JPH0887709A - Magnetic head and its production - Google Patents
Magnetic head and its productionInfo
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- JPH0887709A JPH0887709A JP22300494A JP22300494A JPH0887709A JP H0887709 A JPH0887709 A JP H0887709A JP 22300494 A JP22300494 A JP 22300494A JP 22300494 A JP22300494 A JP 22300494A JP H0887709 A JPH0887709 A JP H0887709A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダー（ＶＴＲ）やデジタルオーディオテープレコー
ダー（Ｒ−ＤＡＴ）等の高密度記録可能な磁気記録再生
装置に搭載して好適な磁気ヘッド及びその製造方法に関
するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is suitable for mounting on a magnetic recording / reproducing apparatus capable of high density recording such as a video tape recorder (VTR) or a digital audio tape recorder (R-DAT), and its manufacture. It is about the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】例えば、ビデオテープレコーダーやデジ
タルオーディオテープレコーダー等の磁気記録再生装置
においては、高画質化等を目的として情報信号の短波長
記録化が進められており、これに対応して磁性粉に強磁
性金属粉末を用いた、いわゆるメタルテープや、ベース
フィルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ
等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってき
ている。2. Description of the Related Art For example, in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a video tape recorder or a digital audio tape recorder, a shorter wavelength recording of an information signal has been promoted for the purpose of improving the image quality and the like. A high coercive force magnetic recording medium such as a so-called metal tape using a ferromagnetic metal powder as a powder or a vapor deposition tape in which a ferromagnetic metal material is directly deposited on a base film has been used.
【０００３】一方、これに対処すべく磁気ヘッドの分野
においても研究が進められており、高抗磁力磁気記録媒
体を可能ならしめるため、コア材料に金属磁性材料を用
いるとともに狭トラック化を図った磁気ヘッドが開発さ
れている。On the other hand, research has been conducted also in the field of magnetic heads to deal with this, and in order to make a high coercive force magnetic recording medium possible, a metal magnetic material was used as the core material and the track was narrowed. Magnetic heads have been developed.
【０００４】このような磁気ヘッドの代表的なものとし
て、非磁性材料よりなる基板で高透磁率かつ高飽和磁束
密度を有する金属磁性膜を挟み込んでなる磁気コア半体
を、突き合わせガラス融着により接合一体化した、いわ
ゆるラミネートタイプの磁気ヘッドが知られている。As a typical example of such a magnetic head, a magnetic core half body in which a metal magnetic film having a high magnetic permeability and a high saturation magnetic flux density is sandwiched between substrates made of a nonmagnetic material is formed by butt glass fusion. A so-called laminate type magnetic head integrally joined is known.
【０００５】このようなラミネートタイプの磁気ヘッド
は、上記金属磁性膜の膜厚を制御することでトラック幅
を簡単に狭トラック化が図られるため高密度記録を行う
ことができること、構造的に疑似ギャップが発生しない
こと、さらに、上記ガラス融着等により簡単に製造でき
ること等種々の利点を有する。In such a laminated type magnetic head, the track width can be easily narrowed by controlling the film thickness of the metal magnetic film, so that high density recording can be performed. There are various advantages such as no gap being generated and the fact that the glass can be easily manufactured by the above-mentioned glass fusion or the like.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
ラミネートタイプの磁気ヘッドは、磁気記録の高密度化
に伴いさらなる高出力化が要求されている。この高出力
化の点からは巻線溝に巻装されるコイルの本数を増やす
必要があるが、コイルの本数を増やすと装置本体内部の
温度が上昇する。しかし、他方、ＶＴＲ等の磁気記録装
置の小型化により、小電力化および装置本体内部の温度
上昇を抑制する必要がある。したがって、これらの要請
から最適記録電流（Ｏｕｔｐｕｔ Ｒｅｃｏｒｄ Ｃｕ
ｒｒｅｎｔ）の低減が望まれている。By the way, such a laminate type magnetic head is required to have a higher output as the magnetic recording density increases. From the viewpoint of increasing the output, it is necessary to increase the number of coils wound in the winding groove, but if the number of coils is increased, the temperature inside the apparatus main body rises. However, on the other hand, due to the miniaturization of magnetic recording devices such as VTRs, it is necessary to reduce the power consumption and suppress the temperature rise inside the device body. Therefore, from these requirements, the optimum recording current (Output Record Cu
It is desired to reduce the current.
【０００７】この最適記録電流の低減には、高飽和磁束
密度化やコア効率を挙げる手法もあるが、効果的な手法
としては、巻線溝に巻装される単位捲き数当たり（捲き
線コイル１捲き当たり）のインダクタンスＬを小さくす
ることにより、コイルの捲き数を多くする手法が挙げら
れる。そして、この単位捲数当たりのインダクタンスＬ
を小さくするには、上記のようなラミネートタイプの磁
気ヘッド金属磁性膜を積層してなる磁気コアを有する磁
気ヘッドが有利である。To reduce the optimum recording current, there is a method of increasing the saturation magnetic flux density and increasing the core efficiency, but an effective method is to reduce the per unit winding number (winding coil A method of increasing the number of windings of the coil by decreasing the inductance L per winding) can be mentioned. Then, the inductance L per unit number of turns
In order to reduce the above, a magnetic head having a magnetic core formed by laminating the above-mentioned laminated type magnetic head metal magnetic film is advantageous.
【０００８】しかしながら、高密度磁気記録を行うため
に磁気ヘッドのトラック幅が狭くなると、磁路の断面積
が減少することからコア効率が低下し、結果的に最適記
録電流の低減に結びつかなくなるという問題を有してい
た。However, when the track width of the magnetic head is narrowed for high-density magnetic recording, the cross-sectional area of the magnetic path is reduced, so that the core efficiency is reduced and, as a result, the optimum recording current cannot be reduced. Had a problem.
【０００９】このような傾向は、特に、磁気ヘッドのト
ラック幅Ｔｗが、Ｔｗ≦１６μｍの狭トラックの磁気ヘ
ッドにおいて顕著にみられる。This tendency is particularly noticeable in a narrow track magnetic head having a track width Tw of Tw ≦ 16 μm.
