JPH0864497A

JPH0864497A - 投影露光装置

Info

Publication number: JPH0864497A
Application number: JP6198351A
Authority: JP
Inventors: Koichi Matsumoto; 宏一松本
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-08-23
Filing date: 1994-08-23
Publication date: 1996-03-08

Abstract

(57)【要約】【目的】一枚だけのマスクを用い、照明光の可干渉性
を利用して、且つ光軸に対して傾斜した光束分割面を使
用することなく、結像特性を向上させる。【構成】フォトマスク２２の上下に、共に光軸ＡＸの
回りに回転対称な面を持つ光束分割手段となる第１ハー
フミラー２１及び第２ハーフミラー２４を配置し、フォ
トマスク２２のパターン像を光学系４３、第２ハーフミ
ラー２４、光学系４３、光学系４２、第１ハーフミラー
２１、及び光学系４２よりなる第１結像光学系を介し
て、再びフォトマスク２２上に結像させ、その結像光を
照明光として、そのパターンの像を、光学系４３、第２
ハーフミラー２４、及び光学系４４よりなる第２結像光
学系を介して感光基板２３上に結像させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体素子、液
晶表示素子又は薄膜磁気ヘッド等をリソグラフィ工程で
製造する際に、フォトマスク上のパターンを感光基板上
に投影露光するために使用される投影露光装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体素子、液晶表示
素子又は薄膜磁気ヘッド等をリソグラフィ工程で製造す
る際に、フォトマスク又はレチクル（以下、「フォトマ
スク」と総称する）のパターンをフォトレジストを塗布
したウエハ等の感光基板上に投影露光する投影露光装置
が使用されている。

【０００３】従来の投影露光装置では、フォトマスクは
照明光学系の光軸に対してほぼ垂直に水平に保持され、
照明光学系から射出された所定波長の露光光によって透
過照明される。従来から汎用されているフォトマスク
は、透明基板上にクロム等の金属からなる遮光パターン
を形成した構造であり、透過照明されることによって、
パターン形状に応じた回折光が発生する。これらの回折
光は、結像光学系で再度像面に集められ、これにより像
面に合致するように保持されたウエハの露光面上にフォ
トマスクのパターン像が転写される。

【０００４】上記の如き従来の技術に於いては、フォト
マスクを露光光により均一な照度で照明しなければなら
ないという装置上の要請があるため、照明光学系の光源
に空間コヒーレンシィを持たせることができなかった。
つまり、フォトマスクを照明する露光光のうち、投影光
学系の光軸に対する傾斜角である照明角の異なるもの同
士が可干渉性を有していると、フオトマスク上に干渉縞
が形成されてしまい、フォトマスクを均一に照明すると
いう要請と相入れなくなってしまう。そのため、光源の
空間コヒーレンシィを投影光学系の性能向上を計るため
のパラメータとして採り得なかった。

【０００５】これに対して、最近本出願人は、２枚のフ
ォトマスクを用いて露光を行うことにより、光源の空間
コヒーレンシィを利用した投影露光装置を、特願平４−
２７７０３２号及び特願平４−２７７０３３号において
開示した。図３は、その本出願人の先願に係る投影露光
装置を示し、この図３において、照明光学系１から所定
の波長の露光光が射出される。その照明光学系１から順
に、第１フォトマスク２、第１結像光学系３、第２フォ
トマスク４、第２結像光学系５及び感光基板６が配置さ
れる。そして、直列的に配置された第１結像光学系３及
び第２結像光学系５により投影光学系が構成され、第２
結像光学系５に関して、感光基板６と第２フォトマスク
４とが共役であり、第１結像光学系３に関して、第２フ
ォトマスク４と第１フォトマスク２とがほぼ共役であ
る。

【０００６】図３の構成では、第１フォトマスク２は、
上方に配置された照明光学系１からの露光光７に照明さ
れ、第１フォトマスク２上に形成されたパターンにより
その露光光７の回折光８，９が生じ、この回折光８，９
が第１結像光学系３を介して第２フォトマスク４上のパ
ターンを照明する。この際、各回折光８及び９は互いに
可干渉性を有している。更に、それら回折光８，９によ
り照明された結果、第２フォトマスク４上に形成された
パターンから回折光１０，１１が生じ、それらが第２結
像光学系５を介して感光基板６の上に像を形成する。

