JPH0913095A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

洗浄剤組成物

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JPH0913095A
JPH0913095A JP18821495A JP18821495A JPH0913095A JP H0913095 A JPH0913095 A JP H0913095A JP 18821495 A JP18821495 A JP 18821495A JP 18821495 A JP18821495 A JP 18821495A JP H0913095 A JPH0913095 A JP H0913095A
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JP
Japan
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integer
surfactant
formula
polyoxyethylene
polyoxyalkylene
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Pending
Application number
JP18821495A
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English (en)
Inventor
Koji Kawaguchi
幸治 川口
Kunio Nagai
邦夫 永井
Kazumi Amagishi
和美 天岸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
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Publication date
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  • Detergent Compositions (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 環境破壊の恐れがなく、優れた洗浄性を有し
た洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 下記一般式(1)または(2)で示されるポ
リシロキサンにHLB2〜10のポリオキシアルキレン
型ノニオン界面活性剤を含有することを特徴とする洗浄
剤組成物;並びに下記一般式(1)または(2)で示さ
れるポリシロキサンに珪素含有ポリオキシアルキレン型
ノニオン界面活性剤またはフッ素含有ポリオキシアルキ
レン型ノニオン界面活性剤を含有することを特徴とする
洗浄剤組成物。 【化1】 (mは0〜4の整数である。) 【化2】

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄剤組成物に関し、
特に金属、セラミックス、ガラス、プラスチックなどの
加工部品、光学部品、電子部品用の洗浄剤組成物に関す
る。
【0002】
【従来の技術】光学機器、電子機器などの精密機器の部
品に使用される金属、セラミックス、ガラス、プラスチ
ックなどを加工する過程において、付着している油等を
洗浄剤で洗浄する工程があり、従来、このような洗浄に
は、1,1,2−トリクロロ1,2,2−トリフルオロ
エタン(フロンR113)、トリクロロエタン、脂肪族
飽和炭化水素や界面活性剤の水溶液などが使用されてき
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フロン
R113やトリクロロエタンなどの塩素系溶剤は化学的
に安定で対流圏内での寿命が長く、成層圏に達してオゾ
ン層を破壊して人類や環境に対して悪い影響を与えるこ
とが近年指摘されている。また、脂肪族飽和炭化水素は
樹脂やゴムを膨潤させやすい、さらに、界面活性剤の水
溶液は、水を含有しているため金属の腐食の可能性があ
るなどの問題がある。本発明は、かかる状況に対応すべ
く、オゾン層を破壊せず、乾燥性に優れ、かつ、樹脂や
ゴムに対する影響が少ない洗浄剤組成物を提供するもの
である。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
について鋭意研究した結果、ポリシロキサン中に特定の
ポリオキシアルキレン型ノニオン系界面活性剤を含有さ
せた洗浄剤組成物により、上記目的が達成されることを
見い出し本発明に到達した。
【0005】すなわち、本発明は、下記一般式(1)ま
たは(2)で示されるポリシロキサン(A)にHLB2
〜10のポリオキシアルキレン型ノニオン界面活性剤
(B)を含有することを特徴とする洗浄剤組成物;下記
一般式(1)または(2)で示されるポリシロキサン
(A)と珪素含有ポリオキシアルキレン型ノニオン界面
活性剤(C)またはフッ素含有ポリオキシアルキレン型
ノニオン界面活性剤(D)を含有することを特徴とする
洗浄剤組成物である。
【0006】
【化5】
【0007】(式中、mは0〜4の整数を表す。)
【0008】
【化6】
【0009】(式中、nは3〜6の整数を表す。)
【0010】(B)とは、ポリオキシアルキレン鎖を含
