JPH085579A - 微小領域ｘ線照射装置 - Google Patents
微小領域ｘ線照射装置Info
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- JPH085579A JPH085579A JP6134722A JP13472294A JPH085579A JP H085579 A JPH085579 A JP H085579A JP 6134722 A JP6134722 A JP 6134722A JP 13472294 A JP13472294 A JP 13472294A JP H085579 A JPH085579 A JP H085579A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 生体試料の微少領域へのＸ線照射テストを簡
便かつ迅速に行うことができる微小領域Ｘ線照射装置を
提供する。 【構成】 Ｘ線源２０、可視光源１３、Ｘ線源又は可視
光源から出射した光を試料容器２６中の試料に集光する
コンデンサー光学系２５、コンデンサー光学系２５によ
る集光パターンを結像させる結像光学系２７、結像光学
系２７による結像位置に配置された撮像手段２９、Ｘ線
源２０から撮像手段２９までの光路を真空にするための
真空容器１８、及び真空容器１８を真空に排気するため
の排気手段３０、を有する微小領域Ｘ線照射装置におい
て、試料容器２６の光路と交差する二つの面のうち、一
方の面にＸ線及び可視光の透過窓を、他方の面に可視光
透過窓をそれぞれ設け、かつ、可視光透過窓の面積をＸ
線及び可視光の透過窓の面積よりも大きくした。
便かつ迅速に行うことができる微小領域Ｘ線照射装置を
提供する。 【構成】 Ｘ線源２０、可視光源１３、Ｘ線源又は可視
光源から出射した光を試料容器２６中の試料に集光する
コンデンサー光学系２５、コンデンサー光学系２５によ
る集光パターンを結像させる結像光学系２７、結像光学
系２７による結像位置に配置された撮像手段２９、Ｘ線
源２０から撮像手段２９までの光路を真空にするための
真空容器１８、及び真空容器１８を真空に排気するため
の排気手段３０、を有する微小領域Ｘ線照射装置におい
て、試料容器２６の光路と交差する二つの面のうち、一
方の面にＸ線及び可視光の透過窓を、他方の面に可視光
透過窓をそれぞれ設け、かつ、可視光透過窓の面積をＸ
線及び可視光の透過窓の面積よりも大きくした。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料（生体試料など）
にＸ線を照射する微小領域Ｘ線照射装置に関する。
にＸ線を照射する微小領域Ｘ線照射装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年の生物工学技術の発展は、光学顕微
鏡や電子顕微鏡などの観察手段に負うところが大きい。
ところが、光学顕微鏡は液体中の生きた生体試料を扱え
るのが特長であるが、可視光の波長に空間分解能が制限
される。また、電子顕微鏡は空間分解能は高いが、真空
中に試料を置かなければならず、電子線が透過する窓材
が存在しないために、生きたままでは生体試料を観察で
きなかった。
鏡や電子顕微鏡などの観察手段に負うところが大きい。
ところが、光学顕微鏡は液体中の生きた生体試料を扱え
るのが特長であるが、可視光の波長に空間分解能が制限
される。また、電子顕微鏡は空間分解能は高いが、真空
中に試料を置かなければならず、電子線が透過する窓材
が存在しないために、生きたままでは生体試料を観察で
きなかった。
【０００３】そこで、生きたままの生体試料を高分解能
で観察できる可能性を持つＸ線顕微鏡が注目され、その
開発がなされている。微細精密工学の発展によってＸ線
顕微鏡用のＸ線光学素子の性能が向上し、Ｘ線顕微鏡の
試験機が作られるまでになっている。試料容器の窓材に
は、生体試料を観察するのに適している2.4 〜4.4ｎｍ
