JPH09143735A - Splash adhesion preventive device and its adhesion preventive method for continuous vacuum deposition apparatus - Google Patents
Splash adhesion preventive device and its adhesion preventive method for continuous vacuum deposition apparatusInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、連続真空蒸着装置
におけるスプラッシュの付着防止装置およびその不着防
止方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a splash adhesion preventing apparatus and a non-sticking preventing method for a continuous vacuum vapor deposition apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】真空蒸着は、真空中で蒸発材料を加熱し
て蒸発させ、蒸発材料を基板の表面に蒸着させて皮膜を
作る成膜プロセスである。2. Description of the Related Art Vacuum deposition is a film forming process in which a vaporized material is heated and evaporated in a vacuum, and the vaporized material is deposited on the surface of a substrate to form a film.
【０００３】この成膜プロセスに使用される連続真空蒸
着装置１は、図３に示すように、電子ビーム１０を放射
する電子銃９と、溶解した蒸発材料１２を収容するるつ
ぼ１１とを備えた真空成膜室２の上流側に、複数のロー
ル５を上下に千鳥状に配設して基板３を蛇行するように
通過させるとともにそれらのロール５を上下に挟むよう
に配設したシールブロック７によりロール５と通過する
基板３との間隙を少なくして真空成膜室２の真空が安定
して保てるようにする入側真空シール装置４と、通過す
る基板３を加熱して基板３の汚染除去と基板３への蒸着
に適した温度まで昇温を行う予備加熱装置８とを有し、
真空成膜室２の下流側にも前記入側真空シール装置４と
同様の構成を有して真空成膜室２の真空が安定して保て
るようにした出側真空シール装置１３を有している。な
お、１４はアンコイラー，１５はリコイラーである。As shown in FIG. 3, a continuous vacuum vapor deposition apparatus 1 used in this film forming process includes an electron gun 9 for emitting an electron beam 10 and a crucible 11 for containing a melted evaporation material 12. On the upstream side of the vacuum film forming chamber 2, a plurality of rolls 5 are arranged in a zigzag pattern up and down to allow the substrate 3 to meander through and a seal block 7 arranged to sandwich the rolls 5 vertically. To reduce the gap between the roll 5 and the substrate 3 passing therethrough to keep the vacuum in the vacuum film forming chamber 2 stable, and to heat the passing substrate 3 to contaminate the substrate 3. A preheating device 8 for raising the temperature to a temperature suitable for removal and vapor deposition on the substrate 3,
Also on the downstream side of the vacuum film forming chamber 2, there is provided an outlet side vacuum sealing device 13 having the same structure as the inlet side vacuum sealing device 4 so that the vacuum of the vacuum film forming chamber 2 can be stably maintained. There is. In addition, 14 is an uncoiler and 15 is a recoiler.
【０００４】なお、前記真空成膜室２，入側真空シール
装置４，予備加熱装置８および出側真空シール装置１３
は、いずれも真空ポンプ６（符号は共通に使用）により
排気され、成膜室２では１０-3〜１０-5Ｔｏｒｒの真空
に保持されている。The vacuum film forming chamber 2, the inlet side vacuum sealing device 4, the preheating device 8 and the outlet side vacuum sealing device 13
Are evacuated by the vacuum pump 6 (common reference numeral is used), and the film forming chamber 2 is maintained at a vacuum of 10 −3 to 10 −5 Torr.
【０００５】上記のような構成を有する連続真空蒸着装
置１は、真空成膜室２において、るつぼ１１内に、図示
しない供給装置により蒸発材料１２を供給し、この蒸発
材料１２を電子銃９から放射する電子ビーム１０により
溶融・蒸発させて連続走行する帯状の基板３に蒸着す
る。In the continuous vacuum vapor deposition apparatus 1 having the above-described structure, the evaporation material 12 is supplied into the crucible 11 in the vacuum film forming chamber 2 by a supply device (not shown), and the evaporation material 12 is emitted from the electron gun 9. It is melted and vaporized by the radiating electron beam 10 and vapor-deposited on the belt-shaped substrate 3 which continuously runs.
