JPH09129707A - 基板処理装置の制御方法 - Google Patents
基板処理装置の制御方法Info
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- JPH09129707A JPH09129707A JP30345895A JP30345895A JPH09129707A JP H09129707 A JPH09129707 A JP H09129707A JP 30345895 A JP30345895 A JP 30345895A JP 30345895 A JP30345895 A JP 30345895A JP H09129707 A JPH09129707 A JP H09129707A
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Abstract
処理中の基板に対するプロセス上の悪影響を防止する。 【解決手段】 複数の処理ユニットの中のいずれかの処
理ユニットが、異常を通知する警報を発生すると、搬送
経路において警報発生ユニットまたは所定のスキップモ
ード対象ユニットよりも下流側に位置する基板に対して
は、搬送経路を完了するまで処理と搬送を継続する。一
方、警報発生ユニットまたはスキップモード対象ユニッ
トよりも上流側に位置する基板については搬送を中止す
る。
Description
液晶表示基板などの基板を、予め設定された搬送経路に
従って複数の処理ユニットに順次搬送しつつ処理する基
板処理装置の制御方法に関する。
トに基板を搬送する順序(搬送経路)と各処理ユニット
における処理条件とを規定する処理レシピに従って、基
板が搬送ロボットによって各処理ユニットに搬送され、
各処理ユニットにおいてそれぞれ処理が実行される。と
ころで、基板の処理中に、複数の処理ユニットの中の1
つが異常を通知するための警報を発生する場合がある。
従来は、このような警報が発生すると、基板の搬送と、
各処理ユニットにおける処理とをその時点で停止してい
た。
途中で停止してしまうと、処理中の基板にプロセス上の
悪影響を与えてしまう場合がある。例えば、基板を加熱
する処理の進行を停止すると、予定よりも長時間熱処理
を行なう結果となり、いわゆるオーバーベーク(過度の
熱処理)となってしまう。
を解決するためになされたものであり、処理ユニットか
ら警報が発生した場合にも、処理中の基板に対するプロ
セス上の悪影響を防止することができる制御方法を提供
することを目的とする。
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第1の発明
では、処理対象の基板を予め設定された搬送経路に従っ
て複数の処理ユニットに順次搬送しつつ処理する基板処
理装置の制御方法であって、前記複数の処理ユニットの
中のいずれかの処理ユニットの異常を通知する警報の発
生に応じて、前記搬送経路において警報発生ユニットよ
り下流側に位置する基板に対しては前記搬送経路を完了
するまで処理と搬送とを継続するとともに、前記警報発
生ユニットより上流側に位置する基板については搬送を
中止するスキップモードを備える。
側に位置する基板に対しては処理を完了できるので、少
なくともこれらの基板に対するプロセス上の悪影響を防
止することができる。
定された搬送経路に従って複数の処理ユニットに順次搬
送しつつ処理する基板処理装置の制御方法であって、前
記複数の処理ユニットの中から少なくとも1つをスキッ
プモード対象ユニットとして予め選択し、前記複数の処
理ユニットの中のいずれかの処理ユニットの異常を通知
する警報の発生に応じて、前記搬送経路において前記ス
キップモード対象ユニットより下流側に位置する基板に
対しては前記搬送経路を完了するまで処理と搬送とを継
続するとともに、前記スキップモード対象ユニットより
上流側に位置する基板については搬送を中止するスキッ
プモードを備える。
よりも下流側に位置する基板に対しては処理を完了でき
るので、少なくともこれらの基板に対するプロセス上の
悪影響を防止することができる。
記警報の発生に応じて、前記搬送経路に位置するすべて
の処理中の基板に対して前記搬送経路を完了するまで処
理と搬送とを継続した後に動作を停止する処理完了モー
ドを備え、前記警報が発生した時に、前記スキップモー
ドと前記処理完了モードの中の予め選択された一方のモ
ードを実行することが好ましい。
ードか処理完了モードかを選択的に実行するように設定
することができるので、基板処理装置の効率を向上させ
ることができる。
は、基板に薬液を塗布する薬液塗布ユニットであること
が好ましい。
薬液が塗布された基板に対するプロセス上の悪影響を防
止することができる。
も含んでいる。第1の態様は、処理対象の基板を予め設
定された搬送経路に従って複数の処理ユニットに順次搬
送しつつ処理する基板処理装置の制御装置であって、前
記複数の処理ユニットの中のいずれかの処理ユニットの
異常を通知する警報の発生を検出する警報検出手段と、
前記警報に応じて、前記搬送経路において警報発生ユニ
ットより下流側に位置する基板に対しては前記搬送経路
を完了するまで処理と搬送とを継続するとともに、前記
