JP2001122637A - ディスプレイ用ガラス基板 - Google Patents

ディスプレイ用ガラス基板

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JP2001122637A
JP2001122637A JP30418399A JP30418399A JP2001122637A JP 2001122637 A JP2001122637 A JP 2001122637A JP 30418399 A JP30418399 A JP 30418399A JP 30418399 A JP30418399 A JP 30418399A JP 2001122637 A JP2001122637 A JP 2001122637A
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glass
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young
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Yoshinari Kato
嘉成 加藤
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/076Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
    • C03C3/089Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
    • C03C3/091Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶ディスプレイに求められる要求特性を全
て満足し、しかもたわみ量が小さいため、大型で、薄肉
のガラス基板であっても、製造上、梱包上の問題が生じ
にくく、しかも電子機器に装着した時の画像面の歪みが
少ないディスプレイ用ガラス基板を提供することであ
る。 【構成】 本発明のディスプレイ用ガラス基板は、重量
百分率で、SiO2 50.0〜71.8%、Al23
10.0〜25.0%、B23 0.1〜5.0%、
MgO 0〜10.0%、CaO 18.1〜25.0
%、SrO 0〜5.0%、BaO 0〜5.0%、Z
nO 0〜5.0%、ZrO2 0〜5.0%、TiO2
0〜5.0%、Y23 0〜5.0%、P25 0〜
5%の組成を有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有
せず、比ヤング率(ヤング率/密度)が29.0GPa
/g・cm-3以上であることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ、E
Lディスプレイ等のフラットディスプレイ基板として用
いられるガラス基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、液晶ディスプレイ、ELディ
スプレイ等のディスプレイ基板としては、矩形状のガラ
ス基板が広く使用されている。
【0003】この種のガラス基板の表面には、透明導電
膜、絶縁膜、半導体膜、金属膜等が成膜され、しかもフ
ォトリソグラフィーエッチング(フォトエッチング)に
よって種々の回路やパターンが形成される。これらの成
膜、フォトエッチング工程において、ガラス基板には、
種々の熱処理や薬品処理が施される。
【0004】例えば薄膜トランジスタ(TFT)型アク
ティブマトリックス液晶ディスプレイの場合、ガラス基
板上に絶縁膜や透明導電膜が成膜され、さらにアモルフ
ァスシリコンや多結晶シリコンのTFTが、フォトエッ
チングによって多数形成される。このような工程におい
て、ガラス基板は、数百度の熱処理を受けると共に、硫
酸、塩酸、アルカリ溶液、フッ酸、バッファードフッ酸
等の種々の薬品による処理を受ける。
【0005】従ってTFT型アクティブマトリックス液
晶ディスプレイに使用されるガラス基板には、以下のよ
うな特性が要求される。 (1)ガラス中にアルカリ金属酸化物が含有されている
と、熱処理中にアルカリイオンが成膜された半導体物質
中に拡散し、膜特性の劣化を招くため、実質的にアルカ
リ金属酸化物を含有しないこと。 (2)フォトエッチング工程において使用される種々の
酸、アルカリ等の薬品によって劣化しないような耐薬品
性を有すること。
【0006】またこれ以外にも、次のような特性が要求
される。 (3)成膜等の液晶製造工程でガラス基板が熱収縮して
パターンずれを起こさないように、高い歪点、具体的に
は、650℃以上の歪点を有すること。例えば多結晶シ
リコンTFT−LCDの場合、その工程温度が600℃
以上であるため、このような用途のガラス基板には、歪
点が650℃以上であることが要求される。 (4)ガラス中に基板として好ましくない溶融欠陥が発
生しないよう溶融性に優れていること。 (5)TFTの材料の熱膨張係数に近似した熱膨張係数
を有すること。
【0007】また近年、TFT型アクティブマトリック
ス液晶ディスプレイ等の電子デバイスは、パーソナルな
分野への応用が進められており、機器の軽量化が要求さ
れている。これに伴ってガラス基板にも軽量化が要求さ
れ、薄肉化が進められている。それゆえ、現在では0.