【０００７】図３の構成において、一例として第１フォ
トマスク２及び第２フォトマスク４上に共に孤立した開
口パターンを形成した場合を考える。そして、第１結像
光学系３の投影倍率をβとすると、第２フォトマスク４
上の孤立開口パターンはほぼ第１フォトマスク２上の孤
立開口パターンのβ倍である。但し、それら孤立開口パ
ターンの実際の大きさ及び形状は、良好な結像特性が得
られるように、第１フォトマスク２上及び第２フォトマ
スク４上でそれぞれ独立に調整される。この場合には、
第１フォトマスク２から射出される回折光８及び９が互
いに可干渉性を有していることから、第２フォトマスク
４の感光基板６上の投影像には、エッジ強調型位相シフ
トマスクを使用した場合と類似の結像特性が得られる。

【０００８】また、図３の構成における別の例として、
第１フォトマスク２及び第２フォトマスク４上に共に、
一次元的な周期パターンであるライン・アンド・スペー
スパターンを形成した場合を考える。そして、それら２
個の一次元的な周期パターンのピッチ方向（周期方向）
が互いに平行であるとする。この場合には、所謂変形照
明のような斜照明が適しているのであるが、その斜照明
の場合を考えると第１フォトマスク２から射出される回
折光８及び９が互いに可干渉性を有していることから、
第２フォトマスク４の感光基板６上の投影像には、所謂
変形照明法を使用した場合よりもコントラストの高い結
像特性が得られる。

【０００９】更に、例えば第１フォトマスク２に位相パ
ターンのみを形成し、第２フォトマスク４に遮光パター
ンのみを形成した場合には、位相シフトマスクを使用し
た場合と同様の結像特性を得ることができる。即ち、そ
の本出願人の先願に係る投影露光装置は、１枚目のフォ
トマスク２上の一点で回折される光が互いに可干渉性を
有していることを積極的に利用して、感光基板６上での
結像性能を向上させるものである。

【００１０】しかしながら、図３の投影露光装置におい
ては、１枚の感光基板を露光するのに２枚のフォトマス
クを必要とするという不都合があった。そのため、本発
明者は１枚のフォトマスクを用いて感光基板への露光を
行うと共に、フォトマスクを照明する光の可干渉性を積
極的にコントロールして感光基板上での結像性能を向上
させる投影露光装置を特願平５−４９０７号において開
示した。以下、図４を参照してその概要を説明する。

【００１１】図４は、その本出願人の先願に係る投影露
光装置の一例を示し、この図４において、露光光供給部
２０からの図４の紙面に垂直な方向に偏光したｓ偏光の
露光光ＩＬ１が、偏光ビームスプリッター１５の偏光ビ
ームスプリッター面１５ａで反射された後、１／４波長
板１６を介してフォトマスク１４を照明し、フォトマス
ク１４の像が第１レンズ系１３により平面鏡１２上に結
像される。そして、平面鏡１２からの反射光により第１
レンズ系１３を介してフォトマスク１４上にフォトマス
ク１４のパターンの像を結像する。この結像光のもと
で、フォトマスク１４のパターンの像を１／４波長板１
６、偏光ビームスプリッター１５、１／４波長板１７及
び第２レンズ系１８を介して感光基板１９上に結像する
ものである。

【００１２】この投影露光装置は、一枚だけのフォトマ
スクを使用して２枚のフォトマスクを使用した場合と等
価な光学系を構成し、光源のコヒーレンシィを巧みに利
用しようとするものであった。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示す偏光ビームスプリッター１５を構成するプリズムを
作るためには、特別大きな硝材を必要とする。しかし、
現在の技術ではそのような大きな硝材を製造することに
は非常に難しいという不都合がある。このため、例えば
偏光ビームスプリッター１５を平面板にて構成し、この
平面板を光軸に対して４５°傾けて配置することも考え
られるが、結像光学系の光路中に傾いた平面板を配置す
ると、コマ収差、非点収差等の非対称収差の原因となっ
てしまう。即ち、特願平５−４９０７号に開示した投影
露光装置は、光束分割手段としての偏光ビームスプリッ
ター１５の光束分割面が光軸に対して傾斜した構成をも
つため、製造が困難な程大きなプリズムを必要とする点
も含めて、現時点での実施は困難である。