のＸ線が透過する窒化珪素膜などが用いられている。
で観察できる可能性を持つＸ線顕微鏡が注目され、その
開発がなされている。微細精密工学の発展によってＸ線
顕微鏡用のＸ線光学素子の性能が向上し、Ｘ線顕微鏡の
試験機が作られるまでになっている。試料容器の窓材に
は、生体試料を観察するのに適している2.4 〜4.4ｎｍ
のＸ線が透過する窒化珪素膜などが用いられている。
【０００４】生体試料はＸ線照射によって損傷を受け易
く、生きたままの試料を観察できないのではないかとい
う懸念があり、Ｘ線顕微鏡の実用化が疑問視されてい
る。そこで、生体試料が耐えられるＸ線の限界量のデー
タを収集するための実験がＸ線顕微鏡の試験機を用いて
行われている。試料容器は図４に示すようなＸ線顕微鏡
用のものがそのまま用いられている。
く、生きたままの試料を観察できないのではないかとい
う懸念があり、Ｘ線顕微鏡の実用化が疑問視されてい
る。そこで、生体試料が耐えられるＸ線の限界量のデー
タを収集するための実験がＸ線顕微鏡の試験機を用いて
行われている。試料容器は図４に示すようなＸ線顕微鏡
用のものがそのまま用いられている。
【０００５】また、放射線被爆による生体の損傷が、原
子炉や核実験など、様々な場面で社会問題になってお
り、放射線の生体に対する作用の解明や、放射線治療な
どのためのデータ収集が急がれている。微小領域Ｘ線照
射装置を用いたＸ線照射による生体試料の損傷の実験
は、この一翼をも担っている。
子炉や核実験など、様々な場面で社会問題になってお
り、放射線の生体に対する作用の解明や、放射線治療な
どのためのデータ収集が急がれている。微小領域Ｘ線照
射装置を用いたＸ線照射による生体試料の損傷の実験
は、この一翼をも担っている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図４に示すような従来
から用いられている試料容器２６’は、窒化珪素膜３１
を形成したシリコン基板３２をバックエッチングしてＸ
線透過窓を作製した部材を２枚用いている。２枚の部材
に挟まれた試料溶液４０の厚さは、前記部材の片方ある
いは両方に形成されたスペーサ３４によって調整され
る。Ｘ線透過窓は真空の環境下では、内圧（真空との圧
力差）を受けるため大きさに限界がある。即ち、大きす
ぎると内圧で窓材（窒化珪素膜）３１が外側にたわみ、
試料溶液が厚くなってＸ線が透過しなくなる。
から用いられている試料容器２６’は、窒化珪素膜３１
を形成したシリコン基板３２をバックエッチングしてＸ
線透過窓を作製した部材を２枚用いている。２枚の部材
に挟まれた試料溶液４０の厚さは、前記部材の片方ある
いは両方に形成されたスペーサ３４によって調整され
る。Ｘ線透過窓は真空の環境下では、内圧（真空との圧
力差）を受けるため大きさに限界がある。即ち、大きす
ぎると内圧で窓材（窒化珪素膜）３１が外側にたわみ、
試料溶液が厚くなってＸ線が透過しなくなる。
【０００７】Ｘ線顕微鏡では、試料溶液の厚さを１０μ
ｍ以下にする必要があるが、2.4 〜4.4 ｎｍのＸ線を約
６０％透過する0.1 μｍ程度の厚さ、２００μｍ角の窒
化珪素膜では約３μｍたわむので、スペーサを３μｍ程
度にすることで試料溶液の厚さを１０μｍ以下にしてい
る。試料容器の組立ては光学顕微鏡下で行われるが、試
料容器を構成する２枚の前記部材にそれぞれ設けられた
Ｘ線透過窓の大きさが２００μｍ角しかないので、２つ
のＸ線透過窓の位置を正確に一致させて光学調整（光路
調整）を行うことは、試行錯誤を伴う煩雑な作業になっ
ている。
ｍ以下にする必要があるが、2.4 〜4.4 ｎｍのＸ線を約
６０％透過する0.1 μｍ程度の厚さ、２００μｍ角の窒
化珪素膜では約３μｍたわむので、スペーサを３μｍ程
度にすることで試料溶液の厚さを１０μｍ以下にしてい
る。試料容器の組立ては光学顕微鏡下で行われるが、試
料容器を構成する２枚の前記部材にそれぞれ設けられた
