JPH09156953A - 無アルカリガラス基板 - Google Patents

無アルカリガラス基板

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JPH09156953A
JPH09156953A JP34634095A JP34634095A JPH09156953A JP H09156953 A JPH09156953 A JP H09156953A JP 34634095 A JP34634095 A JP 34634095A JP 34634095 A JP34634095 A JP 34634095A JP H09156953 A JPH09156953 A JP H09156953A
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 TFT型アクティブマトリックス液晶ディス
プレイに使用されるガラス基板に要求される特性を全て
満足する無アルカリガラス基板を提供することを目的と
する。 【解決手段】 重量百分率で、SiO2 55〜65
%、Al23 10〜20%、B23 4〜12
%、MgO 3〜6.4%、CaO 4.6〜10%、
SrO 0〜5%、BaO 0.5〜9.5%、ZnO
0〜5%、ZrO20〜1.5%、TiO2 0〜5
%の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物、PbO
を含有しないことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ、E
Lディスプレイ等のディスプレイ、フィルター、センサ
ー等の基板として用いられる無アルカリガラス基板に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、液晶ディスプレイ等のフラッ
トパネルディスプレイ、フィルター、センサー等の基板
として、ガラス基板が広く使用されている。
【0003】この種のガラス基板の表面には、透明導電
膜、絶縁膜、半導体膜、金属膜等が成膜され、しかもフ
ォトリソグラフィ−エッチング(フォトエッチング)に
よって種々の回路やパターンが形成される。これらの成
膜、フォトエッチング工程において、ガラス基板には、
種々の熱処理や薬品処理が施される。
【0004】例えば薄膜トランジスタ(TFT)型アク
ティブマトリックス液晶ディスプレイの場合、ガラス基
板上に絶縁膜や透明導電膜が成膜され、さらにアモルフ
ァスシリコンや多結晶シリコンのTFTが、フォトエッ
チングによって多数形成される。このような工程におい
て、ガラス基板は、数百度の熱処理を受けると共に、硫
酸、塩酸、アルカリ溶液、フッ酸等の種々の薬品による
処理を受ける。
【0005】従ってTFT型アクティブマトリックス液
晶ディスプレイに使用されるガラス基板には、以下のよ
うな特性が要求される。
【0006】(1)ガラス中にアルカリ金属酸化物が含
有されていると、熱処理中にアルカリイオンが成膜され
た半導体物質中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実
質的にアルカリ金属酸化物を含有しないこと。
【0007】(2)フォトエッチング工程において使用
される種々の酸、アルカリ等の薬品によって劣化しない
ような耐薬品性を有すること。
【0008】(3)成膜、アニール等の工程における熱
処理によって、熱収縮しないこと。そのため高い歪点を
有すること。例えば多結晶シリコンTFT−LCDの場
合、その工程温度が約600℃以上であるため、このよ
うな用途のガラス基板には、歪点が650℃以上である
ことが要求される。
【0009】また溶融性、成形性を考慮して、この種の
ガラス基板には、以下のような特性も要求される。
【0010】(4)ガラス中に基板として好ましくない
溶融欠陥が発生しないよう、溶融性に優れていること。
【0011】(5)ガラス中に溶融、成形中に発生する
異物が存在しないように、耐失透性に優れていること。
【0012】また近年、TFT型アクティブマトリック
ス液晶ディスプレイ等の電子機器は、パーソナルな分野
への利用が進められており、機器の軽量化が要求されて
いる。これに伴ってガラス基板にも軽量化が要求されて
おり、薄板化が進められている。しかしながらこの種の
電子機器は、大型化も進められており、ガラス基板の強
度を考慮すると、薄板化については自ずと限界がある。
そこでガラス基板の軽量化を図る目的で、ガラスの密度
を低くすることが望まれており、具体的には、2.6g
/cm3 以下にすることが要求されている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】従来よりTFT型アク
ティブマトリックス液晶ディスプレイ基板に用いられて
いる無アルカリガラスとしては、石英ガラス、バリウム
硼珪酸ガラス及びアルミノ珪酸塩ガラスが存在するが、
いずれも一長一短がある。
【0014】すなわち石英ガラスは、耐薬品性、耐熱性
に優れ、低密度であるが、材料コストが高いという難点
がある。
【0015】またバリウム硼珪酸ガラスとしては、市販
品としてコーニング社製#7059が存在するが、この
ガラスは耐酸性に劣るため、フォトエッチング工程にお
いてガラス基板の表面に変質や白濁、荒れが生じやす
く、しかも基板からの溶出成分によって薬液を汚染しや
すい。さらにこのガラスは、歪点が低いため、熱収縮や
熱変形を起こしやすく、耐熱性に劣っている。またその
密度も、2.76g/cm3 と高い。
【0016】アルミノ珪酸塩ガラスは、耐熱性に優れて
いるが、現在市場にあるガラス基板の多くが、溶融性が
悪く、大量生産に不向きである。またこれらのガラス基
板は、密度が2.7g/cm3 以上と高かったり、耐薬
品性に劣るものが多く、全ての要求特性を満足するもの
は未だ存在しないというのが実情である。
【0017】本発明の目的は、上記した要求特性項目
(1)〜(5)の全てを満足し、しかも密度が2.6g
/cm3 以下の無アルカリガラス基板を提供することで
ある。
【0018】
【課題を解決するための手段】本発明の無アルカリガラ
ス基板は、重量百分率で、SiO2 55〜65%、A
23 10〜20%、B23 4〜12%、Mg
O 3〜6.4%、CaO 4.6〜10%、SrO
0〜5%、BaO 0.5〜9.5%、ZnO0〜5
%、ZrO2 0〜1.5%、TiO2 0〜5%の組
成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物、PbOを含有
しないことを特徴とする。
【0019】また本発明の無アルカリガラス基板は、モ
ル比で、B23 <(MgO+CaO)の条件を満足す
ることを特徴とする。
【0020】
【作用】以下、本発明の無アルカリガラス基板の構成成
分を上記のように限定した理由を説明する。
【0021】SiO2 が、55%より少ないと、耐薬品
性、特に耐酸性が悪くなると共に、歪点が低くなり、耐
熱性が悪化し、しかも低密度化が図り難くなる。また6
5%より多いと、高温粘度が大きくなり、溶融性が悪化
すると共に、ガラス中にクリストバライトの失透異物が
析出しやすくなる。
【0022】Al23 が、10%より少ないと、失透
温度が上昇し、ガラス中にクリストバライトの失透異物
が析出しやすくなると共に、ガラスの歪点が低下し、耐
熱性が悪くなる。また20%より多いと、ガラスの高温
粘度が高くなり、溶融性が悪化する。
【0023】B23 は、融剤として働き、粘性を下
げ、溶融性を改善すると共に密度を低下させる作用を有
する成分であり、4〜12%含有する。4%より少ない
と、融剤としての働きが不十分となり、12%より多い
と、ガラスの歪点が低下し、耐熱性が悪くなると共に耐
酸性も悪くなる。耐酸性を最も良い状態に保つために
は、B23 量を4.6〜9%に規制することが望まし
い。
【0024】MgOは、歪点を下げずに高温粘性を下
げ、ガラスの溶融性を改善する作用を有しており、二価
のアルカリ土類酸化物の中で、最も密度を下げる効果が
大きい成分であるが、3%より少ないと、このような効
果が得られ難くなり、また6.4%より多いと、失透温
度が上昇し、エンスタタイト(MgO・SiO2 )の結
晶異物がガラス中に析出しやすくなる。
【0025】CaOも、MgOと同様に歪点を下げずに
高温粘性を下げ、ガラスの溶融性を改善する効果を有す
る成分である。またCaOは、MgOと異なり、ガラス
の耐失透性を高める効果をも有しており、その含有量
は、4.6〜10%、好ましくは4.6〜8%である。
4.6%より少ないと、上記のような効果が得られ難く
なり、10%より多く含有すると、ガラスの耐酸性が悪
化すると共に、ガラスの密度が大きくなるため好ましく
ない。
【0026】MgOとCaOは、ガラスの溶融性を向上
させる上で、必要欠くべからざる成分であるが、その一
方を極端に多く含有させることは望ましくない。すなわ
ちMgOの方が多すぎると、失透性が悪化し、CaOが
多すぎると、密度が低下すると共に、耐酸性が悪化する
ため、両成分が適度の割合で共存するように規制するこ
とが望ましい。
【0027】さらに本発明においては、モル比で、Mg
OとCaOの合量を、B23 量よりも多くすると、ガ
ラスの歪点の低下を防ぎ、また耐酸性を良好に保ち、し
かもガラスの溶融性を飛躍的に向上させる効果が大とな
るためより好ましい。
【0028】SrOは、ガラスの耐薬品性と耐失透性を
向上させる成分であるが、5%より多いと、溶融性が悪
くなると共に、ガラスの密度が著しく上昇するため好ま
しくない。
【0029】BaOも、SrOと同様、ガラスの耐薬品
性と耐失透性を向上させる上で重要な成分であるが、
0.5%より少ないと、このような効果が得られず、
9.5%より多いと、溶融性が悪くなると共に、ガラス
の密度が著しく上昇するため好ましくない。
【0030】ZnOは、溶融性を改善する成分である
が、5%より多いと、ガラスが急激に失透しやすくなる
と共に、歪点が低下するため、優れた耐熱性が得られな
い。
【0031】ただし本発明においては、MgO、Ca
O、SrO、BaO及びZnOの合量が10%より少な
いと、ガラスの失透温度が上昇し、ガラス中に結晶異物
が析出しやすくなり、またこれらの成分の合量が、20
%より多いと、ガラスの密度が上昇して基板の軽量化を
図ることが困難となるため好ましくない。
【0032】ZrO2 は、ガラスの耐薬品性、特に耐酸
性を改善すると共に、高温粘性を下げて溶融性を向上さ
せる成分であるが、1.5%より多いと、失透温度が上
昇し、ジルコンの失透異物が析出しやすくなるため好ま
しくない。
【0033】TiO2 も、ガラスの耐薬品性、特に耐酸
性を改善すると共に、高温粘性を低下し、溶融性を向上
させる成分であるが、5%より多いと、ガラスが着色し
やすくなり、透過率が低下し、ディスプレイ用途に不向
きとなるため好ましくない。
【0034】また本発明においては、上記成分以外に
も、特性を損なわない範囲で、他の成分を添加させるこ
とが可能であり、例えば清澄剤として、As23 、S
23 、F2 、Cl2 、SO3 といった成分やAl、
Siといった金属粉末等を添加させることが可能であ
る。
【0035】ただしガラス中にアルカリ金属酸化物が含
有されると、ガラス基板上に形成される各種の膜や半導
体素子の特性を劣化させるため好ましくない。また一般
に融剤として使用されるPbOは、ガラスの耐薬品性を
著しく低下させると共に、溶融時に融液の表面から揮発
し、環境を汚染する虞れもあるため好ましくない。さら
にP25 も一般に融剤として使用されるが、ガラスを
分相させると共に、耐薬品性を著しく低下させるため好
ましくない。またCuOを含有すると、ガラスが着色す
るため、ディスプレイ用ガラス基板としては使用できな
くなる。
【0036】
【実施例】以下、本発明の無アルカリガラス基板を実施
例に基づいて詳細に説明する。
【0037】表1、2は、実施例のガラス(試料No.