【００１０】そこで、本発明は、金属磁性膜を積層して
なる一対の磁気コア半体同士を突き合わせて接合一体化
してなる磁気ヘッドにおいて、最適記録電流の低減を図
ることができる磁気ヘッド及びその製造方法を提供する
ことを目的とするものである。In view of this, the present invention is a magnetic head in which a pair of magnetic core halves formed by laminating metal magnetic films are butted against each other and joined together, and the optimum recording current can be reduced, and the same. It is intended to provide a manufacturing method.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記問題
を解決すべく鋭意研究を進めた結果、磁気ヘッドの磁気
コアの厚さ方向における表側と裏側の表面粗さが、巻線
溝に巻装されるコイルの単位捲き数当たりのインダクタ
ンスの低減に影響することを見出した。これは、上記表
面粗さが粗いと、コイルの捲き線状態に影響を与え、磁
束が漏れる量が大きくなるという点に着目したものであ
る。As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention have found that the surface roughness on the front side and the back side in the thickness direction of the magnetic core of the magnetic head is determined by the winding groove. It has been found that it affects the reduction of the inductance per unit number of turns of the coil wound on. This is because the rough surface roughness affects the winding state of the coil and increases the amount of magnetic flux leakage.
【００１２】そこで、本発明に係る磁気ヘッドは、金属
磁性膜により磁路の少なくとも一部が構成されてなる一
対の磁気コア半体同士を突き合わせて接合一体化し、そ
の突き合わせ面間に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘ
ッドにおいて、上記磁気コアの厚さ方向における表側と
裏側の各表面粗さが、最大高さＲｍａｘ≦２μｍである
ことを特徴とする。Therefore, in the magnetic head according to the present invention, a pair of magnetic core halves in which at least a part of a magnetic path is constituted by a metal magnetic film are butted and joined together, and a magnetic gap is provided between the butted faces. In the formed magnetic head, the surface roughness on the front side and the back side in the thickness direction of the magnetic core has a maximum height Rmax ≦ 2 μm.
【００１３】また、上記磁気ヘッドのトラック幅Ｔｗ
が、Ｔｗ≦１６μｍであることを特徴とする。The track width Tw of the magnetic head is also
Is Tw ≦ 16 μm.
【００１４】また、本発明に係る磁気ヘッドの製造方法
は、金属磁性膜により磁路の少なくとも一部が構成され
てなる一対の磁気コア半体同士を突き合わせて接合一体
化し、その突き合わせ面間に磁気ギャップを形成してな
る磁気ヘッドの製造方法において、上記磁気ヘッドの厚
みが形成されるように所定の大きさにヘッドチップを切
り出すに際し、その切り出し面の表面粗さが、最大高さ
Ｒｍａｘ≦２μｍとなるような切断工程を備えたことを
特徴とする。Also, in the method of manufacturing a magnetic head according to the present invention, a pair of magnetic core halves each having at least a part of a magnetic path formed by a metal magnetic film are butted and joined together, and the butted surfaces are joined together. In a method of manufacturing a magnetic head having a magnetic gap, when a head chip is cut into a predetermined size so that the thickness of the magnetic head is formed, the surface roughness of the cut surface has a maximum height Rmax ≦ It is characterized by having a cutting step of 2 μm.
【００１５】[0015]
【作用】本発明に係る磁気ヘッドは、磁気コアの厚さ方
向における表側と裏側の表面粗さが、Ｒｍａｘ≦２μｍ
であることを特徴とし、また、上記磁気ヘッドの厚みが
形成されるように所定の大きさにヘッドチップを切り出
すに際し、その切り出し面の表面粗さが、Ｒｍａｘ≦２
μｍとして切断することを特徴とするものである。In the magnetic head according to the present invention, the surface roughness on the front side and the back side in the thickness direction of the magnetic core is Rmax ≦ 2 μm.
When the head chip is cut into a predetermined size so that the thickness of the magnetic head is formed, the surface roughness of the cut surface is Rmax ≦ 2.
It is characterized by cutting as μm.
【００１６】このような磁気ヘッドは、上記表面粗さが
Ｒｍａｘ≦２μｍの磁気ヘッドは、Ｒｍａｘ＜２μｍの
磁気ヘッドと比較し、巻線溝に巻装されるコイルの単位
捲数当たりのインダクタンスＬを小さい値とすることが
できる。In such a magnetic head, the magnetic head having a surface roughness Rmax ≦ 2 μm has an inductance L per unit number of turns of the coil wound in the winding groove, as compared with a magnetic head having a surface roughness Rmax <2 μm. Can be a small value.
【００１７】したがって、例えば、周波数１０ＭＨZ に
おけるインダクタンスＬが約０．５μＨになるようにコ
イルの捲き数を調整すると、上記表面粗さがＲｍａｘ≦
２μｍの磁気ヘッドは、Ｒｍａｘ＜２μｍの磁気ヘッド
と比較し、コイルの捲き数を多くすることができる。そ
の結果、最適記録電流の低減が図られる。[0017] Thus, for example, adjusting the number Maki coil as an inductance L of about 0.5μH in the frequency 10 MHz Z, the surface roughness Rmax ≦
The magnetic head of 2 μm can increase the number of coil windings as compared with the magnetic head of Rmax <2 μm. As a result, the optimum recording current can be reduced.
【００１８】[0018]
【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments to which the present invention is applied will be described in detail below with reference to the drawings.
【００１９】作製される磁気ヘッドの構成 本実施例が対象とする磁気ヘッドは、図１に示すよう
に、金属磁性膜３が膜厚方向より一対の基板１１，１２
により挟み込まれてなる磁気コア半体１と、同様に金属
磁性膜４が膜厚方向より一対の基板１３，１４により挟
み込まれてなる磁気コア半体２が、上記金属磁性膜３，
４を突き合わせるようにして接合一体化されたものであ
る。そして、上記金属磁性膜３，４の突き合わせ面間に
は、ギャップｇ1 （フロントギャップ）と、ギャップｇ
2 （バックギャップ）が形成され、該金属磁性膜３，４
により閉磁路が構成されている。本実施例では、磁気ヘ
ッドのトラック幅Ｔｗが≦１６μｍの狭トラック幅とさ
れている。 Structure of Magnetic Head to be Produced As shown in FIG. 1, the magnetic head targeted by the present embodiment has a pair of substrates 11, 12 in which the metal magnetic film 3 is arranged in the thickness direction.
The magnetic core half body 1 sandwiched by the magnetic core half body 2 and the magnetic core half body 2 similarly sandwiched by the pair of substrates 13 and 14 in the thickness direction of the metal magnetic film 4 are the metal magnetic film 3 and the metal magnetic film 3, respectively.
4 are abutted and integrated so as to abut each other. A gap g 1 (front gap) and a gap g are provided between the abutting surfaces of the metal magnetic films 3 and 4.
2 (back gap) is formed, and the metal magnetic films 3 and 4 are formed.
A closed magnetic circuit is constituted by. In this embodiment, the track width Tw of the magnetic head is set to a narrow track width of ≤16 μm.