Ｘ線透過窓の大きさが２００μｍ角しかないので、２つ
のＸ線透過窓の位置を正確に一致させて光学調整（光路
調整）を行うことは、試行錯誤を伴う煩雑な作業になっ
ている。
【０００８】本発明は、試料容器に対向して設けられた
二つの光透過窓の位置を正確に一致させる必要がなく、
そのため試料容器の組み立てが極めて容易であり、さら
に生体試料の微少領域へのＸ線照射テストを簡便かつ迅
速に行うことができる微小領域Ｘ線照射装置を提供する
ことを目的とする。
二つの光透過窓の位置を正確に一致させる必要がなく、
そのため試料容器の組み立てが極めて容易であり、さら
に生体試料の微少領域へのＸ線照射テストを簡便かつ迅
速に行うことができる微小領域Ｘ線照射装置を提供する
ことを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第一
に「少なくとも、Ｘ線を発生するＸ線源、可視光を発生
する可視光源、該Ｘ線源又は可視光源から出射した光を
試料容器中の試料に、又は試料設置箇所に集光するコン
デンサー光学系、該コンデンサー光学系による集光パタ
ーンを結像させる結像光学系、該結像光学系による結像
位置に配置された撮像手段、前記Ｘ線源から該撮像手段
までの光路を真空にするための真空容器、及び該真空容
器を真空に排気するための排気手段、を有する微小領域
Ｘ線照射装置において、前記試料容器の前記光路と交差
する二つの面のうち、一方の面にＸ線及び可視光の透過
窓を、他方の面に可視光透過窓をそれぞれ設け、かつ、
可視光透過窓の面積をＸ線及び可視光の透過窓の面積よ
りも大きくしたことを特徴とする微小領域Ｘ線照射装置
（請求項１）」を提供する。
に「少なくとも、Ｘ線を発生するＸ線源、可視光を発生
する可視光源、該Ｘ線源又は可視光源から出射した光を
試料容器中の試料に、又は試料設置箇所に集光するコン
デンサー光学系、該コンデンサー光学系による集光パタ
ーンを結像させる結像光学系、該結像光学系による結像
位置に配置された撮像手段、前記Ｘ線源から該撮像手段
までの光路を真空にするための真空容器、及び該真空容
器を真空に排気するための排気手段、を有する微小領域
Ｘ線照射装置において、前記試料容器の前記光路と交差
する二つの面のうち、一方の面にＸ線及び可視光の透過
窓を、他方の面に可視光透過窓をそれぞれ設け、かつ、
可視光透過窓の面積をＸ線及び可視光の透過窓の面積よ
りも大きくしたことを特徴とする微小領域Ｘ線照射装置
（請求項１）」を提供する。
【００１０】また、本発明は第二に「前記コンデンサー
光学系及び前記結像光学系を反射型光学素子を用いた各
光学系としたことを特徴とする請求項１記載の微小領域
Ｘ線照射装置（請求項２）」を提供する。また、本発明
は第三に「前記コンデンサー光学系を反射型光学素子を
用いた光学系としたことを特徴とする請求項１記載の微
小領域Ｘ線照射装置（請求項３）」を提供する。
光学系及び前記結像光学系を反射型光学素子を用いた各
光学系としたことを特徴とする請求項１記載の微小領域
Ｘ線照射装置（請求項２）」を提供する。また、本発明
は第三に「前記コンデンサー光学系を反射型光学素子を
用いた光学系としたことを特徴とする請求項１記載の微
小領域Ｘ線照射装置（請求項３）」を提供する。
【００１１】また、本発明は第四に「前記反射型光学素
子が回転楕円面多層膜鏡、回転放物面多層膜鏡、シュワ
ルツシルト鏡、又はウォルター鏡であることを特徴とす
る請求項２又は３記載の微小領域Ｘ線照射装置（請求項
４）」を提供する。
子が回転楕円面多層膜鏡、回転放物面多層膜鏡、シュワ
ルツシルト鏡、又はウォルター鏡であることを特徴とす
る請求項２又は３記載の微小領域Ｘ線照射装置（請求項
４）」を提供する。
【００１２】
【作用】Ｘ線顕微鏡の場合と異なり、本発明にかかる微
小領域Ｘ線照射装置の試料容器には、Ｘ線を透過する窓
が光源側に１枚あればよく、必ずしもＸ線透過窓を２枚
使う必要はない。即ち、可視光で焦点合わせができる型