1〜7)と比較例のガラス(試料No.8〜13)の組
成(重量%)と特性を示したものであり、また表3、4
は、表1、2のガラス組成をモル%で示したものであ
る。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】
【表3】
【0041】
【表4】
【0042】表中の各試料は、次のようにして作製し
た。まず表の組成となるようにガラス原料を調合し、白
金坩堝に入れ、1580℃で、24時間溶融した後、カ
ーボン板上に流し出し、板状に成形した。
【0043】表から明らかなように、実施例であるN
o.1〜7の各試料は、いずれも密度が2.57g/c
3 以下、歪点が665℃以上であり、しかも耐塩酸性
に優れていた。また各試料とも、失透温度が1120℃
以下と低いため、耐失透性に優れ、102.5 ポイズに相
当する温度が1500℃以下であるため、溶融性も良好
であった。
【0044】それに対し比較例であるNo.8の試料
は、SiO2 が多く、CaOが少ないため、耐失透性と
溶融性に劣り、No.9の試料は、CaOが少なく、B
aOが多く、しかもMgO、CaO、SrO、BaO及
びZnOの合量が20%以上であるため、密度が高く、
溶融性に劣っていた。またNo.10の試料は、CaO
が多いため、耐塩酸性に劣ると共に密度が高く、No.
11の試料は、MgOとCaOが少ないため、溶融性に
劣り、No.12の試料は、MgOが多く、BaOを含
まないため、耐塩酸性にやや劣り、耐失透性に劣ってい
た。さらにNo.13の試料は、B23が多く、しかも
MgOとCaOの合量が、B23 よりも少ないため、
歪点が低く、耐塩酸性にやや劣っていた。
【0045】尚、表中の密度は、周知のアルキメデス法
によって測定し、歪点は、ASTMC336−71の方
法に基づいて測定した。
【0046】また耐塩酸性は、各試料を光学研磨してか
ら、80℃に保持された10重量%塩酸水溶液に24時
間浸漬した後、ガラス基板の表面状態を観察することに
よって評価したものであり、ガラス基板の表面が白濁し
たり、クラックが入ったものを×、わずかに白濁が見ら
れたものを△、全く変化のなかったものを○とした。
【0047】さらに失透温度は、各試料から300〜5
00μmの粒径を有するガラス粉末を作製し、これを白
金ボート内に入れ、温度勾配炉中で24時間熱処理した
後、ガラスを取り出し、失透の発生した温度を顕微鏡観
察で確認することによって測定した。
【0048】また102.5 ポイズ温度は、高温粘度であ
る102.5 ポイズに相当する温度を示すものであり、こ
の温度が低いほど、溶融成形性に優れていることにな
る。
【0049】
【発明の効果】以上のように本発明の無アルカリガラス
基板は、実質的にアルカリ金属酸化物とPbOを含有せ
ず、耐熱性、耐薬品性、溶融成形性に優れ、しかも密度
が2.6g/cm3 以下であるため、特に軽量化が要求
されるTFT型アクティブマトリックス液晶ディスプレ
イに使用されるガラス基板として好適である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重量百分率で、SiO2 55〜65
    %、Al23 10〜20%、B23 4〜12
    %、MgO 3〜6.4%、CaO 4.6〜10%、
    SrO 0〜5%、BaO 0.5〜9.5%、ZnO
    0〜5%、ZrO2 0〜1.5%、TiO2 0〜
    5%の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物、Pb
    Oを含有しないことを特徴とする無アルカリガラス基
    板。
  2. 【請求項2】 モル比で、B23 <(MgO+Ca
    O)の条件を満足することを特徴とする請求項1記載の
    無アルカリガラス基板。
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