【００１４】本発明は斯かる点に鑑み、１枚のフォトマ
スクを用いて感光基板への露光を行うと共に、フォトマ
スクを照明する光の可干渉性を積極的に利用して感光基
板上での結像性能を向上させ、なおかつ光路中に傾斜し
た光束分割手段を含まない投影光学系を有する投影露光
装置を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明による投影露光装
置は、例えば図１に示す如く、フォトマスク（２２）の
パターンの像を感光基板（２３）上に投影する投影露光
装置において、露光用の照明光（ＩＬ）でそのフォトマ
スク（２２）を照明する照明光学系（２０，４１，２
１，４２）と、そのフォトマスク（２２）のパターンの
中間像をそのフォトマスク（２２）上に形成する第１結
像光学系（４３，２４，４３，４２，２１，４２）と、
その中間像の結像光束の内でそのフォトマスク（２２）
を経た光束よりその感光基板（２３）上にそのフォトマ
スク（２２）のパターンの像を形成する第２結像光学系
（４３，２４，４４）とを有し、その第１結像光学系
（４３，２４，４３，４２，２１，４２）は、その照明
光学系（２０，４１，２１，４２）内に配置された第１
光束分割手段（２１）と、その第２結像光学系（４３，
２４，４４）内に配置された第２光束分割手段（２４）
と、その第１光束分割手段（２１）及びその第２光束分
割手段（２４）の間に配置された光学系（４２，４３）
とから構成され、その第１光束分割手段（２１）及びそ
の第２光束分割手段（２４）は、それぞれその照明光学
系（２０，４１，２１，４２）の光軸（ＡＸ）及びその
第２結像光学系（４３，２４，４４）の光軸（ＡＸ）に
関して回転対称の光束分割面（２１ａ，２４ａ）を有す
るものである。

【００１６】この場合、それら第１及び第２光束分割手
段（２７，２８）のそれぞれの光束分割面（２７ａ，２
８ａ）を、偏向ビームスプリッタ面として、それら第１
及び第２光束分割手段（２７，２８）の間に１／２波長
板（２９）が配置されることが好ましい。更に、その第
２光束分割手段（２８）とその感光基板（２３）との間
に１／４波長板（３０）が配置されることも好ましい。

【００１７】更に、その第１及び第２光束分割手段（２
１，２４）のそれぞれの光束分割面（２１ａ，２４ａ）
の最も単純な例は、平面である。

【００１８】

【作用】斯かる本発明の投影露光装置によれば、フォト
マスク（２２）上にこのフォトマスク（２２）自体の像
が合焦状態又はデフォーカスされた状態で投影され、こ
の結像光のもとでフォトマスク（２２）の像が感光基板
（２３）上に露光される。従って、２枚のフォトマスク
を用いた場合と等価な光学系が構成され、フォトマスク
（２２）が互いに可干渉性のある照明光で照明されるこ
とになるので、例えば位相シフトマスクを用いた場合の
ように結像性能が向上する。

【００１９】また、第１光束分割手段（２１）と第２光
束分割手段（２４）とが光軸に対して回転対称な光束分
割面（２１ａ，２４ａ）を有しているので、ハーフミラ
ー等の平面板を光軸に対して傾けて配置する場合と比較
して、コマ収差、非点収差等の非対称収差の発生を抑え
ることができる。一方、光束分割面を光軸に対して傾け
る（非対称にする）場合の他の例は、プリズム型ビーム
スプリッターを使用する場合であり、プリズムを用いれ
ば上記非対称収差の発生を抑えることができるが、その
場合はプリズムを構成する大きな硝材を製造することが
難しい。これに対して本発明の構成によれば、このよう
な不都合は無い。

【００２０】また、第１及び第２光束分割手段（２７，
２８）のそれぞれの光束分割面（２７ａ，２８ａ）が、
偏向ビームスプリッタ面であり、第１及び第２光束分割
手段（２７，２８）の間に１／２波長板（２９）が配置
される場合には、例えば第１光束分割手段（２７）を透
過した偏光成分は、１／２波長板（２９）により第２光
束分割手段（２８）で反射される偏光成分に変えられ
る。その後、第１光束分割手段（２７）でも反射された
光束は、今度は１／２波長板（２９）により第２光束分
割手段（２８）を透過する偏光成分に変えられる。従っ
て、感光基板（２３）上での結像は二重結像系による結
像成分のみによるものとなり、光の利用効率を高めるこ
とができる。