【００２０】また、上記磁気ヘッドにおいては、一方の
磁気コア半体２の対向面に、その一端によりフロントギ
ャップｇ1 のデプス（深さ）ｄを規制するとともに、図
示しないコイルを巻装するための巻線溝８が設けられて
いる。なお、この巻線溝８と対向する反対側の各側面に
は、コイルの巻装状態を良好なものとなすための巻線ガ
イド溝１８，１９が設けられている。Further, in the above magnetic head, the depth (depth) d of the front gap g 1 is regulated by the one end on the facing surface of the one magnetic core half body 2 and the coil (not shown) is wound. Winding groove 8 is provided. It should be noted that winding guide grooves 18 and 19 are provided on each of the opposite side surfaces facing the winding groove 8 so that the winding state of the coil is good.
【００２１】そして特に、上記磁気コア半対１，２の厚
さ方向における表側１ａ，２ａと裏側１ｂ，２ｂの各表
面粗さが、Ｒｍａｘ≦２μｍであるように構成されてい
る。なお、上記磁気コア半体１，２の厚さ方向における
表側１ａ，２ａと裏側１ｂ，２ｂの一方のは、磁気ヘッ
ドを装置本体内部の回転ドラム等に取り付ける場合に、
基台としてのヘッドベースに貼り付ける貼着面となる面
である。In particular, the surface roughnesses of the front sides 1a, 2a and the back sides 1b, 2b in the thickness direction of the magnetic core halves 1, 2 are configured so that Rmax ≦ 2 μm. It should be noted that one of the front side 1a, 2a and the back side 1b, 2b in the thickness direction of the magnetic core halves 1 and 2 is, when the magnetic head is attached to a rotary drum or the like inside the apparatus main body
It is a surface that becomes an attachment surface to be attached to a head base as a base.
【００２２】また、上記金属磁性膜３，４は、高周波帯
域での渦電流損失を回避するため、絶縁膜と交互に何層
にも積層されている。Further, the metal magnetic films 3 and 4 are laminated in multiple layers alternately with the insulating film in order to avoid eddy current loss in the high frequency band.
【００２３】上記金属磁性膜３、４は、各種強磁性材料
の他に、例えば高飽和磁束密度を有し、かつ軟磁気特性
に優れた強磁性合金材料が使用できるが、かかる強磁性
合金材料としては従来より公知のものがいずれも使用で
き、結晶質であるか、非結晶質であるかを問わない。For the metal magnetic films 3 and 4, a ferromagnetic alloy material having a high saturation magnetic flux density and excellent soft magnetic characteristics can be used in addition to various ferromagnetic materials. Any of those known in the art can be used, regardless of whether they are crystalline or amorphous.
【００２４】例示するならば、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
（センダスト）、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ
系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系
合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ系合
金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ
−Ａｌ系合金等が挙げられる。また、耐蝕性や耐摩耗性
等の一層の向上を図るために、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｚ
ｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｕ，Ｏｓ，Ｒｈ，Ｉｒ，
Ｒｅ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｈｆ，Ｖ等の少なくとも一種
を添加したものであってもよい。また、酸素含有センダ
スト，窒素含有センダスト、酸素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ
−Ｒｕ系合金、窒素含有Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇａ−Ｒｕ系合金
等の結晶質磁性膜でも良い。さらには、Ｆｅ系微結晶
膜、Ｃｏ系微結晶膜を用いてもよい。For example, Fe--Al--Si alloy (Sendust), Fe--Si--Co alloy, Fe--Ni
Type alloys, Fe-Al-Ge type alloys, Fe-Ga-Ge type alloys, Fe-Si-Ge type alloys, Fe-Si-Ga type alloys, Fe-Si-Ga-Ru type alloys, Fe-Co-Si
-Al type alloy etc. are mentioned. Further, in order to further improve corrosion resistance and wear resistance, Ti, Cr, Mn, Z
r, Nb, Mo, Ta, W, Ru, Os, Rh, Ir,
At least one of Re, Ni, Pd, Pt, Hf, V and the like may be added. Also, oxygen-containing sendust, nitrogen-containing sendust, oxygen-containing Fe-Si-Ga
A crystalline magnetic film such as a -Ru alloy or a nitrogen-containing Fe-Si-Ga-Ru alloy may be used. Further, an Fe-based microcrystalline film or a Co-based microcrystalline film may be used.
【００２５】また、強磁性非晶質合金、いわゆるアモル
ファス合金（例えば、Ｆｅ，Ｎｉ，Ｃｏの１つ以上の元
素とＰ，Ｃ，Ｂ，Ｓｉの１つ以上の元素からなる合金、
またはこれらを主成分としているＡｌ，Ｇｅ，Ｂｅ，Ｓ
ｎ，Ｉｎ，Ｍｏ，Ｗ，Ｔｉ，Ｍｎ，Ｃｒ，Ｚｒ，Ｈｆ，
Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−メタロイド系アモルフ
ァス合金、或いはＣｏ，Ｈｆ，Ｚｒ等の遷移元素や希土
類元素等を主成分とするメタル−メタル系アモルファス
合金）等が挙げられる。A ferromagnetic amorphous alloy, a so-called amorphous alloy (for example, an alloy composed of one or more elements of Fe, Ni and Co and one or more elements of P, C, B and Si,
Or Al, Ge, Be, S containing these as main components
n, In, Mo, W, Ti, Mn, Cr, Zr, Hf,
Examples thereof include metal-metalloid amorphous alloys such as alloys containing Nb and the like, and metal-metal amorphous alloys containing transition elements such as Co, Hf, Zr and rare earth elements as main components.
【００２６】これら金属磁性膜３，４の成膜方法として
は、膜厚制御性に優れるスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビーム法等に代表
される真空薄膜形成技術が採用されている。As a film forming method for these metal magnetic films 3 and 4, a vacuum thin film forming technique typified by a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, an ion beam method and the like which are excellent in film thickness controllability is adopted. ing.
【００２７】また、上記基板１１、１２、１３、１４に
は、フェライト材の他に、非磁性フェライト、酸化ジル
コニウム系セラミック、結晶化ガラス、非磁性酸化鉄系
セラミック、ＢａＴｉＯ3 ，Ｋ2 ＴｉＯ3 等のチタン酸
系セラミック等が用いられる。In addition to the ferrite material, non-magnetic ferrite, zirconium oxide-based ceramics, crystallized glass, non-magnetic iron oxide-based ceramics, BaTiO 3 , K 2 TiO 3 are used for the substrates 11, 12, 13, and 14. Titanate ceramics and the like are used.
