的g值。
附图说明
图1为根据本发明的示例性实施方案的涂覆制品的剖视图。
图2为包括根据本发明的示例性实施方案的图1的单片涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元的一部分的剖视图。
具体实施方式
现在参考附图，其中类似的附图标号在若干视图中表示类似的部件。
本文中的涂覆制品可用于应用诸如单片窗、包括单片涂覆制品的IG窗单元、车窗和/或包括单个或多个基底(诸如玻璃基底)的任何其他合适的应用中。
鉴于上述情况，应当理解，在本领域中存在对包括低-E涂层的涂覆制品的需求，该低-E涂层被设计成实现低U值和高太阳热增益(g值)的组合。换句话说，在本领域中存在对可以实现低U值而不包括g值的低-E涂层设计的需求。还期望提供还可实现以下中的一个或多个的此类涂层：高可见光透射率、低发射率、在任选的热处理(诸如热回火)时的热稳定性以及期望的着色和/或反射率值。
已经令人惊讶且出乎意料地发现，在银9上方的涂层25的顶部电介质部分中提供关于折射率(n)的高-低-高序列允许获得低U值和较高g值，并且还提供更中性的颜色外观。换句话说，这允许实现低U值，而不显著牺牲g值。该序列可以包括，例如，包括夹在(直接或间接地)至少第一高折射率层和第二高折射率层(例如，分别为30和16)之间的低折射率层40，诸如氧化硅(例如SiO2，其可以光学地掺杂有其他材料，诸如Al和/或N)等的层序列，该第一高折射率层和第二高折射率层各自具有至少2.0、更优选至少2.10的折射率(n)，并且有时一个或多个具有至少2.20的折射率。示例性高折射率层包含例如氧化钛(例如TiO2)、氧化铌和/或氧化锆(例如ZrO2)。本文中的折射率(n)被认为是在550nm处的。
在本发明的某些示例性实施方案中，还已经发现，在玻璃基底1与IR反射层(例如，银等的反射层)9之间，在涂层25的下部电介质部分中提供氮氧化硅锆2的层或包含氮氧化硅锆的层改善了IR反射层9的质量，从而允许涂覆制品实现具有低公差变化的低发射率值。已经发现，在涂层25的下部电介质部分中，在锡酸锌和/或氧化锌中的一个或多个的层或包含锡酸锌和/或氧化锌中的一个或多个的层(例如，7)的下方提供氮氧化硅锆2可改善银的品质，并因此改善(降低)发射率并降低发射率公差值，如本文所讨论的。即使氮氧化硅锆2不直接接触IR反射层9，其仍改善位于上方的IR反射层9的质量，从而允许以更一致的方式改善并制造涂层的热特性。已经发现IR反射层9生长得更好并且具有更平滑的基部，这可以更容易地在一致的基础上重复。还令人惊讶地发现，在氮氧化硅锆2上方提供钛氧化物(例如TiO2)的或包含钛氧化物的层3导致涂覆制品的可见光透射率增加，并且导致改善的光学特性以及线速度的增加。
如本文所用，术语“热处理(heat treatment)”和“热处理(heat treating)”意指将制品加热到足以实现含玻璃制品的热回火、热弯曲和/或热强化的温度。该定义包括例如在烘箱或炉中在至少约580摄氏度、更优选地在至少约600摄氏度的温度下加热涂覆制品足够的周期以允许回火、弯曲和/或热强化。在某些情况下，HT可持续至少约4分钟或5分钟。在本发明的不同实施方案中，涂覆制品可以进行或可以不进行热处理。
图1是根据本发明的示例性实施方案的涂覆制品的剖视图。涂覆制品包括玻璃基底1(例如，透明、绿色、青铜或蓝绿色玻璃基底，约1.0mm至10.0mm厚，更优选地约1.0mm至6.0mm厚，其中示例性玻璃基底为约3.8mm至4.0mm厚的透明玻璃基底)和直接或间接地设置在基底1上的多层低-E涂层(或层***)25。例如，如图1所示，涂层25包括：氮氧化硅锆的电介质层或包含氮氧化硅锆的电介质层2；氧化钛(例如TiO2)的电介质层或包含氧化钛(例如TiO2)的电介质层3；氧化锌(例如可掺杂有其他材料，诸如Al或Sn)的电介质层或包含氧化锌(例如可掺杂有其他材料，诸如Al或Sn)的电介质层7；银、金等的IR反射层或包含银、金等的IR反射层9；Ni、Cr、NiCr、NiCrMo或其任何氧化物(诸如NiCr的氧化物或NiCrMo的氧化物)的上接触层或包含Ni、Cr、NiCr、NiCrMo或其任何氧化物(诸如NiCr的氧化物或NiCrMo的氧化物)的上接触层11；诸如氧化钛(例如TiO2)或氧化铌的高折射率材料的高折射率电介质层或包含诸如氧化钛(例如TiO2)或氧化铌的高折射率材料的高折射率电介质层30；诸如锡酸锌等的金属氧化物的电介质层或包含诸如锡酸锌等的金属氧化物的电介质层12；诸如可掺杂有其他元素(诸如N和/或Al)的氧化硅(例如SiO2)的低折射率材料的低折射率电介质层或包含诸如可掺杂有其他元素(诸如N和/或Al)的氧化硅(例如SiO2)的低折射率材料的低折射率电介质层40；诸如氮化硅(例如Si3N4)和/或氮氧化硅的材料的电介质层或包含氮化硅(例如Si3N4)和/或氮氧化硅的材料的电介质层15；以及诸如氧化锆(例如ZrO2)的材料的高折射率电介质层或包含诸如氧化锆(例如ZrO2)的材料的高折射率电介质层16，在某些示例性情况下，该高折射率电介质层可以是保护性外涂层。在本发明的某些示例性实施方案中，也可额外地提供其他层和/或材料，并且在某些示例性情况中也可去除或分离某些层。例如，任选地，氮化硅和/或氮氧化硅(未示出)的层或含氮化硅和/或氮氧化硅的层可设置在玻璃基底1与氧氮化硅锆2之间。作为另一示例，在某些示例性实施方案中，氧化锡(例如，SnO2或锡酸锌)的层或包含氧化锡(例如，SnO2或锡酸锌)的层可直接设置在层15和层40之间，或另选地直接设置在层12和层14之间。作为另一示例，在某些示例性实施方案中，氮化硅和/或氮氧化硅的层或包含氮化硅和/或氮氧化硅的层可设置在玻璃基底1与层2之间。作为又一示例，在某些示例性实施方案中，氧化锌(例如，ZnO，任选地掺杂有Al等)的层或包含氧化锌(例如，ZnO，任选地掺杂有Al等)的层可直接设置在层15和层40之间，或另选地直接设置在层12和层14之间。此外，叠堆的下部电介质部分，即叠堆在玻璃1和银基层9之间的部分，可以由例如美国专利号10,100,202中所公开的任何下部电介质叠堆构成。此外，在本发明的某些示例性实施方案中，可用其他材料代替上文所述的材料以用于特定层。