警報発生ユニットより上流側に位置する基板については
搬送を中止するスキップモード実行手段と、を備える。
された搬送経路に従って複数の処理ユニットに順次搬送
しつつ処理する基板処理装置の制御装置であって、前記
複数の処理ユニットの中から少なくとも1つをスキップ
モード対象ユニットとして予め選択する選択手段と、前
記複数の処理ユニットの中のいずれかの処理ユニットの
異常を通知する警報の発生を検出する警報検出手段と、
前記警報に応じて、前記搬送経路において前記スキップ
モード対象ユニットより下流側に位置する基板に対して
は前記搬送経路を完了するまで処理と搬送とを継続する
とともに、前記スキップモード対象ユニットより上流側
に位置する基板については搬送を中止するスキップモー
ド実行手段と、を備える。
例に基づき説明する。図1は、この発明の実施例を適用
する半導体ウェハ処理装置を示す斜視図である。この半
導体ウェハ処理装置は、半導体ウェハWに一連の処理
(この実施例では塗布処理、現像処理、加熱処理、冷却
処理)を行うための複数の処理ユニットを備えたスピン
ナである。前面に配列された第1の処理ユニット群A
は、塗布処理を行うスピンコータSCと、現像処理を行
うスピンデベロッパSDとで構成されている。
後方側の位置には、第2の処理ユニット群Bが設けられ
ている。第2の処理ユニット群Bは、各種熱処理を行う
ホットプレートHP1〜HP3及びクールプレートCP
1〜CP3を備えている。
ト群Aと第2の処理ユニット群Bに挟まれた位置に、第
1の処理ユニット群Aに沿って延びる搬送領域Cが設け
られている。この搬送領域Cには搬送ロボット10が移
動自在に配置されている。この搬送ロボット10は、半
導体ウェハWをそれぞれ支持するための2本のアームを
有する支持部材11(図中ではひとつのアームのみが見
えている)を有する移動体12を備えている。この支持
部材11を構成する上下2本のアームは、アーム駆動機
構(図示省略)によって駆動され、各処理ユニットにお
いて半導体ウェハの交換を行なう。すなわち、一方のア
ームは、処理の終了した半導体ウェハを処理ユニットか
ら受け取り、他方のアームは他の処理ユニットから搬送
してきた半導体ウェハをその処理ユニットに載置する。
なお、図示を省略しているが、搬送ロボット10の移動
体12には3次元の駆動機構が連結されている。この駆
動機構は、移動体12を各処理ユニットの前に移動させ
て、半導体ウェハWの受渡しを可能としている。
ト20からの半導体ウェハWの搬出とカセット20への
半導体ウェハWの搬入とを行うインデクサINDが設け
られている。このインデクサINDに設けられた移載ロ
ボット40は、カセット20から半導体ウェハWを取り
出し、搬送ロボット10に送り出したり、逆に一連の処
理が施された半導体ウェハWを搬送ロボット10から受
け取り、カセット20に戻す作業を行なう。なお、図1
には図示が省略されているが、インデクサINDの反対
側(図面右側)の端部には、半導体ウェハWを他の処理
装置(例えばステッパ等の露光装置)との間で受け渡し
するインターフェースユニットが設けられている。実施
例の半導体ウェハ処理装置と他の処理装置との間の半導
体ウェハWの受渡しは、インターフェースユニットに設
けられた移動ロボット(図示省略)と搬送ロボット10
とが協働することによって行なわれる。
ロック図である。図2において、コントローラ50は、
演算部(CPU)やメインメモリ(RAMおよびRO
M)を備えた演算処理装置であり、ディスプレイ51お
よびキーボード52が接続されている。コントローラ5
0は、予め設定された処理レシピに従って搬送ロボット
10や移載ロボット40(インデクサINDのロボッ
ト)、および、各処理ユニットSC,SD,HP1〜H
P3,CP1〜CP3の動作を制御する。コントローラ
50は、さらに、警報の発生を検出する警報検出手段
や、後述するスキップモードを実行するスキップモード
実行手段としての機能を有している。
を実現するソフトウェアプログラム(アプリケーション
プログラム)は、フロッピディスクやCD−ROM等の
携帯型記憶媒体(可搬型記憶媒体)からコントローラ5
0のメインメモリまたは外部記憶装置に転送される。
半導体ウェハの搬送経路の一例示す説明図である。この
例では、半導体ウェハは、インデクサINDからホット
プレートHP1、クールプレートCP1、スピンコータ
SC、ホットプレートHP2、および、クールプレート
CP2の順に搬送されて各処理ユニットで処理を受け、
最後にインデクサINDのカセット20内に戻される。
図3において、各処理ユニットを示すブロック内に記さ
れた符号n〜(n−6)は、それぞれで処理されている
半導体ウェハの番号を示している。すなわち、図3の状
態では、(n−6)番目のウェハがクールプレートCP
2で冷却され、(n−5)番目のウェハがホットプレー
トHP2で加熱されている。同様に、その後に続く各ウ
ェハもそれぞれの処理ユニットにおいて処理が実行され
ている。インデクサINDの位置に記載されたn番目の
ウェハは、カセット20から移載ロボット40によって
取出されており、搬送ロボット10に受け渡すための図
示しないピン上に待機している状態にある。
6は、搬送ロボット10によって搬送される動作に対応