【００２１】更に、第２光束分割手段（２８）と感光基
板（２３）との間に１／４波長板（３０）が配置される
場合には、第２光束分割手段（２８）を経た直線偏光の
光束が円偏光の光束に変換されるため、フォトマスク
（２２）のパターンの方向性による結像特性の差が解消
される。また、第１及び第２光束分割手段（２１，２
４）のそれぞれの光束分割面が平面である場合には、最
も構成が簡単で且つ配置し易い。

【００２２】

【実施例】以下、本発明による投影露光装置の一実施例
につき図１を参照して説明する。図１は、本例の投影露
光装置を示し、この図１において、光学系４１の下に順
に、第１ハーフミラー２１、光学系４２、転写対象とす
るパターンが形成されたフォトマスク２２、光学系４
３、第２ハーフミラー２４、光学系４４、及び感光基板
２３を配置し、更に、光学系４１の上部に露光光供給部
２０を配置する。

【００２３】ここで、露光光供給部２０、光学系４１、
第１ハーフミラー２１、及び光学系４２により照明光学
系が構成されている。また、光学系４３、第２ハーフミ
ラー２４、光学系４３、光学系４２、第１ハーフミラー
２１、及び光学系４２により第１結像光学系が構成さ
れ、光学系４３、第２ハーフミラー２４、及び光学系４
４により第２結像光学系が構成されている。更に、照明
光学系内の第１ハーフミラー２１の光束分割面２１ａ及
び第２結像光学系内の第２ハーフミラー２４の光束分割
面２４ａは、共に光軸ＡＸの回りに回転対称な平面にて
構成されている。

【００２４】次に、本例の動作につき説明する。露光光
供給部２０から射出された露光光ＩＬは、光学系４１、
第１ハーフミラー２１、及び光学系４２を透過し、フォ
トマスク２２を照明する。フォトマスク２２上のパター
ン５１により回折された光は、光学系４３を透過して第
２ハーフミラー２４に入射し、第２ハーフミラー２４に
より反射された光束が、再度光学系４３を透過して、フ
ォトマスク２２のパターンの中間像５２を形成する。こ
の中間像５２から発散する光が、光学系４２を透過して
第１ハーフミラー２１に戻り、第１ハーフミラー２１に
より反射された光束が、再度光学系４２を透過した後、
フォトマスク２２上にフォトマスク２２のパターン像５
３を形成する。なお、この場合、露光光供給部２０から
射出された露光光ＩＬの一部は、第１ハーフミラー２１
を透過することなく反射し、また、第１ハーフミラー２
１に下方向から入射する光の一部は、第１ハーフミラー
２１で反射することなく透過する。

【００２５】このフォトマスク２２のパターン像５３の
結像光は、フォトマスク２２上のパターン５１に対する
照明光として機能し、この結像光により照明されたフォ
トマスク２２からの回折光は、光学系４３、第２ハーフ
ミラー２４、光学系４４を順次透過し、感光基板２３上
にフォトマスク２２のパターン像を結像する。即ち、本
実施例においては、露光光供給部２０から射出される光
は、照明光学系を介してフォトマスク２２を照明し、こ
のフォトマスク２２のパターンの像が第１結像光学系を
介して再びフォトマスク２２上に結像される。そして、
その結像光を照明光としてフォトマスク２２のパターン
の像が第２結像光学系を介して感光基板２３上に結像さ
れる。

【００２６】この場合、照明光学系から供給される照明
光のもとで、フォトマスク２２のパターンにより回折さ
れた光の内第２ハーフミラー２４をそのまま透過する光
により結像される像は、従来の結像法に対応する結像成
分であり、第２ハーフミラー２４で１回反射された後、
第２ハーフミラー２４を透過する光により結像される像
は、本出願人の先願に係る図３の二重結像系による結像
成分である。また、第２ハーフミラー２４で２回以上反
射された後、第２ハーフミラー２４を透過する光により
結像される像は、三重以上の多重結像系による結像成分
である。

【００２７】このように、本例においては、図３に示し
た本出願人の先願に係わる投影露光装置のような二重結
像系による結像成分以外に、一重結像系による結像成分
及び三重以上の多重結像系による結像成分が含まれてい
る。また、露光光供給部２０から射出された後に第１ハ
ーフミラー２１で反射される光、及び第１ハーフミラー
２１に下方向から入射する光の内、第１ハーフミラー２
１を透過する光は、全て結像光にはならない構成となっ
ている。

【００２８】以上、本例ではフォトマスクのパターンの
結像光となる回折光は全て可干渉性を有し、感光基板上
での結像性能が従来のものに比較し格段に向上する。ま
た、１枚だけのフォトマスクを使用する簡便な方法であ
り、且つ光路中に傾斜した光束分割手段を含まない構成
を有しているので、コマ収差、非点収差等の非対称収差
を生ずることもない。

【００２９】次に、二重結像系による結像成分のみによ
りフォトマスク２２のパターンを感光基板２３上に結像
させ、光の利用効率を更に高める変形例につき説明す
る。この変形例では、図１において第１ハーフミラー２
１及び第２ハーフミラー２４の代わりにそれぞれ、ｓ偏
光を反射してｐ偏光を透過させる第１偏光ミラー２７及
び第２偏光ミラー２８を配置する。更に、図１において
二点鎖線で示すようにフォトマスク２２の上側で第１偏
光ミラー２７の下側の位置、又はフォトマスク２２の下
側で第２偏光ミラー２８の上側の位置に、１／２波長板
２９を配置する。また、露光光供給部２０から射出され
る露光光は第１偏光ミラー２７に対してｐ偏光とする。
ここで、ｓ偏光とは入射面（図１の紙面に平行な面）に
垂直な方向に電場ベクトルが振動している直線偏光であ
り、またｓ偏光と直交する直線偏光をｐ偏光と呼んでい
る。

【００３０】この変形例によれば、露光光供給部２０か
ら射出される露光光はｐ偏光であるため、第１偏光ミラ
ー２７で全部が透過して、１／２波長板２９に入射す
る。１／２波長板２９は、その主軸がｓ偏光の振動方向
から４５°回転した方向になるよう設置されているの
で、１／２波長板２９に入射したｐ偏光はｓ偏光に変換
される。ｓ偏光に変換された光は、フォトマスク２２を
照明し、光学系４３を透過し、第２偏光ミラー２８に入
射するが、入射する光がｓ偏光であるため、全ての入射
光が第２偏光ミラー２８により反射される。第２偏光ミ
ラー２８により反射された光は、更に光学系４３及び光
学系４２を透過し、第１偏光ミラー２７に入射する。

【００３１】ここでも入射する光が依然ｓ偏光であるた
め、全ての入射光が反射され、その反射光は光学系４２
を透過して、１／２波長板２９に入射する。ここで入射
するｓ偏光はｐ偏光に変換され、フォトマスク２２上に
フォトマスク２２のパターン像を結像する。そして、フ
ォトマスク２２を透過したｐ偏光の光は、光学系４３を
透過し、第２偏光ミラー２８に入射する。この入射光
は、ｐ偏光なので、第２偏光ミラー２８を透過し、光学
系４４を介して、感光基板２３上にフォトマスク２２の
パターン像を結像する。

【００３２】この場合、感光基板２３上に結像される像
は、二重結像系による結像成分のみであり、結像性能は
良好である。更に、露光光供給部２０から射出された露
光光の光量損失が少なく光の利用効率が極めて高い。更
に、感光基板２３の上方に１／４波長板を設ける構成も
考えられる。この場合、図１において二点鎖線で示すよ
うに、第２偏光ミラー２８の下側で感光基板２３の上側
に１／４波長板３０を配置する。この１／４波長板３０
は、ｐ偏光という直線偏光を円偏光に変換するものであ
り、これによりフォトマスク２２上のパターンの方向性
による結像特性の差が解消される。

【００３３】なお、第１、第２ハーフミラー２１，２４
又は第１、第２偏光ミラー２７，２８として平面板でな
く、光束分割面が光軸の回りに回転対称な球面又は非球
面形状のものを使用してもよい。図２は、そのように光
束分割面が非平面である他の実施例を示し、この図２に
おいて、図１の第１、第２ハーフミラー２１，２４又は
第１、第２偏光ミラー２７，２８と対応する場所には、
それぞれ凹レンズ形状の第１、第２ハーフミラー２１
Ａ，２４Ａ又は第１、第２偏光ミラー２７Ａ，２８Ａが
配置される。この場合、第１ハーフミラー２１Ａ及び第
２ハーフミラー２４Ａの各光束分割面２１Ａａ及び２４
Ａａは凹面の球面であり、第１偏光ミラー２７Ａ及び第
２偏光ミラー２８Ａの各光束分割面２７Ａａ及び２８Ａ
ａも凹面の球面である。

