JP4011656B2 - 薄層積重体で被覆した透明基材 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、透明基材、特にガラス製又はポリカーボネート（ＰＣ）もしくはポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）タイプの硬質プラスチック製の基材に関し、これらの基材は、太陽放射線及び／又は長波長赤外線に作用することができる金属層を少なくとも一つ含む薄層の積重体で被覆される。
【０００２】
本発明はまた、そのような基材を断熱窓ガラスパネル及び／又は日射遮蔽（ａｎｔｉ−ｓｏｌａｒ）窓ガラスを製造するために使用することに関する。これらは、空調の負荷を低下させること及び／又は車室のガラスをはめた面がますます増加することにより引き起こされる過剰の加熱を減少させることを特に目的として、建物にも車両にも取り付けようとするものである。
【０００３】
【従来の技術】
基材にとりわけ低放射特性を与えようとする既知のタイプの薄層積重体は、金属酸化物の層あるいは例えばＳｉ₃ Ｎ₄ の如き窒化物の層といったような誘電材料の二つの層の間に少なくとも一つの金属層、例えば銀層の如きものを配置したものからなる。この積重体は一般に、必要に応じ磁場により支援される、例えばスパッタリングのような、真空技術を使って行われる連続の成長（堆積）により得られる。一般に、銀層は上の誘電性コーティングを成長させる前に、「犠牲」層と呼ばれる薄い金属層で覆われる。
【０００４】
銀層はとりわけ熱的性能特性を、特に被覆された窓ガラスパネルの放射率に関して、決定する一方で、誘電材料の層は、第一にそれらは基材の光学的外観に干渉的に作用するので、更にそれらは銀層を化学的及び／又は機械的な攻撃から保護するのを可能にすることから、いくつかの役割を果たす。
【０００５】
従って、この種の低放射率積重体を備えた窓ガラスパネルには、特に断熱窓ガラスの用途がある。予め決定された構造の断熱窓ガラスパネルの場合には、実際のところ、熱透過率は特に、ガラス板の間の空間の範囲を定めている二つのガラス表面の放射率により決定される。未被覆のガラス表面の放射率εは比較的高く、およそ０．８５である。ガラス表面の間の放射線の交換は、中間のガス空間に向けられる面に放射率ε≦０．１の放射性の弱いコーティングを施したガラス板を用いることにより、多少なくすことができる。このようにして、熱伝導率Ｋが１．３Ｗ／ｍ² ・Ｋ以下の断熱窓ガラスパネルを製造することが可能であり、それらの小さい値のおかげでエネルギーを節約することができる。熱伝導率Ｋが小さいことに加えて、最適な断熱窓ガラスパネルはまたできる限り大きい太陽エネルギー係数（ｓｏｌａｒ ｆａｃｔｏｒ）、すなわち太陽エネルギーの受け身の利用が多くなるように、従って建物のエネルギー収支に都合がよいように、できるだけ大きい、標準規格ＤＩＮ ６７５０７で定義された係数Ｇにより表されるものを持たなくてはならない。この係数Ｇは、窓ガラスパネルを通って直接透過したエネルギーと吸収により熱くなる窓ガラスパネルにより建物の室内又は車室内に再放射されるエネルギーの合計である。更に、外部の空間へのこの窓ガラスパネルの反射の色は、通常の断熱窓ガラスパネルのそれと同じように中性（無色相）でなくてはならない。
【０００６】
銀で作られた機能性層を含む多層積重体の放射率の低下は、実際問題としてはより厚い銀層を用いることで行うことができる。ところが、銀層の厚さを増すことは、この場合においては低下する光透過率により制限される。これに、厚い銀層はもはや中性の反射色を持つことができないという事実が付加される。それにもかかわらず、十分に高い光透過率をなおも維持し且つ同時に中性の反射色を維持しながら比較的厚い銀層で低放射率を得ることが所望される場合には、これは誘電材料のコーティングを、とりわけいくつかの異なる誘電材料層から作ることにより、適切に選ぶという条件で可能であるに過ぎない。
【０００７】
所望の光学的特性をそれにより達成することができる上述の種類の多層系は、ヨーロッパ特許第０３３２１７７号明細書から知られている。この既知の多層系では、二つの誘電性コーティングのうちの一方はおのおのが屈折率がおよそ２．３５の１以上の層からなり、そして他方のコーティングは屈折率がそれより著しく低い１以上の層からなる。酸化ビスマスが、屈折率がおよそ２．３５の層としての必要を満たす。
