JPH08337654A - 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 - Google Patents
化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液Info
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- JPH08337654A JPH08337654A JP7147851A JP14785195A JPH08337654A JP H08337654 A JPH08337654 A JP H08337654A JP 7147851 A JP7147851 A JP 7147851A JP 14785195 A JP14785195 A JP 14785195A JP H08337654 A JPH08337654 A JP H08337654A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】
【目的】アルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を
含まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合
溶液を、基材表面に接触させて表面にシロキサン結合を
介して共有結合した化学吸着膜を形成することにより、
膜製造時に有害な塩酸ガスが発生せず反応速度も実用的
に十分である化学吸着方法を提供する。 【構成】青板ガラス板１をアルコキシシラン系界面活性
剤であるCF3(CF2)7(CH 2)2Si(OCH3)3を５重量％と、シラ
ノール縮合触媒であるｎ−ジブチル錫ジアセテートを
０．１重量％と、活性水素を含まない非水系溶媒として
ｎ−デカンを９４．９重量％とを混合した化学吸着液に
乾燥した雰囲気中に浸漬し、その後前記吸着液からガラ
スを取り出しクロロホルムで良く洗浄した後、空気中の
水分と反応させると、ガラス板表面に直接Ｓｉを介して
共有結合した膜厚約１．５ｎｍの撥水撥油性の化学吸着
単分子膜３を１層形成できる。
含まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合
溶液を、基材表面に接触させて表面にシロキサン結合を
介して共有結合した化学吸着膜を形成することにより、
膜製造時に有害な塩酸ガスが発生せず反応速度も実用的
に十分である化学吸着方法を提供する。 【構成】青板ガラス板１をアルコキシシラン系界面活性
剤であるCF3(CF2)7(CH 2)2Si(OCH3)3を５重量％と、シラ
ノール縮合触媒であるｎ−ジブチル錫ジアセテートを
０．１重量％と、活性水素を含まない非水系溶媒として
ｎ−デカンを９４．９重量％とを混合した化学吸着液に
乾燥した雰囲気中に浸漬し、その後前記吸着液からガラ
スを取り出しクロロホルムで良く洗浄した後、空気中の
水分と反応させると、ガラス板表面に直接Ｓｉを介して
共有結合した膜厚約１．５ｎｍの撥水撥油性の化学吸着
単分子膜３を１層形成できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、表面に活性水素を含む
基材の表面にシロキサン結合を介して化学吸着膜を形成
する製造方法及びこれに用いる化学吸着液に関するもの
である。さらに詳しくは、アルコキシシラン系界面活性
剤と非水系溶媒とシラノール縮合触媒を用いた化学吸着
膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液に関するもの
である。
基材の表面にシロキサン結合を介して化学吸着膜を形成
する製造方法及びこれに用いる化学吸着液に関するもの
である。さらに詳しくは、アルコキシシラン系界面活性
剤と非水系溶媒とシラノール縮合触媒を用いた化学吸着
膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】プラスチック、金属、セラミックス、繊
維、木材、コンクリート、塗装面などの基材の表面を目
的に応じて改質することは、様々な分野で要請されてい
る。
維、木材、コンクリート、塗装面などの基材の表面を目
的に応じて改質することは、様々な分野で要請されてい
る。
【０００３】一例として高分子をあげると、高分子の表
面を改質する方法としては、例えば撥水性・撥油性を付
与するために例えば含フッ素シランカップリング剤等を
コーティングする方法、潤滑性を付与するためにはワッ
クスをコーティングする方法、親水性を付与するために
はポリビニルアルコールをコーティングする方法、防汚
性を付与するためにフロロカーボン系ポリマーの懸濁液
をコーティングする方法などのコーティング方法が一般
によく知られている。
面を改質する方法としては、例えば撥水性・撥油性を付
与するために例えば含フッ素シランカップリング剤等を
コーティングする方法、潤滑性を付与するためにはワッ
クスをコーティングする方法、親水性を付与するために
はポリビニルアルコールをコーティングする方法、防汚
性を付与するためにフロロカーボン系ポリマーの懸濁液
をコーティングする方法などのコーティング方法が一般
によく知られている。
【０００４】しかしながら従来の方法で得られるコーテ
ィング膜は、高分子を含む基体との結合力が弱く、布で
表面を拭いたり水での洗浄を繰り返すと、コーティング
膜が基体から剥離して表面処理効果がなくなってしまう
という課題があった。また、従来のコーティング膜は分
子がランダムな方向を向いているため、コーティング膜
にピンホールが多く、十分な特性が発揮されないという
課題があった。さらに例えば透明性が強く要求される透
明プラスチック光学材料等には、フロロカーボン系ポリ
マーのコーティング膜では透明性に欠如するため使用で
きないという課題もあった。
ィング膜は、高分子を含む基体との結合力が弱く、布で
表面を拭いたり水での洗浄を繰り返すと、コーティング
膜が基体から剥離して表面処理効果がなくなってしまう
という課題があった。また、従来のコーティング膜は分
子がランダムな方向を向いているため、コーティング膜
にピンホールが多く、十分な特性が発揮されないという
課題があった。さらに例えば透明性が強く要求される透
明プラスチック光学材料等には、フロロカーボン系ポリ
マーのコーティング膜では透明性に欠如するため使用で
きないという課題もあった。
【０００５】そこで、耐剥離性が高く、ピンホールフリ
ーでナノメーターオーダーの膜厚、即ち透明性が高く基
材表面の光沢や基材の透明性を損なわない化学吸着単分
子膜の製造方法が、本発明者らによって複数提案されて
いる（特開平４−１３２６３７号公報、特開平４−２２
１６３０号公報、特開平４−３６７７２１号公報等）。
ーでナノメーターオーダーの膜厚、即ち透明性が高く基
材表面の光沢や基材の透明性を損なわない化学吸着単分
子膜の製造方法が、本発明者らによって複数提案されて
いる（特開平４−１３２６３７号公報、特開平４−２２
１６３０号公報、特開平４−３６７７２１号公報等）。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
化学吸着単分子膜の製造方法は、クロロシラン系の界面
活性剤と基材表面の活性水素との脱塩酸反応で被膜を形
成していたため、膜製造時に有害な塩酸ガスが発生する
という極めて大きい問題があった。また、アルコキシシ
ラン界面活性剤を脱アルコール反応して分子膜を形成す
ることの試みもあるが、反応速度が遅く膜形成を手軽に
行えないという問題があった。また、脱アルコール触媒
の使用も考えられるが、単に脱アルコール触媒の添加す
るだけでは、空気中の水分により界面活性剤が自ら架橋
してしまい失活するという問題がある。すなわち、表面
処理剤に水が含まれるようになると、基材表面と反応す
る前に界面活性剤が自ら架橋してしまい、基材表面の固
液界面での反応が阻害されて化学吸着膜ができにくくな
るという問題がある。
化学吸着単分子膜の製造方法は、クロロシラン系の界面
活性剤と基材表面の活性水素との脱塩酸反応で被膜を形
成していたため、膜製造時に有害な塩酸ガスが発生する
という極めて大きい問題があった。また、アルコキシシ
ラン界面活性剤を脱アルコール反応して分子膜を形成す
ることの試みもあるが、反応速度が遅く膜形成を手軽に
行えないという問題があった。また、脱アルコール触媒
の使用も考えられるが、単に脱アルコール触媒の添加す
るだけでは、空気中の水分により界面活性剤が自ら架橋
してしまい失活するという問題がある。すなわち、表面
処理剤に水が含まれるようになると、基材表面と反応す
る前に界面活性剤が自ら架橋してしまい、基材表面の固
液界面での反応が阻害されて化学吸着膜ができにくくな
るという問題がある。
【０００７】本発明は、前記従来技術の課題を解決する
ため、膜製造時に有害な塩酸ガスが発生せず、反応速度
も実用的に十分である化学吸着膜の製造方法及びこれに
用いる化学吸着液を提供することを目的とする。
ため、膜製造時に有害な塩酸ガスが発生せず、反応速度
も実用的に十分である化学吸着膜の製造方法及びこれに
用いる化学吸着液を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の化学吸着膜の製造方法は、活性水素を含む
基材の表面に化学吸着膜を形成する方法において、少な
くともアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含
まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶
液を、前記基材表面に接触させて、前記基材表面にシロ
キサン結合を介して共有結合した化学吸着膜を形成する
ことを特徴とする。
め、本発明の化学吸着膜の製造方法は、活性水素を含む
基材の表面に化学吸着膜を形成する方法において、少な
くともアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含
まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶
液を、前記基材表面に接触させて、前記基材表面にシロ
キサン結合を介して共有結合した化学吸着膜を形成する
ことを特徴とする。
【０００９】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、少なくともアルコキシシ
ラン系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒
と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表
面に接触させ、前記基材表面に前記界面活性剤分子をシ
ロキサン結合を介して共有結合させ、次いで非水系の溶
媒で洗浄することにより、基材表面にシロキサン結合を
介して共有結合した前記界面活性剤分子よりなる単分子
膜状の被膜を形成することもできる。この様にすると、
基材表面にシロキサン結合を介して共有結合した界面活
性剤よりなる単分子膜状の被膜を効率良く形成できる。
着膜を形成する方法において、少なくともアルコキシシ
ラン系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒
と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表
面に接触させ、前記基材表面に前記界面活性剤分子をシ
ロキサン結合を介して共有結合させ、次いで非水系の溶
媒で洗浄することにより、基材表面にシロキサン結合を
介して共有結合した前記界面活性剤分子よりなる単分子
膜状の被膜を形成することもできる。この様にすると、
基材表面にシロキサン結合を介して共有結合した界面活
性剤よりなる単分子膜状の被膜を効率良く形成できる。
【００１０】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、少なくともアルコキシシ
ラン系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒
と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表
面に接触させて、前記基材表面に前記界面活性剤をシロ
キサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒を
蒸発させた後、水と反応させることにより、基材表面に
シロキサン結合を介して共有結合したポリマー膜状の被
膜を形成することもできる。この様にすると、基材表面
にシロキサン結合を介して共有結合した界面活性剤より
なるポリマー膜状の被膜を効率良く形成できる。
着膜を形成する方法において、少なくともアルコキシシ
ラン系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒
と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表
面に接触させて、前記基材表面に前記界面活性剤をシロ
キサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒を
蒸発させた後、水と反応させることにより、基材表面に
シロキサン結合を介して共有結合したポリマー膜状の被
膜を形成することもできる。この様にすると、基材表面
にシロキサン結合を介して共有結合した界面活性剤より
なるポリマー膜状の被膜を効率良く形成できる。
【００１１】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、
前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合したシ
ロキサン系化学吸着膜よりなる内層膜を形成し、次いで
第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含
まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶
液を、前記基材表面の内層膜に接触させて、前記内層膜
表面にシロキサン結合を介して共有結合した前記第２の
アルコキシシラン系界面活性剤分子の化学吸着膜よりな
る外層膜を形成するもできる。この様にすると、化学吸
着単分子膜状のシロキサン系内層膜と化学吸着単分子膜
状の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤でできた
外層膜を含む２層構造の化学吸着膜を効率良く製造でき
る。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、
前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合したシ
ロキサン系化学吸着膜よりなる内層膜を形成し、次いで
第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含
まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶
液を、前記基材表面の内層膜に接触させて、前記内層膜
表面にシロキサン結合を介して共有結合した前記第２の
アルコキシシラン系界面活性剤分子の化学吸着膜よりな
る外層膜を形成するもできる。この様にすると、化学吸
着単分子膜状のシロキサン系内層膜と化学吸着単分子膜
状の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤でできた
外層膜を含む２層構造の化学吸着膜を効率良く製造でき
る。
【００１２】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法に際し、ヘキサアルコキシジシロキ
サン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシ
シラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシ
ランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、前
記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン
結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄す
ることにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結
合した化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜を形成
し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活
性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を
含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させて、前
記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄
することにより前記基材表面にシロキサン結合を介して
共有結合した化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキ
シシラン系界面活性剤分子の外層膜を形成することもで
きる。この様にすると、化学吸着単分子膜状のシロキサ
ン系内層膜と化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキ
シシラン系界面活性剤でできた外層膜を含む２層構造の
化学吸着膜を効率良く製造できる。
着膜を形成する方法に際し、ヘキサアルコキシジシロキ
サン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシ
シラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシ
ランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、前
記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン
結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄す
ることにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結
合した化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜を形成
し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活
性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を
含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させて、前
記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄
することにより前記基材表面にシロキサン結合を介して
共有結合した化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキ
シシラン系界面活性剤分子の外層膜を形成することもで
きる。この様にすると、化学吸着単分子膜状のシロキサ
ン系内層膜と化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキ
シシラン系界面活性剤でできた外層膜を含む２層構造の
化学吸着膜を効率良く製造できる。
【００１３】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触させ、前記
基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン結
合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄する
ことにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結合
した化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜を形成
し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活
性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を
含む混合溶液を前記基材表面に接触させて、前記基材表
面に前記界面活性剤分子をシロキサン結合を介して共有
結合させ、前記非水系の溶媒を蒸発させた後、表面に残
った第２のアルコキシシラン系界面活性剤のアルコキシ
基を水と反応させることにより、基材表面にシロキサン
結合を介して共有結合したポリマー膜状の前記第２のア
ルコキシシラン系界面活性剤分子の化学吸着膜よりなる
外層膜を形成することが好ましい。この様にすると、化
学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜とポリマー膜状
の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤でできた化
学吸着膜よりなる外層膜を含む２層構造の化学吸着膜を
効率良く製造できる。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触させ、前記
基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン結
合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄する
ことにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結合
した化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜を形成
し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活
性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を
含む混合溶液を前記基材表面に接触させて、前記基材表
面に前記界面活性剤分子をシロキサン結合を介して共有
結合させ、前記非水系の溶媒を蒸発させた後、表面に残
った第２のアルコキシシラン系界面活性剤のアルコキシ
基を水と反応させることにより、基材表面にシロキサン
結合を介して共有結合したポリマー膜状の前記第２のア
ルコキシシラン系界面活性剤分子の化学吸着膜よりなる
外層膜を形成することが好ましい。この様にすると、化
学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜とポリマー膜状
の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤でできた化
学吸着膜よりなる外層膜を含む２層構造の化学吸着膜を
効率良く製造できる。
【００１４】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラ
ン系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、
シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に
接触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤をシ
ロキサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒
を蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコ
キシ基を水と反応させることにより、基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合したポリシロキサン系内層膜
を形成し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤
と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させ
て前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子をシロ
キサン結合を介して共有結合させ、次いで非水系の溶媒
で洗浄することにより前記基材表面にシロキサン結合を
介して共有結合した化学吸着単分子膜状の前記第２のア
ルコキシシラン系界面活性剤分子の外層膜を形成するこ
ともできる。この様にすると、ポリシロキサン系内層膜
と化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキシシラン系
界面活性剤でできた外層膜を含む２層構造の化学吸着膜
を効率良く製造できる。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラ
ン系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、
シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に
接触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤をシ
ロキサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒
を蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコ
キシ基を水と反応させることにより、基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合したポリシロキサン系内層膜
を形成し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤
と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させ
て前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子をシロ
キサン結合を介して共有結合させ、次いで非水系の溶媒
で洗浄することにより前記基材表面にシロキサン結合を
介して共有結合した化学吸着単分子膜状の前記第２のア
ルコキシシラン系界面活性剤分子の外層膜を形成するこ
ともできる。この様にすると、ポリシロキサン系内層膜
と化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキシシラン系
界面活性剤でできた外層膜を含む２層構造の化学吸着膜
を効率良く製造できる。
【００１５】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラ
ン系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、
シラノール縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接
触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子を
シロキサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶
媒を蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアル
コキシ基を水と反応させることにより、基材表面にシロ
キサン結合を介して共有結合したポリシロキサン系内層
膜を形成し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性
剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触さ
せて、前記界面活性剤分子をシロキサン結合を介して共
有結合させ、前記非水系の溶媒を蒸発させた後、表面に
残った第２のアルコキシシラン界面活性剤分子のアルコ
キシ基を水と反応させることにより、基材表面の内層膜
表面にシロキサン結合を介して共有結合したポリマー膜
状の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子の化
学吸着膜よりなる外層膜を形成することもできる。この
様にすると、ポリシロキサン系内層膜とポリマー状の前
記第２のアルコキシシラン系界面活性剤でできた外層膜
を含む２層構造の化学吸着膜を効率良く製造できる。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラ
ン系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、
シラノール縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接
触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子を
シロキサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶
媒を蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアル
コキシ基を水と反応させることにより、基材表面にシロ
キサン結合を介して共有結合したポリシロキサン系内層
膜を形成し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性
剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触さ
せて、前記界面活性剤分子をシロキサン結合を介して共
有結合させ、前記非水系の溶媒を蒸発させた後、表面に
残った第２のアルコキシシラン界面活性剤分子のアルコ
キシ基を水と反応させることにより、基材表面の内層膜
表面にシロキサン結合を介して共有結合したポリマー膜
状の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子の化
学吸着膜よりなる外層膜を形成することもできる。この
様にすると、ポリシロキサン系内層膜とポリマー状の前
記第２のアルコキシシラン系界面活性剤でできた外層膜
を含む２層構造の化学吸着膜を効率良く製造できる。
【００１６】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、
前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合したシ
ロキサン系化学吸着膜を形成することもできる。この様
にすると、親水性に優れたシロキサン系分子膜を効率良
く形成できる。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、
前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合したシ
ロキサン系化学吸着膜を形成することもできる。この様
にすると、親水性に優れたシロキサン系分子膜を効率良
く形成できる。
【００１７】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、
前記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄
することにより基材表面にシロキサン結合を介して共有
結合した化学吸着単分子膜状のシロキサン系膜を形成す
ることもできる。この様にすると、親水性に優れたシロ
キサン系単分子膜を効率良く形成できる。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性
剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮
合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、
前記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄
することにより基材表面にシロキサン結合を介して共有
結合した化学吸着単分子膜状のシロキサン系膜を形成す
ることもできる。この様にすると、親水性に優れたシロ
キサン系単分子膜を効率良く形成できる。
【００１８】また、活性水素を含む基材の表面に化学吸
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラ
ン系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、
シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に
接触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤をシ
ロキサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒
を蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコ
キシ基を水と反応させることにより、基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合したポリシロキサン系膜を形
成することもできる。この様にすると、親水性に優れた
ポリシロキサン系膜を効率良く形成できる。
着膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロ
キサン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキ
シシラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラ
ン系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、
シラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に
接触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤をシ
ロキサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒
を蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコ
キシ基を水と反応させることにより、基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合したポリシロキサン系膜を形
成することもできる。この様にすると、親水性に優れた
ポリシロキサン系膜を効率良く形成できる。
【００１９】前記方法においては、シラノール縮合触媒
が、カルボン酸金属塩、カルボン酸エステル金属塩、カ
ルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金属塩キレート、
チタン酸エステル及びチタン酸エステルキレート類から
選ばれる少なくとも一つの物質であることが好ましい。
触媒活性が高いからである。シラノール縮合触媒として
は、たとえば酢酸第１錫、ジブチル錫ジラウレート、ジ
ブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジアセテート、ジオ
クチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジ
オクチル錫ジアセテート、ジオクタン酸第１錫、ナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸コバルト、２−エチルヘキセン酸
鉄、ジオクチル錫ビスオクチリチオグリコール酸エステ
ル塩、ジオクチル錫マレイン酸エステル塩、ジブチル錫
マレイン酸塩ポリマー、ジメチル錫メルカプトプロピオ
ン酸塩ポリマー、ジブチル錫ビスアセチルアセテート、
ジオクチル錫ビスアセチルラウレート、テトラブチルチ
タネート、テトラノニルチタネート及びビス（アセチル
アセトニル）ジープロピルチタネートから選ばれる少な
くとも一つを用いることができる。
が、カルボン酸金属塩、カルボン酸エステル金属塩、カ
ルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金属塩キレート、
チタン酸エステル及びチタン酸エステルキレート類から
選ばれる少なくとも一つの物質であることが好ましい。
触媒活性が高いからである。シラノール縮合触媒として
は、たとえば酢酸第１錫、ジブチル錫ジラウレート、ジ
ブチル錫ジオクテート、ジブチル錫ジアセテート、ジオ
クチル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジ
オクチル錫ジアセテート、ジオクタン酸第１錫、ナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸コバルト、２−エチルヘキセン酸
鉄、ジオクチル錫ビスオクチリチオグリコール酸エステ
ル塩、ジオクチル錫マレイン酸エステル塩、ジブチル錫
マレイン酸塩ポリマー、ジメチル錫メルカプトプロピオ
ン酸塩ポリマー、ジブチル錫ビスアセチルアセテート、
ジオクチル錫ビスアセチルラウレート、テトラブチルチ
タネート、テトラノニルチタネート及びビス（アセチル
アセトニル）ジープロピルチタネートから選ばれる少な
くとも一つを用いることができる。
【００２０】また前記方法においては、アルコキシシラ
ン界面活性剤が、フッ化炭素基を含むことが好ましい。
第２番目の膜（外層膜）にこれを用いると撥水・撥油・
防汚性に優れるからである。フッ化炭素基を含むアルコ
キシシラン界面活性剤としては、たとえばＣＦ3−（Ｃ
Ｆ2）n−（Ｒ）m−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ｎは０または
整数、Ｒはアルキレン基、ビニレン基、エチニレン
基、、アリーレン基、シリコン若しくは酸素原子を含む
置換基、ｍは０又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキ
シル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基
の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）、ま
たはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）w−ＳｉＸp（ＯＡ）
3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，アルキル基，アルコ
キシル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ
基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）で
表される物質を用いることができる。
ン界面活性剤が、フッ化炭素基を含むことが好ましい。
第２番目の膜（外層膜）にこれを用いると撥水・撥油・
防汚性に優れるからである。フッ化炭素基を含むアルコ
キシシラン界面活性剤としては、たとえばＣＦ3−（Ｃ
Ｆ2）n−（Ｒ）m−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ｎは０または
整数、Ｒはアルキレン基、ビニレン基、エチニレン
基、、アリーレン基、シリコン若しくは酸素原子を含む
置換基、ｍは０又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキ
シル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基
の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）、ま
たはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）w−ＳｉＸp（ＯＡ）
3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，アルキル基，アルコ
キシル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ
基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）で
表される物質を用いることができる。
【００２１】また前記方法は、基材が、金属、セラミッ
クス、ガラス、プラスチック、紙、繊維及び皮革等、多
くの種類の材料に一つに適用できる。基材がプラスチッ
クまたは合成繊維の場合は、予め表面を酸素を含むプラ
ズマまたはコロナ雰囲気で処理して親水性化しておく
と、高い濃度で分子を共有結合により固定できる。
クス、ガラス、プラスチック、紙、繊維及び皮革等、多
くの種類の材料に一つに適用できる。基材がプラスチッ
クまたは合成繊維の場合は、予め表面を酸素を含むプラ
ズマまたはコロナ雰囲気で処理して親水性化しておく
と、高い濃度で分子を共有結合により固定できる。
【００２２】また前記方法においては、非水系の溶媒
が、水を含まない炭化水素系溶媒またはフッ化炭素系溶
媒であることが好ましい。とくにフッ化炭素系溶媒は毒
性が低く扱いやすい。
が、水を含まない炭化水素系溶媒またはフッ化炭素系溶
媒であることが好ましい。とくにフッ化炭素系溶媒は毒
性が低く扱いやすい。
【００２３】次に本発明の化学吸着液は、アルコキシシ
ラン系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒
と、シラノール縮合触媒を少なくとも含む混合溶液から
なるものである。もちろん反応を阻害する影響を与えな
いものであれば任意の成分を添加しても良い。
ラン系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒
と、シラノール縮合触媒を少なくとも含む混合溶液から
なるものである。もちろん反応を阻害する影響を与えな
いものであれば任意の成分を添加しても良い。
【００２４】前記化学吸着液のシラノール縮合触媒とし
ては、カルボン酸金属塩、カルボン酸エステル金属塩、
カルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金属塩キレー
ト、チタン酸エステル及びチタン酸エステルキレート類
から選ばれる少なくとも一つの物質を含んでいることが
好ましい。前記シラノール縮合触媒の例としては、酢酸
第１錫、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテ
ート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレ
ート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジアセ
テート、ジオクタン酸第１錫、ナフテン酸鉛、ナフテン
酸コバルト、２−エチルヘキセン酸鉄、ジオクチル錫ビ
スオクチリチオグリコール酸エステル塩、ジオクチル錫
マレイン酸エステル塩、ジブチル錫マレイン酸塩ポリマ
ー、ジメチル錫メルカプトプロピオン酸塩ポリマー、ジ
ブチル錫ビスアセチルアセテート、ジオクチル錫ビスア
セチルラウレート、テトラブチルチタネート、テトラノ
ニルチタネート及びビス（アセチルアセトニル）ジープ
ロピルチタネートなどを挙げることができる。
ては、カルボン酸金属塩、カルボン酸エステル金属塩、
カルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金属塩キレー
ト、チタン酸エステル及びチタン酸エステルキレート類
から選ばれる少なくとも一つの物質を含んでいることが
好ましい。前記シラノール縮合触媒の例としては、酢酸
第１錫、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテ
ート、ジブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレ
ート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジアセ
テート、ジオクタン酸第１錫、ナフテン酸鉛、ナフテン
酸コバルト、２−エチルヘキセン酸鉄、ジオクチル錫ビ
スオクチリチオグリコール酸エステル塩、ジオクチル錫
マレイン酸エステル塩、ジブチル錫マレイン酸塩ポリマ
ー、ジメチル錫メルカプトプロピオン酸塩ポリマー、ジ
ブチル錫ビスアセチルアセテート、ジオクチル錫ビスア
セチルラウレート、テトラブチルチタネート、テトラノ
ニルチタネート及びビス（アセチルアセトニル）ジープ
ロピルチタネートなどを挙げることができる。
【００２５】また前記化学吸着液のアルコキシシラン界
面活性剤としては、フッ化炭素基を含むアルコキシシラ
ン界面活性剤を用いるのが好ましい。このフッ化炭素基
を含むアルコキシシラン界面活性剤としては、ＣＦ3−
（ＣＦ2）n−（Ｒ）m−ＳｉＸ p（ＯＡ）3-p（ｎは０ま
たは整数、Ｒはアルキレン基、ビニレン基、エチニレン
基、、アリーレン基、シリコン若しくは酸素原子を含む
置換基、ｍは０又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキ
シル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基
の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）、ま
たはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）w−ＳｉＸp（ＯＡ）
3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，アルキル基，アルコ
キシル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ
基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）で
表される物質を挙げることができる。
面活性剤としては、フッ化炭素基を含むアルコキシシラ
ン界面活性剤を用いるのが好ましい。このフッ化炭素基
を含むアルコキシシラン界面活性剤としては、ＣＦ3−
（ＣＦ2）n−（Ｒ）m−ＳｉＸ p（ＯＡ）3-p（ｎは０ま
たは整数、Ｒはアルキレン基、ビニレン基、エチニレン
基、、アリーレン基、シリコン若しくは酸素原子を含む
置換基、ｍは０又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキ
シル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基
の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）、ま
たはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）w−ＳｉＸp（ＯＡ）
3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，アルキル基，アルコ
キシル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ
基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）で
表される物質を挙げることができる。
【００２６】また前記化学吸着液の非水系の溶媒として
は、水を含まない炭化水素系溶媒またはフッ化炭素系溶
媒を用いることができる。前記方法及び吸着液において
は、混合溶液の水分率が１０ｐｐｍ以下であることが好
ましい。アルコキシシラン界面活性剤とシラノール縮合
触媒を安定に保ち、ポットライフを長く保つためであ
る。
は、水を含まない炭化水素系溶媒またはフッ化炭素系溶
媒を用いることができる。前記方法及び吸着液において
は、混合溶液の水分率が１０ｐｐｍ以下であることが好
ましい。アルコキシシラン界面活性剤とシラノール縮合
触媒を安定に保ち、ポットライフを長く保つためであ
る。
【００２７】また前記方法及び吸着液においては、混合
溶液を１００重量％としたとき、アルコキシシラン系界
面活性剤の存在量が０．１〜３０重量％、シラノール縮
合触媒の存在量が０．０００１〜７．５重量％（前記界
面活性剤に対して０．１〜２５重量％）、活性水素を含
まない非水系溶媒の存在量が６２．５〜９９．８９９９
重量％の範囲であることが好ましい。
溶液を１００重量％としたとき、アルコキシシラン系界
面活性剤の存在量が０．１〜３０重量％、シラノール縮
合触媒の存在量が０．０００１〜７．５重量％（前記界
面活性剤に対して０．１〜２５重量％）、活性水素を含
まない非水系溶媒の存在量が６２．５〜９９．８９９９
重量％の範囲であることが好ましい。
【００２８】
【作用】前記本発明の方法によれば、活性水素を含む基
材の表面に化学吸着膜を形成する方法において、少なく
ともアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含ま
ない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液
を、前記基材表面に接触させて、前記基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合した化学吸着膜を形成するこ
とにより、膜製造時に有害な塩酸ガスが発生せず、反応
速度も実用的に十分である化学吸着膜の製造方法を実現
できる。
材の表面に化学吸着膜を形成する方法において、少なく
ともアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含ま
ない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液
を、前記基材表面に接触させて、前記基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合した化学吸着膜を形成するこ
とにより、膜製造時に有害な塩酸ガスが発生せず、反応
速度も実用的に十分である化学吸着膜の製造方法を実現
できる。
【００２９】また前記本発明の化学吸着液によれば、化
学吸着膜の製造方法に有用な化学吸着液を提供できる。
さらに、化学吸着膜を形成する反応工程前に基材表面を
あらかじめヘキサアルコキシジシロキサン、オクタアル
コキシトリシロキサン、ジアルコキシシラン、トリアル
コキシシラン、またはテトラアルコキシシランで処理す
るという本発明方法の好ましい構成によれば、基材の表
面に高密度にシラノール結合を付与できる作用がある。
学吸着膜の製造方法に有用な化学吸着液を提供できる。
さらに、化学吸着膜を形成する反応工程前に基材表面を
あらかじめヘキサアルコキシジシロキサン、オクタアル
コキシトリシロキサン、ジアルコキシシラン、トリアル
コキシシラン、またはテトラアルコキシシランで処理す
るという本発明方法の好ましい構成によれば、基材の表
面に高密度にシラノール結合を付与できる作用がある。
【００３０】さらにまた、前記構成において、シラノー
ル縮合触媒として、カルボン酸金属塩、カルボン酸エス
テル金属塩、カルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金
属塩キレート、チタン酸エステル、またはチタン酸エス
テルキレート類を用いると酸触媒を用いた場合に比べ格
段に反応制御性がよい。
ル縮合触媒として、カルボン酸金属塩、カルボン酸エス
テル金属塩、カルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金
属塩キレート、チタン酸エステル、またはチタン酸エス
テルキレート類を用いると酸触媒を用いた場合に比べ格
段に反応制御性がよい。
【００３１】また、アルコキシシラン界面活性剤にフッ
化炭素基を含ませておくと、形成された被膜の撥水撥油
性を向上できる。特に、フッ化炭素基を含むアルコキシ
シラン界面活性剤として、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−（Ｒ）m
−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキ
ル基、ビニル基、エチニル基、、アリール基、シリコン
若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、
ｐは０、１または２）、またはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）
w−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，
アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基又は
含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは
０、１または２）で表される物質を用いるとより高密度
な化学吸着膜を製造できる。
化炭素基を含ませておくと、形成された被膜の撥水撥油
性を向上できる。特に、フッ化炭素基を含むアルコキシ
シラン界面活性剤として、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−（Ｒ）m
−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキ
ル基、ビニル基、エチニル基、、アリール基、シリコン
若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、
ｐは０、１または２）、またはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）
w−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，
アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基又は
含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは
０、１または２）で表される物質を用いるとより高密度
な化学吸着膜を製造できる。
【００３２】さらにまた、非水系の溶媒として水を含ま
ない炭化水素系溶媒あるいはフッ化炭素系溶媒を用いる
ことより触媒活性を損なうこと無く高密度な化学吸着膜
を製造できる作用がある。特に、フッ化炭素系の溶剤
は、比熱が小さいため蒸発速度が速くポリマー膜を作成
する際好都合である。
ない炭化水素系溶媒あるいはフッ化炭素系溶媒を用いる
ことより触媒活性を損なうこと無く高密度な化学吸着膜
を製造できる作用がある。特に、フッ化炭素系の溶剤
は、比熱が小さいため蒸発速度が速くポリマー膜を作成
する際好都合である。
【００３３】さらに、基材が、プラスチックや合成繊維
のような表面に活性水素の含量が少ない場合には、予め
表面を酸素を含むプラズマまたはコロナ雰囲気で処理し
て親水性化しておくという本発明方法の好ましい構成に
よれば、従来法では比較的困難であった高分子化合物の
表面にも好適に本発明方法の高機能性化学吸着膜を形成
することが可能になる。
のような表面に活性水素の含量が少ない場合には、予め
表面を酸素を含むプラズマまたはコロナ雰囲気で処理し
て親水性化しておくという本発明方法の好ましい構成に
よれば、従来法では比較的困難であった高分子化合物の
表面にも好適に本発明方法の高機能性化学吸着膜を形成
することが可能になる。
【００３４】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的
に説明する。まず、本発明は下記の様な用途に広く適用
できるものである。 （ａ）基材の例；基材が金属、セラミックス、ガラス、
またはプラスチック、木材、石材からなる材料に適用で
きる。表面は塗料などで塗装されていても良い。 （ｂ）刃物の例：包丁、鋏、ナイフ、カッター、彫刻
刀、剃刀、バリカン、鋸、カンナ、ノミ、錐、千枚通
し、バイト、ドリルの刃、ミキサーの刃、ジュ−サ−の
刃、製粉機の刃、芝刈り機の刃、パンチ、押切り、ホッ
チキスの刃、缶切りの刃、または手術用メス等。 （ｃ）針の例：鍼術用の針、縫い針、ミシン針、畳針、
注射針、手術用針、安全ピン等。 （ｄ）窯業製品の例：陶磁器製、ガラス製、セラミック
ス製またはほうろうを含む製品等。例えば衛生陶磁器
（例えば便器、洗面器、風呂等）、食器（例えば、茶
碗、皿、どんぶり、湯呑、コップ、瓶、コーヒー沸かし
容器、鍋、すり鉢、カップ等）、花器（水盤、植木鉢、
一輪差し等）、水槽（養殖用水槽、鑑賞用水槽等）、化
学実験器具（ビーカー、反応容器、試験管、フラスコ、
シャーレ、冷却管、撹拌棒、スターラー、乳鉢、バッ
ト、注射器）、瓦、タイル、ほうろう製食器、ほうろう
製洗面器、ほうろう製鍋。 （ｅ）鏡の例：手鏡、姿見鏡、浴室用鏡、洗面所用鏡、
自動車用鏡（バックミラー、サイドミラー）、ハーフミ
ラー、ショーウィンドー用鏡、デパートの商品売り場の
鏡等。 （ｆ）成形用部材の例：プレス成形用金型、注型成形用
金型、射出成形用金型、トランスファー成形用金型、真
空成形用金型、吹き込み成形用金型、押し出し成形用ダ
イ、インフレーション成形用口金、繊維紡糸用口金、カ
レンダー加工用ロールなど。 （ｇ）装飾品の例：時計、宝石、真珠、サファイア、ル
ビー、エメラルド、ガーネット、キャッツアイ、ダイヤ
モンド、トパーズ、ブラッドストーン、アクアマリン、
サードニックス、トルコ石、瑪瑙、大理石、アメジス
ト、カメオ、オパール、水晶、ガラス、指輪、腕輪、ブ
ローチ、ネクタイピン、イヤリング、ネックレス、貴金
属装飾製品、白金、金、銀、銅、アルミ、チタン、錫あ
るいはそれらの合金やステンレス製、メガネフレーム
等。 （ｈ）食品成形用型の例：ケーキ焼成用型、クッキー焼
成用型、パン焼成用型、チョコレート成形用型、ゼリー
成形用型、アイスクリーム成形用型、オーブン皿、製氷
皿等。 （ｉ）調理器具の例：鍋、釜、やかん、ポット、フライ
パン、ホットプレート、焼き物調理用網、油切り、タコ
焼きプレート等。 （ｊ）紙の例：グラビア紙、撥水撥油紙、ポスター紙、
高級パンフレット紙等 （ｋ）樹脂の例：ポリプロピレン、ポリエチレン等のポ
リオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テル、アラミド、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、フェノー
ル樹脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン、ケイ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル酸エステル樹脂、ポリアセタール、ポリフェン
レンオキサイド等 （ｌ）家庭電化製品の例：テレビジョン、ラジオ、テー
プレコーダー、オーディオ、ＣＤ、冷凍関係機器の冷蔵
庫、冷凍庫、エアコン、ジューサー、ミキサー、扇風機
の羽根、照明器具、文字盤、パーマ用ドライヤー等。 （ｍ）スポーツ用品の例：スキー、釣竿、棒高跳び用の
ポール、ボート、ヨット、ジェットスキー、サーフボー
ド、ゴルフボール、ボーリングのボール、釣糸、魚網、
釣り浮き等。 （ｎ）乗り物部品に適用する例： (1) ＡＢＳ樹脂：ランプカバー、インストルメントパネ
ル、内装部品、オートバイのプロテクター (2) セルロースプラスチック：自動車のマーク、ハンド
ル (3) ＦＲＰ（繊維強化樹脂）：外板バンパー、エンジン
カバー (4) フェノール樹脂：ブレーキ (5) ポリアセタール：ワイパーギヤ、ガスバルブ、キャ
ブレター部品 (6) ポリアミド：ラジエータファン (7) ポリアリレート：方向指示レンズ、計器板レンズ、
リレーハウジング (8) ポリブチレンテレフタレート：リヤエンド、フロン
トフェンダ (9) ポリアミノビスマレイミド：エンジン部品、ギヤボ
ックス、ホイール、サスペンジョンドライブシステム (10)メタクリル樹脂はランプカバーレンズ、計器板とカ
バー、センターマーク (11)ポリプロピレンはバンパー (12)ポリフェニレンオキシド：ラジエーターグリル、ホ
イールキャップ (13)ポリウレタン：バンパー、フェンダー、インストル
メントパネル、ファン (14)不飽和ポリエステル樹脂：ボディ、燃料タンク、ヒ
ーターハウジング、計器板 （ｏ）事務用品の例：万年筆、ボールペン、シャ−プペ
ンシル、筆入れ、バインダー、机、椅子、本棚、ラッ
ク、電話台、物差し、製図用具等。 （ｐ）建材の例：屋根材、外壁材、内装材。屋根材とし
て窯瓦、スレート瓦、トタン（亜鉛メッキ鉄板）など。
外壁材としては木材（加工木材を含む）、モルタル、コ
ンクリート、窯業系サイジング、金属系サイジング、レ
ンガ、石材、プラスチック材料、アルミ等の金属材料な
ど。内装材としては木材（加工木材を含む）、アルミ等
の金属材料、プラスチック材料、紙、繊維など。 （ｑ）石材の例：花コウ岩、大理石、みかげ石等。たと
えば建築物、建築材、芸術品、置物、風呂、墓石、記念
碑、門柱、石垣、歩道の敷石など。 （ｒ）楽器および音響機器の例：打楽器、弦楽器、鍵盤
楽器、木管楽器、金管楽器などの楽器、およびマイクロ
ホン、スピーカなどの音響機器等。具体的には、ドラ
ム、シンバル、バイオリン、チェロ、ギター、琴、ピア
ノ、フルート、クラリネット、尺八、ホルンなどの打楽
器、弦楽器、鍵盤楽器、木管楽器、金管楽器などの楽
器、およびマイクロホン、スピーカ、イヤホーンなどの
音響機器。 （ｓ）その他、魔法瓶、真空系機器、電力送電用碍子ま
たはスパークプラグ等の撥水撥油防汚効果の高い高耐電
圧性絶縁碍子等。
に説明する。まず、本発明は下記の様な用途に広く適用
できるものである。 （ａ）基材の例；基材が金属、セラミックス、ガラス、
またはプラスチック、木材、石材からなる材料に適用で
きる。表面は塗料などで塗装されていても良い。 （ｂ）刃物の例：包丁、鋏、ナイフ、カッター、彫刻
刀、剃刀、バリカン、鋸、カンナ、ノミ、錐、千枚通
し、バイト、ドリルの刃、ミキサーの刃、ジュ−サ−の
刃、製粉機の刃、芝刈り機の刃、パンチ、押切り、ホッ
チキスの刃、缶切りの刃、または手術用メス等。 （ｃ）針の例：鍼術用の針、縫い針、ミシン針、畳針、
注射針、手術用針、安全ピン等。 （ｄ）窯業製品の例：陶磁器製、ガラス製、セラミック
ス製またはほうろうを含む製品等。例えば衛生陶磁器
（例えば便器、洗面器、風呂等）、食器（例えば、茶
碗、皿、どんぶり、湯呑、コップ、瓶、コーヒー沸かし
容器、鍋、すり鉢、カップ等）、花器（水盤、植木鉢、
一輪差し等）、水槽（養殖用水槽、鑑賞用水槽等）、化
学実験器具（ビーカー、反応容器、試験管、フラスコ、
シャーレ、冷却管、撹拌棒、スターラー、乳鉢、バッ
ト、注射器）、瓦、タイル、ほうろう製食器、ほうろう
製洗面器、ほうろう製鍋。 （ｅ）鏡の例：手鏡、姿見鏡、浴室用鏡、洗面所用鏡、
自動車用鏡（バックミラー、サイドミラー）、ハーフミ
ラー、ショーウィンドー用鏡、デパートの商品売り場の
鏡等。 （ｆ）成形用部材の例：プレス成形用金型、注型成形用
金型、射出成形用金型、トランスファー成形用金型、真
空成形用金型、吹き込み成形用金型、押し出し成形用ダ
イ、インフレーション成形用口金、繊維紡糸用口金、カ
レンダー加工用ロールなど。 （ｇ）装飾品の例：時計、宝石、真珠、サファイア、ル
ビー、エメラルド、ガーネット、キャッツアイ、ダイヤ
モンド、トパーズ、ブラッドストーン、アクアマリン、
サードニックス、トルコ石、瑪瑙、大理石、アメジス
ト、カメオ、オパール、水晶、ガラス、指輪、腕輪、ブ
ローチ、ネクタイピン、イヤリング、ネックレス、貴金
属装飾製品、白金、金、銀、銅、アルミ、チタン、錫あ
るいはそれらの合金やステンレス製、メガネフレーム
等。 （ｈ）食品成形用型の例：ケーキ焼成用型、クッキー焼
成用型、パン焼成用型、チョコレート成形用型、ゼリー
成形用型、アイスクリーム成形用型、オーブン皿、製氷
皿等。 （ｉ）調理器具の例：鍋、釜、やかん、ポット、フライ
パン、ホットプレート、焼き物調理用網、油切り、タコ
焼きプレート等。 （ｊ）紙の例：グラビア紙、撥水撥油紙、ポスター紙、
高級パンフレット紙等 （ｋ）樹脂の例：ポリプロピレン、ポリエチレン等のポ
リオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエス
テル、アラミド、ポリスチレン、ポリスルホン、ポリエ
ーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、フェノー
ル樹脂、フラン樹脂、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、ポリ
ウレタン、ケイ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、メタクリル樹脂、
アクリル酸エステル樹脂、ポリアセタール、ポリフェン
レンオキサイド等 （ｌ）家庭電化製品の例：テレビジョン、ラジオ、テー
プレコーダー、オーディオ、ＣＤ、冷凍関係機器の冷蔵
庫、冷凍庫、エアコン、ジューサー、ミキサー、扇風機
の羽根、照明器具、文字盤、パーマ用ドライヤー等。 （ｍ）スポーツ用品の例：スキー、釣竿、棒高跳び用の
ポール、ボート、ヨット、ジェットスキー、サーフボー
ド、ゴルフボール、ボーリングのボール、釣糸、魚網、
釣り浮き等。 （ｎ）乗り物部品に適用する例： (1) ＡＢＳ樹脂：ランプカバー、インストルメントパネ
ル、内装部品、オートバイのプロテクター (2) セルロースプラスチック：自動車のマーク、ハンド
ル (3) ＦＲＰ（繊維強化樹脂）：外板バンパー、エンジン
カバー (4) フェノール樹脂：ブレーキ (5) ポリアセタール：ワイパーギヤ、ガスバルブ、キャ
ブレター部品 (6) ポリアミド：ラジエータファン (7) ポリアリレート：方向指示レンズ、計器板レンズ、
リレーハウジング (8) ポリブチレンテレフタレート：リヤエンド、フロン
トフェンダ (9) ポリアミノビスマレイミド：エンジン部品、ギヤボ
ックス、ホイール、サスペンジョンドライブシステム (10)メタクリル樹脂はランプカバーレンズ、計器板とカ
バー、センターマーク (11)ポリプロピレンはバンパー (12)ポリフェニレンオキシド：ラジエーターグリル、ホ
イールキャップ (13)ポリウレタン：バンパー、フェンダー、インストル
メントパネル、ファン (14)不飽和ポリエステル樹脂：ボディ、燃料タンク、ヒ
ーターハウジング、計器板 （ｏ）事務用品の例：万年筆、ボールペン、シャ−プペ
ンシル、筆入れ、バインダー、机、椅子、本棚、ラッ
ク、電話台、物差し、製図用具等。 （ｐ）建材の例：屋根材、外壁材、内装材。屋根材とし
て窯瓦、スレート瓦、トタン（亜鉛メッキ鉄板）など。
外壁材としては木材（加工木材を含む）、モルタル、コ
ンクリート、窯業系サイジング、金属系サイジング、レ
ンガ、石材、プラスチック材料、アルミ等の金属材料な
ど。内装材としては木材（加工木材を含む）、アルミ等
の金属材料、プラスチック材料、紙、繊維など。 （ｑ）石材の例：花コウ岩、大理石、みかげ石等。たと
えば建築物、建築材、芸術品、置物、風呂、墓石、記念
碑、門柱、石垣、歩道の敷石など。 （ｒ）楽器および音響機器の例：打楽器、弦楽器、鍵盤
楽器、木管楽器、金管楽器などの楽器、およびマイクロ
ホン、スピーカなどの音響機器等。具体的には、ドラ
ム、シンバル、バイオリン、チェロ、ギター、琴、ピア
ノ、フルート、クラリネット、尺八、ホルンなどの打楽
器、弦楽器、鍵盤楽器、木管楽器、金管楽器などの楽
器、およびマイクロホン、スピーカ、イヤホーンなどの
音響機器。 （ｓ）その他、魔法瓶、真空系機器、電力送電用碍子ま
たはスパークプラグ等の撥水撥油防汚効果の高い高耐電
圧性絶縁碍子等。
【００３５】以下、具体的実施例と模式図を用いて本発
明を詳細に説明する。なお以下の実施例においては、と
くに記載していない限り％は重量％を意味する。 （実施例１）あらかじめ、活性水素を表面に含む基材、
例えば青板ガラス板１を準備して、アルカリ洗剤等で良
く洗った後水洗して脱脂した（図１（ａ））。次に、前
記ガラス板１をアルコキシシラン系界面活性剤としてフ
ッ化炭素基を含むＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ3）3を５％と、シラノール縮合触媒としてカルボン
酸金属塩であるｎ−ジブチル錫ジアセテートを０．１％
と、活性水素を含まない非水系溶媒としてｎ−デカンを
９４．９％とを混合した化学吸着液に乾燥した雰囲気
（相対湿度３０％以下）中で室温２５℃（ただし、非水
系の溶媒の沸点以下なら、加熱しても良い。）で２時間
浸漬した。その後、前記吸着液から取り出しクロロホル
ムで良く洗浄した後空気中の水分と反応させると、図１
（ｂ）に示したようにガラス板表面に直接Ｓｉを介して
共有結合した膜厚約１．５ｎｍの撥水撥油性の化学吸着
単分子膜３が１層形成できた。
明を詳細に説明する。なお以下の実施例においては、と
くに記載していない限り％は重量％を意味する。 （実施例１）あらかじめ、活性水素を表面に含む基材、
例えば青板ガラス板１を準備して、アルカリ洗剤等で良
く洗った後水洗して脱脂した（図１（ａ））。次に、前
記ガラス板１をアルコキシシラン系界面活性剤としてフ
ッ化炭素基を含むＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ3）3を５％と、シラノール縮合触媒としてカルボン
酸金属塩であるｎ−ジブチル錫ジアセテートを０．１％
と、活性水素を含まない非水系溶媒としてｎ−デカンを
９４．９％とを混合した化学吸着液に乾燥した雰囲気
（相対湿度３０％以下）中で室温２５℃（ただし、非水
系の溶媒の沸点以下なら、加熱しても良い。）で２時間
浸漬した。その後、前記吸着液から取り出しクロロホル
ムで良く洗浄した後空気中の水分と反応させると、図１
（ｂ）に示したようにガラス板表面に直接Ｓｉを介して
共有結合した膜厚約１．５ｎｍの撥水撥油性の化学吸着
単分子膜３が１層形成できた。
【００３６】さらに、このようにして形成された化学吸
着単分子膜の撥水撥油性を接触角を用いて評価した。結
果を後にまとめて表１に示す。表１から明らかなよう
に、実施例１の化学吸着単分子膜の製造方法で処理した
ものでは、表面を水を含んだ布で５万回繰り返し擦って
洗浄した後でも、撥水・撥油性はほとんど劣化せず、極
めて耐久性が高い被膜が得られた。
着単分子膜の撥水撥油性を接触角を用いて評価した。結
果を後にまとめて表１に示す。表１から明らかなよう
に、実施例１の化学吸着単分子膜の製造方法で処理した
ものでは、表面を水を含んだ布で５万回繰り返し擦って
洗浄した後でも、撥水・撥油性はほとんど劣化せず、極
めて耐久性が高い被膜が得られた。
【００３７】なお、本発明のように、化学吸着液に触媒
を添加しておくと、吸着液とガラス板が接触した界面で
は、アルコキシシラン界面活性剤のアルコキシシシラン
基（ＳｉＯＲ、ただしＲはアルキル基を表すが、本実施
例ではメチル基を用いた）とガラス板表面に吸着した水
分及び表面の水酸基２（図１（ａ））とで、下記式（化
１〜２）に示す反応が進行する。
を添加しておくと、吸着液とガラス板が接触した界面で
は、アルコキシシラン界面活性剤のアルコキシシシラン
基（ＳｉＯＲ、ただしＲはアルキル基を表すが、本実施
例ではメチル基を用いた）とガラス板表面に吸着した水
分及び表面の水酸基２（図１（ａ））とで、下記式（化
１〜２）に示す反応が進行する。
【００３８】
【化１】
【００３９】
【化２】
【００４０】従って、この処理により、ガラス板と吸着
液の界面では、少なくともアルコキシシラン界面活性剤
がＳｉ原子を介してガラス板表面に共有結合で固定され
た極めて薄い被膜膜が形成できる。なお、本発明の方法
においては、この反応式から明かなように、水が重要な
反応要素であることが解る。すなわち、化学吸着液に水
が含まれていると、基材表面と反応する前に界面活性剤
が自ら架橋してしまい、固液界面での反応が阻害されて
化学吸着膜ができにくくなる。そこで、化学吸着液中の
水分は可能な限り少なくしておく必要がある。できれ
ば、１０ｐｐｍ以下が望ましい。次に、非水系の溶剤
で、前記反応がほぼ完全に終了した段階でガラス板表面
に残っている残余の未反応の化学吸着液を洗浄除去する
と、Ｓｉ原子を介してガラス板表面に共有結合で固定さ
れたアルコキシシラン界面活性剤分子よりなる単分子膜
のみが基材ガラス表面に残り、化学吸着単分子膜３が１
層形成できる。
液の界面では、少なくともアルコキシシラン界面活性剤
がＳｉ原子を介してガラス板表面に共有結合で固定され
た極めて薄い被膜膜が形成できる。なお、本発明の方法
においては、この反応式から明かなように、水が重要な
反応要素であることが解る。すなわち、化学吸着液に水
が含まれていると、基材表面と反応する前に界面活性剤
が自ら架橋してしまい、固液界面での反応が阻害されて
化学吸着膜ができにくくなる。そこで、化学吸着液中の
水分は可能な限り少なくしておく必要がある。できれ
ば、１０ｐｐｍ以下が望ましい。次に、非水系の溶剤
で、前記反応がほぼ完全に終了した段階でガラス板表面
に残っている残余の未反応の化学吸着液を洗浄除去する
と、Ｓｉ原子を介してガラス板表面に共有結合で固定さ
れたアルコキシシラン界面活性剤分子よりなる単分子膜
のみが基材ガラス表面に残り、化学吸着単分子膜３が１
層形成できる。
【００４１】また、上記実施例ではアルコキシシラン界
面活性剤として、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ3）3を用いたが、一般にＳｉＸp（ＯＡ）4-p（Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、
ｐは０、１、２または３）で表される物質を用いること
が可能である。さらに、例えばＣＦ3−（ＣＦ2）n−
（Ｒ）m−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ｎは０または整数、Ｒ
はアルキレン基、ビニレン基、エチニレン基、アリーレ
ン基、シリコン若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０
又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ
素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａは
アルキル基、ｐは０、１または２）で表される物質を用
いると、よりすぐれた撥水撥油性の被膜を形成できる
が、これに限定されるものではなく、これ以外にも、Ｃ
Ｈ3−（ＣＨ2)r−ＳｉＸp（ＯＡ）3-pやＣＨ3−（Ｃ
Ｈ2）s−Ｏ−（ＣＨ2）t−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p，ＣＨ3
−（ＣＨ2）u−Ｓｉ（ＣＨ3）2−（ＣＨ2）v-ＳｉＸ
p（ＯＡ）3-p，ＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）w−ＳｉＸp（Ｏ
Ａ）3 -p（ここで、好ましい範囲してｒは１〜２５、ｓ
は０〜１２、ｔは１〜２０、ｕは０〜１２、ｖは１〜２
０、ｗは１〜２５を示す。ＸはＨ，アルキル基，アルコ
キシル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ
基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）等
が使用可能である。
面活性剤として、ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ3）3を用いたが、一般にＳｉＸp（ＯＡ）4-p（Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、
ｐは０、１、２または３）で表される物質を用いること
が可能である。さらに、例えばＣＦ3−（ＣＦ2）n−
（Ｒ）m−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ｎは０または整数、Ｒ
はアルキレン基、ビニレン基、エチニレン基、アリーレ
ン基、シリコン若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０
又は１、ＸはＨ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ
素アルキル基又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａは
アルキル基、ｐは０、１または２）で表される物質を用
いると、よりすぐれた撥水撥油性の被膜を形成できる
が、これに限定されるものではなく、これ以外にも、Ｃ
Ｈ3−（ＣＨ2)r−ＳｉＸp（ＯＡ）3-pやＣＨ3−（Ｃ
Ｈ2）s−Ｏ−（ＣＨ2）t−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p，ＣＨ3
−（ＣＨ2）u−Ｓｉ（ＣＨ3）2−（ＣＨ2）v-ＳｉＸ
p（ＯＡ）3-p，ＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）w−ＳