JPH09100352A - Polysiloxane and its production - Google Patents
Polysiloxane and its productionInfo
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- JPH09100352A JPH09100352A JP14041896A JP14041896A JPH09100352A JP H09100352 A JPH09100352 A JP H09100352A JP 14041896 A JP14041896 A JP 14041896A JP 14041896 A JP14041896 A JP 14041896A JP H09100352 A JPH09100352 A JP H09100352A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、油剤の増粘剤等と
して有用な、新規な構造を有する梯子型シリコーンであ
るポリシロキサン及びその製造方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a polysiloxane which is a ladder-type silicone having a novel structure, which is useful as a thickener for oil agents and the like, and a method for producing the same.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、油剤を増粘させる化合物として
は、ステアリン酸アルミニウムのような金属石鹸、糖類
脂肪酸エステル、１２−ヒドロキシステアリン酸のよう
なヒドロキシ脂肪酸、四級アンモニウム塩で修飾した粘
土鉱物等が知られていた。Conventionally, as a compound for thickening an oil agent, metal soap such as aluminum stearate, saccharide fatty acid ester, hydroxy fatty acid such as 12-hydroxystearic acid, clay mineral modified with quaternary ammonium salt, etc. Was known.
【０００３】しかしながら、これらの化合物は本質的に
は油剤のゲル化剤であり、これらの化合物を増粘剤とし
て用いても、油剤を任意の粘度に、特に流動性を維持し
ながら、増粘させることはできなかった。さらに、これ
らの化合物によって形成されたゲルも、長期間放置する
と油剤を離床させる傾向にあるという問題点を有してい
た。However, these compounds are essentially gelling agents for oil agents, and even when these compounds are used as thickeners, the oil agents are thickened to an arbitrary viscosity, particularly while maintaining fluidity. I couldn't let you do it. Furthermore, the gel formed of these compounds also has a problem that the oil agent tends to be released from the bed when left for a long period of time.
【０００４】一方、シリコーンは、その物理的性質の有
用性が注目されており、近年種々の化合物が開発され、
且つ様々な用途に使用されている。シリコーンゴム、シ
リコーン油、シリコーン系表面処理剤等がその例であ
る。On the other hand, the usefulness of the physical properties of silicone has attracted attention, and various compounds have been developed in recent years.
And it is used for various purposes. Examples thereof include silicone rubber, silicone oil, and silicone-based surface treatment agents.
【０００５】しかしながら、公知のシリコーンとして
は、シランカップリング剤のような重合性もしくは反応
性モノマーやオリゴマー、メチルポリシロキサンやフェ
ニルポリシロキサンのような線状高分子及びその変性
物、３次元架橋シリコーン等が殆どであり、梯子型のポ
リシロキサンとしては、珪素間を酸素原子で架橋したも
のが知られているに過ぎない。However, known silicones include polymerizable or reactive monomers and oligomers such as silane coupling agents, linear polymers such as methylpolysiloxane and phenylpolysiloxane and their modified products, and three-dimensional crosslinked silicones. As a ladder-type polysiloxane, one in which silicon is crosslinked with oxygen atoms is known.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な状況に鑑みてなされたものであり、安定した増粘効果
を発揮できる、油剤の増粘剤として有用な、新規な構造
を有する梯子型ポリシロキサンを提供することを課題と
する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances and has a novel structure which can exhibit a stable thickening effect and is useful as a thickener for oil agents. An object is to provide a ladder-type polysiloxane.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記課題を
解決すべく鋭意検討した結果、珪素−珪素原子間に有機
結合を有する特定構造の新規な梯子型シリコーンが安定
した増粘効果を発揮することを見出し、本発明を完成し
た。Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a novel ladder-type silicone having a specific structure having an organic bond between silicon and silicon atoms has a stable thickening effect. The present invention has been completed by finding that it can be exerted.
【０００８】すなわち、本発明のポリシロキサンは、下
記一般式（１）で表される構造を有するものである。That is, the polysiloxane of the present invention has a structure represented by the following general formula (1).
【０００９】[0009]
【化４】 Embedded image
【００１０】［式（１）中、Ｒは同一のものを含んでい
てもよく、異なったものを含んでいてもよく、一価の炭
化水素基又は水素原子の一部が塩素原子もしくは臭素原
子で置換された一価の炭化水素基を表す。Ｒ’は同一の
ものを含んでいてもよく、異なったものを含んでいても
よく、下記一般式（２）で表される基又はＲを表す。[In the formula (1), R may contain the same thing or different things, and a monovalent hydrocarbon group or a part of the hydrogen atom is a chlorine atom or a bromine atom. Represents a monovalent hydrocarbon group substituted with. R'may contain the same thing and may contain different things, and represents the group or R represented by the following general formula (2).
【００１１】[0011]
【化５】−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ）3 ・・・（２）Embedded image —O—Si (R) 3 (2)
【００１２】Ｑは二価の有機基を表す。ｎは１０以上の
整数を表す。］Q represents a divalent organic group. n represents an integer of 10 or more. ]
【００１３】また、本発明のポリシロキサンは、下記一
般式（３）で表される珪素化合物を加水分解重縮合させ
た後、これに下記一般式（４）で表される珪素化合物及
び／又は下記一般式（５）で表される珪素化合物、もし
くは下記一般式（６）で表される珪素化合物を末端封鎖
剤として反応させる工程を含む方法により製造される。Further, the polysiloxane of the present invention is obtained by hydrolytically polycondensing a silicon compound represented by the following general formula (3), and then adding a silicon compound represented by the following general formula (4) and / or It is produced by a method including a step of reacting a silicon compound represented by the following general formula (5) or a silicon compound represented by the following general formula (6) as a terminal blocking agent.
【００１４】[0014]
【化６】 Embedded image
【００１５】［式（３）、（４）、（５）及び（６）
中、Ｒ及びＱは、前記一般式（１）におけるのと同義で
ある。また、Ｘは加水分解性の基を表す。］[Equations (3), (4), (5) and (6)]
In the above, R and Q have the same meanings as in the general formula (1). Further, X represents a hydrolyzable group. ]
【００１６】[0016]
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態を詳
細に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail.
【００１７】＜ポリシロキサン＞本発明の前記一般式
（１）で表される構造を有するポリシロキサンにおい
て、前記一般式（１）中、Ｑは二価の有機基、好ましく
は、１）アルキレン基；２）ポリメチレン基；３）フェ
ニレン基；４）アリーレン基；５）前記１）〜４）の基
の水素原子の少なくとも一部が更にアルキル基、フェニ
ル基、及びアリール基からなる群のうちの少なくとも１
種で置換された基；６）前記１）〜５）の基の構造中
に、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有する官能基を
含む基、７）前記１）〜６）の基の水素原子の少なくと
も一部が塩素原子または臭素原子で置換された基；より
なる群から選ばれる二価の有機基である。<Polysiloxane> In the polysiloxane having a structure represented by the general formula (1) of the present invention, in the general formula (1), Q is a divalent organic group, preferably 1) an alkylene group. 2) a polymethylene group; 3) a phenylene group; 4) an arylene group; 5) at least a part of hydrogen atoms of the groups of 1) to 4) above is further selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group, and an aryl group. At least 1
A group substituted with a species; 6) a group containing a functional group having an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom in the structure of the group of 1) to 5), and 7) hydrogen of the group of 1) to 6). A divalent organic group selected from the group consisting of a group in which at least some of the atoms are substituted with chlorine atoms or bromine atoms;
【００１８】アルキレン基としては炭素数３〜２０程度
のもの、ポリメチレン基としては炭素数３〜２０程度の
もの、アリーレン基としては炭素数６〜２０程度のもの
が好ましい。また、置換されるアルキル基としては炭素
数１〜５程度のもの、アリール基としては炭素数６〜１
２程度のものが好ましい。The alkylene group is preferably one having about 3 to 20 carbon atoms, the polymethylene group is preferably one having about 3 to 20 carbon atoms, and the arylene group is preferably one having about 6 to 20 carbon atoms. The substituted alkyl group has about 1 to 5 carbon atoms, and the aryl group has 6 to 1 carbon atoms.
It is preferably about 2.
【００１９】また、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を
有する官能基としては、他の置換基と結合していてもよ
く、また多重結合を含んでいてもよい。具体的には、エ
ーテル、チオエーテル、エステル、ケトン、アミド、イ
ミド、アミン及びイミンからなる群から選ばれる少なく
とも１種の基が挙げられる。Further, the functional group having an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom may be bonded to another substituent or may contain a multiple bond. Specific examples include at least one group selected from the group consisting of ethers, thioethers, esters, ketones, amides, imides, amines and imines.
【００２０】Ｑの具体例としては、以下の有機基を例示
することができる。尚、以下の式中、ａ、ｂ、ｃ、ｄ
は、各々１以上の整数を表す。Specific examples of Q include the following organic groups. In the following equation, a, b, c, d
Each represents an integer of 1 or more.
【００２１】[0021]
【化７】 −(ＣＨ2)a− …(1)、 −ＣＨ(ＣＨ3)−(ＣＨ2)a− …(2)、 −(ＣＨ2)a−Ｃ(Ｃ2Ｈ5)(ＣＨ3)− …(3)、 −Ｃ6Ｈ4− …(4)、 −(ＣＨ2)a−Ｃ6Ｈ4−(ＣＨＣｌ)− …(5)、 −ＣＨ(ＣＨ3)-Ｃ6Ｈ4-(ＣＨ2)a- …(6)、 −(ＣＨ2)a−Ｓ−(ＣＨ2)b- …(7)、 −(ＣＨ2)a-Ｓ-Ｃ6Ｈ4- …(8)、 −ＣＨ(ＣＨ3)−Ｓ−(ＣＨ2)a- …(9)Embedded image - (CH 2) a - ... (1), -CH (CH 3) - (CH 2) a - ... (2), - (CH 2) a -C (C 2 H 5) (CH 3) - ... (3), -C 6 H 4 - ... (4), - (CH 2) a -C 6 H 4 - (CHCl) - ... (5), -CH (CH 3) -C 6 H 4 - (CH 2) a - ... (6), - (CH 2) a -S- (CH 2) b - ... (7), - (CH 2) a -S-C 6 H 4 - ... (8 ), -CH (CH 3) -S- (CH 2) a - ... (9)
【００２２】[0022]
【化８】 Embedded image
【００２３】前記一般式（１）中、Ｒは、一価の炭化水
素基又は水素原子の一部が塩素原子もしくは臭素原子で
置換された一価の炭化水素基であり、好ましくは、アル
キル基、フェニル基、アリール基及びこれらの基の水素
原子の少なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換さ
れた基が挙げられる。また、Ｒ’は、前記一般式（２）
で表される基又はＲを表す。In the above general formula (1), R is a monovalent hydrocarbon group or a monovalent hydrocarbon group in which a part of hydrogen atoms is replaced by a chlorine atom or a bromine atom, preferably an alkyl group. , A phenyl group, an aryl group, and a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups is substituted with a chlorine atom or a bromine atom. In addition, R ′ is the general formula (2)
Represents a group represented by or R.
【００２４】尚、Ｒにおけるアルキル基としては、炭素
数１〜５程度のもの、アリール基としては炭素数６〜１
２程度のものが好ましい。また、Ｒは、１ポリシロキサ
ン分子中に同一の基を含んでいてもよく、また異なった
基を含んでいてもよい。更にＲとＲ’が互いに同一でも
異なっていてもよい。The alkyl group in R has about 1 to 5 carbon atoms, and the aryl group has 6 to 1 carbon atoms.
It is preferably about 2. Moreover, R may contain the same group in one polysiloxane molecule, and may contain different groups. Further, R and R'may be the same or different from each other.
【００２５】Ｒの具体例としては、メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等のアルキル
基；フェニル基；メチルフェニル基、エチルフェニル基
等のアリール基；または、これらの基の水素原子の少な
くとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された基が挙
げられる。Specific examples of R include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group,
an alkyl group such as a sec-butyl group or a tert-butyl group; a phenyl group; an aryl group such as a methylphenyl group or an ethylphenyl group; or at least a part of hydrogen atoms of these groups is substituted with a chlorine atom or a bromine atom. Group.
【００２６】前記一般式（１）中、ｎ（重合度）は１０
以上の整数であり、好ましくは５０〜５０００、更に好
ましくは１００〜２０００である。In the general formula (1), n (degree of polymerization) is 10
It is an integer of the above or more, preferably 50 to 5000, and more preferably 100 to 2000.
【００２７】＜ポリシロキサンの製造方法＞次に、本発
明のポリシロキサンの製造方法について説明する。本発
明の製造方法では、まず前記一般式（３）で表される加
水分解性基Ｘを有する珪素化合物 （以下、珪素化合物
（３）という。）の一種又は二種類以上に水を添加し、
加水分解重縮合反応を行う。ここで、水の添加量は、反
応の進行を制御するため、用いた珪素化合物（３）の加
水分解性基Ｘを加水分解させるのに必要な理論量以下の
量とするのが好ましい。また、このとき、反応を均一に
進行させるために有機溶媒を用いることが好ましい。<Method for Producing Polysiloxane> Next, a method for producing the polysiloxane of the present invention will be described. In the production method of the present invention, first, water is added to one or more kinds of silicon compounds having the hydrolyzable group X represented by the general formula (3) (hereinafter, referred to as silicon compound (3)),
Carry out hydrolysis polycondensation reaction. Here, in order to control the progress of the reaction, the amount of water added is preferably an amount equal to or less than the theoretical amount necessary for hydrolyzing the hydrolyzable group X of the silicon compound (3) used. At this time, it is preferable to use an organic solvent in order to allow the reaction to proceed uniformly.
【００２８】前記加水分解重縮合反応の反応温度は、特
に制限はないが、０〜８０℃が好ましい。この範囲であ
れば、反応温度が低すぎて溶媒の凝固が起こったり、高
すぎるて溶媒の極端な蒸発が起こったりして反応の進行
が不均一になるおそれが少ない。また、反応の進行を促
進するため、塩基及び／または酸を触媒として適宜用い
ることが好ましい。その添加量は反応に用いる珪素化合
物（３）の５モル％以下が好ましい。The reaction temperature of the hydrolysis polycondensation reaction is not particularly limited, but is preferably 0 to 80 ° C. Within this range, the reaction temperature is too low and the solvent coagulates, and the temperature is too high to cause extreme evaporation of the solvent, so that the reaction is unlikely to be non-uniform. Further, in order to promote the progress of the reaction, it is preferable to appropriately use a base and / or an acid as a catalyst. The addition amount is preferably 5 mol% or less of the silicon compound (3) used in the reaction.
【００２９】次に、一定時間重縮合反応を行った後、得
られた重縮合体の反応末端を封鎖して重縮合体を安定に
取り出すため、末端封鎖剤として、前記一般式（４）の
珪素化合物（以下、珪素化合物（４）という。）、前記
一般式（５）の珪素化合物（以下、珪素化合物（５）と
いう。）、もしくは珪素化合物（４）と珪素化合物
（５）の双方、又は前記一般式（６）の珪素化合物（以
下、珪素化合物（６）という。）を添加して、更に加水
分解反応を行わせる。Next, after the polycondensation reaction is carried out for a certain period of time, the reaction end of the obtained polycondensate is blocked to stably take out the polycondensate. A silicon compound (hereinafter referred to as a silicon compound (4)), a silicon compound represented by the general formula (5) (hereinafter referred to as a silicon compound (5)), or both a silicon compound (4) and a silicon compound (5), Alternatively, the silicon compound represented by the general formula (6) (hereinafter referred to as the silicon compound (6)) is added to further perform the hydrolysis reaction.
【００３０】このとき、末端封鎖剤の加水分解反応を促
進して末端封鎖反応を進行し易くするため、水及び適切
な酸触媒を合わせて添加するのが好ましい。水の添加量
は特に限定されないが、添加した末端封鎖剤を加水分解
するのに必要な理論量以上の量を添加することが好まし
い。また酸触媒の添加量は末端封鎖剤の２モル％以上が
好ましい。また、この末端封鎖工程は、反応を均一に進
行させるため攪拌条件下で行う。また、反応時間は４〜
２０時間が好ましい。At this time, in order to promote the hydrolysis reaction of the end-capping agent and facilitate the progress of the end-capping reaction, it is preferable to add water and a suitable acid catalyst together. The amount of water added is not particularly limited, but it is preferable to add an amount of at least a theoretical amount necessary for hydrolyzing the added end-blocking agent. Further, the addition amount of the acid catalyst is preferably 2 mol% or more of the terminal blocking agent. In addition, this end-blocking step is performed under stirring conditions in order to allow the reaction to proceed uniformly. The reaction time is 4 to
20 hours is preferred.
【００３１】反応終了後は重縮合体が相分離する場合は
デカンテーションで、相分離しない場合は溶媒留去、凍
結乾燥などの方法によって、目的物を取り出す。After completion of the reaction, if the polycondensate undergoes phase separation, decantation is carried out, and if the phase separation is not carried out, the intended product is taken out by a method such as solvent removal or freeze drying.
【００３２】以上の工程で使用される材料は次の通りで
ある。The materials used in the above steps are as follows.
【００３３】珪素化合物（３）：前記一般式（３）中、
Ｘは加水分解性の基であれば特に限定されないが、好ま
しくはアルコキシ基、ハロゲン原子又はアルコキシアル
コキシ基を挙げることができる。アルコキシ基として
は、炭素数１〜５程度のものが好ましい。また、Ｒ及び
Ｑは前記一般式（１）におけるのと同義であり、Ｒは相
互に同一であっても異なっていてもよい。Silicon compound (3): In the general formula (3),
X is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable group, but an alkoxy group, a halogen atom or an alkoxyalkoxy group is preferable. The alkoxy group preferably has about 1 to 5 carbon atoms. Further, R and Q have the same meaning as in the general formula (1), and R may be the same as or different from each other.
【００３４】珪素化合物（３）は、公知の珪素化合物を
原料として公知の有機反応によって合成することができ
る。例えば、アミノ基を有するアルコキシシランと酸ク
ロライド、酸無水物等の酸誘導体との反応；不飽和結合
を有する化合物へのハイドロジェンシランまたはメルカ
プトシランの付加反応；アルコキシシラン化合物又はク
ロロシラン化合物とグリニアール試薬又は有機リチウム
化合物との反応が挙げられる。The silicon compound (3) can be synthesized by a known organic reaction using a known silicon compound as a raw material. For example, reaction of an alkoxysilane having an amino group with an acid derivative such as acid chloride or acid anhydride; addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond; alkoxysilane compound or chlorosilane compound and Grignard reagent Alternatively, a reaction with an organic lithium compound can be mentioned.
【００３５】これらの反応による珪素化合物の合成を具
体的に示すと以下の通りである。ただし、以下の式中、
Ｒ、Ｑ、及びＸは前述したものと同義であり、Ａ及びＰ
は二価の有機基を表し、Ｚは臭素原子又はヨウ素原子を
表す。The synthesis of the silicon compound by these reactions is specifically shown as follows. However, in the following formula,
R, Q, and X have the same meanings as described above, and A and P
Represents a divalent organic group, and Z represents a bromine atom or an iodine atom.
【００３６】１）アミノ基を有するシランと酸クロライ
ド等の酸誘導体との反応；1) Reaction of silane having amino group with acid derivative such as acid chloride;
【００３７】[0037]
【化９】 Embedded image
【００３８】２）不飽和結合を有する化合物へのハイド
ロジェンシランまたはメルカプトシランの付加反応；2) Addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond;
【００３９】[0039]
【化１０】 ・２Ｈ−Ｓｉ(Ｒ)Ｘ2 ＋ ＣＨ2＝ＣＨ-Ａ-ＣＨ＝ＣＨ2 → Ｘ2(Ｒ)Ｓｉ-(ＣＨ2)2-Ａ-(ＣＨ2)2-Ｓｉ(Ｒ)Ｘ2 ・２ＨＳ-ＰＳｉ(Ｒ)Ｘ2 ＋ ＣＨ2＝ＣＨ-Ａ-ＣＨ＝ＣＨ2 → Ｘ2(Ｒ)ＳｉＰ-Ｓ-(ＣＨ2)2-Ａ-(ＣＨ2)2-Ｓ-ＰＳｉ(Ｒ)Ｘ2 Embedded image · 2H-Si (R) X 2 + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X 2 (R) Si- (CH 2) 2 -A- (CH 2) 2 -Si (R ) X 2 .2HS-PSi (R) X 2 + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X 2 (R) SiP-S- (CH 2 ) 2 -A- (CH 2 ) 2 -S- PSi (R) X 2
【００４０】３）シラン化合物とグリニアール試薬又は
有機リチウム化合物との反応；3) Reaction of silane compound with Grignard reagent or organolithium compound;
【００４１】[0041]
【化１１】 ・２Ｓｉ(Ｒ)Ｘ3 ＋ ＺＭｇＱＭｇＺ → Ｘ2(Ｒ)ＳｉＱＳｉ(Ｒ)Ｘ2 ・２Ｓｉ(Ｒ)Ｘ3 ＋ ＬｉＱＬｉ → Ｘ2(Ｒ)ＳｉＱＳｉ(Ｒ)Ｘ2 Embedded image 2Si (R) X 3 + ZMgQMgZ → X 2 (R) SiQSi (R) X 2 2Si (R) X 3 + LiQLi → X 2 (R) SiQSi (R) X 2
【００４２】４）１）又は２）と３）の組合せ4) Combination of 1) or 2) and 3)
【００４３】[0043]
【化１２】 Embedded image
【００４４】珪素化合物（４）：前記一般式（４）中、
Ｘは一般式（３）におけるのと同義である。Ｒは一般式
（１）におけるのと同義であり、また１分子中に同一の
ものを含んでいてもよく、異なったものを含んでいても
よい。このような珪素化合物の具体例としては、トリメ
チルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルクロロシラン、フェニルジメチルクロ
ロシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエト
キシシラン等が挙げられる。Silicon compound (4): In the general formula (4),
X has the same meaning as in formula (3). R has the same meaning as in formula (1), and may contain the same or different one in one molecule. Specific examples of such silicon compounds include trimethylchlorosilane, triethylchlorosilane, tert.