【００２８】上記磁気ヘッドにおいては、基板１１，１
２，１３，１４を用いていることから、磁気ギャップの
トラック幅Ｔｗは、上記金属磁性膜３，４の膜厚によっ
て決定される。本実施例では、磁気ヘッドのトラック幅
Ｔｗが≦１６μｍの狭トラック幅とされている。In the above magnetic head, the substrates 11, 1
Since the tracks 2, 13, 14 are used, the track width Tw of the magnetic gap is determined by the film thickness of the metal magnetic films 3, 4. In this embodiment, the track width Tw of the magnetic head is set to a narrow track width of ≤16 μm.
【００２９】なお、磁気記録媒体摺動面には、磁気記録
媒体との当たりを確保するための段差１６，１７が設け
られている。The sliding surface of the magnetic recording medium is provided with steps 16 and 17 for ensuring contact with the magnetic recording medium.
【００３０】また、この磁気ヘッドは、上記磁気コア半
体１，２同士を融着ガラス２０によって接合一体化され
ている。In this magnetic head, the magnetic core halves 1 and 2 are joined and integrated by a fused glass 20.
【００３１】磁気ヘッドの製造方法 先ず、図２に示すように、磁性晶フェライト材よりなる
基板２１と、重ね合わる基板２２を用意する。そして、
上記の一方の基板２１の主面に鏡面加工を施す。 Method of Manufacturing Magnetic Head First, as shown in FIG. 2, a substrate 21 made of a magnetic crystal ferrite material and a substrate 22 to be overlaid are prepared. And
The main surface of the one substrate 21 is mirror-finished.
【００３２】なお、本実施例では、上記基板２１とし
て、単結晶の磁性フェライト材を用いたが、これに限ら
ず多結晶の磁性フェライト材や、これら単結晶と多結晶
の接合フェライト材、さらには、非磁性フェライト，Ｂ
ａＴｉＯ3 ，Ｋ2 ＴｉＯ3 ，結晶化ガラス等の非磁性材
等も使用可能である。In this embodiment, a single crystal magnetic ferrite material is used as the substrate 21, but the present invention is not limited to this, and a polycrystalline magnetic ferrite material, a bonded ferrite material of these single crystals and a polycrystalline ferrite material, and Is a non-magnetic ferrite, B
Non-magnetic materials such as aTiO 3 , K 2 TiO 3 , and crystallized glass can also be used.
【００３３】また、本実施例に用いた上記単結晶フェラ
イトの結晶面の指数を図２に示す。すなわち、フェライ
ト結晶の切り出しの結晶方位を摺動方向において（１０
０）面が現れるようにした。但し、上記結晶面の指数と
は異なる単結晶フェライト、或いは、接合基板等を用い
てもよい。The index of the crystal plane of the single crystal ferrite used in this example is shown in FIG. That is, the crystal orientation of the ferrite crystal cut out in the sliding direction is (10
0) faces are made to appear. However, a single crystal ferrite having a different crystal plane index or a bonded substrate may be used.
【００３４】本実施例に用いた上記単結晶フェライトの
面指数は、図２に示すように用いた。すなわち、フェラ
イト結晶の切り出しの結晶方位を摺動方向において（１
００）面が現れるようにした。但し、上記の面指数とは
異なる単結晶フェライト、或いは、接合フェライト基板
を用いてもよい。The plane index of the single crystal ferrite used in this example was as shown in FIG. That is, the crystal orientation of the ferrite crystal cut out in the sliding direction (1
The (00) plane was made to appear. However, a single crystal ferrite different from the above surface index or a bonded ferrite substrate may be used.
【００３５】次に、図２及び図３に示すように、上記基
板２１に絶縁膜２６を介して金属磁性膜２５を積層す
る。Next, as shown in FIGS. 2 and 3, a metal magnetic film 25 is laminated on the substrate 21 with an insulating film 26 interposed therebetween.
【００３６】ここで、本実施例においては、上記基板２
１上に、ＳｉＯ2 膜２４を形成し、このＳｉＯ2 膜２４
上にマスクスパッタを用いて必要最小限の面積に金属磁
性膜２５を形成する。Here, in this embodiment, the substrate 2
On 1, to form a SiO 2 film 24, the SiO 2 film 24
The metal magnetic film 25 is formed on the minimum area by mask spattering.
【００３７】まず、上記基板２１に金属磁性膜２５を成
膜する前提として、基板２１との付着力向上のための下
地層として５０ｎｍ厚のＳｉＯ2 膜２４が成膜した。こ
こで、成膜される下地層としては、上記ＳｉＯ2 膜２４
の他、Ｔａ2 Ｏ5 等の酸化物膜、Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物
膜、或いは、Ｃｒ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びそ
れらの合金膜、或いは、それらを組み合わせた積層膜を
用いても良い。First, on the premise of forming the metal magnetic film 25 on the substrate 21, a 50 nm thick SiO 2 film 24 was formed as a base layer for improving the adhesion to the substrate 21. Here, the SiO 2 film 24 is used as a base layer to be formed.
In addition, an oxide film of Ta 2 O 5 or the like, a nitride film of Si 3 N 4 or the like, a metal film of Cr, Al, Si, Pt or the like and an alloy film thereof, or a laminated film combining them. May be used.
【００３８】その後、上記ＳｉＯ2 膜２４上にマスクス
パッタを用いて金属磁性膜２５を形成する。この金属磁
性膜２５の厚さは、高周波特性向上のために一層当たり
の２〜５μｍとし、目的とするトラック幅Ｔｗの１〜３
倍程度の膜厚となる様に絶縁膜２６を介して数層積層す
る必要がある。なお、この絶縁膜２６に関しては、０．
１〜０．３μｍ厚のＳｉＯ2,Ｔａ2 Ｏ5 等の酸化物膜、
Ｓｉ3 Ｏ4 等の窒化物膜等を用いれば良い。本実施例で
は、トラック幅Ｔｗを５μｍとするために一層当たりの
金属磁性膜２５の厚さを３μｍとし、絶縁膜２６として
の０．２μｍ厚のＳｉＯ2,膜２４を介して三層重ね合わ
せた。After that, a metal magnetic film 25 is formed on the SiO 2 film 24 by mask sputtering. The thickness of the metal magnetic film 25 is set to 2 to 5 μm per layer in order to improve high frequency characteristics, and the target track width Tw is 1 to 3 μm.