の微小領域Ｘ線照射装置では、光源から撮像手段に向か
う光路と交差する試料容器の二つの面のうち、光源側の
面にＸ線及び可視光の透過窓を、撮像手段側の面に可視
光透過窓をそれぞれ設ければよい。
小領域Ｘ線照射装置の試料容器には、Ｘ線を透過する窓
が光源側に１枚あればよく、必ずしもＸ線透過窓を２枚
使う必要はない。即ち、可視光で焦点合わせができる型
の微小領域Ｘ線照射装置では、光源から撮像手段に向か
う光路と交差する試料容器の二つの面のうち、光源側の
面にＸ線及び可視光の透過窓を、撮像手段側の面に可視
光透過窓をそれぞれ設ければよい。
【００１３】可視光透過窓は可視光さえ通ればよいか
ら、窓に厚いガラス板を用いることができる。厚いガラ
ス板は内圧により、たわむことがないので大きさに制限
は生じない。この可視光透過窓をＸ線透過窓と比べて十
分大きくすれば、窓の位置合わせは特に必要なくなる。
ガラス板の大きさ、および厚さをＸ線透過窓付きのシリ
コン基板と同じにすれば、従来の試料容器の基部と蓋を
そのまま用いることができるので好ましい。
ら、窓に厚いガラス板を用いることができる。厚いガラ
ス板は内圧により、たわむことがないので大きさに制限
は生じない。この可視光透過窓をＸ線透過窓と比べて十
分大きくすれば、窓の位置合わせは特に必要なくなる。
ガラス板の大きさ、および厚さをＸ線透過窓付きのシリ
コン基板と同じにすれば、従来の試料容器の基部と蓋を
そのまま用いることができるので好ましい。
【００１４】また、この可視光透過窓の材質はガラスに
限らず、例えば透明プラスチック樹脂等、可視光を通す
材料なら何でもよい。以下、本発明を実施例により更に
詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
限らず、例えば透明プラスチック樹脂等、可視光を通す
材料なら何でもよい。以下、本発明を実施例により更に
詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
【００１５】
【実施例】図１に第一の実施例として、Ｘ線および可視
光による結像にウォルタ鏡を用いる微小領域Ｘ線照射装
置の概略構成図を示す。ＹＡＧレーザ装置１１からの赤
外パルスレーザ光１２を赤外光反射鏡１５で反射させ、
レーザ光集光用レンズ１６でレーザ光導入窓１７を通し
て真空容器１８の中に設置した標的板１９の表面に集光
し、プラズマ（Ｘ線源、可視光源の一例）２０を生成さ
せる。
光による結像にウォルタ鏡を用いる微小領域Ｘ線照射装
置の概略構成図を示す。ＹＡＧレーザ装置１１からの赤
外パルスレーザ光１２を赤外光反射鏡１５で反射させ、
レーザ光集光用レンズ１６でレーザ光導入窓１７を通し
て真空容器１８の中に設置した標的板１９の表面に集光
し、プラズマ（Ｘ線源、可視光源の一例）２０を生成さ
せる。
【００１６】プラズマ２０はＸ線や紫外線、可視光等の
プラズマ光２１を放射する。Ｘ線だけがＸ線透過フィル
タ２２を通り、集光用ウォルタ鏡（コンデンサー光学系
の一例）２５によって試料容器２６の位置に集光され、
容器内の試料を照射する。試料容器２６の位置における
集光パターンの像が結像用ウォルタ鏡（結像光学系の一
例）２７によって撮像器（撮像手段の一例）２９に形成
される。真空容器１８には、真空排気装置（排気手段の
一例）３０が接続されている。
プラズマ光２１を放射する。Ｘ線だけがＸ線透過フィル
タ２２を通り、集光用ウォルタ鏡（コンデンサー光学系
の一例）２５によって試料容器２６の位置に集光され、
容器内の試料を照射する。試料容器２６の位置における
集光パターンの像が結像用ウォルタ鏡（結像光学系の一
例）２７によって撮像器（撮像手段の一例）２９に形成
される。真空容器１８には、真空排気装置（排気手段の
一例）３０が接続されている。
【００１７】照射装置の光学配置のアライメントは、試
料容器２６を取り除いた状態で前記Ｘ線を用いて行う。
即ち、撮像器２９でＸ線の良好な集光パターンが得られ
るようにアライメントを行う。次に、アライメントされ
たら、撮像器２９にＸ線の良好な集光パターンを形成し
たままの状態にて、ＨｅＮｅレーザ装置（可視光源の一
例）１３からの可視レーザ光１４を赤外光反射鏡１５を
透過させ、レーザ光集光用レンズ１６でレーザ光導入窓
１７を通して標的板１９の表面に集光する。
料容器２６を取り除いた状態で前記Ｘ線を用いて行う。
即ち、撮像器２９でＸ線の良好な集光パターンが得られ
るようにアライメントを行う。次に、アライメントされ
たら、撮像器２９にＸ線の良好な集光パターンを形成し
たままの状態にて、ＨｅＮｅレーザ装置（可視光源の一
例）１３からの可視レーザ光１４を赤外光反射鏡１５を
透過させ、レーザ光集光用レンズ１６でレーザ光導入窓
１７を通して標的板１９の表面に集光する。
【００１８】フィルタ操作機２４でＸ線透過フィルタ２
２を光路から退避させると、標的板１９の表面からの散
乱光は、集光用ウォルタ鏡２５によって集光され、その
集光パターンの像が結像用ウォルタ鏡２７によって撮像
器２９に形成される。この集光の位置が前記Ｘ線集光の
位置に一致するように、ＨｅＮｅレーザ装置１３の位置
を調整する。こうすることによってＸ線の集光位置を可
視光を用いて知ることができる。
２を光路から退避させると、標的板１９の表面からの散
乱光は、集光用ウォルタ鏡２５によって集光され、その
集光パターンの像が結像用ウォルタ鏡２７によって撮像
器２９に形成される。この集光の位置が前記Ｘ線集光の
位置に一致するように、ＨｅＮｅレーザ装置１３の位置
を調整する。こうすることによってＸ線の集光位置を可
視光を用いて知ることができる。
【００１９】試料にＸ線を照射するときには、まず、Ｘ
線透過フィルタ２２を光路から退避させた状態で、撮像
器によって観察しながら可視光の集光位置に試料容器２
６の位置を合わせ、試料の照射部分を確認する。つぎ
に、Ｘ線透過フィルタ２２を光路に挿入し、ＹＡＧレー
ザ装置から赤外パルスレーザ光を照射すると、試料上の
所望の位置にＸ線が集光・照射される。
線透過フィルタ２２を光路から退避させた状態で、撮像
器によって観察しながら可視光の集光位置に試料容器２
６の位置を合わせ、試料の照射部分を確認する。つぎ
に、Ｘ線透過フィルタ２２を光路に挿入し、ＹＡＧレー
ザ装置から赤外パルスレーザ光を照射すると、試料上の
所望の位置にＸ線が集光・照射される。
【００２０】図２に第二の実施例として、可視光での結
像に対物レンズを用いる微小領域Ｘ線照射装置の概略構
成図を示す。ＹＡＧレーザ装置１１からの赤外パルスレ
ーザ光１２をレーザ光集光用レンズ１６でレーザ光導入
窓１７を通して真空容器１８の中に設置した標的板１９
の表面に集光し、プラズマ２０を生成する。プラズマ２
０はＸ線や紫外線、可視光等のプラズマ光２１を放射す
が、フィルタ操作機２４を用いて選択されたフィルタに
よってフィルタを透過する光が異なる。真空容器１８に
は真空排気装置３０が接続されている。
像に対物レンズを用いる微小領域Ｘ線照射装置の概略構
成図を示す。ＹＡＧレーザ装置１１からの赤外パルスレ
ーザ光１２をレーザ光集光用レンズ１６でレーザ光導入
窓１７を通して真空容器１８の中に設置した標的板１９
の表面に集光し、プラズマ２０を生成する。プラズマ２
０はＸ線や紫外線、可視光等のプラズマ光２１を放射す
が、フィルタ操作機２４を用いて選択されたフィルタに
よってフィルタを透過する光が異なる。真空容器１８に
は真空排気装置３０が接続されている。
【００２１】照射装置の光学配置のアライメントは、試
料容器２６を取り除いた状態でプラズマ２０が放射する
プラズマ光２１に含まれる可視光を用いて行う。観察試
料や撮像器２９を傷めない程度に減光された可視光が透
過するように、フィルタ操作機２４によって可視光減光
フィルタ２３を光路に挿入する。第一の実施例でＸ線を
用いて行ったのと同様に、減光した可視光を用いてアラ
