JPH08673Y2 - 反射型実物投影機 - Google Patents
反射型実物投影機Info
- Publication number
- JPH08673Y2 JPH08673Y2 JP1988153441U JP15344188U JPH08673Y2 JP H08673 Y2 JPH08673 Y2 JP H08673Y2 JP 1988153441 U JP1988153441 U JP 1988153441U JP 15344188 U JP15344188 U JP 15344188U JP H08673 Y2 JPH08673 Y2 JP H08673Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- projection
- mirror
- reflection
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/08—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor affording epidiascopic projection
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B21/00—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor
- G03B21/06—Projectors or projection-type viewers; Accessories therefor affording only episcopic projection
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S353/00—Optics: image projectors
- Y10S353/04—Opaque
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Projection Apparatus (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Non-Portable Lighting Devices Or Systems Thereof (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は反射型実物投影機にかかり、詳しくは、原稿
等の被投影物を光源により反射用ミラーを介して照射
し、その乱反射光を投影用ミラー及び投影レンズを介し
て投影面に結像させる反射型実物投影機における被投影
物の照射方法に関する。
等の被投影物を光源により反射用ミラーを介して照射
し、その乱反射光を投影用ミラー及び投影レンズを介し
て投影面に結像させる反射型実物投影機における被投影
物の照射方法に関する。
（従来の技術） 従来、実物投影機としては、第７図に示すようにガラ
ス等からなるステージ11上に載置された被投影物を光源
12により直接照射する方式のものが一般的である。な
お、図において、13は被投影物からの反射光を反射させ
る投影用ミラー、14は投影レンズ、15はケーシングをそ
れぞれ示している。
ス等からなるステージ11上に載置された被投影物を光源
12により直接照射する方式のものが一般的である。な
お、図において、13は被投影物からの反射光を反射させ
る投影用ミラー、14は投影レンズ、15はケーシングをそ
れぞれ示している。
この投影機における被投影物の照射方法に関し、１番
目の条件として、光源12からの照射光が被投影物やステ
ージ11により反射の法則に基づいて正規反射し、その正
規反射光が投影用ミラー13を介して投影レンズ14に入射
しないような位置に光源12を配置することにより、正規
反射光による投影像の解像度の劣化を防止する必要があ
る。また、２番目の条件として、投影レンズ14の視野角
内に光源12が入らないように光源12の位置を設定する必
要がある。更に、３番目の条件として、ステージ11を均
一に照明するため、光源をステージ11から相当の距離だ
け離して設置することが必要とされるが、実際上は投影
機の大きさ等の制限から光路をそれほど長くとることが
できないため、光束の少ない光源12を複数個使用してス
テージ11の側方から照明している現状である。
目の条件として、光源12からの照射光が被投影物やステ
ージ11により反射の法則に基づいて正規反射し、その正
規反射光が投影用ミラー13を介して投影レンズ14に入射
しないような位置に光源12を配置することにより、正規
反射光による投影像の解像度の劣化を防止する必要があ
る。また、２番目の条件として、投影レンズ14の視野角
内に光源12が入らないように光源12の位置を設定する必
要がある。更に、３番目の条件として、ステージ11を均
一に照明するため、光源をステージ11から相当の距離だ
け離して設置することが必要とされるが、実際上は投影
機の大きさ等の制限から光路をそれほど長くとることが
できないため、光束の少ない光源12を複数個使用してス
テージ11の側方から照明している現状である。
以上のような条件を考慮に入れ、第７図に示した投影
機においては、ステージ11の大きさや投影レンズ14の視
野角等を考慮し、ステージ11の両側下方にステージ11に
対して適正な距離をおき、かつ適正な照射角度となるよ
うに複数の光源12を設置する照明方法が採用されてい
る。
機においては、ステージ11の大きさや投影レンズ14の視
野角等を考慮し、ステージ11の両側下方にステージ11に
対して適正な距離をおき、かつ適正な照射角度となるよ
うに複数の光源12を設置する照明方法が採用されてい
る。
しかしながら、一層均一な照明を行なうために光源12
をステージ11からなるべく遠ざけて配置すると、必然的
に投影機が幅方向及び高さ方向に大型化し、また光源数
の多さ等により重量の増大、高価格化、構造の複雑化を
招くと共に運搬や設置が不便であるという問題がある。
逆に、投影機の小型化を図るために光源12をステージ11
に近付け過ぎると、被投影物に対する照度ムラが生じる
等の不都合があった。
をステージ11からなるべく遠ざけて配置すると、必然的
に投影機が幅方向及び高さ方向に大型化し、また光源数
の多さ等により重量の増大、高価格化、構造の複雑化を
招くと共に運搬や設置が不便であるという問題がある。
逆に、投影機の小型化を図るために光源12をステージ11
に近付け過ぎると、被投影物に対する照度ムラが生じる
等の不都合があった。