している。この実施例においては、図3の左端のパスP
1から右端のパスP6までの間に存在するウェハを「処
理中のウェハ」と呼ぶ。従って、各処理ユニットHP
1,CP1,SC,HP2,CP2において処理されて
いるウェハが「処理中のウェハ」である。一方、インデ
クサINDのピン上に待機しているウェハ(インデクサ
INDを示すブロック内に記されているウェハ)は「処
理中のウェハ」ではない。
め設定された処理レシピに登録されている。処理レシピ
とは、搬送経路と、各処理ユニットにおける処理条件と
を規定したデータである。コントローラ50は、この処
理レシピに従って搬送ロボット10と移載ロボット40
と各処理ユニットとを制御する。すなわち、半導体ウェ
ハ処理装置が正常に動作している場合には、図3に示す
搬送経路に従って、ウェハが順次処理されていく。
常を検出すると警報を発生してコントローラ50に通知
する。警報としては、例えば、スピンコータSCにおけ
る薬液量の不足や、ホットプレートHP1,HP2にお
ける温度異常等がある。コントローラ50は、この警報
を使用者に知らせるととともに、警報発生に応じた制御
を実行する。
50の制御動作を示すフローチャートである。ステップ
S1では、警報が発生したか否かをコントローラ50が
監視している。警報が発生すると、コントローラ50は
ステップS2においてインデクサINDからの新たなウ
ェハの送り出しを停止する。また、ステップS3におい
て、インデクサINDのピン上に待機しているウェハを
カセット20に収納する。なお、ステップS3の動作は
省略することも可能である。
されているか否かをコントローラ50が判断する。使用
者は、キーボード52からスキップモードを実行するか
否かを予め指定することが可能である。スキップモード
に設定されている場合には、ステップS5においてスキ
ップモードの制御を実行し、一方、スキップモードに設
定されていない場合にはステップS6においてインデク
サ送り出し停止処理の制御を実行する。
生時において処理中のウェハのすべてについてそのまま
処理と搬送を継続し、インデクサINDまで戻す動作で
ある。すなわち、図3の状態で警報が発生した場合にイ
ンデクサ送り出し停止処理を実行すると、(n−5)番
目から(n−1)番目までの5枚のウェハについて処理
と搬送が継続されて、インデクサINDまで搬送され
る。インデクサ送り出し停止処理では、半導体ウェハ処
理装置内に処理中のウェハが存在しなくなるまで処理と
搬送を継続するので、処理途中でウェハが放置されるこ
とが無いという利点がある。なお、このようなインデク
サ送り出し停止処理を行なうためには、警報発生時に各
処理ユニットに存在するウェハの処理をすべて最後まで
完了できる程度に余裕を持って警報を発生させる必要が
ある。この明細書における「警報」は、警報発生ユニッ
トを直ちに停止させる必要があることを意味するもので
はなく、少なくとも所定数(例えば5枚)のウェハを処
理できる程度の異常が発生したことを示すものである。
なおインデクサ送り出し停止処理のモードは、本願発明
における処理完了モードに相当する。
ドの処理では、コントローラ50が、警報を発生した処
理ユニット(「警報発生ユニット」と呼ぶ)以降の搬送
経路に位置する処理中のウェハについて、処理と搬送を
そのまま継続してインデクサINDのカセット20内に
戻し、それらのウェハがすべてインデクサINDに戻っ
た時点で半導体ウェハ処理装置を停止させる。一方、警
報発生ユニットより前の搬送経路に位置する処理中のウ
ェハは、各処理ユニットにおける処理の終了後に搬送を
停止し、各処理ユニットの待機位置において待機させ
る。図5は、警報発生時のスキップモードの動作内容を
示す説明図である。図5に示すように、スピンコータS
Cが警報を発生した場合には、スピンコータSC及びそ
れ以降の搬送経路に位置する処理中ウェハ(n番目と
(n−2)番目と(n−1)番目のウェハ)の処理はそ
のまま継続し、インデクサINDまで戻る。一方、スピ
ンコータSCより上流側の経路に位置する処理中ウェハ
((n+1)番目と(n+2)番目のウェハ)はその処
理ユニットでの処理の終了後にその位置で待機させる。
に移行した場合のウェハの流れを示す説明図である。図
6の左端の欄は処理サイクルを示している。ここで、1
サイクルとは、各ウェハが1つの処理ユニットで処理さ
れて次の処理ユニットに搬送されるまでの期間を意味し
ている。また、上段のIND,HP1,CP1等は、各
処理ユニットを示しており、その下に記されたn,n−
1等の符号はウェハの順番を示している。また、符号
「x」はウェハが存在しないことを示している。
状態に対応し、処理サイクル(m+3)は図5の状態に
対応する。処理サイクル(m+3)でスピンコータSC
が警報を発生した場合には、インデクサINDに存在す
る(n+3)番目のウェハがカセットに戻され、(n+
2)番目と(n+1)番目のウェハはそれぞれの処理ユ
ニットにおいて待機する。これは、処理サイクル(m+
4)〜(m+6)に示されている。また、スピンコータ
SC及びそれ以降の処理ユニットに存在するウェハは、
処理サイクル(m+4)〜(m+6)において順次処理
されてインデクサINDまで戻される。この結果、処理
サイクル(m+7)では、警報発生ユニットであるスピ
ンコータSC以降の搬送経路にはウェハが存在せず、こ
の状態で半導体ウェハ処理装置全体の動作が停止する。
そして、処理サイクル(m+7)において警報が解除さ
れると、図6に示すように、スキップモードで中断した
状態から処理が継続される。
P1〜P6のいずれかに存在していたウェハは、少なく
ともその次の処理ユニットに渡される。例えば、スピン
コータSCで警報が発生した時点で、スピンコータSC
より上流側のパスP1〜P3に存在するウェハはその次
の処理ユニットHP1,CP1,SCにそれぞれ渡され
て待機する。一方、スピンコータSCよりも下流側のパ
スP4〜P6に存在するウェハについては、そのまま処
理と搬送とが継続して実行され、インデクサINDまで
戻される。
は、搬送経路上において、互いに同等な複数の処理ユニ
ットが並列に配列されることがある。例えば、図5にお
いて、ホットプレートHP1の位置に並列に複数のホッ
トプレートが配置される。このような場合に、並列に配
列された互いに同等の複数の処理ユニットの1つが警報
を発生した場合には、警報発生ユニットと同等な他の処
理ユニットに存在するウェハについてもその処理と搬送
が最後まで継続される。
搬送経路に存在するウェハについては処理が完了するま
で継続し、一方、警報発生ユニットより前の搬送経路に
存在するウェハについてはその位置で待機させるように
したので、警報発生ユニット以降の経路に存在するウェ
ハについては通常通りの処理を行なうことができる。こ
の結果、警報発生ユニット以降の経路に存在するウェハ
については、オーバベーク等のプロセス上の悪影響を与
えること無く処理を完了できる。
理モードでは、警報発生時に処理中であるすべてのウェ
ハの処理を完了できる程度に余裕をもって警報を発生さ
せる必要があるに対して、スキップモードの処理では、
その警報発生ユニット以降の経路に存在するウェハの処
理を完了する程度の余裕があればよい。すなわち、スキ
ップモードでは、警報発生に見込む余裕が小さくてよい
ので、装置全体の効率を向上させることができるという
利点がある。
に、使用者はスキップモードとインデクサ送り出し停止
処理モードのいずれかに設定することができるので、処
理レシピ等に応じて2つの処理モードの一方を選択する
ことによって半導体ウェハ処理装置の稼働効率を向上さ
せることができる。
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能であり、
例えば次のような変形も可能である。
警報発生ユニット以降の経路に存在するウェハについて
の処理を継続して完了するものとしていた。この代わり
に、警報発生時に、特定の処理ユニット(スキップモー
ド対象ユニット)以降の経路に存在するウェハに対する
処理のみを継続して完了することも可能である。例え
ば、スピンコータSCをスキップモード対象ユニットと
して設定し、警報発生時には、いずれの処理ユニットが
警報発生ユニットであるかに拘らず、スキップモード対
象ユニットであるスピンコータSC以降の経路に存在す
るウェハの処理のみを継続するようにすることが可能で
ある。特に、スピンコータSCにおいて極めて効果な薬
液(例えばポリイミド)を使用しているような場合に
は、スピンコータSCで処理したウェハが不良になると
経済的な効率が大幅に低下する。従って、上記の変形例
によれば、警報発生時にスピンコータSCで薬液が塗布
済みのウェハについてはその処理を完了できるので、薬
液を無駄にすることを防止できるという利点がある。
装置を示す斜視図。
Wの搬送経路を示す説明図。
ート。
合のウェハの流れを示す説明図。
Claims (4)
- 【請求項1】 処理対象の基板を予め設定された搬送経
路に従って複数の処理ユニットに順次搬送しつつ処理す
る基板処理装置の制御方法であって、 前記複数の処理ユニットの中のいずれかの処理ユニット
の異常を通知する警報の発生に応じて、前記搬送経路に
おいて警報発生ユニットより下流側に位置する基板に対
しては前記搬送経路を完了するまで処理と搬送とを継続
するとともに、前記警報発生ユニットより上流側に位置
する基板については搬送を中止するスキップモードを備
える、基板処理装置の制御方法。 - 【請求項2】 処理対象の基板を予め設定された搬送経
路に従って複数の処理ユニットに順次搬送しつつ処理す
る基板処理装置の制御方法であって、 前記複数の処理ユニットの中から少なくとも1つをスキ
ップモード対象ユニットとして予め選択し、 前記複数の処理ユニットの中のいずれかの処理ユニット
の異常を通知する警報の発生に応じて、前記搬送経路に
おいて前記スキップモード対象ユニットより下流側に位
置する基板に対しては前記搬送経路を完了するまで処理
と搬送を継続するとともに、前記スキップモード対象ユ
ニットより上流側に位置する基板については搬送を中止
するスキップモードを備える、基板処理装置の制御方
法。 - 【請求項3】 請求項1または2記載の基板処理装置の
制御方法であって、さらに、 前記警報の発生に応じて、前記搬送経路に位置するすべ
ての処理中の基板に対して前記搬送経路を完了するまで
処理と搬送とを継続した後に動作を停止する処理完了モ
ードを備え、 前記警報が発生した時に、前記スキップモードと前記処
理完了モードの中の予め選択された一方のモードを実行
する、基板処理装置の制御方法。 - 【請求項4】 請求項2または3記載の基板処理装置の
制御方法であって、 前記スキップモード対象ユニットは、基板に薬液を塗布
する薬液塗布ユニットである、基板処理装置の制御方
法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30345895A JP3512539B2 (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 基板処理装置の制御方法 |
US08/729,588 US5898588A (en) | 1995-10-27 | 1996-10-11 | Method and apparatus for controlling substrate processing apparatus |
KR1019960046194A KR100273939B1 (ko) | 1995-10-27 | 1996-10-16 | 기판처리장치 및 그 제어방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30345895A JP3512539B2 (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 基板処理装置の制御方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003085875A Division JP4071139B2 (ja) | 2003-03-26 | 2003-03-26 | 基板処理装置の制御方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09129707A true JPH09129707A (ja) | 1997-05-16 |
JP3512539B2 JP3512539B2 (ja) | 2004-03-29 |
Family
ID=17921225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30345895A Expired - Lifetime JP3512539B2 (ja) | 1995-10-27 | 1995-10-27 | 基板処理装置の制御方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3512539B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002288714A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | カード発行装置及びカード発行方法 |
WO2006006364A1 (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-19 | Tokyo Electron Limited | 基板の回収方法及び基板処理装置 |
JP2014216498A (ja) * | 2013-04-25 | 2014-11-17 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板熱処理装置 |
-
1995
- 1995-10-27 JP JP30345895A patent/JP3512539B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002288714A (ja) * | 2001-03-27 | 2002-10-04 | Dainippon Printing Co Ltd | カード発行装置及びカード発行方法 |
WO2006006364A1 (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-19 | Tokyo Electron Limited | 基板の回収方法及び基板処理装置 |
US7840299B2 (en) | 2004-07-07 | 2010-11-23 | Tokyo Electron Limited | Substrate collection method and substrate treatment apparatus |
JP2014216498A (ja) * | 2013-04-25 | 2014-11-17 | 東レエンジニアリング株式会社 | 基板熱処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3512539B2 (ja) | 2004-03-29 |
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Legal Events
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
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