イメントを行い、アライメントされたら、試料容器２６
を挿入して撮像器により観察しながら可視光の集光位置
に試料容器２６の位置を重ね合わせて、試料の照射部分
を確認する。
料容器２６を取り除いた状態でプラズマ２０が放射する
プラズマ光２１に含まれる可視光を用いて行う。観察試
料や撮像器２９を傷めない程度に減光された可視光が透
過するように、フィルタ操作機２４によって可視光減光
フィルタ２３を光路に挿入する。第一の実施例でＸ線を
用いて行ったのと同様に、減光した可視光を用いてアラ
イメントを行い、アライメントされたら、試料容器２６
を挿入して撮像器により観察しながら可視光の集光位置
に試料容器２６の位置を重ね合わせて、試料の照射部分
を確認する。
【００２２】つぎに、フィルタ操作機２４によってＸ線
透過フィルタ２２を光路に挿入し、ＹＡＧレーザ装置か
ら赤外パルスレーザ光を照射すると、試料上の所望の位
置にＸ線が集光・照射される。図３に試料容器の一例を
示す。試料容器の基部３５にはリング状凹部が１箇所設
けられてゴムのＯリング３７が、蓋３６にはリング状凹
部が２箇所設けられてゴムのＯリング３７’、３９がそ
れぞれ一部露出して埋め込まれている。
透過フィルタ２２を光路に挿入し、ＹＡＧレーザ装置か
ら赤外パルスレーザ光を照射すると、試料上の所望の位
置にＸ線が集光・照射される。図３に試料容器の一例を
示す。試料容器の基部３５にはリング状凹部が１箇所設
けられてゴムのＯリング３７が、蓋３６にはリング状凹
部が２箇所設けられてゴムのＯリング３７’、３９がそ
れぞれ一部露出して埋め込まれている。
【００２３】フォトレジスト材による３μｍ厚のスペー
サ３４とＸ線透過窓材である0.1 μｍ厚の窒化珪素膜と
を形成した0.4 ｍｍ厚のシリコン製窓基板３２をバック
エッチングしてＸ線透過窓（可視光透過窓でもある）３
１が作製されている。試料容器の準備には、試料容器基
部３５を水平に置き、窓基板３２を設置して試料溶液を
窓部に滴下し、窓基板３２と同じ大きさ、同じ厚さのガ
ラス板（可視光透過窓に相当する）３３を載せる。余分
の試料溶液を濾紙で拭い、蓋３６をかぶせてネジ３８で
留めると、Ｏリングによって密閉され真空中でも試料溶
液４０は浸出しない。
サ３４とＸ線透過窓材である0.1 μｍ厚の窒化珪素膜と
を形成した0.4 ｍｍ厚のシリコン製窓基板３２をバック
エッチングしてＸ線透過窓（可視光透過窓でもある）３
１が作製されている。試料容器の準備には、試料容器基
部３５を水平に置き、窓基板３２を設置して試料溶液を
窓部に滴下し、窓基板３２と同じ大きさ、同じ厚さのガ
ラス板（可視光透過窓に相当する）３３を載せる。余分
の試料溶液を濾紙で拭い、蓋３６をかぶせてネジ３８で
留めると、Ｏリングによって密閉され真空中でも試料溶
液４０は浸出しない。
【００２４】本実施例の試料容器によれば、対向して試
料容器に設けたＸ線及び可視光の透過窓３１と該透過窓
３１よりも面積が大きい可視光透過窓３３との位置を正
確に一致させる必要がなく、そのため試料容器の組み立
てが極めて容易であった。本実施例では、Ｘ線照射用の
試料としてイースト菌を用いた。ドライイーストを水で
戻し、トリパンブルー染色液を加えたものを試料容器２
６に入れ、イースト菌が染色されていないことを光学顕
微鏡で確認した。
料容器に設けたＸ線及び可視光の透過窓３１と該透過窓
３１よりも面積が大きい可視光透過窓３３との位置を正
確に一致させる必要がなく、そのため試料容器の組み立
てが極めて容易であった。本実施例では、Ｘ線照射用の
試料としてイースト菌を用いた。ドライイーストを水で
戻し、トリパンブルー染色液を加えたものを試料容器２
６に入れ、イースト菌が染色されていないことを光学顕
微鏡で確認した。
【００２５】試料容器２６を微小領域Ｘ線照射装置に装
着し、可視光で焦点合わせをしてからＸ線を照射した。
試料容器を取り出し、光学顕微鏡で試料を観察した。強
いＸ線を当てたイースト菌だけが染色され、そのまわり
のＸ線が当たっていないイースト菌は染色されないこと
が観察され、イースト菌は強いＸ線が当たると色素排除
能力を失うことが分かった。
着し、可視光で焦点合わせをしてからＸ線を照射した。
試料容器を取り出し、光学顕微鏡で試料を観察した。強
いＸ線を当てたイースト菌だけが染色され、そのまわり
のＸ線が当たっていないイースト菌は染色されないこと
が観察され、イースト菌は強いＸ線が当たると色素排除
能力を失うことが分かった。
【００２６】上記第一および第二の実施例では、Ｘ線集
光鏡、Ｘ線結像鏡としてウォルタ鏡を用いたが、これら
はウォルタ鏡に限らずＸ線と可視光の焦点が一致するも
のであれば、シュワルツシルト鏡、回転楕円面多層膜鏡
なども使える。また、シンクロトロン放射光を光源とし
た微小領域Ｘ線照射装置も作製可能であり、シンクロト
ロン放射光は平行光と見なすことができるので、これを
集光するのには回転放物面多層膜鏡が用いられる。
光鏡、Ｘ線結像鏡としてウォルタ鏡を用いたが、これら
はウォルタ鏡に限らずＸ線と可視光の焦点が一致するも
のであれば、シュワルツシルト鏡、回転楕円面多層膜鏡
なども使える。また、シンクロトロン放射光を光源とし
た微小領域Ｘ線照射装置も作製可能であり、シンクロト
ロン放射光は平行光と見なすことができるので、これを
集光するのには回転放物面多層膜鏡が用いられる。
【００２７】
【発明の効果】本発明の微小領域Ｘ線照射装置によれ
ば、対向して試料容器に設けられた二つの光透過窓の位
置を正確に一致させる必要がなく、そのため試料容器の
組み立てが極めて容易であり、さらに生体試料の微小領
域へのＸ線照射テストを簡便かつ迅速に行うことができ
る。
ば、対向して試料容器に設けられた二つの光透過窓の位
置を正確に一致させる必要がなく、そのため試料容器の
組み立てが極めて容易であり、さらに生体試料の微小領
域へのＸ線照射テストを簡便かつ迅速に行うことができ
る。
【図１】は、本発明の微小領域Ｘ線照射装置の第一の実
施例（概略構成図）であり、Ｘ線および可視光による結
像にウォルタ鏡を用いる。
施例（概略構成図）であり、Ｘ線および可視光による結
像にウォルタ鏡を用いる。
【図２】は、本発明の微小領域Ｘ線照射装置の第二の実
施例（概略構成図）であり、可視光による結像に対物レ
ンズを用いる。
施例（概略構成図）であり、可視光による結像に対物レ
ンズを用いる。
【図３】は、本発明の微小領域Ｘ線照射装置用の試料容
器の一例である。
器の一例である。
【図４】は、従来の微小領域Ｘ線照射装置用の試料容器
の一例である。
の一例である。
１１ ＹＡＧレーザ装置 １２ 赤外パルスレーザ光 １３ ＨｅＮｅレーザ装置（可視光源の一例） １４ 可視レーザ光 １５ 赤外光反射鏡 １６ レーザ光集光用レンズ １７ レーザ光導入窓 １８ 真空容器 １９ 標的板 ２０ プラズマ（Ｘ線源、可視光源の一例） ２１ プラズマ光 ２２ Ｘ線透過フィルタ ２３ 可視光減光フィルタ ２４ フィルタ交換器 ２５ 集光用ウォルタ鏡（コンデンサー光学系の一例） ２６ 試料容器 ２７ 結像用ウォルタ鏡（結像光学系の一例） ２８ 可視光用結像レンズ（対物レンズ、結像光学系の
一例）） ２９ 撮像器（撮像手段の一例） ３０ 真空排気装置（排気手段の一例） ３１ Ｘ線及び可視光の透過窓 ３２ 窓基板 ３３ ガラス板（可視光透過窓の一例） ３４ スペーサ ３５ 試料容器基部 ３６ 試料容器蓋 ３７ Ｏリング ３７’Ｏリング ３８ ネジ ３９ Ｏリング ４０ 試料溶液 以 上
一例）） ２９ 撮像器（撮像手段の一例） ３０ 真空排気装置（排気手段の一例） ３１ Ｘ線及び可視光の透過窓 ３２ 窓基板 ３３ ガラス板（可視光透過窓の一例） ３４ スペーサ ３５ 試料容器基部 ３６ 試料容器蓋 ３７ Ｏリング ３７’Ｏリング ３８ ネジ ３９ Ｏリング ４０ 試料溶液 以 上