【００３４】この図２の実施例のように第１、第２ハー
フミラー又は第１、第２偏光ミラーとして平面板ではな
く、凹レンズ形状のミラーを用いることにより各種の光
学的収差を小さくすることができる。このように本発明
は上述実施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない
範囲で種々の構成を取り得る。

【００３５】

【発明の効果】本発明の投影露光装置によれば、１枚の
フォトマスクを用いるだけで２枚以上のフォトマスクを
用いる多重結像系と同様に、フォトマスクから射出され
る光の可干渉性を積極的に利用して感光基板上での結像
性能を向上できる利点がある。これにより、フォトマス
ク作成に要するコストの低減が図れると共に、複数枚の
フォトマスクの相対位置合わせが不要となり、装置構成
の簡略化及び装置稼働時のスループットの向上に寄与で
きる。

【００３６】また、光学系の中に光軸に対して傾斜する
光束分割面が含まれずに、全ての光束分割面が光軸の回
りに回転対称な面にて構成されているので、結像におけ
る非対称収差の要因を排除できる。更に、光束分割手段
としてのプリズムを必要とせず、硝材の確保が容易で、
且つ装置の製造組立が容易になるという効果がある。ま
た、第１及び第２光束分割手段のそれぞれの光束分割面
が、偏向ビームスプリッタ面であり、第１及び第２光束
分割手段の間に１／２波長板が配置される場合には、無
駄になる光が減少し、光の利用効率を更に高めることが
できる。

【００３７】更に、第２光束分割手段と感光基板との間
に１／４波長板が配置される場合には、フォトマスクの
パターンの方向性による結像特性の差が解消される。ま
た、第１及び第２光束分割手段のそれぞれの光束分割面
が平面である場合には、最も構成が簡単で且つ配置し易
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による投影露光装置の一実施例及び変形
例を示す概略構成図である。

【図２】本発明の他の実施例を示す概略構成図である。

【図３】本出願人の先願に係る投影露光装置を示す概略
構成図である。

【図４】本出願人の別の先願に係る投影露光装置を示す
概略構成図である。

【符号の説明】

２０露光光供給部２１，２４平板状のハーフミラー２１Ａ，２４Ａ凹レンズ状のハーフミラー２２フォトマスク２３感光基板２７，２８平板状の偏光ミラー２７Ａ，２８Ａ凹レンズ状の偏光ミラー２９１／２波長板３０１／４波長板４１，４２，４３，４４光学系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】フォトマスクのパターンの像を感光基板
上に投影する投影露光装置において、露光用の照明光で前記フォトマスクを照明する照明光学
系と、前記フォトマスクのパターンの中間像を前記フォトマス
ク上に形成する第１結像光学系と、前記中間像の結像光束の内で前記フォトマスクを経た光
束より前記感光基板上に前記フォトマスクのパターンの
像を形成する第２結像光学系とを有し、前記第１結像光学系は、前記照明光学系内に配置された
第１光束分割手段と、前記第２結像光学系内に配置され
た第２光束分割手段と、前記第１光束分割手段及び前記
第２光束分割手段の間に配置された光学系とから構成さ
れ、前記第１光束分割手段及び前記第２光束分割手段は、そ
れぞれ前記照明光学系の光軸及び前記第２結像光学系の
光軸に関して回転対称の光束分割面を有することを特徴
とする投影露光装置。
【請求項２】前記第１及び第２光束分割手段のそれぞ
れの前記光束分割面は偏向ビームスプリッタ面であり、
前記第１及び第２光束分割手段の間に１／２波長板が配
置されたことを特徴とする請求項１記載の投影露光装
置。
【請求項３】前記第２光束分割手段と前記感光基板と
の間に１／４波長板が配置されたことを特徴とする請求
項２記載の投影露光装置。
【請求項４】前記第１及び第２光束分割手段のそれぞ
れの前記光束分割面は平面であることを特徴とする請求
項１、２又は３記載の投影露光装置。