-Butyldimethylchlorosilane, phenyldimethylchlorosilane, trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane and the like can be mentioned.
【００４５】珪素化合物（５）：前記一般式（５）中、
Ｒは、一般式（１）におけるのと同義であり、また１分
子中に同一のものを含んでいてもよく、異なったものを
含んでいてもよい。このような珪素化合物としては、具
体的には、ヘキサメチルジシロキサン、ヘキサエチルジ
シロキサン、ヘキサプロピルジシロキサン、ヘキサフェ
ニルジシロキサン等が挙げられる。Silicon compound (5): In the general formula (5),
R has the same meaning as in the general formula (1), and R may contain the same one or different ones. Specific examples of such silicon compounds include hexamethyldisiloxane, hexaethyldisiloxane, hexapropyldisiloxane, and hexaphenyldisiloxane.
【００４６】珪素化合物（６）：前記一般式（６）中、
Ｒ及びＱは、前記一般式（１）及び（３）におけるのと
同義であり、また各々１分子中に同一のものを含んでい
てもよく、異なったものを含んでいてもよい。Ｘは一般
式（３）におけるのと同義である。Silicon compound (6): In the general formula (6),
R and Q have the same meanings as in the above general formulas (1) and (3), and each may contain the same or different one in one molecule. X has the same meaning as in formula (3).
【００４７】このような珪素化合物は、前記珪素化合物
（３）と同様に、公知の珪素化合物を原料として公知の
有機反応によって合成することができる。例えば、アミ
ノ基を有するアルコキシシラン等と酸クロライド、酸無
水物等の酸誘導体との反応；不飽和結合を有する化合物
へのハイドロジェンシランまたはメルカプトシランの付
加反応；アルコキシシラン化合物又はクロロシラン化合
物とグリニアール試薬又は有機リチウム化合物との反応
が挙げられる。Similar to the silicon compound (3), such a silicon compound can be synthesized by a known organic reaction using a known silicon compound as a raw material. For example, a reaction of an alkoxysilane having an amino group with an acid derivative such as an acid chloride or an acid anhydride; an addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond; an alkoxysilane compound or a chlorosilane compound and a grinial. Reactions with reagents or organolithium compounds are mentioned.
【００４８】これらの反応による珪素化合物の合成を具
体的に示すと以下の通りである。ただし、以下の式中、
Ｒ、Ｑ、Ｘ、Ａ、Ｐ、Ｚは前述したものと同義である。The synthesis of the silicon compound by these reactions is specifically shown as follows. However, in the following formula,
R, Q, X, A, P and Z have the same meanings as described above.
【００４９】１）アミノ基を有するシランと酸クロライ
ド等の酸誘導体との反応；1) Reaction of silane having amino group with acid derivative such as acid chloride;
【００５０】[0050]
【化１３】 Embedded image
【００５１】２）不飽和結合を有する化合物へのハイド
ロジェンシランまたはメルカプトシランの付加反応；2) Addition reaction of hydrogensilane or mercaptosilane to a compound having an unsaturated bond;
【００５２】[0052]
【化１４】 ・２Ｈ−Ｓｉ(Ｒ)2Ｘ ＋ ＣＨ2＝ＣＨ-Ａ-ＣＨ＝ＣＨ2 → Ｘ(Ｒ)2Ｓｉ(ＣＨ2)2-Ａ-(ＣＨ2)2Ｓｉ(Ｒ)2Ｘ ・２ＨＳ-ＰＳｉ(Ｒ)2Ｘ ＋ ＣＨ2＝ＣＨ-Ａ-ＣＨ＝ＣＨ2 → Ｘ(Ｒ)2ＳｉＰ-Ｓ-(ＣＨ2)2-Ａ-(ＣＨ2)2-Ｓ-ＰＳｉ(Ｒ)2ＸEmbedded image 2H-Si (R) 2 X + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X (R) 2 Si (CH 2 ) 2 -A- (CH 2 ) 2 Si (R) 2 X 2HS-PSi (R) 2 X + CH 2 = CH-A-CH = CH 2 → X (R) 2 SiP-S- (CH 2 ) 2 -A- (CH 2 ) 2- S-PSi ( R) 2 X
【００５３】３）シラン化合物とグリニアール試薬又は
有機リチウム化合物との反応；3) Reaction of silane compound with Grignard reagent or organolithium compound;
【００５４】[0054]
【化１５】 ・２Ｓｉ(Ｒ)2Ｘ2 ＋ ＺＭｇＱＭｇＺ → Ｘ(Ｒ)2ＳｉＱＳｉ(Ｒ)2Ｘ ・２Ｓｉ(Ｒ)2Ｘ2 ＋ ＬｉＱＬｉ → Ｘ(Ｒ)2ＳｉＱＳｉ(Ｒ)2ＸEmbedded image 2Si (R) 2 X 2 + ZMgQMgZ → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X 2Si (R) 2 X 2 + LiQLi → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X
【００５５】４）珪素化合物（３）とグリニアール試薬
又は有機リチウム化合物との反応；4) Reaction of silicon compound (3) with Grignard reagent or organolithium compound;
【００５６】[0056]
【化１６】 ・Ｘ2(Ｒ)ＳｉＱＳｉ(Ｒ)Ｘ2 ＋ ２ＲＭｇＺ → Ｘ(Ｒ)2ＳｉＱＳｉ(Ｒ)2Ｘ ・Ｘ2(Ｒ)ＳｉＱＳｉ(Ｒ)Ｘ2 ＋ ２ＲＬｉ → Ｘ(Ｒ)2ＳｉＱＳｉ(Ｒ)2ＸX 2 (R) SiQSi (R) X 2 + 2RMgZ → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X ・ X 2 (R) SiQSi (R) X 2 + 2RLi → X (R) 2 SiQSi (R) 2 X
【００５７】加水分解重縮合反応に用いる溶媒：珪素化
合物（３）、水、触媒などを溶解することができるもの
であれば特に限定されないが、具体的にはメチルアルコ
ール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール等の
アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケト
ン類；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソ
ルブ類；テトラヒドロフラン；ジメチルスルフォキシド
等が挙げられる。Solvent used for hydrolysis polycondensation reaction: not particularly limited as long as it can dissolve the silicon compound (3), water, catalyst, etc., but specifically, methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, etc. Alcohols; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; cellosolves such as methyl cellosolve and ethyl cellosolve; tetrahydrofuran; dimethyl sulfoxide and the like.
【００５８】加水分解重縮合反応に用いる塩基及び／又
は酸触媒：前記加水分解重縮合反応に用いる塩基及び／
又は酸触媒としては、通常の加水分解反応に用いられる
ものであれば特に制限されないが、具体的には塩酸、硝
酸等の無機酸；酢酸、クエン酸等の有機酸；水酸化ナト
リウム、水酸化アンモニウム等の無機塩基；アミンモル
フォリン等の有機塩基；３−アミノプロピルアルコキシ
シランのような塩基性基含有シラン等が挙げられる。Base and / or acid catalyst used in hydrolysis polycondensation reaction: Base and / or acid used in the hydrolysis polycondensation reaction
Or, the acid catalyst is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, and specifically, inorganic acids such as hydrochloric acid and nitric acid; organic acids such as acetic acid and citric acid; sodium hydroxide and hydroxide. Examples thereof include inorganic bases such as ammonium; organic bases such as amine morpholine; basic group-containing silanes such as 3-aminopropylalkoxysilane.
【００５９】末端封鎖反応に用いる酸触媒：前記末端封
鎖反応に用いる酸触媒としては、通常の加水分解反応に
用いられるものであれば特に制限されないが、具体的に
は塩酸、硝酸等の無機酸；酢酸、クエン酸等の有機酸；
等が挙げられる。Acid catalyst used in end-capping reaction: The acid catalyst used in the end-capping reaction is not particularly limited as long as it is used in a usual hydrolysis reaction, and specifically, an inorganic acid such as hydrochloric acid or nitric acid. Organic acids such as acetic acid and citric acid;
And the like.
【００６０】[0060]
【実施例】以下に、本発明を実施例により具体的に説明
する。The present invention will be described below in more detail with reference to examples.
【００６１】[0061]
【製造例１】 ＜珪素化合物（３）の製造＞耐圧ビン型の反応容器に
１，３−ブタジエン５．４ｇ、モノハイドロジェンメチ
ルジクロロシラン２３．０ｇを採り、混合した。次に、
塩化白金酸（Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ）をテトラヒドロ
フラン中で加熱し、白金０．２ミリモルに相当するこの
溶液を前記混合溶液に添加した後、反応容器を８０℃で
４時間加熱した。その後、この混合溶液をろ過、分留し
てテトラヒドロフラン及び塩化白金酸を除去し、透明液
体を得た。ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29
Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、この液体
が下記式（１ａ）で表される化合物であることが確認さ
れた。Production Example 1 <Production of Silicon Compound (3)> 5.4 g of 1,3-butadiene and 23.0 g of monohydrogenmethyldichlorosilane were placed in a pressure bottle-type reaction vessel and mixed. next,
Chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) was heated in tetrahydrofuran, this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. Then, this mixed solution was filtered and fractionally distilled to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain a transparent liquid. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29
When the Si-NMR spectrum was measured, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (1a).
【００６２】[0062]
【化１７】 Embedded image
【００６３】[0063]
【製造例２】 ＜珪素化合物（３）の製造＞還流冷却器、攪拌装置及び
ガス導入管付き三つ口フラスコに、ビニルトリメトキシ
シラン２９．６ｇ、３−メルカプトトリメトキシシラン
３９．３ｇ、ベンゼン４００ｍｌを採り攪拌混合した。
さらにこの溶液に、アゾビスイソブチロニトリル０．２
ｇをベンゼン１００ｍｌに溶解した溶液を添加し、攪拌
混合した。攪拌を続けながら、室温で乾燥窒素ガスによ
るバブリングを１時間行った後、加熱してベンゼンの沸
点で２４時間還流を行って反応を完結させた。その後、
ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去して透明液
体を得た。[Production Example 2] <Production of silicon compound (3)> In a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube, 29.6 g of vinyltrimethoxysilane, 39.3 g of 3-mercaptotrimethoxysilane, and benzene. 400 ml was taken and mixed by stirring.
Furthermore, to this solution, azobisisobutyronitrile 0.2
A solution prepared by dissolving g in 100 ml of benzene was added and mixed with stirring. After bubbling with dry nitrogen gas at room temperature for 1 hour while continuing stirring, the mixture was heated to reflux at the boiling point of benzene for 24 hours to complete the reaction. afterwards,
Benzene was removed by a rotary evaporator to obtain a transparent liquid.