【０００８】
誘電材料の「多層」コーティングを有する系も、ドイツ特許出願公開第３９４１０２７号明細書及びフランス特許出願公開第２６４１２７１号明細書から知られている。この積重体においては、「下方」誘電性コーティング（すなわち基材に一番近いコーティング）が、酸化スズ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ビスマス及びこれらの酸化物のうちの２種以上のものの混合物により形成される群に属する金属酸化物の少なくとも一つの層と、厚さが最高で１５ｎｍ、好ましくは５〜１３ｎｍであり、銀層と隣接する、酸化亜鉛層とからなる。銀層の下の薄い酸化亜鉛層は、銀層に都合のよい影響を及ぼすが、とは言えそれは酸化亜鉛層の厚さが最高許容値の１５ｎｍ未満である場合に認められるだけである、と述べられている。もっと厚いＺｎＯの層は、なおもこれらの刊行物によれば、化学的により脆いと述べられており、その結果として、それらは薄層積重体全体の耐久性の低下を招く。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、熱的及び光学的な特性が両方とも向上しており、とりわけ放射率が小さく且つ光透過率が大きい、１以上の機能性層を有する新しいタイプの積重体を明らかにすることである。
【００１０】
本発明の目的は、より詳しく言えば、このタイプの薄層積重体であって、銀層の下に配置されている酸化亜鉛層を含み、そして一方においてはこの酸化亜鉛層の都合のよい効果を活用し、そして他方において高い化学的耐性と高い物理的強度、なお且つ低輻射率と高い全エネルギー透過率を、透過と反射の両方における色の高度の中立性とともに、同時に得るのを可能にする薄層積重体を明らかにすることである。好ましくは、本発明の目的はまた、必要に応じて磁場により支援される、とりわけスパッタリングの方法を利用して、技術的な製造上の困難なしに速い成長（堆積）速度で、そのような積重体を工業的規模で製造できるようにすることである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の主題は、とりわけガラス製（又はポリカーボネートもしくはＰＭＭＡタイプの任意の他の硬質プラスチック製）の、透明基材であって、赤外領域での特性及び／又は太陽放射線に関しての特性を持つ層、とりわけ低放射率の金属層を少なくとも一つ含む薄層の積重体を備えた透明基材である。この層は、以下において「機能性」層という用語で表され、そしてこれはとりわけ、銀で又は銀を基にした材料で製作される。
【００１２】
この機能性層は、誘電材料製の二つのコーティングの間、すなわち基材に一番近いいわゆる「下方」コーティングと基材から一番遠いいわゆる「上方」コーティングの間に配置される。機能性層の下にあるコーティング、従って「下方」コーティングは、ケイ素又は金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さが１６ｎｍに等しいかそれより厚くて機能性層と直接接する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製の少なくとも二つの異なる層を含む。
【００１３】
本発明によれば、機能性層は好ましくは銀を基礎材料とし、とりわけ厚さが７〜２５ｎｍ、好ましくは１０〜１４ｎｍ、特におよそ１２ｎｍのものである。
【００１４】
「下方」コーティングにおける酸化亜鉛を基にした層は、好ましくは、１６〜３５ｎｍの間で選ばれた厚さ、とりわけ１６〜２５ｎｍ、特におよそ２２ｎｍの厚さを有する。
【００１５】
「下方」コーティングは好ましくは、この酸化亜鉛層の下に、酸化ビスマスもしくは酸化スズタイプの金属酸化物を基にした、あるいは窒化ケイ素を基にした、別の層を含む。この第二の層は有利には、厚さが５〜３５ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍである。
【００１６】
必要に応じて、機能性層の上に、ニオブ、チタン、スズ又はタンタルタイプの金属を基にした、あるいはニッケル−クロム、タンタル−クロム又はニオブ−クロムタイプの金属合金を基にした、とりわけ厚さが０．５〜６ｎｍ、好ましくは１〜３ｎｍの、犠牲層と呼ばれる薄層を配置することができる。それは、その役割が機能性層の上に後に誘電材料を成長（堆積）させる際に、通常は反応性スパッタリングにより行われる成長（堆積）の際、すなわちそれが金属酸化物である場合酸素の存在下で行われる成長（堆積）の際に、機能性層を酸化から保護することであるので、「犠牲」層と呼ばれる。従って、最終製品において、この犠牲層はその厚さと成長条件に依存して、部分的あるいは完全に酸化されている。