7mm以下の厚みのガラスが標準となりつつある。
【0008】さらにこの種の電子デバイスは、大型化も
進められており、これに伴って大型のガラス基板も要求
されている。すなわち、この種の電子デバイスを製造す
る場合には、ガラスメーカーで成形された大型のガラス
基板(素板)の上に複数個分のデバイスを作製した後、
デバイス毎に分割切断して製品とするため、電子デバイ
スが大型化するほど、ガラス基板をより大きくする必要
がある。例えば、12.1インチのデバイスを6枚取り
するためには550×650mmのサイズの基板が要求
されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記したようにTFT
型アクティブマトリックス液晶ディスプレイ等に用いら
れるガラス基板は、大型化、薄肉化が進められている
が、これに伴い各種の問題が生じている。
【0010】すなわちこの種のガラス基板は、ガラスメ
ーカーで成形された後、切断、徐冷、検査、洗浄等の工
程を通過する。これらの工程中、ガラス基板は、複数段
の棚が形成されたカセットに出し入れされる。このカセ
ットは、左右の内側面に形成された棚に、ガラス基板の
両辺を載置するようにして水平方向に保持できるように
なっているが、大型のガラス基板はたわみ量が大きいた
め、ガラス基板をカセットの棚に入れる際に、ガラス基
板の一部が、カセットや他のガラス基板に接触して破損
したり、カセットの棚からガラス基板を取り出す際に、
大きく揺動して不安定となりやすい。このような形態の
カセットは、電子デバイスメーカーでも使用されるた
め、同様の問題が発生している。
【0011】また、このような大型のガラス基板をガラ
スメーカーから電子デバイスメーカーに輸送する際、実
開平5−12098号に開示されているような箱状の上
下支持部材を用いて上下方向から挟み込む形態の梱包体
が使用されることがあるが、下側の支持部材に形成され
た複数の保持溝にガラス基板を1枚づつ挿入した後で、
ガラス基板が大きくたわむと、上側の支持部材に形成さ
れた複数の保持溝に各ガラス基板を挿入するのが困難と
なり、作業性が大幅に低下する。
【0012】さらに電子デバイスが大型化するほど、こ
れに装着されるガラス基板がたわみやすくなるため、電
子デバイスの画像面が歪んで見える虞れがある。
【0013】本発明の目的は、上記した要求特性項目
(1)〜(5)の全てを満足し、しかもたわみ量が小さ
いため、大型で、薄肉のガラス基板であっても、上記し
たような製造上、梱包上の問題が生じにくく、しかも電
子デバイスに装着した時の画像面の歪みが少ないディス
プレイ用ガラス基板を提供することである。
【0014】
【課題を解決するための手段】ガラス基板のたわみ量は
ヤング率/密度(比ヤング率)に比例して変化し、比ヤ
ング率が大きくなればたわみ量が小さくなることが知ら
れている。
【0015】そこで、本発明者は、種々の実験を繰り返
した結果、TFT型アクティブマトリックス液晶ディス
プレイに使用されるガラス基板に要求される特性を満足
し、しかも、ヤング率が大きく、比ヤング率を大きくす
るのに適したガラス組成を見いだし、本発明として提案
するものである。
【0016】すなわち本発明のディスプレイ用ガラス基
板は、重量百分率で、SiO2 50.0〜71.8
%、Al23 10.0〜25.0%、B23 0.1
〜5.0%、MgO 0〜10.0%、CaO 18.
1〜25.0%、SrO 0〜5.0%、BaO 0〜
5.0%、ZnO 0〜5.0%、ZrO2 0〜5.