これらの問題点に鑑み、主として投影機の小型化を図
り、かつ照度ムラを解消することを目的として、第８図
に示す如く投影用ミラー13に対向するように投影機の正
面に光源12を配置し、投影用ミラー13により光源12から
の光を反射させてステージ11上の被投影物に照射させる
ようにした実開昭61−11148号にかかる反射型実物投影
機が提案されている。
り、かつ照度ムラを解消することを目的として、第８図
に示す如く投影用ミラー13に対向するように投影機の正
面に光源12を配置し、投影用ミラー13により光源12から
の光を反射させてステージ11上の被投影物に照射させる
ようにした実開昭61−11148号にかかる反射型実物投影
機が提案されている。
一方、被投影物に対して均一な照明を行い、かつ照明
効率を上げることを目的として、第９図に示すように、
投影用ミラー13の周囲に上方及び前方に向けて拡開する
ような形状の複数の照射用ミラー16を多数設け、これら
の照射用ミラー16と投影用ミラー13とを用いて光源12か
らの照射光をステージ11方向に反射させるようにした実
開昭61−16544号にかかる反射型実物投影機が提案され
ている。
効率を上げることを目的として、第９図に示すように、
投影用ミラー13の周囲に上方及び前方に向けて拡開する
ような形状の複数の照射用ミラー16を多数設け、これら
の照射用ミラー16と投影用ミラー13とを用いて光源12か
らの照射光をステージ11方向に反射させるようにした実
開昭61−16544号にかかる反射型実物投影機が提案され
ている。
（考案が解決しようとする課題） しかしながら、第８図の実物投影機では投影用ミラー
13の対向位置に光源12が配置されており、光源12からの
光はこの投影用ミラー13により反射してステージ11及び
被投影物をそのほぼ垂直方向から照射することになる。
この場合、照射光による被投影物等からの正規反射光
（鏡面反射光）は反射の法則によってほぼ垂直方向に反
射し、この正規反射光が投影用ミラー13を介して投影レ
ンズ14に入射することになり、これが投影像の解像度を
著しく劣化させる、いわゆるハレーションの原因となっ
ていた。
13の対向位置に光源12が配置されており、光源12からの
光はこの投影用ミラー13により反射してステージ11及び
被投影物をそのほぼ垂直方向から照射することになる。
この場合、照射光による被投影物等からの正規反射光
（鏡面反射光）は反射の法則によってほぼ垂直方向に反
射し、この正規反射光が投影用ミラー13を介して投影レ
ンズ14に入射することになり、これが投影像の解像度を
著しく劣化させる、いわゆるハレーションの原因となっ
ていた。
また、第９図の実物投影機は、投影用ミラー13及びこ
れとは別個に設けられる複数の照射用ミラー16により、
光源12からの光をすべてステージ11方向に照射させて照
明効率を上げようとするものであるため、反射の法則に
よる正規反射光が投影用ミラー13に入射するのを防止す
る必要性から、照射用ミラー16が全体的に多面的なもの
となって投影機の構造が複雑化する欠点があった。同時
に、投影用ミラー13を照射用ミラーとしても用いるため
に、光源12を投影用ミラー13の側方両側に配置して光源
12からの照射光の一部が投影用ミラー13に入射するよう
な位置関係としなくてはならず、上記したような照射用
ミラー16の複雑な構造とあいまって実物投影機が横方向
（投影用ミラー13の幅方向）に大型化するという欠点を
有していた。
れとは別個に設けられる複数の照射用ミラー16により、
光源12からの光をすべてステージ11方向に照射させて照
明効率を上げようとするものであるため、反射の法則に
よる正規反射光が投影用ミラー13に入射するのを防止す
る必要性から、照射用ミラー16が全体的に多面的なもの
となって投影機の構造が複雑化する欠点があった。同時
に、投影用ミラー13を照射用ミラーとしても用いるため
に、光源12を投影用ミラー13の側方両側に配置して光源
12からの照射光の一部が投影用ミラー13に入射するよう
な位置関係としなくてはならず、上記したような照射用
ミラー16の複雑な構造とあいまって実物投影機が横方向
（投影用ミラー13の幅方向）に大型化するという欠点を
有していた。
本考案は上記問題点を解決するために提案されたもの
で、その目的とするところは、ステージ両側の反射用ミ
ラーの内側かつ投影用ミラーの前方であって、反射用ミ
ラーを介した被投影物及びステージからの正規反射光が
投影レンズに入射せず、しかも、実像及び虚像が投影レ
ンズの視野角外に位置するように光源を配置することに
より、投影像のハレーションを解消し、光源からステー
ジへの光路長を長くして均一な照明を行なうと共に、投
影機の小型軽量化、構造の簡素化を図った反射型実物投
影機を提供することにある。
で、その目的とするところは、ステージ両側の反射用ミ
ラーの内側かつ投影用ミラーの前方であって、反射用ミ
ラーを介した被投影物及びステージからの正規反射光が
投影レンズに入射せず、しかも、実像及び虚像が投影レ
ンズの視野角外に位置するように光源を配置することに
より、投影像のハレーションを解消し、光源からステー
ジへの光路長を長くして均一な照明を行なうと共に、投
影機の小型軽量化、構造の簡素化を図った反射型実物投
影機を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 上記目的を達成するため、本考案は、投影用ミラーの
前方両側に、光源からの光を反射させてステージ上の被
投影物を照射する反射用ミラーをそれぞれ対向させて設
け、前記光源を、前記投影用ミラーの前方かつ反射用ミ
ラーの内側であって、この反射用ミラーを介した反射光
による前記被投影物及びステージからの正規反射光が投
影レンズに入射せず、しかも、光源の実像及び虚像が前
記投影レンズの視野角外に存在する位置に配置したこと
を特徴とする。
前方両側に、光源からの光を反射させてステージ上の被
投影物を照射する反射用ミラーをそれぞれ対向させて設
け、前記光源を、前記投影用ミラーの前方かつ反射用ミ
ラーの内側であって、この反射用ミラーを介した反射光
による前記被投影物及びステージからの正規反射光が投
影レンズに入射せず、しかも、光源の実像及び虚像が前
記投影レンズの視野角外に存在する位置に配置したこと
を特徴とする。
また、本考案では、反射用ミラーを互いに平行でステ
ージに対し垂直に設けることが好ましい。更に、光源を
投影用ミラーの幅の内側前方に配置した場合には、光源
周囲の投影用ミラー側に直接光を遮光するための遮光部
材を設けることが必要である。加えて、投影機内部を冷