【００１７】
機能性層の上にある誘電材料の「上方」コーティングは、有利には、酸化スズ、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタンもしくは酸化ビスマスを基にした層を少なくとも一つ、及び／又は窒化ケイ素の層を含む。
【００１８】
この「上方」コーティングは有利には、酸化スズを基にした、とりわけ厚さが２〜３５ｎｍ、好ましくは５〜３０ｎｍの層を少なくとも一つと、酸化ビスマスを基にした、とりわけ厚さが５〜３５ｎｍ、好ましくは１５〜３０ｎｍの層を含む。
【００１９】
酸化スズを基にした上記の層は、厚さが５〜２５ｎｍ、とりわけ５〜１５ｎｍのものが特に選ばれる。同じことが酸化ビスマスを基にした層について言える。
【００２０】
「上方」コーティングの場合、本発明は二つの態様を提案する。すなわち、酸化ビスマス層が酸化スズ層の上にあるか、あるいはそれは酸化ビスマス層の上にある酸化スズ層である。
【００２１】
「上方」コーティングは、複数の層を有利に含むことができ、その最後のものは耐久性がより高い。それはとりわけ酸化チタンを基にした層でよい。その厚さは好ましくは３〜１０ｎｍの間で選ばれる。
【００２２】
本発明の対象はまた、そのような積重体で被覆した基材を少なくとも一つ取り入れた低放射率の断熱タイプの多重窓ガラスパネルである。それが二重窓ガラスパネルである場合、多重層は好ましくは面３として及び／又は面２として配置され、一方それが三重窓ガラスパネルである場合、それは積重体を面３として又は面５としてあるいはこれらの面の両方に有するとすることができる。（慣用的に、面には、窓ガラスパネルが取り付けられたとして外側から番号がつけられることが思い出されよう。）
【００２３】
本発明はまた、そのような多重層で被覆された基材を少なくとも一つ取り入れた積層窓ガラスパネルにも関する。それらは、日射遮蔽窓ガラスとして有利に使用することができ、そして特に、それらの光透過率が高いことを条件に、自動車に取り付けるのに有用である。銀タイプの、赤外領域での特性を有する層に電流導線を配線することにより、それらを加熱窓ガラスとして使用することも可能である。これは、放射率が小さいそのような層はまた導電率が高いためである。
【００２４】
本発明による基材の用途は、それらが断熱多重窓ガラスパネルの製造と積層窓ガラスパネルの製造の両方に使用することができるため、このように非常に様々である。
【００２５】
例えば、放射率が０．０５に等しいかそれ未満であり、とりわけ０．０４５未満であるが、それにもかかわらず光の透過率が非常に高いままであり、実際に７５％に等しいかそれより高くなることができる二重窓ガラスパネルを製造することが可能である。これらの二重窓ガラスパネルはまた、およそ１．１Ｗ／ｍ² ・Ｋの熱伝導率Ｋ及び／又はおよそ５８〜６０％の係数Ｇを有することもできる。
【００２６】
本発明はまた、一つだけでなくいくつかの機能性層を有する、例えば誘電材料を基にした三つのコーティングの間に挟まれた二つの機能性層を有する基材に対して有利に適用することもできることは言うまでもない。この場合には、機能性層のうちの少なくとも一方に本発明による「下方」コーティングを設ける。銀層の厚さとこれらの銀層の各面の誘電性コーティングの全体の厚さは、有利には、ヨーロッパ特許出願公開第０６３８５２８号明細書で推奨されている範囲内で選ぶことができる。
【００２７】
（この出願の用語法によれば、基材に一番近い銀層上の「上方」コーティングは、実際のところ、二つの銀層を分離する誘電性コーティングになる。）
【００２８】
次に、本発明による積重体の構造に関してより詳しく説明する。
【００２９】
好ましい態様によれば、本発明による積重体の構造は、下方コーティングの金属酸化物の二つの層が厚さ１５〜２５ｎｍの酸化ビスマス層と、銀層に隣接した厚さ１６〜２２ｎｍの酸化亜鉛層からなること、そして上方コーティングの金属酸化物の二つの層が厚さ５〜３０ｎｍ、好ましくは５〜２５ｎｍの酸化スズ層と、厚さ１５〜３０ｎｍ、好ましくは１５〜２５ｎｍの酸化ビスマス層とからなることを特徴とする。
【００３０】