有した界面活性剤のことである。ポリオキシアルキレン
鎖としては、例えばポリオキシエチレン、ポリオキシエ
チレンポリオキシプロピレンブロック共重合体、ポリオ
キシエチレンポリオキシプロピレンランダム共重合体な
どが挙げられる。
【0011】(B)としては、例えばポリオキシアルキ
レンアルキルフェノールエーテル{ポリオキシエチレン
オクチルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンノニ
ルフェノールエーテル、ポリオキシエチレンドデシルフ
ェノールエーテルなど}、ポリオキシアルキレンアルキ
ルエーテル{ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポ
リオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテルなど}、ポリオキシアルキレン高
級脂肪酸エステル{ポリオキシエチレンラウレート、ポ
リオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンオ
レエートなど}、ポリオキシアルキレンソルビタン高級
脂肪酸エステル{ポリオキシエチレンソルビタンラウレ
ート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポ
リオキシエチレンソルビタンオレエートなど}、ポリオ
キシアルキレングリコール{ポリオキシエチレンポリオ
キシプロピレンブロックポリマーなど}、多価アルコー
ルのアルキレンオキシド付加物などが挙げられるがこれ
に限定されるものではない。
【0012】(B)の含有量は、0.01〜20.0%
好ましくは0.1〜10.0%である。
【0013】(B)のHLBは、2〜10で好ましくは
3〜7である。2未満の場合は十分に洗浄効果を発揮せ
ず、10を超える場合はポリシロキサンに溶解しにくい
ため、十分に洗浄効果を発揮しない。
【0014】本発明におけるHLBとは、界面活性剤の
親水性と疎水性のバランスを数量的に表したものであ
り、下式(3)で表される。 HLB=(親水基部分の分子量/界面活性剤の分子量)×20 (3)
【0015】(C)とは、分子中に珪素原子を少なくと
も1個以上と、ポリオキシアルキレン鎖を含有したノニ
オン界面活性剤である。例えば、下記一般式(I)で示
されるシロキサンのエチレンオキシド付加物および下記
一般式(II)で示されるアルキルシランのエチレンオ
キシド付加物などが挙げられるが、これに限定されるも
のではない。
【0016】
【化7】
【0017】(式中xは0〜120の整数、yは1〜4
0の整数、aは1〜30の整数、bは0〜30の整数、
1は炭素数1〜20のアルキレンもしくはアルケニレ
ン基、R2はH、炭素数1〜20のアルキルもしくはア
ルケニル基である。)
【0018】
【化8】
【0019】(式中nは1〜3の整数、mは1〜30の
整数、RはH、炭素数1〜20のアルキルもしくはアル
ケニル基、パーフルオロアルキル基である。)
【0020】(C)の代表例としては、信越化学工業
(株)製の商品名、KF−352、KF−945、X−
22−6008、X−70−090、X−70−09
1、X−70−092、X−70−093等があげられ
る。
【0021】(C)の含有量は、0.01〜20.0%
好ましくは0.1〜10.0%である。
【0022】(C)中のオキシエチレン単位の含有量
は、10〜70重量%好ましくは15〜50重量%であ
る。10重量%未満の場合は十分に洗浄効果を発揮せ
ず、70重量%を超える場合は(A)に溶解しにくいた
め十分に洗浄効果を発揮しない。
【0023】(D)とは、分子中にフッ素原子を少なく
とも1個以上とポリオキシアルキレン鎖を含有している
界面活性剤である。例えば、疎水性基としてパーフルオ
ロアルキル基、親水性基としてポリオキシエチレン鎖を
含有したもので、ポリオキシエチレンパーフルオロアル
キルエーテル、ポリオキシエチレンパーフルオロ脂肪酸
エステル、パーフルオロ基含有アクリル酸エステルとポ
リオキシエチレンアクリル酸エステルの共重合物、アル
キル基含有アクリル酸エステルとアルキル基含有アクリ
ル酸エステルとポリオキシエチレンアクリル酸エステル
の共重合物などが挙げられるが、これに限定されるもの
ではない。
【0024】(D)の代表例としては、大日本インキ化
学工業(株)製の商品名メガファックシリーズとしてF
−171、F−177、F−179などが挙げられる。
【0025】(D)の含有量は、0.01〜20.0重
量%好ましくは0.1〜10.0重量%である。
【0026】(D)中のオキシエチレン単位の含有量
は、10〜80重量%好ましくは15〜60重量%であ
る。10重量%未満の場合は十分に洗浄効果を発揮せ
ず、80重量%を超える場合は(A)に溶解しにくいた
め十分に洗浄効果を発揮しない。
【0027】本発明の組成物においては、必要に応じて
その他の成分を更に添加することできる。例えば溶剤と
して、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプ
ロピルアルコール等のアルコール類、ペンタン、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロペンタン、シクロヘキサン等のア