【０００６】また、るつぼ１１内に供給された蒸発材料
１２を溶解している間、図４に示すように、るつぼ１１
の上方を輻射熱防止用シャツタ１６で遮蔽し、基板３に
対する輻射熱の影響を防止する。そして、溶解が完了す
るとこの輻射熱防止用シャツタ１６を図示しないエアシ
リンダなどのアクチュエータを作動して移動し、るつぼ
１１の上方を開放して基板３への蒸着を開始する。な
お、１７は輻射熱防止用シャツタ１６に横方向の端部に
設けた走行用ローラであり、１８は真空蒸着室２内に固
設した輻射熱防止用シャツタ１６の支持材である。While melting the evaporation material 12 supplied into the crucible 11, as shown in FIG.
The upper part of the substrate is shielded by the radiant heat preventing shirt 16 to prevent the radiant heat from affecting the substrate 3. When the melting is completed, the radiant heat preventing shirt 16 is moved by operating an actuator such as an air cylinder (not shown) to open the upper part of the crucible 11 and start vapor deposition on the substrate 3. Reference numeral 17 is a running roller provided at the lateral end of the radiant heat preventing shirt 16 and 18 is a support material for the radiant heat preventing shirt 16 fixed in the vacuum deposition chamber 2.
【０００７】前記輻射熱防止用シャツタ１６は、水冷等
により冷却されている。The radiant heat preventing shirt 16 is cooled by water cooling or the like.
【０００８】上記真空成膜室２には、蒸発材料１２を電
子銃９から放射する電子ビーム１０により溶融・蒸発し
て基板３に蒸着する際、るつぼ１１の内部や蒸発材料１
２のペレットに含まれる空気等の不純物が蒸発材料１２
の溶湯に混入してスプラッシュが発生する。スプラッシ
ュは、一度発生すると続けて発生することが多い。な
お、このスプラッシュとは、加熱された蒸発材料などが
蒸発せずに飛び散る現象をいう。In the vacuum film forming chamber 2, when the evaporation material 12 is melted and evaporated by the electron beam 10 emitted from the electron gun 9 to be evaporated on the substrate 3, the evaporation material 1 and the inside of the crucible 11 are evaporated.
Impurities such as air contained in the second pellet are evaporated materials 12
Splash occurs when mixed with the molten metal. Splash often occurs once and then continuously. The splash means a phenomenon in which a heated evaporation material or the like scatters without evaporating.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た連続真空蒸着装置１では、基板３に対するスプラッシ
ュの付着防止は行われていなかった。したがって、スプ
ラッシュの付着した基板３は製品とならず、また、基板
３がスプラッシュを付着したまま走行して真空成膜室２
の下流側に設けられた出側真空シール装置１３を通過す
ると、出側真空シール装置１３のシールブロック７とロ
ール５との間の間隙に噛み込んでしまい、板切れをおこ
すことがある。さらに、基板３の巻き取りの際、スプラ
ッシュの無い所まで数１０ｍにわたって圧こんが付き不
良製品ができてしまうという問題があった。However, in the above-mentioned continuous vacuum vapor deposition apparatus 1, the attachment of splash to the substrate 3 was not prevented. Therefore, the substrate 3 to which the splash has adhered does not become a product, and the substrate 3 runs while the splash adheres to the vacuum film forming chamber 2
When passing through the outlet side vacuum sealing device 13 provided on the downstream side of the sheet, the sheet may be caught in the gap between the seal block 7 of the outlet side vacuum sealing device 13 and the roll 5 to cause plate breakage. Further, when the substrate 3 is wound up, there is a problem that a defective product is formed by denting for several tens of meters to a place where there is no splash.