【００６４】充分に乾燥を行った還流冷却器、攪拌装置
及びガス導入管付き三つ口フラスコに、前記透明液体６
８．９ｇ、金属ナトリウムによる還流と蒸留によって脱
水精製したジエチルエーテル４００ｍｌを採り、乾燥窒
素ガスで充分置換を行った。冷却攪拌を続けながら、こ
の溶液にエチルマグネシウムブロミド５３．３ｇを前述
のジエチルエーテル２００ｍｌに溶解した溶液を滴下し
た。滴下終了後、室温で２０時間攪拌を続け、反応を完
結させた。全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行った。
生成した沈殿を除去後、さらに分留を行って、透明液体
を得た。このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったとこ
ろ、この液体が下記式（２ａ）で表される化合物である
ことが確認された。In a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer and a gas introduction tube, which had been sufficiently dried, the transparent liquid 6 was added.
8.9 g and 400 ml of diethyl ether dehydrated and refined by refluxing with sodium metal and distillation were taken and sufficiently replaced with dry nitrogen gas. While continuing cooling and stirring, a solution prepared by dissolving 53.3 g of ethylmagnesium bromide in 200 ml of the above-mentioned diethyl ether was added dropwise to this solution. After completion of the dropping, stirring was continued at room temperature for 20 hours to complete the reaction. All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas.
After removing the generated precipitate, fractional distillation was further performed to obtain a transparent liquid. IR, 1 H-NMR, 13 C-
By NMR and 29 Si-NMR spectrum measurement, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (2a).
【００６５】[0065]
【化１８】 Embedded image
【００６６】[0066]
【製造例３】 ＜珪素化合物（３）の製造＞充分に乾燥を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金
属マグネシウム７．３ｇ、フェニルトリエトキシシラン
２４０．４ｇ、ヨウ素０．３ｇ、金属ナトリウムによる
還流と蒸留によって脱水精製したテトラヒドロフラン３
００ｍｌを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を行いながら
攪拌混合した。攪拌を続けながら、テトラヒドロフラン
の沸点での還流条件下、この溶液に１，４−ジブロモベ
ンゼン２３．６ｇを前述のテトラヒドロフラン１００ｍ
ｌに溶解した溶液を滴下した。滴下終了後還流を２４時
間続け反応を完結させた。Production Example 3 <Production of Silicon Compound (3)> 7.3 g of metal magnesium, 240.4 g of phenyltriethoxysilane, in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube, which were sufficiently dried. Tetrahydrofuran 3 dehydrated and purified by 0.3 g of iodine, reflux with sodium metal and distillation
00 ml was taken and mixed with stirring while performing sufficient replacement with dry nitrogen gas. While continuing stirring, 23.6 g of 1,4-dibromobenzene was added to this solution under reflux conditions at the boiling point of tetrahydrofuran to 100 m of the above-mentioned tetrahydrofuran.
The solution dissolved in 1 was dropped. After completion of the dropping, reflux was continued for 24 hours to complete the reaction.
【００６７】全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行っ
た。生成した沈殿を除去後さらに分留を行って透明液体
を得た。このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったとこ
ろ、この液体が下記式（３ａ）で表される化合物である
ことが確認された。All operations were performed under a stream of dry nitrogen gas. After removing the generated precipitate, fractionation was further performed to obtain a transparent liquid. IR, 1 H-NMR, 13 C-
When NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (3a).
【００６８】[0068]
【化１９】 Embedded image
【００６９】[0069]
【製造例４】 ＜珪素化合物（３）の製造＞耐圧ビン型の反応容器に、
パラジビニルベンゼン２６．０ｇ、モノハイドロジェン
メチルジメトキシシラン４２．５ｇを採り、混合した。
次に、塩化白金酸（Ｈ2 ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ）をテトラ
ヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミリモルに相当す
るこの溶液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を
８０℃で４時間加熱した。これをろ過、分留してテトラ
ヒドロフラン及び塩化白金酸を除去し、透明液体を得
た。このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭ
Ｒ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、こ
の液体が下記式（４ａ）で表される化合物であることが
確認された。[Manufacturing Example 4] <Manufacturing of silicon compound (3)>
26.0 g of paradivinylbenzene and 42.5 g of monohydrogenmethyldimethoxysilane were taken and mixed.
Next, chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution. Heated for hours. This was filtered and fractionated to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain a transparent liquid. IR, 1 H-NMR, 13 C-NM
When the R, 29 Si-NMR spectrum was measured, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (4a).
【００７０】[0070]
【化２０】 Embedded image
【００７１】[0071]
【製造例５】 ＜珪素化合物（３）の製造＞還流冷却器、攪拌装置及び
ガス導入管付き三つ口フラスコに３−アミノプロピルメ
チルジエトキシシラン１５３．０ｇ、、テトラヒドロフ
ラン７００ｍｌ、トリエチルアミン３００ｍｌを採り、
氷冷しつつ攪拌混合した。さらに氷冷攪拌を続けながら
この溶液に、アジピン酸クロライド７３．２ｇをテトラ
ヒドロフラン３００ｍｌに溶解した溶液を滴下した。[Production Example 5] <Production of silicon compound (3)> 153.0 g of 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, 700 ml of tetrahydrofuran, and 300 ml of triethylamine were placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube. ,
The mixture was stirred and mixed while cooling with ice. Further, a solution prepared by dissolving 73.2 g of adipic acid chloride in 300 ml of tetrahydrofuran was added dropwise to this solution while continuing stirring with ice cooling.
【００７２】滴下終了後、さらに１時間攪拌を続けた。
生成した白色沈殿をろ別した後、ロータリーエバポレー
ターでベンゼン、トリエチルアミンを除去して白色固体
を得た。このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−
ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったとこ
ろ、この固体が下記式（５ａ）で表される化合物である
ことが確認された。After completion of dropping, stirring was continued for another hour.
After the generated white precipitate was filtered off, benzene and triethylamine were removed by a rotary evaporator to obtain a white solid. IR, 1 H-NMR, 13 C-
By NMR and 29 Si-NMR spectrum measurement, it was confirmed that this solid was a compound represented by the following formula (5a).
【００７３】[0073]
【化２１】 Embedded image
【００７４】[0074]
【製造例６】 ＜珪素化合物（３）の製造＞還流冷却器、攪拌装置及び
ガス導入管付き三つ口フラスコに、テレフタル酸ジアリ
ル１２３．０ｇ、３−メルカプトプロピルメチルジメト
キシシラン１８０．３ｇ、ベンゼン８００ｍｌを採り攪
拌混合した。さらにこの溶液に、アゾビスイソブチロニ
トリル０．５ｇをベンゼン２００ｍｌに溶解した溶液を
添加し、攪拌混合した。攪拌を続けながら、室温で乾燥
窒素ガスによるバブリングを１時間行った後、加熱して
ベンゼンの沸点で２４時間還流を行って反応を完結させ
た。ロータリーエバポレーターでベンゼンを除去して透
明液体を得た。Production Example 6 <Production of Silicon Compound (3)> 123.0 g of diallyl terephthalate, 180.3 g of 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, and benzene were placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube. 800 ml was taken and mixed by stirring. Further, to this solution, a solution prepared by dissolving 0.5 g of azobisisobutyronitrile in 200 ml of benzene was added, and mixed by stirring. After bubbling with dry nitrogen gas at room temperature for 1 hour while continuing stirring, the mixture was heated to reflux at the boiling point of benzene for 24 hours to complete the reaction. Benzene was removed by a rotary evaporator to obtain a transparent liquid.
【００７５】このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13
Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったと
ころ、この液体が下記式（６ａ）で表される化合物であ
ることが確認された。About this product, IR, 1 H-NMR, 13
When C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (6a).
【００７６】[0076]
【化２２】 Embedded image
【００７７】[0077]
【製造例７】 ＜珪素化合物（３）の製造＞耐圧ビン型の反応容器に、
ジアリルエーテル５８．９ｇ、モノハイドロジェンメチ
ルジクロロシラン１３８．０ｇを採り、混合した。次
に、塩化白金酸（Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ）をテトラヒ
ドロフラン中で加熱し、白金０．６ミリモルに相当する
この溶液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を８
０℃で４時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒド
ロフラン、塩化白金酸を除去して透明液体を得た。[Production Example 7] <Production of Silicon Compound (3)> In a pressure bottle type reaction vessel,
58.9 g of diallyl ether and 138.0 g of monohydrogenmethyldichlorosilane were taken and mixed. Next, chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.6 mmol of platinum was added to the above-mentioned mixed solution.
Heat at 0 ° C. for 4 hours. Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain a transparent liquid.
【００７８】このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13
Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったと
ころ、この液体が下記式（７ａ）で表される化合物であ
ることが確認された。About this product, IR, 1 H-NMR, 13
When C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (7a).
【００７９】[0079]
【化２３】 Embedded image
【００８０】[0080]
【製造例８】 ＜珪素化合物（３）の製造＞耐圧ビン型の反応容器にア
ジピン酸ジビニル３９．６ｇ、モノハイドロジェンメチ
ルジメトキシシラン４２．５ｇを採り混合した。次に塩
化白金酸Ｈ2 ＰｔＣｌ6 ・６Ｈ2 Ｏをテトラヒドロフラ
ン中で加熱し、白金０．３ミリモルに相当するこの溶液
を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を８０℃で４
時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフラ
ン、塩化白金酸を除去して透明液体を得た。Production Example 8 <Production of Silicon Compound (3)> 39.6 g of divinyl adipate and 42.5 g of monohydrogenmethyldimethoxysilane were taken and mixed in a pressure-resistant bottle type reaction vessel. Next, chloroplatinic acid H2PtCl6 · 6H2O was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.3 mmol of platinum was added to the above-mentioned mixed solution.
Heated for hours. Filtration and fractional distillation were performed to remove tetrahydrofuran and chloroplatinic acid to obtain a transparent liquid.
【００８１】このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13
Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったと
ころ、この液体が下記式（８ａ）で表される化合物であ
ることが確認された。About this product, IR, 1 H-NMR, 13
When C-NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (8a).
【００８２】[0082]
【化２４】 Embedded image
【００８３】[0083]
【製造例９】 ＜珪素化合物（３）の製造＞耐圧ビン型の反応容器にア
リルメチルジクロロシラン４６．５ｇ、モノハイドロジ
ェンフェニルジクロロシラン５３．１ｇを採り混合し
た。次に塩化白金酸（Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ）をテト
ラヒドロフラン中で加熱し、白金０．２ミリモルに相当
するこの溶液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器
を８０℃で４時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラ
ヒドロフランと塩化白金酸を除去し、透明液体を得た。
このものについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、
29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、この液
体が下記式（９ａ）で表される化合物であることが確認
された。Production Example 9 <Production of Silicon Compound (3)> 46.5 g of allylmethyldichlorosilane and 53.1 g of monohydrogenphenyldichlorosilane were taken and mixed in a pressure-resistant bottle-type reaction vessel. Next, chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution, and then the reaction vessel was heated at 80 ° C. for 4 hours. Heated. Tetrahydrofuran and chloroplatinic acid were removed by filtration and fractional distillation to obtain a transparent liquid.
IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR,
When 29 Si-NMR spectrum measurement was performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (9a).
【００８４】[0084]
【化２５】 Embedded image
【００８５】[0085]
【製造例１０】 ＜珪素化合物（６）の製造＞耐圧ビン型の反応容器にパ
ラジビニルベンゼン１９．５ｇ、モノハイドロジェンジ
メチルエトキシシラン３１．３ｇを採り混合した。次に
塩化白金酸（Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ）をテトラヒドロ
フラン中で加熱し、白金０．１ミリモルに相当するこの
溶液を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を８０℃
で４時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフ
ラン及び塩化白金酸を除去し、透明液体を得た。このも
のについてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ
−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、この液体が下
記式（１０ａ）で表される化合物であることが確認され
た。MANUFACTURING EXAMPLE 10 <Manufacturing of Silicon Compound (6)> 19.5 g of paradivinylbenzene and 31.3 g of monohydrogen dimethylethoxysilane were taken and mixed in a pressure bottle type reaction vessel. Next, chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.1 mmol of platinum was added to the above-mentioned mixed solution.
For 4 hours. Tetrahydrofuran and chloroplatinic acid were removed by filtration and fractional distillation to obtain a transparent liquid. About this, IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 Si
When NMR spectrum measurement was performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (10a).
【００８６】[0086]
【化２６】 Embedded image
【００８７】[0087]
【製造例１１】 ＜珪素化合物（６）の製造＞充分に乾燥を行った還流冷
却器、攪拌装置及びガス導入管付き三つ口フラスコに金
属マグネシウム０．１ｇ、ジフェニルジエトキシシラン
８１．７ｇ、ヨウ素０．０１ｇ、金属ナトリウムによる
還流と蒸留によって脱水精製したテトラヒドロフラン１
００ｍｌを採り、乾燥窒素ガスで充分置換を行いながら
攪拌混合した。攪拌を続けながら、テトラヒドロフラン
の沸点での還流条件下、この溶液に１，４−ジブロモベ
ンゼン７．１ｇを前述のテトラヒドロフラン５０ｍｌに
溶解した溶液を滴下した。滴下終了後、還流を２４時間
続け、反応を完結させた。Production Example 11 <Production of Silicon Compound (6)> 0.1 g of metal magnesium and 81.7 g of diphenyldiethoxysilane were placed in a three-necked flask equipped with a reflux condenser, a stirrer, and a gas introduction tube, which were sufficiently dried. Tetrahydrofuran 1 dehydrated and purified by 0.01 g of iodine, reflux with sodium metal and distillation
00 ml was taken and mixed with stirring while performing sufficient replacement with dry nitrogen gas. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 7.1 g of 1,4-dibromobenzene in 50 ml of the above-mentioned tetrahydrofuran was added dropwise to this solution under reflux conditions at the boiling point of tetrahydrofuran. After completion of the dropping, reflux was continued for 24 hours to complete the reaction.
【００８８】全ての操作は乾燥窒素ガス気流下で行っ
た。生成した沈殿を除去後、さらに分留を行って透明液
体を得た。この液体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ
−ＮＭＲ、29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったとこ
ろ、この液体が下記式（１１ａ）で表される化合物であ
ることが確認された。All operations were carried out under a stream of dry nitrogen gas. After removing the generated precipitate, fractional distillation was further performed to obtain a transparent liquid. IR, 1 H-NMR, 13 C about this liquid
When -NMR and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (11a).
【００８９】[0089]
【化２７】 Embedded image
【００９０】[0090]
【製造例１２】 ＜珪素化合物（６）の製造＞耐圧ビン型の反応容器にジ
アリルエーテル２９．４ｇ、モノハイドロジェンジメチ
ルクロロシラン５７．８ｇを採り混合した。次に、塩化
白金酸（Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ）をテトラヒドロフラ
ン中で加熱し、白金０．２ミリモルに相当するこの溶液
を前述の混合溶液に添加した後、反応容器を８０℃で４
時間加熱した。ろ過、分留を行ってテトラヒドロフラン
及び塩化白金酸を除去し、透明液体を得た。この液体に
ついてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲスペクトル測定を行ったところ、この液体が下記式
（１１ａ）で表される化合物であることが確認された。Production Example 12 <Production of Silicon Compound (6)> 29.4 g of diallyl ether and 57.8 g of monohydrogen dimethylchlorosilane were taken and mixed in a pressure-resistant bottle-type reaction vessel. Next, chloroplatinic acid (H 2 PtCl 6 .6H 2 O) was heated in tetrahydrofuran, and this solution corresponding to 0.2 mmol of platinum was added to the above mixed solution.
Heated for hours. Tetrahydrofuran and chloroplatinic acid were removed by filtration and fractional distillation to obtain a transparent liquid. About this liquid, IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, 29 Si-N
When the MR spectrum was measured, it was confirmed that this liquid was a compound represented by the following formula (11a).
【００９１】[0091]
【化２８】 Embedded image
【００９２】[0092]
【実施例１】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例１で製造された珪素化合物５
６．８ｇ、メチルアルコール１６０ｍｌを採り、混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に水１０．８ｇをメ
チルアルコール４０ｍｌに溶解した溶液を添加した。添
加終了後、攪拌を続けながら４０℃で８時間放置した。
この混合溶液に、トリメチルクロロシラン２１．７ｇ、
水８．０ｇ、濃塩酸１．０ｍｌ、メチルアルコール４０
ｍｌからなる溶液を添加し、４０℃で４時間放置した。Example 1 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 5 produced in Production Example 1 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
6.8 g and 160 ml of methyl alcohol were taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 10.8 g of water in 40 ml of methyl alcohol was added to this solution. After the addition was completed, the mixture was left standing at 40 ° C. for 8 hours while continuing stirring.
To this mixed solution, 21.7 g of trimethylchlorosilane,
Water 8.0 g, concentrated hydrochloric acid 1.0 ml, methyl alcohol 40
A solution consisting of ml was added and left at 40 ° C. for 4 hours.
【００９３】反応終了後、系は二相に分離したので、デ
カンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸
水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーシ
ョンにより水を除去し、８０℃で一昼夜真空乾燥して重
縮合体を単離した。After completion of the reaction, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed by decantation again at 80 ° C. The polycondensate was isolated by vacuum drying overnight.
【００９４】この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定
を行ったところ、この重縮合体が下記式（１ｂ）で表さ
れる梯子型ポリシロキサンであることが確認された。ま
た、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定によれ
ば、ｎは２００〜４００であった。About this polycondensate, IR, 1 H-NM
When R, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (1b). According to gel permeation chromatography measurement, n was 200 to 400.
【００９５】[0095]
【化２９】 Embedded image
【００９６】［式（１ｂ）中、Ｑは−（ＣＨ2)4−を表
す。］[0096] In the formula (1b), Q is - (CH 2) 4 - represents a. ]
【００９７】[0097]
【実施例２】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例２で製造された珪素化合物１０
２．２ｇ、エチルアルコール２５０ｍｌを採り、混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液にトリエタノールア
ミン１．３ｇ、水７．２ｇをエチルアルコール５０ｍｌ
に溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けな
がら４０℃で６時間放置した。Example 2 <Production of Polysiloxane> A silicon compound 10 produced in Production Example 2 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
2.2 g and 250 ml of ethyl alcohol were taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, 1.3 g of triethanolamine and 7.2 g of water were added to 50 ml of ethyl alcohol.
Was added. After the addition was completed, the mixture was left at 40 ° C. for 6 hours while continuing stirring.
【００９８】この混合溶液に、ヘキサエチルジシロキサ
ン９８．６ｇ、水１０．８ｇ、濃硝酸２．０ｍｌ、エチ
ルアルコール１００ｍｌからなる溶液を添加し、４０℃
で２時間放置した。反応終了後、系は二相に分離したの
で、デカンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５
％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカン
テーションにより水を除去し、８０℃で一昼夜真空乾燥
して重縮合体を単離した。この重縮合体についてＩＲ、
1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペ
クトル測定を行ったところ、この重縮合体が下記式（２
ｂ）で表される梯子型ポリシロキサンであることが確認
された。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測
定によれば、ｎは１００〜４００であった。To this mixed solution was added a solution consisting of 98.6 g of hexaethyldisiloxane, 10.8 g of water, 2.0 ml of concentrated nitric acid and 100 ml of ethyl alcohol, and the mixture was added at 40 ° C.
Left for 2 hours. After the reaction was completed, the system separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, and the
After washing with a% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed by decantation again, and the product was vacuum dried at 80 ° C. for 24 hours to isolate the polycondensate. IR of this polycondensate,
When 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, this polycondensate showed the following formula (2
It was confirmed to be a ladder-type polysiloxane represented by b). According to gel permeation chromatography measurement, n was 100 to 400.
【００９９】[0099]
【化３０】 Embedded image
【０１００】［式（２ｂ）中、Ｑは−（ＣＨ2）2−Ｓ−
（ＣＨ2）3−を表す。］[In the formula (2b), Q is-(CH 2 ) 2 -S-.
Represents (CH 2 ) 3 −. ]
【０１０１】[0101]
【実施例３】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例３で製造された珪素化合物２３
３．４ｇ、メチルエチルケトン５００ｍｌを採り、混合
溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に、酢酸１．２
ｇ、水２５．２ｇをメチルエチルケトン１００ｍｌに溶
解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら
６０℃で４時間放置した。２０℃に冷却した後この混合
溶液に、トリメチルメトキシシラン５０．０ｇ、水１
３．０ｇ、濃塩酸４．０ｍｌ、メチルエチルケトン１０
０ｍｌからなる溶液を添加し、２０℃で１６時間放置し
た。Example 3 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 23 produced in Production Example 3 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
3.4 g and 500 ml of methyl ethyl ketone were taken and mixed and dissolved. While continuing to stir, add 1.2 parts of acetic acid to this solution.
and a solution of 25.2 g of water dissolved in 100 ml of methyl ethyl ketone were added. After the addition was completed, the mixture was left at 60 ° C. for 4 hours while continuing stirring. After cooling to 20 ° C., 50.0 g of trimethylmethoxysilane and 1 part of water were added to this mixed solution.
3.0 g, concentrated hydrochloric acid 4.0 ml, methyl ethyl ketone 10
A solution consisting of 0 ml was added and left at 20 ° C. for 16 hours.
【０１０２】反応終了後、系は二相に分離したので、デ
カンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸
水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーシ
ョンにより水を除去し、８０℃で一昼夜真空乾燥して重
縮合体を単離した。この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル
測定を行ったところ、この重縮合体が下記式（３ｂ）で
表される梯子型ポリシロキサンであることが確認され
た。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定に
よれば、ｎは４００〜８００であった。After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed by decantation again at 80 ° C. The polycondensate was isolated by vacuum drying overnight. IR, 1 H- for this polycondensate
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (3b). According to gel permeation chromatography measurement, n was 400 to 800.