却するために、冷却ファンにより外部から吸引した空気
をステージ内面に沿って通過させた後に光源近傍を介し
て排気させることが望ましい。
ージに対し垂直に設けることが好ましい。更に、光源を
投影用ミラーの幅の内側前方に配置した場合には、光源
周囲の投影用ミラー側に直接光を遮光するための遮光部
材を設けることが必要である。加えて、投影機内部を冷
却するために、冷却ファンにより外部から吸引した空気
をステージ内面に沿って通過させた後に光源近傍を介し
て排気させることが望ましい。
（作用） 本考案によれば、投影用ミラーの前方両側に反射用ミ
ラーを設け、かつ、光源を上記の位置に配置したことに
より、反射用ミラーを介した照射光による被投影物及び
ステージからの正規反射光が、投影用ミラーを介してま
たは直接、投影レンズに入射せず、同時に、光源の実像
及び虚像からの直接光が投影レンズに入射することもな
い。すなわち、投影レンズに入射するのは、被投影物及
びステージからの乱反射光（散乱光）が投影用ミラーに
よって反射した光のみとなるので、投影像にはハレーシ
ョンが生じない。
ラーを設け、かつ、光源を上記の位置に配置したことに
より、反射用ミラーを介した照射光による被投影物及び
ステージからの正規反射光が、投影用ミラーを介してま
たは直接、投影レンズに入射せず、同時に、光源の実像
及び虚像からの直接光が投影レンズに入射することもな
い。すなわち、投影レンズに入射するのは、被投影物及
びステージからの乱反射光（散乱光）が投影用ミラーに
よって反射した光のみとなるので、投影像にはハレーシ
ョンが生じない。
また、反射用ミラーによる光源からの反射光を用いて
ステージを照射する位置関係から、見かけ上、光源の、
反射用ミラーの外側に存在する虚像によってステージを
照射することになり、実際の光源が投影機の内部に存在
するにも拘らず光路長を十分に長く確保することができ
る。従って、実際の光源をステージの両側下方に設けな
くても、また、光源の数が比較的少数でも均一な照明を
行なうことができる。
ステージを照射する位置関係から、見かけ上、光源の、
反射用ミラーの外側に存在する虚像によってステージを
照射することになり、実際の光源が投影機の内部に存在
するにも拘らず光路長を十分に長く確保することができ
る。従って、実際の光源をステージの両側下方に設けな
くても、また、光源の数が比較的少数でも均一な照明を
行なうことができる。
更に、光源を投影用ミラーの前方かつ反射用ミラーの
内側に設けることで投影機の幅方向の小型化が可能とな
り、特に、反射用ミラーを互いに平行でステージに対し
垂直に設ける構成とすれば、構造が単純化され、しかも
実物投影機の構成要素はすべて幅狭の直方体空間内に収
容されることになり、投影機の構造の簡略化及び一層の
小型化が図られる。
内側に設けることで投影機の幅方向の小型化が可能とな
り、特に、反射用ミラーを互いに平行でステージに対し
垂直に設ける構成とすれば、構造が単純化され、しかも
実物投影機の構成要素はすべて幅狭の直方体空間内に収
容されることになり、投影機の構造の簡略化及び一層の
小型化が図られる。
加えて、光源に取付けられる遮光部材は、光源を投影
用ミラーの幅の内側前方に配置した際に、光源からの光
が直接または投影用ミラーを介して被投影物及びステー
ジを照射し、その正規反射光が投影用ミラーを介して投
影レンズに入射するのを防止するべく作用する。
用ミラーの幅の内側前方に配置した際に、光源からの光
が直接または投影用ミラーを介して被投影物及びステー
ジを照射し、その正規反射光が投影用ミラーを介して投
影レンズに入射するのを防止するべく作用する。
（実施例） 以下、図に沿って本考案の一実施例を説明する。
まず、第１図ないし第４図は本考案の第１実施例を示し
ている。このうち第１図及び第２図において、１は直方
体状のケーシングであり、このケーシング１の両側板の
内面には、側板の前方寄りに反射用ミラー2A,2Bが互い
に平行になるように対向してそれぞれ取付けられてい
る。ここで、反射用ミラー2A,2Bは側板とほぼ同一の長
さに形成してもよい。また、ケーシング１の上面には、
前記反射用ミラー2A,2Bからの反射光が透過するステー
ジ３が設けられており、反射用ミラー2A,2Bとステージ
３とは直交する位置関係にある。このステージ３はガラ
スによって形成され、投影するべき原稿や若干の厚さを
有する立体物等の被投影物（図示せず）を載置可能な所
定の大きさを有している。
ている。このうち第１図及び第２図において、１は直方
体状のケーシングであり、このケーシング１の両側板の
内面には、側板の前方寄りに反射用ミラー2A,2Bが互い
に平行になるように対向してそれぞれ取付けられてい
る。ここで、反射用ミラー2A,2Bは側板とほぼ同一の長
さに形成してもよい。また、ケーシング１の上面には、
前記反射用ミラー2A,2Bからの反射光が透過するステー
ジ３が設けられており、反射用ミラー2A,2Bとステージ
３とは直交する位置関係にある。このステージ３はガラ
スによって形成され、投影するべき原稿や若干の厚さを
有する立体物等の被投影物（図示せず）を載置可能な所
定の大きさを有している。
更に、ケーシング１の内部には、ステージ３上の被投
影物からの反射光を受ける投影用ミラー４が設けられて
おり、この投影用ミラー４は、第１図及び第２図（ｃ）
から明らかなように水平面に対してほぼ45°傾斜して配
置されている。また、投影用ミラー４はほぼ台形状であ
り、その長底辺がステージ３の一端辺に近接している。
そして、ケーシング１の前面には、投影用ミラー４から
の反射光を集光する投影レンズ５が設けられている。
影物からの反射光を受ける投影用ミラー４が設けられて
おり、この投影用ミラー４は、第１図及び第２図（ｃ）
から明らかなように水平面に対してほぼ45°傾斜して配
置されている。また、投影用ミラー４はほぼ台形状であ
り、その長底辺がステージ３の一端辺に近接している。
そして、ケーシング１の前面には、投影用ミラー４から
の反射光を集光する投影レンズ５が設けられている。
また、ケーシング１内において投影用ミラー４の前方
かつ反射用ミラー2A,2Bの内側には、ハロゲンランプ等
からなる光源6A,6Bがそれぞれ配置されている。これら
の光源6A,6Bは、その光軸の中心が反射用ミラー2A,2Bの
内部に向くように配置されていると共に、更に詳しく
は、反射用ミラー2A,2Bによる反射光がステージ３の全
域を照射する必要があるため、第１図及び第２図
（ａ），（ｂ）に示す如く、反射用ミラー2A,2Bの中心
に対して前方で、しかも反射用ミラー2A,2Bを下方から
照らすような位置に配置されている。
かつ反射用ミラー2A,2Bの内側には、ハロゲンランプ等
からなる光源6A,6Bがそれぞれ配置されている。これら
の光源6A,6Bは、その光軸の中心が反射用ミラー2A,2Bの
内部に向くように配置されていると共に、更に詳しく
は、反射用ミラー2A,2Bによる反射光がステージ３の全
域を照射する必要があるため、第１図及び第２図
（ａ），（ｂ）に示す如く、反射用ミラー2A,2Bの中心
に対して前方で、しかも反射用ミラー2A,2Bを下方から
照らすような位置に配置されている。
更に重要な条件として、光源6A,6Bは、反射用ミラー2
A,2Bを介した照射光による被投影物及びステージ３から
の反射の法則に基づく正規反射光が、投影用ミラー４を
介して投影レンズ５に入射しないばかりでなく、投影レ
ンズ５に直接的にも入射しないような位置に配置され、
加えて、第１図及び第２図（ａ），（ｂ）に示す光源6
A,6B（の実像）及び虚像6a,6bが投影レンズ５の視野角
外に存在するような位置に配置される。つまり、反射用
ミラー2A,2Bを介した照射光による被投影物及びステー
ジ３からの乱反射光（散乱光）が投影用ミラー４により
反射した光だけが投影レンズ５に入射するような位置に
光源6A,6Bが配置されるものである。
A,2Bを介した照射光による被投影物及びステージ３から
の反射の法則に基づく正規反射光が、投影用ミラー４を
介して投影レンズ５に入射しないばかりでなく、投影レ
ンズ５に直接的にも入射しないような位置に配置され、
加えて、第１図及び第２図（ａ），（ｂ）に示す光源6
A,6B（の実像）及び虚像6a,6bが投影レンズ５の視野角
外に存在するような位置に配置される。つまり、反射用
ミラー2A,2Bを介した照射光による被投影物及びステー
ジ３からの乱反射光（散乱光）が投影用ミラー４により
反射した光だけが投影レンズ５に入射するような位置に
光源6A,6Bが配置されるものである。
上記の条件を満たす限り、光源6A,6Bは、第１図及び
第２図に示す位置ばかりでなく更に内側に寄せて投影用
ミラー４の幅の内部前方にそれぞれ配置することも可能
である。このような位置としては例えば第３図に示す位
置が考えられるが、この場合、光源6A,6Bからの直接光
が投影用ミラー４により反射してステージ３及び被投影
物を垂直方向から照射し、その正規反射光がほぼ垂直方
向に反射して投影用ミラー４を介し投影レンズ５に入射
するおそれがある。従ってこれを防ぐために、第３図に
示すように光源6A,6Bの投影用ミラー４側周囲を覆う適
宜な遮光部材7A,7Bを取り付け、光源6A,6Bと遮光部材7
A,7Bとの位置関係により決定される直接光の臨界線L1，
L2内に投影用ミラー４が位置するように配慮することが
必要である。
第２図に示す位置ばかりでなく更に内側に寄せて投影用
ミラー４の幅の内部前方にそれぞれ配置することも可能
である。このような位置としては例えば第３図に示す位
置が考えられるが、この場合、光源6A,6Bからの直接光
が投影用ミラー４により反射してステージ３及び被投影
物を垂直方向から照射し、その正規反射光がほぼ垂直方
向に反射して投影用ミラー４を介し投影レンズ５に入射
するおそれがある。従ってこれを防ぐために、第３図に
示すように光源6A,6Bの投影用ミラー４側周囲を覆う適
宜な遮光部材7A,7Bを取り付け、光源6A,6Bと遮光部材7
A,7Bとの位置関係により決定される直接光の臨界線L1，
L2内に投影用ミラー４が位置するように配慮することが
必要である。
次に、この作用を説明すると、光源6A,6Bからの光
は、第１図及び第２図（ａ），（ｂ）に示すように両側
の反射用ミラー2A,2Bによりそれぞれ反射され、ステー
ジ３の全面を斜め下方から照射する。このとき、ステー
ジ３は、その左右下方から反射用ミラー2A,2Bを介して
これらの外側に位置する虚像6a,6bによって見かけ上、
照明されることになり、ステージ３と虚像6a,6bとの間
の光路長が十分長く確保されることによってステージ３
の全面にわたりほぼ均一の照明が行なわれる。このた
め、ステージ３の上に載置された被投影物からの反射光
強度もほぼ均一になり、この反射光は投影用ミラー４に
より反射して投影レンズ５により集光され、投影レンズ
５の焦点によって決まる距離の外部の投影面に被投影物
の投影像が結像されることになる。
は、第１図及び第２図（ａ），（ｂ）に示すように両側
の反射用ミラー2A,2Bによりそれぞれ反射され、ステー
ジ３の全面を斜め下方から照射する。このとき、ステー
ジ３は、その左右下方から反射用ミラー2A,2Bを介して
これらの外側に位置する虚像6a,6bによって見かけ上、
照明されることになり、ステージ３と虚像6a,6bとの間
の光路長が十分長く確保されることによってステージ３
の全面にわたりほぼ均一の照明が行なわれる。このた
め、ステージ３の上に載置された被投影物からの反射光
強度もほぼ均一になり、この反射光は投影用ミラー４に
より反射して投影レンズ５により集光され、投影レンズ
５の焦点によって決まる距離の外部の投影面に被投影物
の投影像が結像されることになる。
この際、前述したような光源6A,6B、反射用ミラー2A,
2B及び投影用ミラー４の位置関係により、投影レンズ５
には被投影物及びステージ３からの正規反射光が投影用
ミラー４を介して間接的に入射せず、また、直接的にも
入射しないと共に、光源6A,6Bの実像及び虚像からの直
接光も入射しないため、上記正規反射光や直接光によっ
て投影像の解像度が劣化するようなハレーション現象を
完全に防止することができる。
2B及び投影用ミラー４の位置関係により、投影レンズ５
には被投影物及びステージ３からの正規反射光が投影用
ミラー４を介して間接的に入射せず、また、直接的にも
入射しないと共に、光源6A,6Bの実像及び虚像からの直
接光も入射しないため、上記正規反射光や直接光によっ
て投影像の解像度が劣化するようなハレーション現象を
完全に防止することができる。
同時に、上記した如く光源6A,6Bを投影用ミラー４の
前方で反射用ミラー2A,2Bの内側に配置し、また必要に
応じて前述したような遮光部材7A,7Bを採用することに
より、正規反射光や直接光の入射防止及び光路長の確保
が可能であるので、実物投影機の幅方向（反射用ミラー
2A,2B表面に直交する方向）の距離を短くすることがで
き、理論的には、実物投影機をステージ３の幅一杯にま
で小型化することが可能である。また、実物投影機の各
構成部材を直方体空間内に収容することが可能であるか
ら、構造の単純化、一層の小型化を図ることができる。
前方で反射用ミラー2A,2Bの内側に配置し、また必要に
応じて前述したような遮光部材7A,7Bを採用することに
より、正規反射光や直接光の入射防止及び光路長の確保
が可能であるので、実物投影機の幅方向（反射用ミラー
2A,2B表面に直交する方向）の距離を短くすることがで
き、理論的には、実物投影機をステージ３の幅一杯にま
で小型化することが可能である。また、実物投影機の各
構成部材を直方体空間内に収容することが可能であるか
ら、構造の単純化、一層の小型化を図ることができる。
ところが、この種の実物投影機では、光源6A,6Bがか
なりの高熱を発生してケーシング１の内部が高温にな
り、投影機の構成部材の損傷やステージ３上に載置され
る被投影物の損傷を招く恐れがあることから、ケーシン
グ１の内部を強制的に冷却することが行なわれている。
以下、上記実施例における冷却方法を説明する。
なりの高熱を発生してケーシング１の内部が高温にな
り、投影機の構成部材の損傷やステージ３上に載置され
る被投影物の損傷を招く恐れがあることから、ケーシン
グ１の内部を強制的に冷却することが行なわれている。
以下、上記実施例における冷却方法を説明する。
第４図は、第２図（ｃ）に相当する実物投影機の内部
構成図であり、同図において、８は投影用ミラー４の下
方に設けられた冷却ファン、９は投影レンズ５の上方に
設けられた通気口、19は光源6A,6Bの下方に設けられた
通気口をそれぞれ示している。上記構成により、冷却フ
ァン８からケーシング１の内部に吸入された空気は、第
４図に示すように投影用ミラー４の背面からケーシング
１の上部に達し、ステージ３の内面に沿って前方に移動
する。これによってステージ３が直接的に効率よく冷却
されることとなり、その上に載置された原稿等の被投影
物を高熱により損傷させる恐れがない。
構成図であり、同図において、８は投影用ミラー４の下
方に設けられた冷却ファン、９は投影レンズ５の上方に
設けられた通気口、19は光源6A,6Bの下方に設けられた
通気口をそれぞれ示している。上記構成により、冷却フ
ァン８からケーシング１の内部に吸入された空気は、第
４図に示すように投影用ミラー４の背面からケーシング
１の上部に達し、ステージ３の内面に沿って前方に移動
する。これによってステージ３が直接的に効率よく冷却
されることとなり、その上に載置された原稿等の被投影
物を高熱により損傷させる恐れがない。
また、ステージ３を冷却した後の空気の一部は通気口
９から排気されるが、残りの空気は光源6A,6Bの近傍を
経て下方の通気口10から排気される。これにより、光源
6A,6Bもよく冷却されるので、ケーシング１の内部が高
温になる心配がないものである。
９から排気されるが、残りの空気は光源6A,6Bの近傍を
経て下方の通気口10から排気される。これにより、光源
6A,6Bもよく冷却されるので、ケーシング１の内部が高
温になる心配がないものである。
なお、光源6A,6Bからの照射光を遮らない範囲で適宜
なケーシング（図示せず）により光源6A,6Bの周囲を包
囲するようにすれば、光源6A,6Bからの熱放射が少なく
なり、より一層の冷却作用を果たすことができる。この
場合のケーシングは、前記遮光部材7A,7Bを兼ねたもの
として構成してもよい。更に、反射用ミラー2A,2Bに熱
線透過ミラーを用いれば、ステージ３の温度上昇を更に
防止することが可能である。
なケーシング（図示せず）により光源6A,6Bの周囲を包
囲するようにすれば、光源6A,6Bからの熱放射が少なく
なり、より一層の冷却作用を果たすことができる。この
場合のケーシングは、前記遮光部材7A,7Bを兼ねたもの
として構成してもよい。更に、反射用ミラー2A,2Bに熱
線透過ミラーを用いれば、ステージ３の温度上昇を更に
防止することが可能である。
次に、第５図及び第６図は本考案の第2,第３実施例を
それぞれ示している。これらの実施例は、投影レンズ５
の両側に複数に光源をそれぞれ配置することにより、第
１実施例に比べてより明るく均一な照明を実現しようと
するものである。
それぞれ示している。これらの実施例は、投影レンズ５
の両側に複数に光源をそれぞれ配置することにより、第
１実施例に比べてより明るく均一な照明を実現しようと
するものである。
すなわち、第５図の実施例では、投影レンズ５の軸方
向に沿ってその両側に、光源6A1，6A2及び6B1，6B2がそ
れぞれ配置されている。この場合、光源6A1と6A2及び6B
1と6B2との位置ずれに拘らずステージ３を均一に照明す
るため、反射用ミラー2A,2Bへの照射光の入射角が若干
異なるように、隣合う光源は光軸に中心線が平行とはな
っていない。また、第６図の実施例では、投影レンズ５
の軸方向に直交する方向（投影機の高さ方向）に沿って
その両側に、光源6A1，6A2及び6B1，6B2がそれぞれ配置
されている。この実施例でも、ステージ３を均一に照明
するために光源6A1と6A2及び6B1と6B2との光軸の中心線
は平行になっていない。
向に沿ってその両側に、光源6A1，6A2及び6B1，6B2がそ
れぞれ配置されている。この場合、光源6A1と6A2及び6B
1と6B2との位置ずれに拘らずステージ３を均一に照明す
るため、反射用ミラー2A,2Bへの照射光の入射角が若干
異なるように、隣合う光源は光軸に中心線が平行とはな
っていない。また、第６図の実施例では、投影レンズ５
の軸方向に直交する方向（投影機の高さ方向）に沿って
その両側に、光源6A1，6A2及び6B1，6B2がそれぞれ配置
されている。この実施例でも、ステージ３を均一に照明
するために光源6A1と6A2及び6B1と6B2との光軸の中心線
は平行になっていない。
これらの第2,第３実施例における光源6A1，6A2，6
B1，6B2も、第１実施例と同様に、反射用ミラー2A,2Bを
介した反射光がステージ３を介して被投影物を反射可能
であり、かつ、被投影物及びステージ３からの正規反射
光が投影レンズ５に間接または直接に入射しないと共
に、光源6A1，6A2，6B1，6B2の実像及び虚像が投影レン
ズ５の視野角外になるような位置に配置することが必要
である。また、必要に応じて、第３図に示した遮光部材
7A,7Bを光源6A1，6A2，6B1，6B2に取付け、更に、第４
図に示したような冷却方法を採ることが望ましい。
B1，6B2も、第１実施例と同様に、反射用ミラー2A,2Bを
介した反射光がステージ３を介して被投影物を反射可能
であり、かつ、被投影物及びステージ３からの正規反射
光が投影レンズ５に間接または直接に入射しないと共