【００１０】なお、輻射熱防止用シャツタ１６をスプラ
ッシュの付着防止用に使用することも考えられるが、輻
射熱防止用シャツタ１６は、重量があり、動きが遅いの
でスプラッシュの付着防止用としては望ましくない。Although it is possible to use the radiant heat preventing shirt 16 for preventing the attachment of splashes, the radiant heat preventing shirt 16 is not desirable for preventing splash attachment because it is heavy and slow in movement.
【００１１】本発明は、上記のような課題を解決するた
めに創案されたもので、基板上にスプラッシュの付着す
るのを防止する、連続真空蒸着装置におけるスプラッシ
ュの付着防止装置およびその付着防止方法を提供するこ
とを目的とするものである。The present invention was devised to solve the above-mentioned problems, and a splash adhesion preventing apparatus and a adhesion preventing method thereof in a continuous vacuum vapor deposition apparatus for preventing the adhesion of splash onto a substrate. It is intended to provide.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明によれば、真空成膜室内を連続走行する帯状
の基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置において
るつぼから発生して基板に付着するスプラッシュの付着
防止装置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板
より幅広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッ
タを急速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付
着防止用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設し
たことを特徴とする連続真空蒸着装置におけるスプラッ
シュの付着防止装置が提供される。In order to achieve the above object, according to the present invention, a substrate generated from a crucible in a continuous vacuum vapor deposition apparatus for vaporizing an evaporation material onto a belt-shaped substrate continuously traveling in a vacuum film forming chamber is produced. A device for preventing the adhesion of splash that adheres to the substrate, in which a flat plate-shaped splash adhesion prevention shutter that is wider and thinner than the substrate is provided between the substrate above the crucible so that the splash adhesion prevention shutter can be opened and closed rapidly. Provided is a splash adhesion preventing device in a continuous vacuum vapor deposition device, which is characterized in that a splash detector is arranged below.
【００１３】また、真空成膜室内を連続走行する帯状の
基板に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてる
つぼから発生して基板に付着するスプラッシュの付着防
止方法であって、蒸発材料を蒸着中、スプラッシュが発
生すると、スプラッシュ検出器がそれを検知し、スプラ
ッシュ付着防止用シャッタを作動して基板の下面を急速
に遮蔽するようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装
置におけるスプラッシュの付着防止方法が提供される。A method for preventing adhesion of splashes generated from a crucible and adhering to a substrate in a continuous vacuum vapor deposition apparatus for vapor depositing vaporized material on a belt-shaped substrate continuously traveling in a vacuum film forming chamber, during vapor deposition of vaporized material. When a splash occurs, a splash detector detects it, and operates a splash adhesion prevention shutter to rapidly shield the lower surface of the substrate, thereby preventing the adhesion of splash in a continuous vacuum deposition apparatus. Will be provided.
【００１４】上記本発明の構成によれば、真空成膜室内
のるつぼと基板との間に配設したスプラッシュ付着防止
用シャッタによりスプラッシュが基板上に付着するのを
防止するので、基板を巻き取る際の圧こんがなくなり、
したがって、製品の歩留りを向上させることができる。According to the above-described structure of the present invention, the splash is prevented from adhering to the substrate by the splash adhesion preventing shutter provided between the crucible and the substrate in the vacuum film forming chamber, so that the substrate is wound. There is no pressure
Therefore, the yield of products can be improved.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】以下、本発明の好ましい実施の形
態を図面に基づいて説明する。なお、各図において従来
のものと共通する部分については同じ符号を用いて説明
する。図１および図２は、本発明の一実施形態を示すも
のであり、図１は本発明による連続真空蒸着装置の真空
成膜室の断面図、図２は図１に示すスプラッシュ検出器
の側面図である。Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each figure, the same parts as those of the conventional one will be described using the same reference numerals. 1 and 2 show one embodiment of the present invention. FIG. 1 is a sectional view of a vacuum film forming chamber of a continuous vacuum vapor deposition apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is a side view of a splash detector shown in FIG. It is a figure.
【００１６】図１および図２において、連続走行する帯
状の基板３には、真空成膜室２内で蒸発材料１２が蒸着
する。１０は電子銃９から放射された電子ビームで、る
つぼ１１内に供給された蒸発材料１２を加熱・溶解す
る。１６はるつぼ１１の上方に位置して、基板３の下側
に配設された輻射熱防止用シャッタで、幅方向の端部に
設けられたローラ１７を介して真空成膜室２内に固設し
た輻射熱防止用シャッタ支持材１８に載置し、開閉可能
に配設されている。In FIGS. 1 and 2, the evaporation material 12 is vapor-deposited in the vacuum film forming chamber 2 on the belt-shaped substrate 3 which continuously runs. An electron beam 10 is emitted from the electron gun 9, and heats and melts the evaporation material 12 supplied into the crucible 11. Reference numeral 16 denotes a radiant heat prevention shutter which is located above the crucible 11 and which is disposed below the substrate 3, and which is fixed in the vacuum film forming chamber 2 through a roller 17 provided at an end portion in the width direction. It is placed on the radiant heat prevention shutter support member 18 and is arranged so as to be openable and closable.
【００１７】１９は前記輻射熱防止用シャッタ１６の下
側に配設されたスプラッシュ付着防止用シャッタであ
り、輻射熱防止用シャッタ１６と同様に、図示しないエ
アシリンダなどのアクチュエータを作動して開閉可能に
なっている。また、このスプラッシュ防止用シャッタ１
９は、前記基板３より幅広で薄い平板状のもので、例え
ば、カーボン繊維を固めた、軽量で耐熱性に優れた部材
で構成されている。２０はこのスプラッシュ付着防止用
シャッタを案内するガイド部材である。Reference numeral 19 denotes a splash adhesion preventing shutter disposed below the radiant heat preventing shutter 16, and like the radiant heat preventing shutter 16, it can be opened and closed by operating an actuator such as an air cylinder (not shown). Has become. Also, this splash prevention shutter 1
Reference numeral 9 denotes a flat plate that is wider and thinner than the substrate 3, and is made of, for example, a member that is made of carbon fiber and is lightweight and has excellent heat resistance. Reference numeral 20 is a guide member for guiding the splash preventing shutter.
【００１８】２１は光電管などのスプラッシュ検出器
で、発信器２１ａと受信器２１ｂで構成され、図２に示
すようにるつぼ１１の上方に、るつぼ１１の外側面より
外側に、図示しない支持材により支持されている。２１
ｃは発信器２１ａから発信された光線２１ｃで、蒸着中
に蒸発材料１２の溶湯からスプラッシュ２２が発生する
と、スプラッシュ２２はこの光線２１ｃをさえぎるよう
に構成されている。なお、真空成膜室２内は、るつぼ１
１の上方は溶湯の輝きによりほのかに明るくなっている
がその周りは暗いので、スプラッシュ検出器２１は光電
管の指向性を高めることが望ましい。Reference numeral 21 is a splash detector such as a photoelectric tube, which is composed of a transmitter 21a and a receiver 21b, and is provided above the crucible 11 and outside the outer surface of the crucible 11 by a supporting member (not shown) as shown in FIG. It is supported. 21
Reference numeral c is a light beam 21c emitted from the transmitter 21a, and when the splash 22 is generated from the molten metal of the evaporation material 12 during vapor deposition, the splash 22 is configured to block this light beam 21c. The vacuum film forming chamber 2 has a crucible 1
The area above 1 is slightly bright due to the brightness of the molten metal, but the surrounding area is dark, so it is desirable that the splash detector 21 enhance the directivity of the photoelectric tube.
【００１９】次に実施の形態に基づく作用について説明
する。るつぼ１１内に供給された蒸発材料１２を溶解し
ている間、るつぼ１１の上方を輻射熱防止用シャツタ１
６で遮蔽する。溶解が完了するとこの輻射熱防止用シャ
ッタ１６をアクチュエータにより作動してるつぼ１１の
上方を開放し、基板３への蒸着を連続して行う。蒸着中
にスプラッシュ２２が発生すると、蒸着中、常時発光さ
れている光線は、スプラッシュ２２によってさえぎられ
る。すると、スプラッシュ検出器２１は、ただちに、ア
クチュエータに指令を送り、輻射熱防止用シャッタ１６
を急速に閉めて基板３の下を遮蔽する。基板３は輻射熱
防止用シャッタ１６によって遮蔽されている間も、停止
することなく出側真空シール装置１３に向かって進行す
る。Next, the operation based on the embodiment will be described. While melting the evaporation material 12 supplied into the crucible 11, the radiant heat preventing shirt 1 is placed above the crucible 11.
Shield with 6. When the melting is completed, the radiant heat preventing shutter 16 is operated by an actuator to open the upper part of the crucible 11 to continuously perform vapor deposition on the substrate 3. When the splash 22 is generated during the vapor deposition, the light beam which is constantly emitted during the vapor deposition is blocked by the splash 22. Then, the splash detector 21 immediately sends a command to the actuator, and the radiant heat prevention shutter 16 is sent.
Is closed rapidly to shield the bottom of the substrate 3. While the substrate 3 is shielded by the radiant heat prevention shutter 16, the substrate 3 advances toward the outlet vacuum seal device 13 without stopping.
【００２０】本発明は、上記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更
し得ることは勿論である。The present invention is not limited to the above-described embodiment, but can be variously modified without departing from the gist of the present invention.
【００２１】[0021]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、連
続真空蒸着装置において蒸着中にるつぼからスプラッシ
ュが発生しても、スプラッシュ付着防止用シャッタによ
り基板への付着を防止する。したがって、基板の巻き取
りの際、圧こんがスプラッシュの無い所まで付いてしま
うことがないので製品の歩留りを向上させることができ
るなど優れた効果を奏する。As described above, according to the present invention, even if splash occurs from the crucible during vapor deposition in the continuous vacuum vapor deposition apparatus, the splash adhesion preventing shutter prevents the adhesion to the substrate. Therefore, when the substrate is wound up, the indentation does not reach up to a place where there is no splash, so that it is possible to improve the yield of the product, which is an excellent effect.
【図１】本発明の連続真空蒸着装置の真空成膜室の断面
図である。FIG. 1 is a sectional view of a vacuum film forming chamber of a continuous vacuum vapor deposition apparatus of the present invention.
【図２】図１に示すスクレーパの拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of the scraper shown in FIG.
【図３】従来の連続真空蒸着装置を示した全体構成図で
ある。FIG. 3 is an overall configuration diagram showing a conventional continuous vacuum evaporation apparatus.
【図４】図３の一部拡大図である。FIG. 4 is a partially enlarged view of FIG. 3;
１ 連続真空蒸着装置 ２ 成膜室 ３ 基板 ４ 入側真空装置 ５ ロール ６ ポンプ ７ シールブロック ８ 予備加熱装置 ９ 電子銃 １０ 電子ビーム １１ るつぼ １２ 蒸発材料 １３ 出側真空装置 １４ アンコイラー １５ リコイラー １６ 輻射熱防止用シャッタ １７ ローラ １８ 輻射熱防止用シャッタ支持材 １９ スプラッシュ付着防止用シャッタ ２０ スプラッシュ付着防止用シャッタガイド ２１ スプラッシュ検出器 ２１ａ 発信器 ２１ｂ 受信器 ２１ｃ 光線 ２２ スプラッシュ 1 continuous vacuum deposition apparatus 2 film forming chamber 3 substrate 4 inlet side vacuum apparatus 5 roll 6 pump 7 seal block 8 preheating apparatus 9 electron gun 10 electron beam 11 crucible 12 evaporation material 13 outlet side vacuum apparatus 14 uncoiler 15 recoiler 16 radiation heat prevention Shutter 17 roller 18 shutter support material for preventing radiant heat 19 shutter for splash adhesion prevention 20 shutter guide for splash adhesion prevention 21 splash detector 21a transmitter 21b receiver 21c light beam 22 splash
フロントページの続き (72)発明者 毛利 元治 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内 (72)発明者 松田 至康 神奈川県横浜市磯子区新中原町１番地 石 川島播磨重工業株式会社横浜エンジニアリ ングセンター内Front page continuation (72) Inventor Motoharu Mohri, Shin Nakahara-cho, Isogo-ku, Yokohama-shi, Kanagawa, Ishikawajima-Harima Heavy Industries, Ltd. Yokohama Engineering Center (72) Inventor, Yoshiyasu Matsuda, Shinagawa, Yokohama Haramachi No. 1 Ishikawajima Harima Heavy Industries Ltd. Yokohama Engineering Center
Claims (2)
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてるつぼ
から発生して基板に付着するスプラッシュの付着防止装
置であって、るつぼ上方の前記基板との間に基板より幅
広で薄い平板状のスプラッシュ付着防止用シャッタを急
速開閉可能に配設するとともに該スプラッシュ付着防止
用シャッタの下方にスプラッシュ検出器を配設したこと
を特徴とする連続真空蒸着装置におけるスプラッシュの
付着防止装置。1. An apparatus for preventing adhesion of splash generated from a crucible and adhering to a substrate in a continuous vacuum vapor deposition apparatus for depositing an evaporation material on a belt-shaped substrate continuously traveling in a vacuum film forming chamber, the substrate above the crucible. A continuous vacuum vapor deposition characterized in that a flat plate-shaped splash adhesion prevention shutter that is wider and thinner than the substrate is disposed between the and, so that it can be opened and closed rapidly, and a splash detector is disposed below the splash adhesion prevention shutter. Splash adhesion prevention device in the device.
に蒸発材料を蒸着する連続真空蒸着装置においてるつぼ
から発生して基板に付着するスプラッシュの付着防止方
法であって、蒸発材料を蒸着中、スプラッシュが発生す
ると、スプラッシュ検出器がそれを検知し、スプラッシ
ュ付着防止用シャッタを作動して基板の下面を急速に遮
蔽するようにしたことを特徴とする連続真空蒸着装置に
おけるスプラッシュの付着防止方法。2. A method for preventing adherence of splashes generated from a crucible and adhering to a substrate in a continuous vacuum vapor deposition apparatus for vapor depositing vaporized material on a belt-shaped substrate that continuously runs in a vacuum film forming chamber, during vapor deposition of vaporized material. When a splash occurs, the splash detector detects it, and operates the splash adhesion prevention shutter to rapidly shield the lower surface of the substrate, thereby preventing the adhesion of splash in a continuous vacuum deposition apparatus. .
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30602395A JPH09143735A (en) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | Splash adhesion preventive device and its adhesion preventive method for continuous vacuum deposition apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30602395A JPH09143735A (en) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | Splash adhesion preventive device and its adhesion preventive method for continuous vacuum deposition apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143735A true JPH09143735A (en) | 1997-06-03 |
Family
ID=17952152
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30602395A Pending JPH09143735A (en) | 1995-11-24 | 1995-11-24 | Splash adhesion preventive device and its adhesion preventive method for continuous vacuum deposition apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143735A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115612990A (en) * | 2022-10-28 | 2023-01-17 | 光洋新材料科技(昆山)有限公司 | Anti-sticking treatment method for evaporation crucible |
-
1995
- 1995-11-24 JP JP30602395A patent/JPH09143735A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN115612990A (en) * | 2022-10-28 | 2023-01-17 | 光洋新材料科技(昆山)有限公司 | Anti-sticking treatment method for evaporation crucible |
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