酸化ビスマス層は、必ずしも純粋な酸化ビスマスからなる必要はない。それらは、場合により、少量の他の金属酸化物又は金属化合物を、これらの層の光学的特性、特に屈折率が結果として実質的に変更されないことを条件に、含有してもよい。同じことが、誘電材料のコーティングのこのほかの全ての層について、とりわけＺｎＯを基にする層について言える。
【００３１】
実際、驚くべきことに、結果として化学的耐性を低下させ、そして銀層の下の酸化亜鉛層の厚さを増加させる場合に予期された銀層が物理的に弱くなることに関連する欠点は、多重層が本発明による構造を有する場合には予想に反して具体的に現れないということが分かった。詳しく言えば、厚さが１５ｎｍより厚い酸化亜鉛層において起こる酸化亜鉛層の結晶成長は、銀層の放射率にとって最終的に非常に有利であることが分かった。実際に、少なくとも部分的に結晶性の酸化亜鉛層のおかげで、その後でスパッタリングされる銀も実質的に結晶状態で成長するようである。銀層の結晶構造は電荷キャリヤの移動度を上昇させ、こうして放射率εを更に低下させる。と言うのは、放射率εは次の数式
【００３２】
【数１】

【００３３】
に従って、銀層の電子の移動度μに反比例するからである。この式のｅは素電荷に相当する定数であり、ｎは電荷キャリヤの密度であり、μは電荷キャリヤの移動度であり、ｄは銀層の厚さである。
【００３４】
同時に、高屈折率の酸化ビスマス層を酸化亜鉛から作られた低屈折率の層と組み合わせる「下方」コーティングを使用することにより、積重体は、製造公差の範囲内で層の厚さが少し変動しても変わらない非常に中性の透過の色と非常に中性の反射の色を基材の全体に与えると規定することが可能である。この中立性は、「上方」コーティングとして、酸化ビスマス層とＳｎＯ₂ タイプの屈折率がより低い層との組み合わせも使用する場合になお一層著しい。
【００３５】
最後に、本発明による多層構造は、機能性層の両側で酸化ビスマスを基にした層を使用する好ましい態様によれば、屈折率が高い材料のこの層のおかげで、厚さが１２ｎｍ以上の銀層が適用される場合においても、銀層の上下において、銀層に最適な中性色（無彩色）の効果を及ぼし、このことからできるだけ低い放射率を得るのに都合がよくなるという追加の利点をもたらし、こうして、測色目標値を被覆された基材の熱的性能特性に関連したものと一致させることが可能である。
【００３６】
既に明らかにされたように、屈折率の高い酸化ビスマス層は、「上方」コーティングにおいて、犠牲層と酸化スズ層との間かあるいは酸化スズ層の上に、配置することができる。可能性のあるこれらの配置の両方とも、両方の場合において所望の方向の多層積重体の性質を向上させるため活用することができる特別な利点を提供することが分かった。こうして、例えば、酸化ビスマス層が銀層に隣接している場合により大きくなる効果が係数Ｇに及ぼされるのに対し、酸化スズ層を上層として配置すると多層積重体の化学的耐性が特に高くなる、と述べることができる。
【００３７】
更に、酸化スズ層の上に酸化ビスマス層を配置することにより、酸化ビスマス層及び銀層間の可能性のある交換によって銀の酸化の危険が低下し、そのためこの場合には、金属の犠牲層をより薄くなるように選ぶことができるという利点がもたらされる。その上に、既知の「ソラリゼーション（ｓｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ）」効果を避けるため取られる対策を省くことができる。「ソラリゼーション」とは、紫外線の影響により銀層が黒くなることを意味し、これは酸化ビスマス層が銀層と隣合っている場合に現れることがある。
【００３８】
原則として、金属の犠牲層としては、銀に対するよりも酸素に対する親和性の方が高い、この目的のために普通に使用されている既知の金属を使用することが可能であり、これらの金属は金属の形態であるいは亜酸化物として銀層の上に成長（堆積）させられる。厚さが１〜３ｎｍのニッケル−クロムの層が特に有効であることが分かった。
【００３９】
基本的に、多層積重体を基材へ適用する方法は、本発明による多層系の光学的性質を決定するのにいかなる役割も演じることがない。とは言え、下記に示す例においては、層は例外なくスパッタリング法を使用して成長させ、そして全体を通して、最良の結果は工業的条件下でこの方法を用いることで得られるように見える。
【００４０】
【実施例】
本発明による多層積重体の好ましい態様の例を以下に示す。