に、光源6A1，6A2，6B1，6B2の実像及び虚像が投影レン
ズ５の視野角外になるような位置に配置することが必要
である。また、必要に応じて、第３図に示した遮光部材
7A,7Bを光源6A1，6A2，6B1，6B2に取付け、更に、第４
図に示したような冷却方法を採ることが望ましい。
なお、光源の数は上記各実施例に何ら限定されるもの
ではなく、更に多数とすることも可能である。
ではなく、更に多数とすることも可能である。
（考案の効果） 以上詳述したように本考案によれば、投影用ミラーの
両側に反射用ミラーを設け、かつ、光源を、投影用ミラ
ーの前方かつ互いに対向する反射用ミラーの内側であっ
て、この反射用ミラーを介した反射光による被投影物及
びステージからの正規反射光が投影レンズに入射せず、
かつ光源の実像及び虚像が投影レンズの視野角外に存在
する位置に配置したことにより、以下に述べるような効
果がある。
両側に反射用ミラーを設け、かつ、光源を、投影用ミラ
ーの前方かつ互いに対向する反射用ミラーの内側であっ
て、この反射用ミラーを介した反射光による被投影物及
びステージからの正規反射光が投影レンズに入射せず、
かつ光源の実像及び虚像が投影レンズの視野角外に存在
する位置に配置したことにより、以下に述べるような効
果がある。
すなわち、第１に正規反射光や光源からの直接光が投
影レンズに入射せず、投影レンズには被投影物及びステ
ージからの乱反射光（散乱光）が投影用ミラーによって
反射した光のみが入射するので、投影像にハレーション
を生じることがなく、解像度の高い投影像を得ることが
できる。
影レンズに入射せず、投影レンズには被投影物及びステ
ージからの乱反射光（散乱光）が投影用ミラーによって
反射した光のみが入射するので、投影像にハレーション
を生じることがなく、解像度の高い投影像を得ることが
できる。
第２に、光源が反射用ミラーの内側に設けられてその
虚像が投影機の外側に存在し、見かけ上、この虚像によ
ってステージを照明しているため、実際の光源が投影機
の内部に存在するにも拘らず光路長を十分に長く確保す
ることができ、均一な照明を行なうことができる。換言
すれば、均一な照明を行なうために実際の光源をステー
ジから相当離して設置したり、光源の数を多数とするこ
とが必要条件とならないから、投影機の小型化、光源数
の減少による軽量化、低価格化、構造の簡略化が可能で
あり、これにともなって運搬や設置に便利な実物投影機
を得ることができる。
虚像が投影機の外側に存在し、見かけ上、この虚像によ
ってステージを照明しているため、実際の光源が投影機
の内部に存在するにも拘らず光路長を十分に長く確保す
ることができ、均一な照明を行なうことができる。換言
すれば、均一な照明を行なうために実際の光源をステー
ジから相当離して設置したり、光源の数を多数とするこ
とが必要条件とならないから、投影機の小型化、光源数
の減少による軽量化、低価格化、構造の簡略化が可能で
あり、これにともなって運搬や設置に便利な実物投影機
を得ることができる。
第３に、光源を反射用ミラーの内側に設けているため
投影機の一層の小型化が可能となり、最大限でステージ
の幅一杯にまで小型化することが可能である。
投影機の一層の小型化が可能となり、最大限でステージ
の幅一杯にまで小型化することが可能である。
第４に、反射用ミラーの形状、構造等は従来の多面的
な照射用ミラー等に比べて単純なものでよいから、内部
構造が複雑化する恐れがなく、実物投影機の構成要素は
すべて幅狭の直方体空間内に収容可能であって投影機の
構造の簡略化を達成することができる。
な照射用ミラー等に比べて単純なものでよいから、内部
構造が複雑化する恐れがなく、実物投影機の構成要素は
すべて幅狭の直方体空間内に収容可能であって投影機の
構造の簡略化を達成することができる。
第１図ないし第４図は本考案の第１実施例を示すもので
第１図は内部構成を示す斜視図、第２図（ａ）は同じく
平面図、同図（ｂ）は同じく正面図、同図（ｃ）は同じ
く側面図、第３図はこの実施例の変形例を示す平面図、
第４図は内部の冷却方法を示す側面図、第５図は本考案
の第２実施例を示すもので同図（ａ）は内部構成を示す
平面図、同図（ｂ）は同じく正面図、第６図は本考案の
第３実施例を示すもので同図（ａ）は内部構成を示す平
面図、同図（ｂ）は同じく正面図、第７図ないし第９図
はそれぞれ従来例の内部構造を示す斜視図である。 １…ケーシング、2A,2B…反射用ミラー ３…ステージ、４…投影用ミラー ５…投影レンズ 6A,6A1，6A2,6B,6B1，6B2…光源 6a,6b…虚像、7A,7B…遮光部材 ８…冷却ファン、9,10…通気口
第１図は内部構成を示す斜視図、第２図（ａ）は同じく
平面図、同図（ｂ）は同じく正面図、同図（ｃ）は同じ
く側面図、第３図はこの実施例の変形例を示す平面図、
第４図は内部の冷却方法を示す側面図、第５図は本考案
の第２実施例を示すもので同図（ａ）は内部構成を示す
平面図、同図（ｂ）は同じく正面図、第６図は本考案の
第３実施例を示すもので同図（ａ）は内部構成を示す平
面図、同図（ｂ）は同じく正面図、第７図ないし第９図
はそれぞれ従来例の内部構造を示す斜視図である。 １…ケーシング、2A,2B…反射用ミラー ３…ステージ、４…投影用ミラー ５…投影レンズ 6A,6A1，6A2,6B,6B1，6B2…光源 6a,6b…虚像、7A,7B…遮光部材 ８…冷却ファン、9,10…通気口
Claims (3)
- 【請求項１】光源と、この光源からの照射光が透過し、
かつ被投影物を載置可能なステージと、前記被投影物か
らの反射光を反射させる投影用ミラーと、この投影用ミ
ラーからの反射光を集光して前記被投影物の投影像を外
部の投影面に結像させる投影レンズとを備えた実物投影
機において、 前記投影用ミラーの両側に、前記光源からの光を反射さ
せて前記ステージを介し前記被投影物に照射する反射用
ミラーをそれぞれ対向させて設け、 前記光源を、前記投影用ミラーの前方かつ前記反射用ミ
ラーの内側であって、この反射用ミラーを介した反射光
による前記被投影物及びステージからの正規反射光が前
記投影レンズに入射せず、かつ前記光源の実像及び虚像
が前記投影レンズの視野角外に存在する位置に配置した
ことを特徴とする反射型実物投影機。 - 【請求項２】反射用ミラーが互いに平行でステージに対
し垂直に設けられてなる請求項（１）記載の反射型実物
投影機。 - 【請求項３】光源周囲の投影用ミラー側に、前記光源か
らの前記投影用ミラーへの直接光を遮光する遮光部材を
設けた請求項（１）または（２）記載の反射型実物投影
機。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988153441U JPH08673Y2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 反射型実物投影機 |
| FR8913971A FR2639723B1 (fr) | 1988-11-25 | 1989-10-25 | Projecteur d'image reelle lumineuse reflechie |
| GB8925444A GB2225446B (en) | 1988-11-25 | 1989-11-10 | Opaque projector |
| US07/438,069 US4979813A (en) | 1988-11-25 | 1989-11-20 | Opaque projector |
| CA002003328A CA2003328C (en) | 1988-11-25 | 1989-11-20 | Opaque projector |
| DE3938938A DE3938938C2 (de) | 1988-11-25 | 1989-11-24 | Episkop |
| HK97102004A HK1000426A1 (en) | 1988-11-25 | 1997-10-22 | Opaque projector |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988153441U JPH08673Y2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 反射型実物投影機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273622U JPH0273622U (ja) | 1990-06-05 |
| JPH08673Y2 true JPH08673Y2 (ja) | 1996-01-10 |
Family
ID=15562605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988153441U Expired - Lifetime JPH08673Y2 (ja) | 1988-11-25 | 1988-11-25 | 反射型実物投影機 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4979813A (ja) |
| JP (1) | JPH08673Y2 (ja) |
| CA (1) | CA2003328C (ja) |
| DE (1) | DE3938938C2 (ja) |
| FR (1) | FR2639723B1 (ja) |
| GB (1) | GB2225446B (ja) |
| HK (1) | HK1000426A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5534955A (en) * | 1994-04-21 | 1996-07-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Reflection type projector |
| DE9411145U1 (de) * | 1994-07-09 | 1994-09-15 | ProCent Patent- und Verwaltungs AG, Zürich | Realbild-Auflichtprojektor |
| US5504544A (en) * | 1994-11-23 | 1996-04-02 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Projector with multiple lamp light source |
| SG114471A1 (en) * | 2000-09-08 | 2005-09-28 | Vista Technology Co Ltd | Projector with image source from objects |
| US20140247431A1 (en) * | 2014-05-09 | 2014-09-04 | Terry James Boss | Projector with light emitting diodes |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1373491A (en) * | 1919-07-25 | 1921-04-05 | Frank J Detwiler | Picture-projector |
| GB336499A (en) * | 1929-01-31 | 1930-10-16 | Ernst Leitz | Improvements in or relating to episcopic projection apparatus |
| GB605562A (en) * | 1945-04-30 | 1948-07-27 | Bruce Martin | Improvements in and relating to episcopic projection |
| US3947103A (en) * | 1970-10-19 | 1976-03-30 | Gerald Altman | Low profile episcopic projector and opaque materials therefor |
| US3915567A (en) * | 1970-10-19 | 1975-10-28 | Gerald Altman | Low profile episcopic projector and opaque materials therefor |
| DE1797080A1 (de) * | 1968-08-13 | 1972-01-20 | Enna Werk Optik Apelt | Episkop |
| JPS5068739U (ja) * | 1973-10-22 | 1975-06-19 | ||
| JPS5279936U (ja) * | 1975-12-12 | 1977-06-15 | ||
| DE2723228C2 (de) * | 1977-05-23 | 1982-11-04 | Demolux Gmbh & Co Kg, 6070 Langen | Episkop |
| DE2839742A1 (de) * | 1978-09-13 | 1980-03-27 | Reflecta Gmbh Foto | Vorfuehrsystem zur vorfuehrung undurchsichtiger bilder, wie z.b. fotos |
| GB2062892B (en) * | 1979-11-07 | 1983-11-16 | Eaton T W | Aid for the partially sighted |
| DE3225594A1 (de) * | 1982-03-26 | 1983-10-06 | Frank G Dr Back | Episkopischer projektor |
| JPS6111148U (ja) * | 1984-06-22 | 1986-01-23 | マックス株式会社 | 反射型投影機の照明装置 |
| JPS6116544U (ja) * | 1984-07-03 | 1986-01-30 | マックス株式会社 | 反射型投影機の照明装置 |
| JPH0442838Y2 (ja) * | 1984-11-13 | 1992-10-09 | ||
| US4682868A (en) * | 1985-05-31 | 1987-07-28 | Constantin Systems, Inc. | Thermal management system for an episcopic image projector |
| JPS6378941U (ja) * | 1986-11-12 | 1988-05-25 |
-
1988
- 1988-11-25 JP JP1988153441U patent/JPH08673Y2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-10-25 FR FR8913971A patent/FR2639723B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-10 GB GB8925444A patent/GB2225446B/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-20 US US07/438,069 patent/US4979813A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-11-20 CA CA002003328A patent/CA2003328C/en not_active Expired - Fee Related
- 1989-11-24 DE DE3938938A patent/DE3938938C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-10-22 HK HK97102004A patent/HK1000426A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0273622U (ja) | 1990-06-05 |
| GB2225446A (en) | 1990-05-30 |
| GB2225446B (en) | 1993-02-03 |
| HK1000426A1 (en) | 1998-03-20 |
| CA2003328C (en) | 1994-01-18 |
| CA2003328A1 (en) | 1990-05-25 |
| FR2639723A1 (fr) | 1990-06-01 |
| US4979813A (en) | 1990-12-25 |
| DE3938938C2 (de) | 1994-05-05 |
| GB8925444D0 (en) | 1989-12-28 |
| FR2639723B1 (fr) | 1994-01-14 |
| DE3938938A1 (de) | 1990-06-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6178014B1 (en) | Methods for illuminating documents | |
| US20040041988A1 (en) | DMD equipped projector | |
| US20160004146A1 (en) | Projection-type image display device | |
| EP0840523B1 (en) | Liquid crystal projector | |
| JP2008070694A (ja) | プロジェクションシステム | |
| EP1211901A2 (en) | Aperture element for a video projector and a video projector using the aperture element | |
| JPH08673Y2 (ja) | 反射型実物投影機 | |
| JP2002175543A (ja) | ３次元モデリング装置 | |
| JP2006259290A (ja) | 光源装置及びそれを備えたプロジェクタ | |
| JP2002199253A (ja) | 書画カメラの原稿照明装置 | |
| JPH07244266A (ja) | 映写装置及びそのプロジェクタ、映写スクリーン、後方映写ディスプレイ装置並びに光線反射鏡 | |
| JP3020623U (ja) | 実像反射プロジェクタ | |
| JP2743855B2 (ja) | 書画カメラ装置 | |
| JPH0954280A (ja) | 投写型表示装置 | |
| JPH03262275A (ja) | 透過型照明装置 | |
| JP3079748U (ja) | 投影装置における中空積分ロッドの熱源遮蔽装置 | |
| JP3057942B2 (ja) | 光学走査装置 | |
| JP7394586B2 (ja) | 画像投射装置 | |
| KR200162365Y1 (ko) | 프로젝터의 램프 고정구조체 | |
| JP2002125095A (ja) | 画像撮像装置 | |
| JPH0648503Y2 (ja) | 反射型実物投影機 | |
| JP2696602B2 (ja) | 車両用灯具 | |
| JP2569235Y2 (ja) | 投写型表示装置 | |
| JPH04130953U (ja) | 光源装置及びこの光源装置を用いた投射型表示装置 | |
| JP2582972Y2 (ja) | プロジェクタ装置 |