【０１０３】[0103]
【化３１】 Embedded image
【０１０４】［式（３ｂ）中、Ｑは−Ｃ6Ｈ4−を表
す。］[0104] In Expression (3b), Q is -C 6 H 4 - represents a. ]
【０１０５】[0105]
【実施例４】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例４で製造された珪素化合物３
４．３ｇ、３アミノプロピルトリメトキシシラン１．５
ｇ、イソプロピルアルコール１００ｍｌを採り混合溶解
した。攪拌を続けながらこの溶液に、水３．６ｇをイソ
プロピルアルコール５０ｍｌに溶解した溶液を添加し
た。添加終了後、攪拌を続けながら７０℃で６時間放置
した。２０℃に冷却した後、この混合溶液に、前記製造
例１０で製造された珪素化合物６．８ｇ、水１．５ｇ、
濃硝酸０．５ｍｌ、イソプロピルアルコール２０ｍｌか
らなる溶液を添加し、２０℃で１２時間放置した。反応
終了後系は二相に分離したので、デカンテーションによ
り溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液
及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除去
し、８０℃で一昼夜真空乾燥し、重縮合体を単離した。
この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭ
Ｒ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったとこ
ろ、この重縮合体が下記式（４ｂ）で表される梯子型ポ
リシロキサンであることが確認された。また、ゲルパー
ミエーションクロマトグラフ測定によれば、ｎは８００
〜１０００であった。Example 4 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 3 produced in Production Example 4 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
4.3 g, 3 aminopropyltrimethoxysilane 1.5
g and 100 ml of isopropyl alcohol were taken and mixed and dissolved. A solution of 3.6 g of water in 50 ml of isopropyl alcohol was added to this solution while continuing stirring. After the addition was completed, the mixture was left at 70 ° C. for 6 hours while continuing stirring. After cooling to 20 ° C., 6.8 g of the silicon compound prepared in Preparation Example 10 and 1.5 g of water were added to the mixed solution.
A solution consisting of 0.5 ml of concentrated nitric acid and 20 ml of isopropyl alcohol was added, and the mixture was left at 20 ° C. for 12 hours. After the reaction was completed, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, the water was removed again by decantation, and vacuum dried at 80 ° C for one day. , The polycondensate was isolated.
About this polycondensate, IR, 1 H-NMR, 13 C-NM
When the R and 29 Si-NMR spectra were measured, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (4b). According to gel permeation chromatography measurement, n is 800
Was ~ 1000.
【０１０６】[0106]
【化３２】 Embedded image
【０１０７】［式（４ｂ）中、Ｑは−（ＣＨ2）2−Ｃ6
Ｈ4−（ＣＨ2）2−を表す。］[In the formula (4b), Q is-(CH 2 ) 2 -C 6
H 4 - (CH 2) 2 - represents a. ]
【０１０８】[0108]
【実施例５】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例５で製造された珪素化合物４
５．２ｇ、メチルセロソルブ２００ｍｌを採り混合溶解
した。攪拌を続けながらこの溶液に濃塩酸０．１ｍｌ、
水６．５ｇをメチルセロソルブ５０ｍｌに溶解した溶液
を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら２０℃で６
時間放置した。Example 5 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 4 produced in Production Example 5 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
5.2 g and 200 ml of methyl cellosolve were taken and mixed and dissolved. With continued stirring, add 0.1 ml of concentrated hydrochloric acid to this solution,
A solution of 6.5 g of water in 50 ml of methyl cellosolve was added. After the addition is complete, continue stirring at 6 ° C at 20 ° C.
Left for hours.
【０１０９】この混合溶液に、トリエチルクロロシラン
２２．６ｇ、ヘキサエチルジシロキサン３６．８ｇ、水
９．５ｇ、濃硝酸１．０ｍｌ、イソプロピルアルコール
１００ｍｌからなる溶液を添加し、２０℃で１２時間放
置した。凍結乾燥により溶媒、水を除去し、さらに８０
℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。この重縮
合体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び
29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、この重
縮合体が下記式（５ｂ）で表される梯子型ポリシロキサ
ンであることが確認された。また、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフ測定によれば、ｎは２００〜６００で
あった。To this mixed solution was added a solution of 22.6 g of triethylchlorosilane, 36.8 g of hexaethyldisiloxane, 9.5 g of water, 1.0 ml of concentrated nitric acid, and 100 ml of isopropyl alcohol, and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 12 hours. . Remove solvent and water by freeze-drying
The polycondensate was isolated by vacuum drying at ℃ for 24 hours. IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and
When 29 Si-NMR spectrum measurement was performed, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (5b). According to gel permeation chromatography measurement, n was 200 to 600.
【０１１０】[0110]
【化３３】 Embedded image
【０１１１】［式（５ｂ）中、Ｑは下記式で表される基
を表す。］[In the formula (5b), Q represents a group represented by the following formula. ]
【０１１２】[0112]
【化３４】 Embedded image
【０１１３】[0113]
【実施例６】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例６で製造された珪素化合物１８
２．１ｇ、３−（４，５−ジヒドロイミダゾール）プロ
ピルトリエトキシシラン４．０ｇ、エチルアルコール／
テトラヒドロフラン混合溶媒（重量比で７／３）３５０
ｍｌを採り混合溶解した。攪拌を続けながらこの溶液に
水６．５ｇを前述の混合溶媒１００ｍｌに溶解した溶液
を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら６０℃で４
時間放置した。２０℃に冷却した後、この混合溶液に、
製造例１１で製造された珪素化合物５．３ｇ、水１．０
ｇ、濃硝酸０．５ｍｌ、前述の混合溶媒１００ｍｌから
なる溶液を添加し、２０℃で１２時間放置した。Example 6 <Production of Polysiloxane> A silicon compound 18 produced in Production Example 6 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
2.1 g, 3- (4,5-dihydroimidazole) propyltriethoxysilane 4.0 g, ethyl alcohol /
Tetrahydrofuran mixed solvent (7/3 by weight) 350
ml was taken and mixed and dissolved. While continuing stirring, a solution prepared by dissolving 6.5 g of water in 100 ml of the above-mentioned mixed solvent was added to this solution. After the addition is complete, continue stirring at 4 ° C at 60 ° C.
Left for hours. After cooling to 20 ° C., the mixed solution was
5.3 g of the silicon compound produced in Production Example 11 and 1.0 of water
g, 0.5 ml of concentrated nitric acid, and 100 ml of the mixed solvent described above were added, and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 12 hours.
【０１１４】反応終了後、系は二相に分離したので、デ
カンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸
水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーシ
ョンにより水を除去し、８０℃で一昼夜真空乾燥して重
縮合体を単離した。この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル
測定を行ったところ、この重縮合体が下記式（６ｂ）で
表される梯子型ポリシロキサンであることが確認され
た。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定に
よれば、ｎは４００〜６００であった。After completion of the reaction, the system was separated into two phases, so the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed by decantation again at 80 ° C. The polycondensate was isolated by vacuum drying overnight. IR, 1 H- for this polycondensate
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (6b). According to gel permeation chromatography measurement, n was 400 to 600.
【０１１５】[0115]
【化３５】 Embedded image
【０１１６】［式（６ｂ）中、Ｑ1は下記式で表される
基を表し、Ｑ2は−Ｃ6Ｈ4−を表す。］[0116] In the formula (6b), Q 1 represents a group represented by the following formula, Q 2 is -C 6 H 4 - represents a. ]
【０１１７】[0117]
【化３６】 Embedded image
【０１１８】[0118]
【実施例７】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例７で製造された珪素化合物３２
８．１ｇ、エチルアルコール５００ｍｌを採り混合溶解
した。攪拌を続けながらこの溶液にクエン酸４．７ｇ、
水１２．６ｇをエチルアルコール１００ｍｌに溶解した
溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら４０℃
で４時間放置した。この混合溶液に、前記製造例１２で
製造された珪素化合物５．７ｇ、水０．５ｇ、クエン酸
３．２ｇ、エチルアルコール１００ｍｌからなる溶液を
添加し、４０℃で１２時間放置した。Example 7 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 32 produced in Production Example 7 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
8.1 g and 500 ml of ethyl alcohol were taken and mixed and dissolved. With continued stirring, add 4.7 g of citric acid to this solution,
A solution of 12.6 g of water in 100 ml of ethyl alcohol was added. After the addition is complete, continue stirring at 40 ° C
Left for 4 hours. A solution consisting of 5.7 g of the silicon compound produced in Production Example 12, 0.5 g of water, 3.2 g of citric acid and 100 ml of ethyl alcohol was added to this mixed solution, and the mixture was allowed to stand at 40 ° C. for 12 hours.
【０１１９】反応終了後、系は二相に分離したので、デ
カンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸
水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーシ
ョンにより水を除去し、８０℃で一昼夜真空乾燥して重
縮合体を単離した。この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル
測定を行ったところ、この重縮合体が下記式（７ｂ）で
表される梯子型ポリシロキサンであることが確認され
た。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定に
よれば、ｎは１０００〜１４００であった。After the completion of the reaction, the system was separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, further washed with 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed by decantation again at 80 ° C. The polycondensate was isolated by vacuum drying overnight. IR, 1 H- for this polycondensate
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (7b). According to gel permeation chromatographic measurement, n was 1000 to 1400.
【０１２０】[0120]
【化３７】 Embedded image
【０１２１】［式（７ｂ）中、Ｑは−（ＣＨ2）3−Ｏ−
（ＣＨ2）3−を表す。］[In the formula (7b), Q is-(CH 2 ) 3 --O--
Represents (CH 2 ) 3 −. ]
【０１２２】[0122]
【実施例８】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例８で製造された珪素化合物８
２．１ｇ、テトラヒドロフラン３００ｍｌを採り混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に濃塩酸０．３ｍ
ｌ、水１３．０ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶
解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら
２０℃で４時間放置した。この混合溶液に、トリメチル
メトキシシラン２６．１ｇ、水１４．４ｇ、濃塩酸２．
０ｍｌ、テトラヒドロフラン１００ｍｌからなる溶液を
添加し２０℃で１２時間放置した。Example 8 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 8 produced in Production Example 8 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
2.1 g and 300 ml of tetrahydrofuran were taken and mixed and dissolved. While continuing to stir, add 0.3 m of concentrated hydrochloric acid to this solution.
1 and a solution of 13.0 g of water dissolved in 100 ml of tetrahydrofuran were added. After the addition was completed, the mixture was left standing at 20 ° C. for 4 hours while continuing stirring. To this mixed solution, 26.1 g of trimethylmethoxysilane, 14.4 g of water, concentrated hydrochloric acid 2.
A solution consisting of 0 ml and 100 ml of tetrahydrofuran was added and the mixture was allowed to stand at 20 ° C. for 12 hours.
【０１２３】反応終了後、少量の水を添加すると、系は
二相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相を
除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗
浄後、再びデカンテーションにより水を除去し、８０℃
で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。この重縮合
体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び2 9
Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、この重縮
合体が下記式（８ｂ）で表される梯子型ポリシロキサン
であることが確認された。また、ゲルパーミエーション
クロマトグラフ測定によれば、ｎは４００〜８００であ
った。After completion of the reaction, when a small amount of water was added, the system separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and again decanted to remove water. Removed, 80 ℃
Then, the product was vacuum dried for 24 hours to isolate the polycondensate. This polycondensate IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 2 9
When the Si-NMR spectrum was measured, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (8b). According to gel permeation chromatography measurement, n was 400 to 800.
【０１２４】[0124]
【化３８】 Embedded image
【０１２５】［式（８ｂ）中、Ｑは下記式で表される基
を表す。］[In the formula (8b), Q represents a group represented by the following formula. ]
【０１２６】[0126]
【化３９】 Embedded image
【０１２７】[0127]
【実施例９】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例１で製造された珪素化合物１１
３．６ｇ、前記製造例７で製造された珪素化合物１３
１．２ｇ、エチルアルコール７００ｍｌを採り混合溶解
した。攪拌を続けながらこの溶液にモルフォリン６．２
ｇ、水３４．６ｇをエチルアルコール２００ｍｌに溶解
した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けながら２
０℃で８時間放置した。Example 9 <Production of Polysiloxane> A silicon compound 11 produced in Production Example 1 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
3.6 g, silicon compound 13 produced in Production Example 7
1.2 g and 700 ml of ethyl alcohol were taken and mixed and dissolved. Morpholine 6.2 was added to the solution with continued stirring.
and a solution of 34.6 g of water dissolved in 200 ml of ethyl alcohol were added. After the addition is complete, continue to stir 2
It was left at 0 ° C. for 8 hours.
【０１２８】この混合溶液に、トリヘキシルクロロシラ
ン２０４．２ｇ、水４１．５ｇ、濃塩酸１０．０ｍｌ、
エチルアルコール２００ｍｌからなる溶液を添加し、２
０℃で１６時間放置した。反応終了後、少量の水を添加
すると、系は二相に分離したので、デカンテーションに
より溶媒相を除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶
液及び水で洗浄後、再びデカンテーションにより水を除
去し、８０℃で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離し
た。To this mixed solution, 204.2 g of trihexylchlorosilane, 41.5 g of water, 10.0 ml of concentrated hydrochloric acid,
Add a solution consisting of 200 ml of ethyl alcohol and add 2
It was left at 0 ° C. for 16 hours. After the completion of the reaction, a small amount of water was added, and the system separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed again by decantation. The polycondensate was isolated by vacuum drying at 80 ° C. for 24 hours.
【０１２９】この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定
を行ったところ、この重縮合体が下記式（９ｂ）で表さ
れる梯子型ポリシロキサンであることが確認された。ま
た、1Ｈ−ＮＭＲの積分値及びゲルパーミエーションク
ロマトグラフ測定によれば、ｎ1、ｎ2はそれぞれ３００
〜５００、３００〜５００であった。Regarding this polycondensate, IR, 1 H-NM
When R, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were performed, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (9b). Further, according to the integrated value of 1 H-NMR and the gel permeation chromatograph measurement, n 1 and n 2 are 300 respectively.
It was ~ 500, 300-500.
【０１３０】[0130]
【化４０】 Embedded image
【０１３１】［式（９ｂ）中、Ｑ1は−（ＣＨ2）4−を
表し、Ｑ2は−（ＣＨ2）3Ｏ（ＣＨ2）3−を表す。］[In the formula (9b), Q 1 represents — (CH 2 ) 4 — and Q 2 represents — (CH 2 ) 3 O (CH 2 ) 3 —. ]
【０１３２】[0132]
【実施例１０】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例９で製造された珪素化合物２３
２．５ｇ、エチルセロソルブ５００ｍｌを採り混合溶解
した。攪拌を続けながらこの溶液に濃アンモニア水２．
５ｍｌ、水３０．２ｇをエチルセロソルブ１００ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けなが
ら５０℃で８時間放置した。２０℃に冷却後、この混合
溶液に、ヘキサプロピルジシロキサン２３１．５ｇ、水
５．４ｇ、濃塩酸８．０ｍｌ、エチルセロソルブ２００
ｍｌからなる溶液を添加し、２０℃で１２時間放置し
た。Example 10 <Production of Polysiloxane> A silicon compound 23 produced in Production Example 9 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
2.5 g and 500 ml of ethyl cellosolve were taken and mixed and dissolved. Concentrated aqueous ammonia 2.
A solution prepared by dissolving 5 ml and 30.2 g of water in 100 ml of ethyl cellosolve was added. After completion of the addition, the mixture was left at 50 ° C. for 8 hours while continuing stirring. After cooling to 20 ° C., 231.5 g of hexapropyldisiloxane, 5.4 g of water, 8.0 ml of concentrated hydrochloric acid, and ethyl cellosolve 200 were added to this mixed solution.
A solution consisting of ml was added and left at 20 ° C. for 12 hours.
【０１３３】反応終了後、系は二相に分離したので、デ
カンテーションにより溶媒相を除去し、さらに５％炭酸
水素ナトリウム溶液及び水で洗浄後、再びデカンテーシ
ョンにより水を除去し、８０℃で一昼夜真空乾燥して重
縮合体を単離した。この重縮合体についてＩＲ、1Ｈ−
ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び29Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル
測定を行ったところ、この重縮合体が下記式（１０ｂ）
で表される梯子型ポリシロキサンであることが確認され
た。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフ測定に
よれば、ｎは１４００〜１６００であった。After completion of the reaction, the system was separated into two phases, and thus the solvent phase was removed by decantation, further washed with a 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and then water was removed by decantation again at 80 ° C. The polycondensate was isolated by vacuum drying overnight. IR, 1 H- for this polycondensate
When NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR spectrum measurements were carried out, this polycondensate showed the following formula (10b).
It was confirmed to be a ladder-type polysiloxane represented by According to gel permeation chromatography measurement, n was 1400 to 1600.
【０１３４】[0134]
【化４１】 Embedded image
【０１３５】［式（１０ｂ）中、Ｑは−（ＣＨ2）3−を
表す。］[In the formula (10b), Q represents-(CH 2 ) 3- . ]
【０１３６】[0136]
【実施例１１】 ＜ポリシロキサンの製造＞冷却器、攪拌装置付き三つ口
フラスコに、前記製造例４で製造された珪素化合物７
１．９ｇ、前記製造例８で製造された珪素化合物３７．
０ｇ、イソプロピルアルコール３００ｍｌを採り混合溶
解した。攪拌を続けながらこの溶液に濃塩酸０．４ｍ
ｌ、水１９．４ｇをイソプロピルアルコール５０ｍｌに
溶解した溶液を添加した。添加終了後、攪拌を続けなが
ら２０℃で８時間放置した。この混合溶液に、トリメチ
ルメトキシシラン３１．３ｇ、ヘキサメチルジシロキサ
ン３２．５ｇ、水１０．８ｇ、濃塩酸３．０ｍｌ、イソ
プロピルアルコール１００ｍｌからなる溶液を添加し、
２０℃で１６時間放置した。Example 11 <Production of Polysiloxane> The silicon compound 7 produced in Production Example 4 was placed in a three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer.
1.9 g of the silicon compound 37.
0 g and 300 ml of isopropyl alcohol were taken and mixed and dissolved. While continuing to stir, add 0.4 m of concentrated hydrochloric acid to this solution.
1, a solution of 19.4 g of water dissolved in 50 ml of isopropyl alcohol was added. After the addition was completed, the mixture was left standing at 20 ° C. for 8 hours while continuing stirring. To this mixed solution was added a solution consisting of 31.3 g of trimethylmethoxysilane, 32.5 g of hexamethyldisiloxane, 10.8 g of water, 3.0 ml of concentrated hydrochloric acid and 100 ml of isopropyl alcohol,
It was left at 20 ° C. for 16 hours.
【０１３７】反応終了後、少量の水を添加すると、系は
二相に分離したので、デカンテーションにより溶媒相を
除去し、さらに５％炭酸水素ナトリウム溶液及び水で洗
浄後、再びデカンテーションにより水を除去し、８０℃
で一昼夜真空乾燥して重縮合体を単離した。この重縮合
体についてＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ、及び2 9
Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル測定を行ったところ、この重縮
合体が下記式（１１ｂ）で表される梯子型ポリシロキサ
ンであることが確認された。また、1Ｈ−ＮＭＲの積分
値及びゲルパーミエーションクロマトグラフ測定によれ
ば、ｎ1、ｎ2はそれぞれ７００〜１０００、３００〜５
００であった。After the completion of the reaction, when a small amount of water was added, the system separated into two phases. Therefore, the solvent phase was removed by decantation, the solution was washed with 5% sodium hydrogen carbonate solution and water, and again decanted. Removed, 80 ℃
Then, the product was vacuum dried for 24 hours to isolate the polycondensate. This polycondensate IR, 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 2 9
When the Si-NMR spectrum was measured, it was confirmed that this polycondensate was a ladder-type polysiloxane represented by the following formula (11b). Moreover, according to the integrated value of 1 H-NMR and gel permeation chromatograph measurement, n 1 and n 2 are 700 to 1000 and 300 to 5 respectively.
00.
【０１３８】[0138]
【化４２】 Embedded image
【０１３９】［式（１１ｂ）中、Ｑ1は−（ＣＨ2）2−
Ｃ6Ｈ4−（ＣＨ2）2−を表し、Ｑ2は下記式で表される
基を表す。］[In the formula (11b), Q 1 is-(CH 2 ) 2-.
C 6 H 4 - (CH 2 ) 2 - represents, Q 2 represents a group represented by the following formula. ]
【０１４０】[0140]
【化４３】 Embedded image
【０１４１】[0141]
【実施例１２】 ＜増粘実験＞実施例１〜１１の梯子型シリコーン、及
び、比較例として１２−ヒドロキシステアリン酸とパル
ミチン酸デキストリンエステル（商品名：レオパールＫ
Ｌ）を用いて、表１の組成で増粘組成物を作成した（サ
ンプル１〜２６）。また、エイジングボックス中にそれ
ぞれの増粘組成物を放置し、安定性を確認した。Example 12 <Thickening Experiment> The ladder-type silicones of Examples 1 to 11 and, as a comparative example, 12-hydroxystearic acid and palmitic acid dextrin ester (trade name: Rhopearl K.
L) was used to prepare thickening compositions having the compositions shown in Table 1 (Samples 1 to 26). Further, each thickening composition was allowed to stand in an aging box to confirm the stability.
【０１４２】[0142]
【表１】 ＊１）商品名：ノムコートＴＩＯ[Table 1] * 1) Product name: Nomcoat TIO
【０１４３】［結果］ （１）増粘作用 サンプル１〜２２は増粘したが流動性を有していた。サ
ンプル２３、２４は流動性を失って完全にゲル化した。
また、サンプル２５、２６は全く増粘しなかった。 （２）安定性 ３カ月後に観察を行ったが、サンプル１〜２２は安定で
あった。一方、サンプル２３、２４には油剤の分離が見
られた。[Results] (1) Thickening Action Samples 1 to 22 were thickened but had fluidity. Samples 23 and 24 lost fluidity and gelled completely.
In addition, Samples 25 and 26 did not thicken at all. (2) Stability Samples 1 to 22 were stable when observed after 3 months. On the other hand, separation of the oil agent was observed in Samples 23 and 24.
【０１４４】[0144]
【発明の効果】本発明のポリシロキサンは、油剤を任意
の粘度に、特に流動性を維持しながら、増粘させること
ができる。また、これを用いて形成された増粘組成物
は、長時間放置しても油剤が分離せず、良好な安定性を
示す。これは、本発明のポリシロキサンが、下記一般式
（７）で表されるケージ（篭）構造を有するので、この
ケージ中に油成分をトラップすることができ、且つ規則
的な分子構造を有するので安定した増粘効果が発揮され
るためではないかと考えられる。INDUSTRIAL APPLICABILITY The polysiloxane of the present invention can thicken an oily agent to an arbitrary viscosity, particularly while maintaining fluidity. In addition, the thickening composition formed using this composition does not separate the oil agent even after being left for a long time, and exhibits good stability. This is because the polysiloxane of the present invention has a cage structure represented by the following general formula (7), so that an oil component can be trapped in the cage and has a regular molecular structure. Therefore, it is considered that the stable thickening effect is exerted.
【０１４５】このように、本発明のポリシロキサンは、
油剤の増粘剤として有効に利用することができる。Thus, the polysiloxane of the present invention is
It can be effectively used as a thickener for oils.
【０１４６】[0146]
【化４４】 Embedded image
Claims (9)
るポリシロキサン。 【化１】 ［式（１）中、Ｒは同一のものを含んでいてもよく、異
なったものを含んでいてもよく、一価の炭化水素基又は
水素原子の一部が塩素原子もしくは臭素原子で置換され
た一価の炭化水素基を表す。Ｒ’は同一のものを含んで
いてもよく、異なったものを含んでいてもよく、下記一
般式（２）で表される基又はＲを表す。 【化２】−Ｏ−Ｓｉ（Ｒ）3 ・・・（２） Ｑは二価の有機基を表す。ｎは１０以上の整数を表
す。］1. A polysiloxane having a structure represented by the following general formula (1). Embedded image [In the formula (1), R may contain the same thing or different things, and a monovalent hydrocarbon group or a part of the hydrogen atom is substituted with a chlorine atom or a bromine atom. Represents a monovalent hydrocarbon group. R'may contain the same thing and may contain different things, and represents the group or R represented by the following general formula (2). Embedded image —O—Si (R) 3 (2) Q represents a divalent organic group. n represents an integer of 10 or more. ]
レン基；２）ポリメチレン基；３）フェニレン基；４）
アリーレン基；５）前記１）〜４）の基の水素原子の少
なくとも一部が更にアルキル基、フェニル基、及びアリ
ール基からなる群のうちの少なくとも１種で置換された
基；６）前記１）〜５）の基の構造中に、酸素原子、窒
素原子又は硫黄原子を有する官能基を含む基；及び７）
前記１）〜６）の基の水素原子の少なくとも一部が塩素
原子または臭素原子で置換された基；よりなる群から選
ばれる基である、請求項１記載のポリシロキサン。2. Q in the general formula (1) is 1) an alkylene group; 2) a polymethylene group; 3) a phenylene group; 4).
5) an arylene group; 5) a group in which at least a part of hydrogen atoms of the groups 1) to 4) are further substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group, and an aryl group; ) To 5) a group containing a functional group having an oxygen atom, a nitrogen atom or a sulfur atom in the structure of the group; and 7).
The polysiloxane according to claim 1, which is a group selected from the group consisting of a group in which at least a part of hydrogen atoms of the groups 1) to 6) are substituted with a chlorine atom or a bromine atom.
レン基；２）ポリメチレン基；３）フェニレン基；４）
アリーレン基；５）前記１）〜４）の基の水素原子の少
なくとも一部が更にアルキル基、フェニル基、及びアリ
ール基からなる群のうちの少なくとも１種で置換された
基；６）前記１）〜５）の基の構造中にエーテル、チオ
エーテル、エステル、ケトン、アミド、イミド、アミン
及びイミンからなる群のうちの少なくとも１種の官能基
を含む基；及び７）前記１）〜６）の基の水素原子の少
なくとも一部が塩素原子または臭素原子で置換された
基；よりなる群から選ばれる基である、請求項１記載の
ポリシロキサン。3. Q in the general formula (1) is 1) an alkylene group; 2) a polymethylene group; 3) a phenylene group; 4).
5) an arylene group; 5) a group in which at least a part of hydrogen atoms of the groups 1) to 4) are further substituted with at least one selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group, and an aryl group; ) To 5) a group containing at least one functional group selected from the group consisting of ethers, thioethers, esters, ketones, amides, imides, amines and imines in the structure of the groups; and 7) 1) to 6) above. The polysiloxane according to claim 1, which is a group selected from the group consisting of a group in which at least a part of hydrogen atoms of the group is substituted with a chlorine atom or a bromine atom;
基、フェニル基、アリール基及びこれらの基の水素原子
の少なくとも一部が塩素原子又は臭素原子で置換された
基よりなる群から選ばれる基である、請求項１記載のポ
リシロキサン。4. R in the general formula (1) is selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group, an aryl group and a group in which at least a part of hydrogen atoms of these groups are substituted with chlorine atoms or bromine atoms. The polysiloxane according to claim 1, which is a group.
を加水分解重縮合させた後、これに下記一般式（４）で
表される珪素化合物及び／又は下記一般式（５）で表さ
れる珪素化合物、もしくは下記一般式（６）で表される
珪素化合物を末端封鎖剤として反応させる工程を含む、
請求項１記載のポリシロキサンの製造方法。 【化３】 ［式（３）、（４）、（５）及び（６）中、Ｒ及びＱ
は、前記一般式（１）におけるのと同義である。また、
Ｘは加水分解性の基を表す。］5. A silicon compound represented by the following general formula (3) is hydrolyzed and polycondensed, and then the silicon compound represented by the following general formula (4) and / or the following general formula (5) is added. A step of reacting a silicon compound represented by the formula or a silicon compound represented by the following general formula (6) as a terminal blocking agent,
The method for producing the polysiloxane according to claim 1. Embedded image [R and Q in Formulas (3), (4), (5) and (6)
Is as defined in the above general formula (1). Also,
X represents a hydrolyzable group. ]
Ｑが、１）アルキレン基；２）ポリメチレン基；３）フ
ェニレン基；４）アリーレン基；５）前記１）〜４）の
基の水素原子の少なくとも一部が更にアルキル基、フェ
ニル基、及びアリール基からなる群のうちの少なくとも
１種で置換された基；６）前記１）〜５）の基の構造中
に、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子を有する官能基を
含む基；及び７）前記１）〜６）の基の水素原子の少な
くとも一部が塩素原子または臭素原子で置換された基；
よりなる群から選ばれる基である、請求項５記載のポリ
シロキサンの製造方法。6. Q in the general formulas (3) and (6) is 1) an alkylene group; 2) a polymethylene group; 3) a phenylene group; 4) an arylene group; 5) a group of the above 1) to 4). A group in which at least a part of hydrogen atoms of is further substituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group, and an aryl group; 6) an oxygen atom in the structure of the group of 1) to 5) above. A group containing a functional group having a nitrogen atom or a sulfur atom; and 7) a group in which at least a part of hydrogen atoms of the groups 1) to 6) are substituted with a chlorine atom or a bromine atom;
The method for producing a polysiloxane according to claim 5, which is a group selected from the group consisting of:
Ｑが、１）アルキレン基；２）ポリメチレン基；３）フ
ェニレン基；４）アリーレン基；５）前記１）〜４）の
基の水素原子の少なくとも一部が更にアルキル基、フェ
ニル基、及びアリール基からなる群のうちの少なくとも
１種で置換された基；６）前記１）〜５）の基の構造中
にエーテル、チオエーテル、エステル、ケトン、アミ
ド、イミド、アミン及びイミンからなる群のうちの少な
くとも１種の官能基を含む基；及び７）前記１）〜６）
の基の水素原子の少なくとも一部が塩素原子または臭素
原子で置換された基；よりなる群から選ばれる基であ
る、請求項５記載のポリシロキサンの製造方法。7. Q in the general formulas (3) and (6) is 1) an alkylene group; 2) a polymethylene group; 3) a phenylene group; 4) an arylene group; 5) a group of the above 1) to 4). A group in which at least a part of the hydrogen atoms is further substituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group, a phenyl group, and an aryl group; 6) Ether, thioether in the structure of the groups 1) to 5) above. , A group containing at least one functional group selected from the group consisting of ester, ketone, amide, imide, amine and imine; and 7) 1) to 6) above.
The method for producing a polysiloxane according to claim 5, which is a group selected from the group consisting of a group in which at least a part of hydrogen atoms of the group is substituted with a chlorine atom or a bromine atom;
（６）におけるＲが、アルキル基、フェニル基、アリー
ル基及びこれらの基の水素原子の少なくとも一部が塩素
原子又は臭素原子で置換された基よりなる群から選ばれ
る基である、請求項５記載のポリシロキサンの製造方
法。8. R in the general formulas (3), (4), (5) and (6) is an alkyl group, a phenyl group, an aryl group and at least a part of hydrogen atoms of these groups is a chlorine atom or bromine. The method for producing a polysiloxane according to claim 5, which is a group selected from the group consisting of groups substituted with atoms.
るＸが、アルコキシ基、ハロゲン基及びアルコキシアル
コキシ基よりなる群から選ばれる基である、請求項５記
載のポリシロキサンの製造方法。9. The production of polysiloxane according to claim 5, wherein X in the general formulas (3), (4) and (6) is a group selected from the group consisting of an alkoxy group, a halogen group and an alkoxyalkoxy group. Method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14041896A JPH09100352A (en) | 1995-08-03 | 1996-06-03 | Polysiloxane and its production |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-198840 | 1995-08-03 | ||
| JP19884095 | 1995-08-03 | ||
| JP14041896A JPH09100352A (en) | 1995-08-03 | 1996-06-03 | Polysiloxane and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09100352A true JPH09100352A (en) | 1997-04-15 |
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ID=26472933
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14041896A Pending JPH09100352A (en) | 1995-08-03 | 1996-06-03 | Polysiloxane and its production |
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|---|---|
| JP (1) | JPH09100352A (en) |
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| JP2009263433A (en) * | 2008-04-23 | 2009-11-12 | Dow Corning Toray Co Ltd | Silicon-containing polymer, its manufacturing method, and curable polymer composition |
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-
1996
- 1996-06-03 JP JP14041896A patent/JPH09100352A/en active Pending
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