0%、TiO2 0〜5.0%、Y23 0〜5.0
%、P25 0〜5%の組成を有し、実質的にアルカリ
金属酸化物を含有せず、比ヤング率(ヤング率/密度)
が29.0GPa/g・cm-3以上であることを特徴と
する。
【0017】
【作用】現在、市販されているガラス基板は、比ヤング
率が28.0GPa/g・cm -3程度の小さいガラスか
ら作製されているため、これらのガラス基板の大型化、
薄肉化を図ると、たわみ量が大きくなる。
【0018】これに対し、本発明のディスプレイ用ガラ
ス基板は上記した特定の組成範囲を有するガラス組成物
からなるため、29.0GPa/g・cm-3以上の比ヤ
ング率が得られ、大型で薄肉のガラス基板、具体的に
は、ガラス基板の縦寸法が500mm以上、横寸法が6
00mm以上、厚みが0.7mm以下であっても、問題
とならない程度のたわみ量に抑えることができる。
【0019】更に上記組成範囲は、ガラス基板のたわみ
量以外にも、耐薬品性、熱収縮性、溶融性、成形性及び
熱膨張係数を考慮して規制したものであり、各成分の限
定理由は、次のとおりである。
【0020】SiO2は、ガラスのネットワークフォー
マーとなる成分であり、50.0%より少ないと、ガラ
スの耐薬品性、特に耐酸性が低下すると共に、歪点が低
くなり、熱収縮しやすくなるため好ましくない。一方、
71.8%より多いと、高温粘度が大きくなり、溶融性
が悪くなるため好ましくない。
【0021】Al23は、ガラスの密度の低下とヤング
率の向上により、比ヤング率を上昇させ、且つ、歪点を
高くする成分であり、10.0%より少ないと、比ヤン
グ率を29GPa/g・cm-3以上にすることが困難と
なり、また、歪点が低くなるため好ましくない。一方、
25.0%より多いと、耐酸性と溶融性が悪くなるため
好ましくない。
【0022】B23は、融剤として作用し、ガラスの粘
性を下げ、溶融性を改善する成分であるが、0.1%よ
り少ないと、このような効果が得られず好ましくない。
一方、5.0%より多いと、ガラスの歪点が低下して6
50℃以上にすることが困難となると共に、耐塩酸性も
悪化するため好ましくない。
【0023】MgOとCaOは、ROの中でも、比較的
密度を上げることなく、ヤング率だけを上昇させ、ま
た、歪点を下げることなく、高温粘性を下げ、ガラスの
溶融性を改善する成分である。但し、MgOは多量に含
有させるとガラスが失透するが、CaOは多量に含有さ
せても失透しないため、本発明のガラスにおいてはCa
Oを必須成分として多量に含有させている。
【0024】尚、MgOが10.0%より多いと、耐酸
性が悪化したり、ガラスが失透するため好ましくない。
【0025】CaOが18.1%より少ないと、ヤング
率が低くなり、比ヤング率が低下するため好ましくな
い。一方、25.0%より多いと、ガラスの歪点が低下
するため好ましくない。
【0026】SrOは、ガラスの耐薬品性を向上させる
成分であるが、5%を超えて含有させるとガラスの密度
が上昇し、比ヤング率が小さくなる傾向があるため、好
ましくない。
【0027】BaOも、SrOと同様、ガラスの耐薬品
性を向上させる成分であるが、5.0%より多くなる
と、ガラスの密度が上昇し、比ヤング率が小さくなるた
め好ましくない。
【0028】ZnOは、溶融性を改善するための成分で
あるが、5.0%より多いと、歪点が低下するため好ま
しくない。
【0029】ZrO2は、ヤング率の増大により、比ヤ
ング率を上昇させると共に、ガラスの耐薬品性、特に耐
酸性を改善する作用を有する成分であるが、5.0%よ
り多いと、溶融性が悪化するため好ましくない。
【0030】TiO2は、ガラスの耐薬品性を改善する
と共に、高温粘性を低下させ、溶融性を向上させる成分
であるが、多量に含有させると、ガラスに着色を生じ、
透過率が低下するため、5.0%以下に抑えることが好
ましい。
【0031】Y23も、ヤング率の増大により、比ヤン
グ率を上昇させる作用を有する成分であるが、5.0%
より多いと、ガラスの耐薬品性が悪化するため好ましく
ない。
【0032】P25は、溶融性を改善するための成分で
あるが、5.0%より多いと、ガラスの耐薬品性が悪化
するため好ましくない。
【0033】尚、本発明においては、上記の成分以外に
も、特性を損なわない範囲で他の成分を添加させること
も可能であり、例えば清澄剤として、As23、Sb2
3、SnO2、F2、Cl2、SO3等を各々3%まで添
加することが可能である。但し、As23は、環境上問
題となる成分であるため、できるだけ添加を避けるべき
である。
【0034】更に、前記した理由から、アルカリ金属酸
化物(Na2O、K2O、Li2O)の添加も避けるべき
である。また、一般に融剤として使用されるPbOもガ
ラスの耐薬品性を著しく低下させたり、ガラス溶融時に
融液の表面から揮発し、環境を汚染する虞れもあるため
好ましくない。
【0035】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
する。
【0036】表1〜4は、本発明の実施例(試料No.
1〜19)と比較例(試料No.20〜26)を示すも
のである。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】
【表3】
【0040】
【表4】
【0041】表中の各試料は、次のようにして作製し
た。
【0042】まず表の組成となるようにガラス原料を調
合し、白金ポットで1580℃で24時間溶融した後、
スロットダウン法を用いて板状に成形した。次いでこれ
らの板状ガラスの両面を光学研磨することによって、縦
寸法が550mm、横寸法が660mm、厚みが0.7
mmの大型で薄肉のガラス基板を作製した。
【0043】このようにして作製した各試料について、
各種の特性を評価した。結果を表に示す。
【0044】表から明らかなように実施例であるNo.
1〜19の各試料は、TFT型アクティブマトリックス
液晶ディスプレイに使用されるガラス基板に要求される
種々の特性を満足し、しかも、比ヤング率が30.4G
Pa/g・cm-3以上であるため、たわみ量が18.3
mm以下と小さかった。
【0045】それに対し、比較例であるNo.20〜2
4の各試料は、いずれも比ヤング率が28.3GPa/
g・cm-3以下であるため、たわみ量が19.7mm以
上と大きかった。No.20〜23については、歪点が
648℃以下と低くかった。また、No.20〜22に
ついては耐酸性も悪かった。No.24については、1
2.5ポイズに相当する温度が1710℃と高く、溶融
性が悪かった。No.25及び26については、比ヤン
グ率が32.1GPa/g・cm-3以上、歪点が696
℃以上と高かったが耐酸性が悪かった。
【0046】尚、表中のヤング率は、曲げ共振法により
測定し、密度は、周知のアルキメデス法によって測定し
たものである。また、たわみ量は、図1に示すように、
ガラス基板10の縦方向の両辺付近10a、10bを支
持片11a、11bで支持し、スパン650mmで水平
方向に配置した時の最大たわみ量12を測定したもので
ある。
【0047】さらに歪点は、ASTM C336−71
の方法に基づいて測定し、この値が高いほど、ガラスの
熱収縮は小さくなる。logη at 102.5は、高
温粘度である102.5ポイズに相当する温度を示すもの
であり、この温度が低いほど、溶融性に優れていること
になる。
【0048】また耐HCl性は、各試料を80℃に保持
された10重量%塩酸水溶液に24時間浸漬した後、そ
れらの表面状態を目視で観察することによって評価し
た。ガラス基板の表面が変色したものは×、全く変化の
ないものは○で示した。熱膨張係数は、ディラトメータ
ーを用いて、30〜380℃における平均熱膨張係数を
測定したものである。
【0049】
【発明の効果】以上のように本発明のガラス基板は、実
質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、耐薬品性、溶融
性、成形性に優れ、さらに歪点が650℃以上であるた
め熱処理時の熱収縮が小さく、しかもTFT材料の熱膨
張係数に近似した熱膨張係数を有するガラス組成物から
なるため、特にTFT型アクティブマトリックス液晶デ
ィスプレイに使用されるガラス基板として好適である。
【0050】更にこのガラス基板は、比ヤング率が高
く、たわみ量が小さいため、大型で薄肉であっても、製
造上、梱包作業上の問題が発生せず、しかも良好な画像
面を得ることができる。それゆえ、例えば、縦寸法が5
00mm以上、横寸法が600mm以上、厚みが0.7
mm以下の大型薄肉基板に有用である。
【図面の簡単な説明】
【図1】ガラス基板の最大たわみ量の測定方法を示す説
明図である。
【符号の説明】
10 ガラス基板 11a、11b 支持片 12 最大たわみ量
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 500 G09F 9/30 310 G09F 9/30 310 Fターム(参考) 2H088 HA01 HA08 MA20 2H090 JB02 JD13 JD15 JD18 LA04 4G062 AA01 BB01 CC04 DA06 DB04 DC02 DC03 DD01 DD02 DD03 DE01 DE02 DE03 DF01 EA01 EB01 EC01 ED01 ED02 ED03 EE04 EF01 EF02 EF03 EG01 EG02 EG03 FA01 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FJ02 FJ03 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM12 MM27 NN33 5C094 AA03 AA14 AA31 AA33 AA36 AA43 BA03 EB02 FB02 FB15 JA01 JA20

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 重量百分率で、SiO2 50.0〜7
    1.8%、Al2310.0〜25.0%、B23
    0.1〜5.0%、MgO 0〜10.0%、CaO
    18.1〜25.0%、SrO 0〜5.0%、BaO
    0〜5.0%、ZnO 0〜5.0%、ZrO2
    〜5.0%、TiO2 0〜5.0%、Y 23 0〜
    5.0%、P25 0〜5%の組成を有し、実質的にア
    ルカリ金属酸化物を含有せず、比ヤング率(ヤング率/
    密度)が29.0GPa/g・cm-3以上であることを
    特徴とするディスプレイ用ガラス基板。
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