【００４１】
〔参考例１〕
ガラス
Ｂｉ₂ Ｏ₃ ２０ｎｍ
ＺｎＯ １６ｎｍ
Ａｇ １２ｎｍ
ＮｉＣｒ（６０／４０） ２ｎｍ
ＳｎＯ₂ １２ｎｍ
Ｂｉ₂ Ｏ₃ ２０ｎｍ
【００４２】
この多層系を、磁場に支援されるスパッタリングを使用して連続式のコーティング工場で製造する。これらの酸化物層は金属ターゲットを使って、既知のやり方でもって、すなわち酸素を含有するアルゴン雰囲気中で反応スパッタリングさせる。金属の銀層のスパッタリングは水素を５体積％添加したアルゴン雰囲気で行い、金属の犠牲層のスパッタリングは純粋アルゴン中で行う。ガラス板は、厚さ４ｍｍの透明なソーダ−石灰ケイ酸塩フロートガラスである。
【００４３】
こうして被覆したガラス板は、ε（放射率）が０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光の透過率が７７％であるという光学的特性を有する。
【００４４】
このように被覆した２枚のガラス板からなり且つ１６ｍｍの中間のガス空間を含み、この中間のガス空間にアルゴンが満たされていて、そして被覆されたガラス表面が内側のガス空間の方に向いている断熱用窓ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ ６７５０７による係数Ｇが５８％であり、そして標準規格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ² ・Ｋである。
【００４５】
〔実施例１〕
同じタイプの厚さ４ｍｍのフロートガラス板に下記の積重体を被覆した。
【００４６】
ガラス
Ｂｉ₂ Ｏ₃ １９ｎｍ
ＺｎＯ １８ｎｍ
Ａｇ １２ｎｍ
ＮｉＣｒ ２ｎｍ
ＳｎＯ₂ １０ｎｍ
Ｂｉ₂ Ｏ₃ １８ｎｍ
ＴｉＯ₂ ６ｎｍ
【００４７】
この事例において、ＴｉＯ₂ の被覆層は多層積重体のための保護層として働く。ＴｉＯ₂ は下にあるＢｉ₂ Ｏ₃ 層とほぼ同じ光学的特性を持つので、Ｂｉ₂ Ｏ₃ 層の厚さはＴｉＯ₂ 層の厚さと同じ量だけ減少する。こうして、Ｂｉ₂ Ｏ₃ ／ＴｉＯ₂ の連続したものの光学的厚さは一定のままである（層の光学的厚さはその幾何学的な厚さとその屈折率との積である）。この多層積重体の耐蝕性は、二酸化チタンの層によって明らかに増大する。
【００４８】
この被覆ガラス板は、εが０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光の透過率が７７％であるという光学的特性を有する。
【００４９】
これらの被覆ガラス板から製作されそして実施例１におけるのと同じ構造を持ち且つ同じようにアルゴンを充填した断熱用窓ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ６７５０７による係数Ｇが５８％であり、そして標準規格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ² ・Ｋである。
【００５０】
〔参考例２〕
下記の構造を有する多重層を厚さが４ｍｍの同じフロートガラスの板に適用する。
【００５１】
ガラス
Ｂｉ₂ Ｏ₃ １９ｎｍ
ＺｎＯ １６ｎｍ
Ａｇ １２ｎｍ
ＮｉＣｒ ２ｎｍ
Ｂｉ₂ Ｏ₃ １７ｎｍ
ＳｎＯ₂ ２５ｎｍ
【００５２】
この被覆ガラス板の光学的特性の測定から、εが０．０３であり、ＤＩＮ ６７５０７による光の透過率が７７％であるという結果が得られる。
【００５３】
このようにして被覆した２枚のガラス板を使い、アルゴンを満たして、先の例におけるのと同じように作った断熱用窓ガラスパネルは、標準規格ＤＩＮ ６７５０７による係数Ｇが６０％であり、そして標準規格ＤＩＮ ５２６１２による熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ² ・Ｋである。

Claims (23)

1. 誘電材料を基にした「上方」及び「下方」の二つのコーティングの間に配置された、赤外領域での特性及び／又は太陽放射線に関しての特性を持つ「機能性」金属層を少なくとも一つ含む薄層の積重体を備えた透明基材であって、上記赤外領域での特性を持つ層の下にある上記「下方」コーティングが、ケイ素又は金属の窒化物又は酸化物の少なくとも一つの層と厚さが１６ｎｍに等しいかそれより厚くて上記機能性金属層と直接接する酸化亜鉛を基にした層とを含めて、誘電材料製の少なくとも二つの異なる層を含み、そして上記誘電材料の「上方」コーティングが複数の薄層を含み、それらのうちの最後のものが酸化チタンを基礎材料としていることを特徴とする透明基材。