ルカン類およびシクロアルカン類、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルブチルケトン等のケトン類、メチル
カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトー
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル等のグリコールエーテル
類等を適宜添加することができる。
【0028】洗浄方法としては、浸漬、スプレー、揺
動、超音波洗浄を用いることができる。好ましくは、揺
動または超音波洗浄である。
【0029】
【実施例】以下実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施
例中%は重量%を示す。
【0030】下記処方により洗浄剤組成物を作成した。 実施例1 オクタメチルトリシロキサン 98.0% ノニルフェノールエチレンオキシト゛2モル付加物 2.0% (HLB:5.7) 実施例2 ヘキサメチルジシロキサン 98.0% KF−945(信越化学工業(株)製) 2.0% 実施例3 ヘキサメチルジシロキサン 98.0% X−70−092(信越化学工業(株)製) 2.0% 実施例4 ヘキサメチルジシロキサン 99.0% メガファックF−171(大日本インキ化学工業(株)製) 1.0% 実施例5 オクタメチルトリシロキサン 99.0% メガファックF−171(大日本インキ化学工業(株)製) 1.0%
【0031】比較例1 イソパラフィン系溶剤(平均炭素数:12) 100% 比較例2 イソパラフィン系溶剤(平均炭素数:12) 90% ジエチレングリコールジエチルエーテル 10% 比較例3 ヘキサメチルジシロキサン 100%
【0032】<洗浄性試験>研磨洗浄した金属鋼板に汚
染物質(鉱物油70%、植物油20%、オレイン酸10
%)を塗布し、室温で24時間風乾して汚染板のテスト
ピースを作成した。このテストピースをそれぞれの洗浄
剤中で超音波洗浄(室温1分間)した後、40℃の温風
で乾燥させた。次いで、鋼板に残存している汚染物質を
四塩化炭素で抽出し、赤外吸光スペクトルで吸光度を測
定し、吸光度と汚染物質濃度の関係を示す検量線から洗
浄率を求めた。その結果を表1に示す。
【0033】<樹脂・ゴムに対する影響>樹脂およびゴ
ムを洗浄剤中に40℃にて7日間浸漬し、重量の変化率
を求めた。その結果を表2に示す。
【0034】
【表1】
【0035】
【表2】
【0036】
【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、従来使用され
てきたフロンR113と同等の洗浄効果を有している。
また、フロンR113やトリクロロエタンと同様に、樹
脂やゴムに対する影響も少なく、且つ、非塩素系のため
環境の破壊の恐れがないものであり、加工部品、光学部
品、電子部品用として、特に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C11D 7:26)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)または(2)で表せる
    ポリシロキサン(A)中に、HLBが2〜10のポリオ
    キシアルキレン型ノニオン界面活性剤(B)を含有する
    ことを特徴とする洗浄剤組成物。 【化1】 (式中、mは0〜4の整数を表す。) 【化2】 (式中、nは3〜6の整数を表す。)
  2. 【請求項2】 (B)の含有量が、0.01〜20.0
    重量%である請求項1記載の洗浄剤組成物。
  3. 【請求項3】 加工部品、光学部品または電子部品用で
    ある請求項1または2記載の洗浄剤組成物。
  4. 【請求項4】 下記一般式(1)または(2)で表せる
    ポリシロキサン(A)中に、珪素含有ポリオキシアルキ
    レン型ノニオン界面活性剤(C)またはフッ素含有ポリ
    オキシアルキレン型ノニオン界面活性剤(D)を含有す
    ることを特徴とする洗浄剤組成物。 【化3】 (式中、mは0〜4の整数を表す。) 【化4】 (式中、nは3〜6の整数を表す。)
  5. 【請求項5】 (C)または(D)の含有量が、0.0
    1〜20.0重量%である請求項4記載の洗浄剤組成
    物。
  6. 【請求項6】 加工部品、光学部品または電子部品用で
    ある請求項4または5記載の洗浄剤組成物。
JP18821495A 1995-06-29 1995-06-29 洗浄剤組成物 Pending JPH0913095A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000313900A (ja) * 1999-04-09 2000-11-14 General Electric Co <Ge> クリーニング組成物並びに方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2000313900A (ja) * 1999-04-09 2000-11-14 General Electric Co <Ge> クリーニング組成物並びに方法

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