It is necessary to stack several layers with the insulating film 26 interposed so that the film thickness is doubled. Regarding the insulating film 26,
An oxide film such as SiO 2, Ta 2 O 5 having a thickness of 1 to 0.3 μm,
A nitride film such as Si 3 O 4 may be used. In this embodiment, the thickness of the metal magnetic film 25 per layer is set to 3 μm in order to set the track width Tw to 5 μm, and three layers are superposed with the 0.2 μm thick SiO 2 film 24 as the insulating film 26 interposed therebetween. It was
【００３９】次いで、図４及び図５に示すように、上記
金属磁性膜２５の表面と重ね合わせ側のフェライト基板
２２の表面にもスパッタリングを用いて０．１〜０．５
μｍ厚の低融点ガラス膜２７を形成する。このガラス膜
２７は、上記基板２１の金属磁性膜２５上の表面か、或
いは、金属磁性膜２５を形成していない重ね合わせ側の
基板２２の表面かの少なくとも一方の表面に形成しても
良い。なお、本実施例では、スパッタリングによって形
成されたガラス膜２７を用いたが、スピンコーティング
等によって塗布されたフリットガラスを用いてもよい。Next, as shown in FIGS. 4 and 5, the surface of the metal magnetic film 25 and the surface of the ferrite substrate 22 on the superposing side are also sputtered to 0.1 to 0.5.
A low melting point glass film 27 having a thickness of μm is formed. The glass film 27 may be formed on at least one of the surface of the metal magnetic film 25 of the substrate 21 and the surface of the substrate 22 on the overlapping side where the metal magnetic film 25 is not formed. . Although the glass film 27 formed by sputtering is used in this embodiment, frit glass applied by spin coating or the like may be used.
【００４０】また、このガラス膜２７の成膜に際して
は、上記磁性基板２１の金属磁性膜２５と重ね合わせ側
の基板２２のフェライトと、低融点ガラス膜２７との反
応防止を目的として、ＳｉＯ2,Ｔａ2 Ｏ5 等の酸化物
膜、Ｓｉ3 Ｏ4 等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，ＳｉＰｔ等
の金属膜、これらの合金膜、或いは、それらを組み合わ
せた積層膜を予めスパッタリング等を用いて形成してお
いても良い。本実施例では、０．１μｍ厚のＣｒ膜２８
を上記磁性基板２１の金属磁性膜２５と重ね合わせ側の
基板２２のフェライトとの反応防止を目的として成膜し
た後に、０．２μｍ厚のＰｂ系のガラス膜２７をやはり
スパッタリングを用いて形成した。When forming the glass film 27, SiO 2 is used for the purpose of preventing the reaction between the low melting point glass film 27 and the ferrite of the substrate 22 on the side where the metal magnetic film 25 of the magnetic substrate 21 is superposed. , Ta 2 O 5 etc. oxide film, Si 3 O 4 etc. nitride film, Cr, Al, SiPt etc. metal film, alloy film of these, or a laminated film combining them is used in advance by sputtering or the like. It may be formed in advance. In this embodiment, the Cr film 28 having a thickness of 0.1 μm is used.
Was formed for the purpose of preventing the reaction between the metal magnetic film 25 of the magnetic substrate 21 and the ferrite of the substrate 22 on the superposition side, and then a 0.2 μm thick Pb-based glass film 27 was also formed by sputtering. .
【００４１】以上のようにして、金属磁性膜２５が積層
された基板２１に重ね合わせ側の基板２２を圧着しなが
ら５００〜７００°Ｃに加熱接合して、図６及び図７に
示すように、接合基板３０を作製する。なお、図７は、
図６の接合基板３０の拡大断面図である。As described above, the substrate 21 on which the metal magnetic film 25 is laminated is heat-bonded to the substrate 22 on the superposition side at 500 to 700 ° C. while being pressure bonded, and as shown in FIGS. 6 and 7. Then, the bonded substrate 30 is prepared. In addition, FIG.
It is an expanded sectional view of the joined substrate 30 of FIG.
【００４２】次いで、上記接合基板３０を目的とするア
ジマス角と同角度で切り出す。すなわち、図８に示すよ
うに、上記接合基板３０のＡ−Ａ線、Ｂ−Ｂ線、Ｃ−Ｃ
線から、図９に示すように、所定の大きさからなる一対
の磁気コア半体ブロック３１，３１を得る。Next, the bonded substrate 30 is cut out at the same angle as the desired azimuth angle. That is, as shown in FIG. 8, line AA, line B-B, line C-C
From the line, as shown in FIG. 9, a pair of magnetic core half blocks 31, 31 having a predetermined size are obtained.
【００４３】次いで、同図９に示すように、上記一対の
磁気コア半体ブロック３１，３１の不要な部分を平面研
削盤を用いて除去する。すなわち、上記一対の磁気コア
半体ブロック３１，３１の上記切り出し方向に沿って絶
縁膜２６を介して成膜した金属磁性膜２５が現れるまで
基板２１の不要な部分を上記基板２１の前記（１００）
面から平面研削盤を用いて除去する。そして、その後、
巻線溝８とガラス溝１５等を形成する。Then, as shown in FIG. 9, unnecessary portions of the pair of magnetic core half blocks 31, 31 are removed by using a surface grinder. That is, unnecessary portions of the substrate 21 are removed from the (100) of the substrate 21 until the metal magnetic film 25 formed through the insulating film 26 along the cutting direction of the pair of magnetic core half blocks 31, 31 appears. )
Remove from the surface using a surface grinder. And then
The winding groove 8 and the glass groove 15 are formed.
【００４４】次いで、図１０に示すように、トラック幅
Ｔｗの規制溝３３を上記各対磁気コア半体ブロック３
１，３１の機械加工により長手方向に沿って形成する。
このトラック幅規制溝３３の磁気ギャップ対向面のトラ
ック幅Ｔｗが規制される。本実施例では、磁気ヘッドの
トラック幅Ｔｗが≦１６μｍの狭トラック幅とされてい
る。Then, as shown in FIG. 10, the regulation groove 33 having the track width Tw is formed in each of the pair of magnetic core half blocks 3 described above.
It is formed along the longitudinal direction by machining 1 and 31.
The track width Tw of the surface facing the magnetic gap of the track width restriction groove 33 is restricted. In this embodiment, the track width Tw of the magnetic head is set to a narrow track width of ≤16 μm.
【００４５】ここで、同図１０に示すように、スパッタ
リング等を用いて融着ガラス２０との反応を防止する防
止膜２９を形成しても良い。この反応防止膜２９として
は、厚み０．０５μｍ以上のＳｉＯ2 ，Ｔａ2 Ｏ5 等の
酸化物膜Ｓｉ3 Ｎ4 等の窒化物膜、或いは、Ｃｒ，Ａ
ｌ，Ｓｉ，Ｐｔ等の金属膜及びそれらの合金膜及びそれ
らの合金膜、或いは、それらを組み合わせた積層膜を用
いれば良い。本実施例では、トラック幅規制溝２８を形
成した後、０．２μｍ厚のＣｒからなる反応防止膜２９
をスパッタリングを用いて形成した。Here, as shown in FIG. 10, a prevention film 29 for preventing reaction with the fused glass 20 may be formed by using sputtering or the like. As the reaction preventing film 29, an oxide film such as SiO 2 , Ta 2 O 5 or the like having a thickness of 0.05 μm or more, a nitride film such as Si 3 N 4 or Cr, A
A metal film of l, Si, Pt, or the like, an alloy film thereof, an alloy film thereof, or a laminated film in which they are combined may be used. In this embodiment, after forming the track width regulating groove 28, a reaction preventing film 29 made of Cr and having a thickness of 0.2 μm is formed.