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくとも、Ｘ線を発生するＸ線源、可
視光を発生する可視光源、該Ｘ線源又は可視光源から出
射した光を試料容器中の試料に、又は試料設置箇所に集
光するコンデンサー光学系、該コンデンサー光学系によ
る集光パターンを結像させる結像光学系、該結像光学系
による結像位置に配置された撮像手段、前記Ｘ線源から
該撮像手段までの光路を真空にするための真空容器、及
び該真空容器を真空に排気するための排気手段、を有す
る微小領域Ｘ線照射装置において、 前記試料容器の前記光路と交差する二つの面のうち、一
方の面にＸ線及び可視光の透過窓を、他方の面に可視光
透過窓をそれぞれ設け、かつ、可視光透過窓の面積をＸ
線及び可視光の透過窓の面積よりも大きくしたことを特
徴とする微小領域Ｘ線照射装置。 - 【請求項２】 前記コンデンサー光学系及び前記結像光
学系を反射型光学素子を用いた各光学系としたことを特
徴とする請求項１記載の微小領域Ｘ線照射装置。 - 【請求項３】 前記コンデンサー光学系を反射型光学素
子を用いた光学系としたことを特徴とする請求項１記載
の微小領域Ｘ線照射装置。 - 【請求項４】 前記反射型光学素子が回転楕円面多層膜
鏡、回転放物面多層膜鏡、シュワルツシルト鏡、又はウ
ォルター鏡であることを特徴とする請求項２又は３記載
の微小領域Ｘ線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6134722A JPH085579A (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | 微小領域ｘ線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6134722A JPH085579A (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | 微小領域ｘ線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH085579A true JPH085579A (ja) | 1996-01-12 |
Family
ID=15135076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6134722A Pending JPH085579A (ja) | 1994-06-16 | 1994-06-16 | 微小領域ｘ線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH085579A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010261951A (ja) * | 2009-05-05 | 2010-11-18 | Media Lario Srl | ゾーン最適化ミラー及び同ミラーを用いた光学系 |
| WO2023203856A1 (ja) * | 2022-04-22 | 2023-10-26 | 株式会社リガク | 半導体検査装置、半導体検査システムおよび半導体検査方法 |
-
1994
- 1994-06-16 JP JP6134722A patent/JPH085579A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010261951A (ja) * | 2009-05-05 | 2010-11-18 | Media Lario Srl | ゾーン最適化ミラー及び同ミラーを用いた光学系 |
| WO2023203856A1 (ja) * | 2022-04-22 | 2023-10-26 | 株式会社リガク | 半導体検査装置、半導体検査システムおよび半導体検査方法 |
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