在单片情况下，涂覆制品仅包括一个基底诸如玻璃基底1(参见图1)。然而，例如本文的单片涂覆制品可用于诸如IG窗单元的装置中。通常，如图2所示，IG窗单元可包括两个间隔开的玻璃基底1和22，它们之间限定有间隙4。示例性IG窗单元例如在美国专利号5,770,321、5,800,933、6,524,714、6,541,084和US 2003/0150711中示出和描述，其公开内容在此通过引用并入本文。如图2所示的示例性IG窗单元可包括例如图1所示的涂覆玻璃基底1，该涂覆玻璃基底通过间隔物、密封剂等联接到另一玻璃基底22，它们之间限定有间隙4。在IG单元实施方案中，基底之间的该间隙4在某些情况下可填充有气体，诸如氩气(Ar)或空气与氩气的混合物。示例性IG单元可包括一对间隔开的基本上透明的玻璃基底，其各自为4mm(例如3.8mm)厚，其中一个玻璃基底在某些示例性情况下涂覆有本文中的涂层25，其中基底之间的间隙4可为约5mm至30mm，更优选地约10mm至20mm，并且最优选地约为16mm。在某些示例性情况下，如图2所示，涂层25可设置在内部玻璃基底1的面向间隙的一例上(尽管在某些替代实施方案中涂层可在另一基底上)，该侧通常被称为IG窗单元的表面三。
在本发明的某些示例性IG单元实施方案中，涂层25被设计成使得所得IG单元(例如，出于参考目的，使用被16mm的间隙间隔开的一对3.8mm的透明玻璃基底1、22，该间隙被空气和Ar气体的混合物填充)具有不大于1.4W/(m2K)，更优选地不大于1.3W/(m2K)，有时不大于1.1W/(m2K)，并且有时不大于1.0W/(m2K)的U值。如上所述，可以通过增加银基IR反射层9的厚度来降低U值。然而，该涂层被设计成使得增加IR反射层9的厚度不会损害g值。本文的U值根据EN410-6732011-Winter来测量和参考，其公开内容据此以引用方式并入本文。实际上，优选的是，相对于双层或三层银层叠堆，当涂层25仅含有一个银基IR反射层(例如，如图1所示)时，本文所讨论的光学特征和热特征得以实现。在本发明的某些示例性IG单元实施方案中，涂层25被设计成使得所得IG具有至少0.550、更优选地至少0.570的g值。
已经发现氮氧化硅锆层2中的氮/氧比率在某些情况下是显著的。氮氧化硅锆层2中过多的氧导致溅射率降低，并且似乎不会有助于降低吸收率或增加透射率。已经发现该层2中过多的氧可导致不期望的雾度。因此，在本发明的某些示例性实施方案中，氮氧化硅锆的层或包含氮氧化硅锆的层2的氮氧比率(氮/氧比率)为至少3，更优选地为至少4，并且甚至更优选地为至少5(原子)。因此，层2包含的N比O多至少三倍，更优选地N比O多至少四倍，并且最优选地N比O多至少五倍。例如，在本发明的某些示例性实施方案中，使用ZrSi靶对层2，使用约0.4ml/kW至2.0ml/kW，更优选地约0.5ml/kW至1.5ml/kW，并且最优选地约0.8ml/kW至1.0ml/kW的O2气体，和约4.0ml/kW至10.0ml/kW，更优选地约5.0ml/kW至8.0ml/kW，并且最优选地约6.0ml/kW至7.0ml/kW的N2气体进行溅射沉积。氩(Ar)气也可用在溅射工艺中。
此外，还已经发现，在氮氧化硅锆层2中，过多的Zr导致不期望的脆性材料，而过少的Zr导致银层9不那么平滑并降低涂层质量。已发现，当层2含有比Zr更多的Si(原子％)时，在这些方面实现了更好的结果。例如，层2中(以及用于沉积层2的溅射靶中)的Zr/Si(原子)比率优选地为从0.20至0.60，更优选地为从0.30至0.47，并且最优选地为从0.35至0.44。例如，含有约40％的Zr和约60％的Si的一个或多个溅射靶可用于溅射沉积层2。
在本发明的某些示例性实施方案中，电介质层3可为钛氧化物或包含钛氧化物。在某些示例性情况下，层3(和层30)的钛氧化物可由TiOx表示，其中x为1.5至2.5，最优选地为约2.0。在不同的实施方案中，钛氧化物层3和/或层30可经由溅射等沉积。层3和层30在550nm处可具有至少2.0，更优选地至少2.1的折射率(n)，并且当该层为氧化钛或包含氧化钛时，可能为约2.3至2.6。在本发明的某些实施方案中，对包含钛氧化物的层3的厚度进行控制，从而允许a*和/或b*颜色值(例如，透射、膜侧反射和/或玻璃侧反射)相当中立(即接近零)和/或是期望的。在某些示例性情况下，可以除了钛氧化物之外额外使用其他材料或用其他材料代替钛氧化物。在某些另选的实施方案中，可用另一种金属替换氧化物层3中的Ti。
在某些实施方案中，层7包含氧化锌(例如ZnO)。这些层的氧化锌还可含有其他材料诸如Al(例如，以形成ZnAlOx)。例如，在本发明的某些示例性实施方案中，氧化锌层中的一个或多个氧化锌层可掺杂有约1％至10％的Al，更优选地约1％至5％的Al，并且最优选地约1％至4％的Al。
在某些示例性实施方案中，可在图1实施方案中的层3和层7之间提供氧化锡或锡酸锌的层或包含氧化锡或锡酸锌的层(例如，ZnSnOx)并使其与之接触。该层(图1中未示出)可与本文所述的层12基本相同。
在本发明的某些实施方案中，电介质层15可为氮化硅或包含氮化硅。此外，氮化硅层15可改善涂覆制品的热处理性，例如，诸如热回火等，并且可包含或可不包含一些氧。在本发明的不同实施方案中，层15的氮化硅可为化学计量类型(即，Si3N4)，或另选地为富Si类型。
红外(IR)反射层9优选地基本上或完全是金属和/或导电的，并且可包含银(Ag)、金或任何其他合适的IR反射材料或基本上由其组成。IR反射层9有助于允许涂层具有低-E和/或良好的太阳能控制特性。然而，在本发明的某些实施方案中，IR反射层可被略微氧化，并且可任选地掺杂有其他材料诸如Pd等。在本发明的优选实施方案中，涂层25优选地仅包含一个银基IR反射层9。
在本发明的某些示例性实施方案中，上接触层11可为或包含氧化镍(Ni)、氧化铬(Cr)、或镍合金氧化物(诸如镍铬氧化物(NiCrOx))或其他合适的材料(诸如Ni、Ti或Ti的氧化物或NiTiOx)。在这些层中使用例如NiCrOx允许改善耐久性。在本发明的某些实施方案中，这些层的NiCrOx可被完全氧化(即，完全化学计量)，或者另选地可仅被部分氧化(即，亚氧化物)。在某些情况下，NiCrOx层11可被至少约50％氧化。可任选使用的各种类型的氧化分级的接触层的描述在美国专利号6，576，349中有所描述，该专利的公开内容据此以引用方式并入本文。在本发明的不同实施方案中，在整个下面的IR反射层9上，接触层11可以是连续的，也可以不是连续的。
如本文所讨论的，已经令人惊讶且出乎意料地发现，在银9上方的涂层25的顶部电介质部分中提供关于折射率(n)的高-低-高序列允许获得低U值和较高g值，并且还提供更中性的颜色外观。在图1中，该高-低-高序列彼此不直接接触，并且包括夹在(直接或间接地)至少第一高折射率层和第二高折射率层(例如，分别为30和16)之间的低折射率层40，诸如氧化硅(例如SiO2，其可以光学地掺杂有其他材料，诸如Al和/或N)等的层序列，该第一高折射率层和第二高折射率层各自具有至少2.0、更优选地至少2.10的折射率(n)，并且有时一个或多个具有至少2.20的折射率。示例性高折射率层包含例如氧化钛(例如TiO2)、氧化铌和/或氧化锆(例如ZrO2)。本文中的折射率(n)被认为是在550nm处的。
低折射率电介质层40(例如，氧化硅，诸如SiO2)优选地具有不大于1.75，更优选地不大于1.70，甚至更优选地不大于1.60，并且最优选地不大于1.55的折射率(n)。在某些示例性实施方案中，层40的氧化硅可掺杂有其他材料，诸如Al和/或N。
高折射率电介质层30(例如氧化钛，如TiO2)优选地具有至少2.0，更优选地至少2.10，并且最优选地至少2.20，或至少2.25的折射率(n)。示例性高折射率层包含例如氧化钛(例如TiO2)、氧化铌和/或氧化锆(例如ZrO2)。本文中的折射率(n)被认为是在550nm处的。虽然图1示出了位于高折射率层30和低折射率层40之间的层12，但在某些示例性实施方案中，可省略层12，使得高折射率层30可以直接接触低折射率层40。
高折射率电介质层16(例如氧化锆，诸如ZrO2)优选地具有至少2.0，更优选地至少2.10，并且最优选地至少2.20的折射率(n)。在此情况的某些示例性实施方案中，此层可掺杂有其他元素，或可由另一高折射率材料取代。
还可提供所示涂层下方或上方的一个或多个其它层。因此，当层***或涂层“在基底1上”或“由基底1支撑”(直接或间接)时，一个或多个其他层可设置在其间。因此，例如，即使在层2和基底1之间设置其他层，图1的涂层也可以被认为是“在基底1上”和“由基底1支撑”。此外，在某些实施方案中可移除所示涂层的某些层，而在本发明的其他实施方案中，可以在各个层之间添加其他层，或者一个或多个各个层可与在分离段之间添加的一个或多个其他层分开而不脱离本发明某些实施方案的整体实质。
虽然在本发明的不同实施方案中可使用各种厚度，但是图1实施方案中的玻璃基底1上的各个层的示例性厚度和材料从玻璃基底1向外为如下(例如，在某些示例性情况下，氧化锌层7中的Al含量可为约1％至10％，更优选地约1％至3％)：
表2(示例性材料/厚度；图1实施方案)
在本发明的某些示例性实施方案中，当单片地测量或在IG窗单元中测量时，根据图1实施方案或本文中的其他实施方案的涂覆制品可具有表3中示出的以下特性，并且这些值是指经热处理的实施方案和未经热处理的实施方案两者。注意，En为法向发射率/发射性。
表3：低-E/太阳能特性(HT或非HT)
此外，如下表4所示，包括根据图1和/或本文中的其他实施方案的涂层的涂覆制品可具有以下光学/颜色/热稳定性特性(例如，当将涂层设置在1mm至10mm厚，优选地约4mm厚诸如3.8mm厚的透明碱石灰二氧化硅玻璃基底1上时)。在表4中，所有参数均是单片测量的。注意，“f”代表膜侧，而“g”代表玻璃侧。因此，RfY为膜侧反射率，其为从涂覆基底的膜侧测量的可见光反射率。而RaY为玻璃侧反射率，其为从涂覆基底的玻璃侧测量的可见光反射率。当将涂层25设置在IG窗单元的表面三上时，由于膜侧反射率和膜侧反射色值a*f和b*f指示建筑物的外部将如何显现，因此这两个数值被通常认为是最重要的。需注意，ΔE*是指示热稳定性的值，特别是光学特性在热处理(HT)时改变的程度。AE*值越低，HT(例如，热回火)时适用的a*、b*和L*值变化越小。本文所讨论的涂层的低ΔE*值表明每个涂层的HT和非HT型式在着色方面基本上匹配。需注意，用于确定ΔE*的公式在本领域中是已知的并且在例如美国专利8,263,227中有所描述，该专利的公开内容据此以引用方式并入本文。已经令人惊奇地发现，下部电介质叠堆中锡酸锌、氧化锌和氮氧化硅锆的组合以期望的方式降低了ΔE*值，使得涂层更加热稳定。
表4：示例性光学特性(单片、HT或非HT)
此外，在某些示例性实施方案中，当在IG窗单元中提供涂覆制品时，包括根据图1和/或本文中的其他实施方案的涂层的涂覆制品可具有以下光学特性(参见下表5)。这些测量是关于，例如并且为了参考的目的，在IG窗单元中提供涂层25，其中玻璃基底1、22都是约3.8mm至4.0mm厚的碱石灰二氧化硅玻璃基底，涂层25位于IG单元的表面三上，如图2所示，并且当基底之间的间隙为约16mm厚并且填充有空气和氩气的混合物时。注意，根据EN 410-673_2011-Winter测量并参考U值。
表5：示例性光学特性(IG单元；HT或非HT)
实施例
提供比较例(CE)1和实施例1-2仅用于举例的目的，并非旨在进行限制。这些是经由溅射制成的，从透明玻璃基底1向外具有如下所述的层。它们是单片测量的。如图2所示，它们也被放入IG窗单元中。通过在包含氩气和氮气的气氛中溅射硅靶(掺杂有约8％Al)来沉积硅氮化物层。下面表6中每层的层厚度以埃
为单位。
表6：实施例1-2的层叠堆
将比较例1(CE1)与实施例2进行比较，因为它们具有类似的银层厚度，因此通常认为该结果具有类似的U值。相对于实施例2，比较例1省略层2，用SnO2层代替层12、40，并且具有以下层厚度：层3为
障，层7为
厚，Ag层9为
厚，层11为
厚，层30为
厚，SnO2层为
厚，层15为
厚，并且层16为
厚。
实施例1-2和比较例1具有以下特性(退火的和非HT，单片)(I11.C，2度观测器)。
表7：单片、退火(在回火之前)
然后如图2所示将涂覆制品放入表面三上的IG窗单元中，并且IG窗单元具有以下特性(I11.C，2度观测器)。在所有的IG窗单元中，为了参考的目的，玻璃基底1和22是透明的并且为4mm厚，并且IG窗单元中的空气间隙为16mm厚并且填充有空气和氩气的混合物。
表8：IG窗单元
将比较例1与实施例2比较，因为比较例1和实施例2具有基本上相同厚度的银层；即约
因此约相同的U值。具体地，比较例1和实施例2都具有1.088的良好的低U值。然而，与实施例2相比，比较例1具有低得多的g值和更少的中性着色。可以看出，通过将低折射率SiO2层40添加到实施例2中的电介质外涂层中，可以通过加厚银来改善U值，但令人惊奇且出乎意料的是，没有牺牲中性颜色和/或g值。换句话说，实现了实施例2的低U值与中性颜色和高g值的组合-这在比较例1中是不可能的，比较例1具有0.534的较低g值和由来自膜侧和玻璃侧两者的较高a*和b*值证明的较少中性颜色。这表明，特别是对于诸如实施例2的厚银层，使用新的顶部电介质结构的优点是非常有益的，因为它允许高g值和中性着色。这在实施例1中也是有利的。将实施例2中的光谱透射和反射数据与比较例1的光谱透射和反射数据进行比较也可以看出这种差异。实施例2中的g值的增益可主要归因于可见光谱范围内的较低反射和较高透射，这可在上表中看出。因此，已经令人惊讶且出乎意料地发现，在银9上方的涂层25的顶部电介质部分中提供关于折射率(n)的高-低-高序列允许获得低U值和较高g值，并且还提供更中性的颜色外观。
在本发明的某些示例性实施方案中，提供了一种包括涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元，该涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，该涂层包括依次远离该玻璃基底的以下层：电介质层；包含氧化锌的层；包含银的红外(IR)反射层，该包含银的IR反射层位于该基底上在包含该氧化锌的层上方并且直接接触该包含氧化锌的层；以及第一高折射率电介质层，该第一高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，位于该基底上在至少该IR反射层上方；第二高折射率电介质层，该第二高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，位于该基底上在至少该第一高折射率电介质层上方；低折射率电介质层，该低折射率电介质层具有不大于1.70的折射率，位于至少该第一高折射率电介质层与第二高折射率电介质层之间，其中该涂层仅含有一个银基IR反射层，其中该涂层具有不大于7％的法向发射率(En)，并且其中该IG窗单元具有不大于1.20的U值和至少0.550的g值。
在前一段落所述的IG窗单元中，第一高折射率层可以是或包含钛氧化物(例如，TiO2)。
在前述两个段落中任一段所述的IG窗单元中，第二高折射率层可以是或包含锆氧化物(例如，ZrO2)。
在前述三个段落中任一段所述的IG窗单元中，低折射率层可以是或包含硅氧化物(例如，SiO2)。
在前述四个段落中任一段所述的IG窗单元中，包含银的IR反射层可以为至少
厚，更优选地为至少
厚。
在前述五个段落中任一段所述的IG窗单元中，该IG窗单元可具有至少0.570的U值。
根据前述六个段落中任一段所述的IG窗单元，还可包括包含锡酸锌的层，该包含锡酸锌的层位于至少低折射率层与第一高折射率层之间。
在前述七个段落中任一段所述的IG窗单元中，第一高折射率层和第二高折射率层中的至少一个可具有至少2.20的折射率。
在本发明的示例性实施方案中，提供了一种包括涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元，该涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，该涂层包括依次远离该玻璃基底的以下层：包含氮氧化硅锆的电介质层；包含氧化钛的层；包含氧化锌的层；包含银的红外(IR)反射层，该包含银的IR反射层位于该基底上该包含氧化锌的层上方并且直接接触该包含氧化锌的层；以及包含金属氧化物的层，该包含金属氧化物的层位于至少该包含银的IR反射层上方；包含钛氧化物的另一层，该包含钛氧化物的另一层位于该基底上在至少该IR反射层上方；包含锆氧化物的层，该包含锆氧化物的层位于该基底上在至少包含该钛氧化物的另一层上方；包含氧化硅的层，该包含氧化硅的层位于至少该包含钛氧化物的另一层与该包含锆氧化物的层之间，其中该涂层仅含有一个银基IR反射层，并且其中该IG窗单元具有不大于1.10的U值和至少0.550的g值。
根据前一段落所述的IG窗单元，还可包括位于玻璃基底与包含氮氧化硅锆的层之间的包含氮化硅的层。
在前述两个段落中任一段所述的IG窗单元中，包含银的IR反射层可以为至少
厚，更优选地为至少
厚。
在前述三个段落中任一段所述的IG窗单元中，该IG窗单元可具有至少0.570的U值。
根据前述四个段落中任一段所述的IG窗单元，还可包括包含锡酸锌的层，该包含锡酸锌的层位于至少包含氧化硅的层与包含钛氧化物的另一层之间。
根据前述五个段落中任一段所述IG窗单元，还可包括包含氮化硅的层，该包含氮化硅的层位于至少包含氧化硅的层与包含锆氧化物的层之间。
在前述六个段落中任一段所述的IG窗单元中，该IG窗单元可具有-2.0至+2.0的外部反射a*值。
在前述七个段落中任一段所述的IG窗单元中，该IG窗单元可具有-5.0至+4.0的外部反射b*值。
在前述八个段落中任一段所述的IG窗单元中，涂层可位于IG窗单元的表面三上。
根据前述九个段落中任一段所述的IG窗单元可具有至少70％的可见光透射率。
虽然已经结合目前被认为是最实用和优选的实施方案描述了本发明，但应当理解，本发明不限于所公开的实施方案，而是相反，旨在涵盖包括在所附权利要求的实质和范围内的各种修改和等同布置。
Claims (25)
1.一种包括涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元，所述涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，所述涂层包括依次远离所述玻璃基底的以下层：
包含氮氧化硅锆的电介质层；
包含氧化钛的层；
包含氧化锌的层；
包含银的红外(IR)反射层，所述包含银的IR反射层在所述基底上位于所述包含氧化锌的层上方并且直接接触所述包含氧化锌的层；以及
包含金属氧化物的层，所述包含金属氧化物的层位于至少所述包含银的IR反射层上方；
包含钛氧化物的另一层，所述包含钛氧化物的另一层在所述基底上位于至少所述IR反射层上方；
包含锆氧化物的层，所述包含锆氧化物的层在所述基底上位于至少所述包含钛氧化物的另一层上方；
包含氧化硅的层，所述包含氧化硅的层位于至少所述包含钛氧化物的另一层与所述包含锆氧化物的层之间，
其中所述涂层仅含有一个银基IR反射层，
其中所述涂层具有不大于7％的法向发射率(En)，并且
其中所述IG窗单元具有不大于1.10的U值和至少0.550的g值。
2.根据权利要求1所述的IG窗单元，所述IG窗单元还包括位于所述玻璃基底与所述包含氮氧化硅锆的层之间的包含氮化硅的层。
3.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述包含银的IR反射层为至吵
厚。
4.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述包含银的IR反射层为至吵
厚。
5.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述IG窗单元具有至少0.570的U值。
6.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，所述IG窗单元还包括位于至少所述包含氧化硅的层与所述包含钛氧化物的另一层之间的包含锡酸锌的层。
7.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，所述IG窗单元还包括位于至少所述包含氧化硅的层与所述包含锆氧化物的层之间的包含氮化硅的层。
8.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述IG窗单元具有-2.0至+2.0的外部反射a*值。
9.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述IG窗单元具有-5.0至+4.0的外部反射b*值。
10.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述涂层位于所述IG窗单元的表面三上。
11.根据任一前述权利要求所述的IG窗单元，其中所述IG窗单元具有至少70％的可见光透射率。
12.一种包括涂覆制品的绝缘玻璃(IG)窗单元，所述涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，所述涂层包括依次远离所述玻璃基底的以下层：
电介质层；
包含氧化锌的层；
包含银的红外(IR)反射层，所述包含银的IR反射层在所述基底上位于所述包含氧化锌的层上方并且直接接触所述包含氧化锌的层；以及
第一高折射率电介质层，所述第一高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，在所述基底上位于至少所述IR反射层上方；
第二高折射率电介质层，所述第二高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，在所述基底上位于至少所述第一高折射率电介质层上方；
低折射率电介质层，所述低折射率电介质层具有不大于1.70的折射率，位于至少所述第一高折射率电介质层与第二高折射率电介质层之间，
其中所述涂层仅含有一个银基IR反射层，并且
其中所述IG窗单元具有不大于1.20的U值和至少0.550的g值。
13.根据权利要求12所述的IG窗单元，其中所述第一高折射率层包含钛氧化物。
14.根据权利要求12至13中任一项所述的IG窗单元，其中所述第二高折射率层包含锆氧化物。
15.根据权利要求12至14中任一项所述的IG窗单元，其中所述低折射率层包含硅氧化物。
16.根据权利要求12至15中任一项所述的IG窗单元，其中所述包含银的IR反射层为至少
厚。
17.根据权利要求12至16中任一项所述的IG窗单元，其中所述包含银的IR反射层为至少
厚。
18.根据权利要求12至17中任一项所述的IG窗单元，其中所述IG窗单元具有至少0.570的U值。
19.根据权利要求12至18中任一项所述的IG窗单元，所述IG窗单元还包括位于至少所述低折射率层与所述第一高折射率层之间的包含锡酸锌的层。
20.根据权利要求12至19中任一项所述的IG窗单元，其中所述第一高折射率层和第二高折射率层中的至少一个具有至少2.20的折射率。
21.一种涂覆制品，所述涂覆制品包括由玻璃基底支撑的涂层，所述涂层包括依次远离所述玻璃基底的以下层：
电介质层；
包含氧化锌的层；
包含银的红外(IR)反射层，所述包含银的IR反射层在所述基底上位于所述包含氧化锌的层上方并且直接接触所述包含氧化锌的层；以及
第一高折射率电介质层，所述第一高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，在所述基底上位于至少所述IR反射层上方；
第二高折射率电介质层，所述第二高折射率电介质层具有至少2.0的折射率(n)，在所述基底上位于至少所述第一高折射率电介质层上方；
低折射率电介质层，所述低折射率电介质层具有不大于1.70的折射率，位于至少所述第一高折射率电介质层与第二高折射率电介质层之间，
其中所述涂层仅含有一个银基IR反射层。
22.根据权利要求21所述的涂覆制品，其中所述第一高折射率层包含钛氧化物。
23.根据权利要求21至22中任一项所述的涂覆制品，其中所述第二高折射率层包含锆氧化物。
24.根据权利要求21至23中任一项所述的涂覆制品，其中所述低折射率层包含硅氧化物。
25.根据权利要求21至24中任一项所述的涂覆制品，其中所述包含银的IR反射层为至少
厚。
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050238923A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Thiel James P | Hybrid coating stack |
| WO2017010958A1 (en) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Architectural glass with low-e coating having multilayer layer structure with high durability and/or methods of making the same |
| CA2995471A1 (fr) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage comprenant un empilement de couches minces |
| US20180066142A1 (en) * | 2016-09-06 | 2018-03-08 | Guardian Europe S.a.r.l | Coated article with ir reflecting layer and method of making same |
| WO2018165357A1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-e coating with ir reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric film having multiple layers |
| US10336651B1 (en) * | 2018-07-16 | 2019-07-02 | Guardian Glass, LLC | Coated article with IR reflecting layer(s) and silicon zirconium oxynitride layer(s) and method of making same |
Family Cites Families (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5770321A (en) | 1995-11-02 | 1998-06-23 | Guardian Industries Corp. | Neutral, high visible, durable low-e glass coating system and insulating glass units made therefrom |
| MX9605168A (es) | 1995-11-02 | 1997-08-30 | Guardian Industries | Sistema de recubrimiento con vidrio de baja emisividad, durable, de alto funcionamiento, neutro, unidades de vidrio aislante elaboradas a partir del mismo, y metodos para la fabricacion de los mismos. |
| FR2766174B1 (fr) | 1997-07-21 | 1999-08-20 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent revetu d'au moins une couche mince |
| US6576349B2 (en) | 2000-07-10 | 2003-06-10 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable low-E coated articles and methods of making same |
| US6541084B2 (en) | 2001-02-05 | 2003-04-01 | Guardian Industries Corp. | Vacuum IG window unit with polymer spacers |
| US6524714B1 (en) | 2001-05-03 | 2003-02-25 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated articles with metal nitride layer and methods of making same |
| US6936347B2 (en) | 2001-10-17 | 2005-08-30 | Guardian Industries Corp. | Coated article with high visible transmission and low emissivity |
| US6589658B1 (en) * | 2001-11-29 | 2003-07-08 | Guardian Industries Corp. | Coated article with anti-reflective layer(s) system |
| US7153578B2 (en) * | 2004-12-06 | 2006-12-26 | Guardian Industries Corp | Coated article with low-E coating including zirconium silicon oxynitride and methods of making same |
| US8263227B2 (en) | 2008-06-25 | 2012-09-11 | Centre Luxembourgeois De Recherches Pour Le Verre Et La Ceramique S.A. (C.R.V.C.) | Coated article with low-E coating including zirconium oxide and/or zirconium silicon oxynitride and methods of making same |
| CA2830577C (fr) * | 2011-03-24 | 2019-09-24 | Saint-Gobain Glass France | Substrat transparent muni d'un empilement de couches minces |
| US9017821B2 (en) * | 2012-02-22 | 2015-04-28 | Guardian Industries Corp. | Coated article with low-E coating having multilayer overcoat and method of making same |
| ES2658046T3 (es) * | 2013-05-14 | 2018-03-08 | Asahi Glass Company, Limited | Película protectora, miembro reflectante, y procedimiento de producción para película protectora |
| PL3004012T3 (pl) * | 2013-05-30 | 2018-01-31 | Agc Glass Europe | Niskoemisyjne i antysolarne szkło okienne |
| PL3004015T3 (pl) * | 2013-05-30 | 2018-01-31 | Agc Glass Europe | Niskoemisyjne oszklenie |
| PL3004013T3 (pl) * | 2013-05-30 | 2018-04-30 | Agc Glass Europe | Oszklenie do kontroli nasłonecznienia |
| DE102014111190B4 (de) * | 2014-04-11 | 2022-10-20 | VON ARDENNE Asset GmbH & Co. KG | Hochtransmissives und kratzfestes, Infrarotstrahlung reflektierendes Schichtsystem und Verfahren zu dessen Herstellung |
| EP3136141A1 (en) * | 2015-08-26 | 2017-03-01 | Saint-Gobain Performance Plastics Corporation | Infrared reflecting film |
| FR3054892A1 (fr) * | 2016-08-02 | 2018-02-09 | Saint Gobain | Substrat muni d'un empilement a proprietes thermiques comportant au moins une couche comprenant du nitrure de silicium-zirconium enrichi en zirconium, son utilisation et sa fabrication. |
| KR102369711B1 (ko) * | 2017-09-08 | 2022-03-03 | (주)엘엑스하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
| JP6882498B2 (ja) * | 2017-09-21 | 2021-06-02 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止膜、光学素子および光学系 |
| KR102157540B1 (ko) * | 2017-12-06 | 2020-09-18 | (주)엘지하우시스 | 창호용 기능성 건축 자재 |
| EP3774681A1 (en) * | 2018-04-12 | 2021-02-17 | AGC Glass Europe | Multiple glazing unit |
| US10822270B2 (en) | 2018-08-01 | 2020-11-03 | Guardian Glass, LLC | Coated article including ultra-fast laser treated silver-inclusive layer in low-emissivity thin film coating, and/or method of making the same |
| FR3088636B1 (fr) * | 2018-11-16 | 2022-09-09 | Saint Gobain | Materiau traite thermiquement a proprietes mecaniques ameliorees |
| TR201819739A2 (tr) * | 2018-12-18 | 2020-07-21 | Tuerkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | Lami̇nasyonlu otomoti̇v camlarina uygulanabi̇li̇r bi̇r low-e kaplama |
| EP3924313B8 (en) * | 2019-02-15 | 2023-11-15 | Glas Trösch AG | Functional coated article |
| PE20212127A1 (es) * | 2019-07-05 | 2021-11-05 | Saint Gobain | Montaje de proyeccion para una pantalla de visualizacion frontal (hud) con radiacion polarizada en p |
-
2020
- 2020-10-01 US US16/948,812 patent/US11498867B2/en active Active
-
2021
- 2021-09-21 AU AU2021353123A patent/AU2021353123A1/en active Pending
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Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20050238923A1 (en) * | 2004-04-27 | 2005-10-27 | Thiel James P | Hybrid coating stack |
| WO2017010958A1 (en) * | 2015-07-15 | 2017-01-19 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari A.S. | Architectural glass with low-e coating having multilayer layer structure with high durability and/or methods of making the same |
| CA2995471A1 (fr) * | 2015-09-08 | 2017-03-16 | Saint-Gobain Glass France | Vitrage comprenant un empilement de couches minces |
| US20180244570A1 (en) * | 2015-09-08 | 2018-08-30 | Saint-Gobain Glass France | Glazing including a stack of thin layers |
| US20180066142A1 (en) * | 2016-09-06 | 2018-03-08 | Guardian Europe S.a.r.l | Coated article with ir reflecting layer and method of making same |
| WO2018165357A1 (en) * | 2017-03-09 | 2018-09-13 | Guardian Glass, LLC | Coated article having low-e coating with ir reflecting layer(s) and high index nitrided dielectric film having multiple layers |
| US10336651B1 (en) * | 2018-07-16 | 2019-07-02 | Guardian Glass, LLC | Coated article with IR reflecting layer(s) and silicon zirconium oxynitride layer(s) and method of making same |
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