2. 前記赤外領域での特性を持つ層が銀を基礎材料としていることを特徴とする、請求項１記載の基材。
3. 前記赤外領域での特性を持つ層の厚さが７〜２５ｎｍであることを特徴とする、請求項１記載の基材。
4. 前記赤外領域での特性を持つ層の厚さが１０〜１４ｎｍであることを特徴とする、請求項２記載の基材。
5. 前記「下方」コーティングにおいて前記酸化亜鉛を基にする層の厚さが１６〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか一つに記載の基材。
6. 前記「下方」コーティングにおいて前記酸化亜鉛を基にする層の厚さが１６〜２５ｎｍであることを特徴とする、請求項５記載の基材。
7. 誘電材料製の前記「下方」コーティングが前記酸化亜鉛層の下に、酸化ビスマスもしくは酸化スズタイプの金属酸化物を基にした、あるいはＳｉ₃ Ｎ₄ タイプの窒化ケイ素を基にした層を含むことを特徴とする、請求項１から６までのいずれか一つに記載の基材。
8. 前記金属酸化物を基にしたあるいは窒化ケイ素を基にした層の厚さが５〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項７記載の基材。
9. 前記機能性金属層が、金属あるいは金属合金を基にしている犠牲層で覆われていることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか一つに記載の基材。
10. 前記金属がニオブ、チタン、スズ又はタンタルであり、前記金属合金がニッケル−クロム、タンタル−クロムもしくはニオブ−クロム合金であることを特徴とする、請求項９記載の基材。
11. 前記犠牲層の厚さが０．５〜６ｎｍであることを特徴とする、請求項９記載の基材。
12. 前記機能性層より上の誘電材料を基にした前記「上方」コーティングが、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ニオブ、酸化チタン、酸化タンタル及び酸化ビスマスからなる群より選ばれた金属酸化物の薄層を少なくとも一つ、及び／又は窒化ケイ素の層を含むことを特徴とする、請求項１から１１までのいずれか一つに記載の基材。
13. 前記「上方」の誘電性コーティングが、酸化スズを基にした層を少なくとも一つ含み、且つ酸化ビスマスを基にした層を含むことを特徴とする、請求項１２記載の基材。
14. 前記酸化スズを基にした層の厚さが２〜３５ｎｍであり、前記酸化ビスマスを基にした層の厚さが５〜３５ｎｍであることを特徴とする、請求項１３記載の基材。
15. 誘電材料製の前記「上方」コーティングの酸化スズを基にした層の厚さが５〜２５ｎｍであること、当該コーティングの前記酸化ビスマス層の厚さが５〜１５ｎｍであることを特徴とする、請求項１３又は１４記載の基材。
16. 前記酸化ビスマス層が誘電材料製の前記「上方」コーティングの前記酸化スズ層の上にあることを特徴とする、請求項１３，１４又は１５記載の基材。
17. 前記酸化スズ層が誘電材料製の前記「上方」コーティングの前記酸化ビスマス層の上にあることを特徴とする、請求項１３，１４又は１５記載の基材。
18. 前記誘電材料の「上方」コーティングが含む、酸化チタンを基礎材料とする最後の薄層の厚さが３〜１０ｎｍであることを特徴とする、請求項１から１７までのいずれか一つに記載の基材。
19. 二つの「機能性」層を含む薄層の積重体を備えていることを特徴とする、請求項１から１８までのいずれか一つに記載の基材。
20. 請求項１から１９までのいずれか一つに記載の基材を少なくとも一つ取り入れていることを特徴とする、低放射率の多重窓ガラスパネル。
21. 請求項１から１９までのいずれか一つに記載の基材を取り入れていて、且つ、放射率が０．０５に等しいかそれ未満であり、光の透過率Ｔ_L が７５％に等しいかそれより高いことを特徴とする、低放射率の二重窓ガラスパネル。
22. 放射率が０．０４５未満であることを特徴とする、請求項２１記載の低放射率の二重窓ガラスパネル。
23. 請求項１から１９までのいずれか一つに記載の基材を取り入れていて、且つ、熱伝導率Ｋが１．１Ｗ／ｍ² ・Ｋ及び／又は係数Ｇが５８〜６０％であることを特徴とする、低放射率の二重窓ガラスパネル。