Was formed using sputtering.
【００４６】次いで、図１１に示すように、ポリッシン
グ等を用いてフロントギャップｇ1面に鏡面加工を施し
た後、磁気ギャップ対向面全体にＳｉＯ2 等により膜ギ
ャップ膜を形成する。Then, as shown in FIG. 11, the front gap g 1 surface is mirror-finished by polishing or the like, and then a film gap film is formed of SiO 2 or the like on the entire surface facing the magnetic gap.
【００４７】次いで、巻線溝８同士、トラック幅規制３
３同士等の位置合わせを行った後、図１２に示すよう
に、上記一対の磁気コア半体ブロック３１，３１をガラ
スを流し込みながら融着ガラス２０によりギャップ接合
を行う。Next, the winding grooves 8 and the track width regulation 3
After aligning the three or the like with each other, as shown in FIG. 12, gap fusion is performed by the fused glass 20 while pouring glass into the pair of magnetic core half blocks 31 and 31.
【００４８】次いで、巻線溝８の加工、当たり幅加工等
を行った後に、図１に示すように、目的とするチップ厚
に切断する。すなわち、磁気コアの厚みＨとなるよう
に、Ｆ１−Ｆ１，Ｆ２−Ｆ２方向から所定の大きさのヘ
ッドチップに切り出す。Next, after the winding groove 8 is processed, the contact width is processed, etc., the chip is cut into a desired chip thickness as shown in FIG. That is, the head chip having a predetermined size is cut from the F1-F1 and F2-F2 directions so that the thickness H of the magnetic core is obtained.
【００４９】この切断の後、磁気記録媒体摺動面には、
磁気記録媒体との当たりを確保するための段差１６，１
７を設ける。また、この切断されたヘッドチップに対し
て磁気記録媒体摺動面となる部分を円筒研磨するととも
に、巻線溝８にコイルを確実に巻装するための切り欠き
溝１８，１９を切削加工する。このようにして、磁気ヘ
ッドが図１に示すように完成する。実験結果 上記チップ厚の切断に際しては、そのチップ厚Ｈを２２
０μｍとした。After this cutting, on the sliding surface of the magnetic recording medium,
Steps 16 and 1 for ensuring contact with the magnetic recording medium
7 is provided. Further, the cut head chip is cylindrically polished at a portion which becomes a sliding surface of the magnetic recording medium, and notched grooves 18 and 19 for surely winding the coil in the winding groove 8 are cut. . In this way, the magnetic head is completed as shown in FIG. Experimental Results When cutting the above chip thickness, the chip thickness H is set to 22.
It was set to 0 μm.
【００５０】この目的とするチップ厚に切断する工程に
おいて、切断に用いる砥石の砥粒径及び切断時の加工条
件を変えて、図１に示すように、目的とするチップ厚Ｈ
となるように切り出す。In the step of cutting to the target chip thickness, the target chip thickness H is changed as shown in FIG. 1 by changing the abrasive grain size of the grindstone used for cutting and the processing conditions at the time of cutting.
Cut out so that
【００５１】すなわち、磁気コアの厚みＨとなるように
Ｆ１−Ｆ１，Ｆ２−Ｆ２方向から所定の大きさのヘッド
チップに切り出すに際し、その切り出し面１ａ，２ａ，
１ｂ，２ｂの表面粗さが、最大高さＲｍａｘ＝０．５μ
ｍ〜６μｍとしたヘッドチップを切断した。その後、こ
のヘッドチップに対して磁気記録媒体摺動面となる部分
を円筒研磨等を行って各種の表面粗さが種々相違する磁
気ヘッドを多数製造した。That is, when the head chip having a predetermined size is cut from the F1-F1 and F2-F2 directions so that the thickness H of the magnetic core is obtained, the cut surfaces 1a, 2a,
Surface roughness of 1b and 2b is maximum height Rmax = 0.5μ
A head chip having a size of m to 6 μm was cut. After that, a portion of the head chip which becomes a sliding surface of the magnetic recording medium was subjected to cylindrical polishing or the like to manufacture many magnetic heads having various surface roughnesses.
【００５２】他方、上記と同一の製造条件で製造し、表
面粗さをＲｍａｘ＝６μｍとして作製した磁気ヘッド比
較例とした。なお、最大高さＲｍａｘとは、（ＪＩＳ
Ｂ０６０１）に規定される。On the other hand, a magnetic head comparative example manufactured under the same manufacturing conditions as above and having a surface roughness of Rmax = 6 μm was used. The maximum height Rmax is (JIS
B0601).
【００５３】このようにして実験した結果、上記表面粗
さがＲｍａｘ≦２μｍの磁気ヘッドは、Ｒｍａｘ＝６μ
ｍの上記比較例の磁気ヘッドと比較し、巻線溝８に巻装
されるコイルの単位捲数当たり（捲き線コイル１捲き当
たり）のインダクタンスＬは、７５％〜９０％という低
い値を示した。これは、上記表面粗さＲｍａｘの値が大
きいと、コイルの捲き線状態に影響を与え、磁束が漏れ
る量が大きくなるからである。As a result of the experiment as described above, Rmax = 6 μm was found for the magnetic head whose surface roughness was Rmax ≦ 2 μm.
In comparison with the magnetic head of m of the above comparative example, the inductance L per unit number of turns of the coil wound in the winding groove 8 (per winding of the winding wire coil) shows a low value of 75% to 90%. It was This is because if the value of the surface roughness Rmax is large, it affects the winding state of the coil and the amount of magnetic flux leakage increases.
【００５４】そこで次に、周波数１０ＭＨZ におけるイ
ンダクタンスＬが約０．５μＨになるようにコイルの捲
き数を調整したところ、コイルの捲き数（ターン）は、
Ｒｍａｘ＞２μｍの磁気ヘッドでは、１２ターン、２μ
ｍ≧Ｒｍａｘ＞１μｍの磁気ヘッドでは１３ターン、Ｒ
ｍａｘ≦１μｍの磁気ヘッドでは１４ターンとすること
ができた。[0054] Therefore, next, when the inductance L in the frequency 10 MHz Z was adjusted number Maki coils to be approximately 0.5MyuH, number Maki coils (turns) is
With a magnetic head with Rmax> 2 μm, 12 turns, 2 μ
13 turns for a magnetic head of m ≧ Rmax> 1 μm, R
With the magnetic head with max ≦ 1 μm, 14 turns were possible.
【００５５】上記結果から明らかなように、上記磁気ヘ
ッドの製造方法において、一対の磁気コア半体ブロック
からヘッドチップに切り出すに際し、その切り出し面１
ａ，２ａ，１ｂ，２ｂの表面粗さは、Ｒｍａｘ≦２μｍ
が好ましいことが分かる。さらに望ましくは、Ｒｍａｘ
≦２μｍよりも小さければ小さいほど、コイルの捲き数
（ターン）を多くすることができることとなる。As is clear from the above results, in the above method of manufacturing a magnetic head, when cutting out a pair of magnetic core half blocks into head chips, the cut surface 1
The surface roughness of a, 2a, 1b, 2b is Rmax ≦ 2 μm
It turns out that is preferable. More preferably, Rmax
If it is smaller than ≦ 2 μm, the number of turns of the coil can be increased.
【００５６】特に上記実施例のような磁気ヘッドのトラ
ック幅Ｔｗが、Ｔｗ≦１６μｍのような狭トラックのも
ので、磁路の断面積が少ない磁気ヘッドにおいて、最適
記録電流を低減することができることとなる。In particular, the optimum recording current can be reduced in a magnetic head having a narrow track width Tw ≦ 16 μm and a small magnetic path cross-sectional area as in the above embodiment. Becomes
【００５７】そこで実際に、これらの磁気ヘッドの周波
数１０ＭＨｚにおける最適記録電流の測定を行った。こ
の最適記録電流の測定にあたっては、固定ヘッド方式の
電磁変換特性測定装置を用い相対速度１０ｍ／ｓで行っ
た。また、磁気テープには、市販の８ミリビデオ用の磁
気テープを用いた。Therefore, actually, the optimum recording current of these magnetic heads at a frequency of 10 MHz was measured. The optimum recording current was measured at a relative speed of 10 m / s by using a fixed head type electromagnetic conversion characteristic measuring device. As the magnetic tape, a commercially available 8 mm video magnetic tape was used.
【００５８】その結果、Ｒｍａｘ＝６μｍの比較例の磁
気ヘッドを０ｄＢとした場合、最適記録電流は、２μｍ
≧Ｒｍａｘ＞１μｍの磁気ヘッドでは−０．７ｄＢとな
り、Ｒｍａｘ≦１μｍの磁気ヘッドでは−１．２ｄＢと
なった。As a result, when the magnetic head of the comparative example with Rmax = 6 μm is set to 0 dB, the optimum recording current is 2 μm.
The magnetic head with ≧ Rmax> 1 μm has −0.7 dB, and the magnetic head with Rmax ≦ 1 μm has −1.2 dB.
【００５９】以上から明らかなように、本実施例に係る
磁気ヘッドは、最適記録電流（Ｏｕｔｐｕｔ Ｒｅｃｏ
ｒｄ Ｃｕｒｒｅｎｔ）の低減が有効に図られることが
分かる。As is clear from the above, the magnetic head according to the present embodiment has the optimum recording current (Output Record).
It can be seen that the reduction of the rd Current) is effectively achieved.
【００６０】なお、本実施例では、いわゆるラミネート
タイプの磁気ヘッドについて説明したが、金属磁性薄膜
を磁気ギャップ形成面に平行に成膜した、いわゆるメタ
ル・イン・ギャップタイプの磁気ヘッドにも実験した結
果、上記実施例と同様、最適記録電流の低減が図られ
た。In the present embodiment, a so-called laminate type magnetic head has been described, but an experiment is also conducted on a so-called metal-in-gap type magnetic head in which a metal magnetic thin film is formed in parallel with the magnetic gap forming surface. As a result, the optimum recording current was reduced as in the above-mentioned embodiment.
【００６１】[0061]
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る磁気ヘッドは、金属磁性膜により磁路の少なくと
も一部が構成されてなる一対の磁気コア半体同士を突き
合わせて接合一体化し、その突き合わせ面間に磁気ギャ
ップを形成してなる磁気ヘッドにおいて、磁気コアの厚
さ方向における表側と裏側の各表面粗さが、最大高さＲ
ｍａｘ≦２μｍであることを特徴とする。また、本発明
に係る磁気ヘッドの製造方法は、金属磁性膜により磁路
の少なくとも一部が構成されてなる一対の磁気コア半体
同士を突き合わせて接合一体化し、その突き合わせ面間
に磁気ギャップを形成してなる磁気ヘッドにおいて、上
記磁気ヘッドの厚みが形成されるように所定の大きさの
ヘッドチップを切り出すに際し、その切り出し面の表面
粗さが、Ｒｍａｘ≦２μｍとして切断することを特徴と
する。As is apparent from the above description, in the magnetic head according to the present invention, a pair of magnetic core halves in which at least a part of the magnetic path is constituted by the metal magnetic film are butted and joined together. In a magnetic head having a magnetic gap formed between its abutting surfaces, the surface roughness on the front side and the back side in the thickness direction of the magnetic core is the maximum height R.
It is characterized in that max ≦ 2 μm. Further, a method of manufacturing a magnetic head according to the present invention is such that a pair of magnetic core halves in which at least a part of a magnetic path is constituted by a metal magnetic film is butted and joined together, and a magnetic gap is provided between the butted surfaces. In the formed magnetic head, when a head chip of a predetermined size is cut so as to form the thickness of the magnetic head, the cut surface has a surface roughness Rmax ≦ 2 μm. .
【００６２】したがって、上記のような磁気ヘッドは、
磁気ヘッドの巻線溝に巻装される単位捲き数当たりのイ
ンダクタンスＬを小さくすることにより、コイルの捲き
数を多くすることができることとなる。このため、最適
記録電流の低減が図られることにより、ＶＴＲ等の磁気
記録装置の小型化に伴う小電力化及び機器内部の温度上
昇を抑制することが可能となった。Therefore, the magnetic head as described above is
By reducing the inductance L per unit number of turns wound in the winding groove of the magnetic head, the number of turns of the coil can be increased. Therefore, by reducing the optimum recording current, it has become possible to reduce the power consumption and the temperature rise inside the device accompanying the miniaturization of the magnetic recording device such as the VTR.
【００６３】そして、特に上記効果は、トラック幅がＴ
ｗ≦１６μｍのような磁路の断面積が少ない磁気ヘッド
において有効に得られることとなる。Particularly, the above effect is obtained when the track width is T.
This can be effectively obtained in a magnetic head having a small magnetic path cross-sectional area such as w ≦ 16 μm.
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一実施例を示す斜視
図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a magnetic head according to the present invention.
【図２】上記実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示す
もので、金属磁性膜が形成される基板と重ね合わせ側の
基板を準備する工程を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a process of manufacturing the magnetic head according to the above-mentioned embodiment, and showing a process of preparing a substrate on which a metal magnetic film is formed and a substrate on an overlapping side.
【図３】上記実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示す
もので、基板に絶縁膜を介して金属磁性膜を成膜する工
程を示す拡大断面図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional view showing a process of manufacturing the magnetic head according to the above-mentioned embodiment and showing a process of forming a metal magnetic film on a substrate via an insulating film.
【図４】上記実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示す
もので、基板にＣｒ膜とガラス膜を成膜する工程を示す
拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a process of manufacturing the magnetic head according to the above-mentioned embodiment, showing a process of forming a Cr film and a glass film on a substrate.
【図５】上記実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示す
もので、重ね合わせ側の基板にＣｒ膜とガラス膜を成膜
する工程を示す拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view showing a process of manufacturing the magnetic head according to the above-mentioned embodiment and showing a process of forming a Cr film and a glass film on the substrate on the superposition side.
【図６】上記一実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示
すもので、基板に重ね合わせ側の基板を重ね合わせて接
合基板を製作する工程を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head according to the embodiment, and is a perspective view showing a process of manufacturing the bonded substrate by superposing the substrate on the superposition side on the substrate.
【図７】図６の拡大断面図である。FIG. 7 is an enlarged sectional view of FIG.
【図８】上記一実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示
すもので、基板に重ね合わせ側の基板を重ね合わせた接
合基板にアジマス角を付与して切断する工程を示す斜視
図である。FIG. 8 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head according to the above embodiment, and is a perspective view showing a process of applying an azimuth angle to a bonded substrate obtained by superposing the substrate on the superposition side and cutting the substrate.
【図９】上記一実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を示
すもので、一対の磁気コア半体ブロックの各々に巻線溝
とガラス溝を施す工程を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head according to the embodiment, and is a perspective view showing a process of forming a winding groove and a glass groove in each of the pair of magnetic core half blocks.
【図１０】上記一実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を
示すもので、一対の磁気コア半体ブロックの各々にトラ
ック幅規制溝と反応膜防止膜を施す工程を示す斜視図で
ある。FIG. 10 is a perspective view showing a process of manufacturing the magnetic head according to the embodiment, and is a process showing a process of forming a track width regulating groove and a reaction film preventing film on each of a pair of magnetic core half blocks.
【図１１】上記一実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を
示すもので、フロントギャップ面を鏡面加工を施す工程
を示す斜視図である。FIG. 11 is a perspective view showing a manufacturing process of the magnetic head according to the embodiment, and is a process showing a process of mirror-finishing the front gap surface.
【図１２】上記一実施例に係る磁気ヘッドの製造工程を
示すもので、一対の磁気コア半体ブロック同士を突き合
わせ接合一体化する工程を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a process of manufacturing the magnetic head according to the above-mentioned embodiment, and showing a process of butt-joining and integrating a pair of magnetic core half blocks.
１，２・・・磁気コア半体 １ａ，２ａ・・・磁気コアの厚さ方向の表側 １ｂ，２ｂ・・・磁気コアの厚さ方向の裏側 ３，４，２５・・・金属磁性膜 ８・・・巻線溝 １１，１２，１３，１４・・・基板 ２１・・・基板 ２０・・・融着ガラス ２２・・・重ね合わせ側の基板 ｇ1 ・・・フロントギャップ ｇ2 ・・・バックギャップ ｄ・・・磁気ギャップのデプス Ｈ・・・磁気コアの厚み Ｆ１−Ｆ１，Ｆ２−Ｆ２・・・ヘッドチップの切り出し
方向 Ｔｗ・・・磁気ギャップのトラック幅1, 2 ... Magnetic core halves 1a, 2a ... Magnetic core thickness direction front side 1b, 2b ... Magnetic core thickness direction back side 3, 4, 25 ... Metal magnetic film 8 ... winding grooves 11, 12, 13, 14 ... substrate 21 ... substrate 20 ... fused glass 22 ... superimposed side of the substrate g 1 ... front gap g 2 ... Back gap d ... Depth of magnetic gap H ... Thickness of magnetic core F1-F1, F2-F2 ... Cutting direction of head chip Tw ... Track width of magnetic gap
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 敦 東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ ー株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Atsushi Sato 6-735 Kitashinagawa, Shinagawa-ku, Tokyo Sony Corporation
Claims (3)
が構成されてなる一対の磁気コア半体同士を突き合わせ
て接合一体化し、その突き合わせ面間に磁気ギャップを
形成してなる磁気ヘッドにおいて、 磁気コアの厚さ方向における表側と裏側の各表面粗さ
が、最大高さＲｍａｘ≦２μｍであることを特徴とする
磁気ヘッド。1. A magnetic head in which a pair of magnetic core halves each having at least a part of a magnetic path formed of a metal magnetic film are butted and joined together to form a magnetic gap between the butted surfaces. A magnetic head characterized in that the surface roughness on the front side and the back side in the thickness direction of the magnetic core is a maximum height Rmax ≦ 2 μm.
ｗ≦１６μｍであることを特徴とする請求項１記載の磁
気ヘッド。2. The track width Tw of the magnetic head is T
The magnetic head according to claim 1, wherein w ≦ 16 μm.
が構成されてなる一対の磁気コア半体同士を突き合わせ
て接合一体化し、その突き合わせ面間に磁気ギャップを
形成してなる磁気ヘッドの製造方法において、 上記磁気コアの厚みが形成されるように所定の大きさの
ヘッドチップを切り出すに際し、その切り出し面の表面
粗さが、最大高さＲｍａｘ≦２μｍとして切断すること
を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。3. A magnetic head comprising a pair of magnetic core halves, each of which has at least a part of a magnetic path composed of a metal magnetic film, butted and joined together to form a magnetic gap between the butted surfaces. In the method, when a head chip having a predetermined size is cut so as to form the thickness of the magnetic core, the cut surface has a surface roughness of Rmax ≦ 2 μm. Manufacturing method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22300494A JPH0887709A (en) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | Magnetic head and its production |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22300494A JPH0887709A (en) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | Magnetic head and its production |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0887709A true JPH0887709A (en) | 1996-04-02 |
Family
ID=16791320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22300494A Withdrawn JPH0887709A (en) | 1994-09-19 | 1994-09-19 | Magnetic head and its production |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0887709A (en) |
-
1994
- 1994-09-19 JP JP22300494A patent/JPH0887709A/en not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20011120 |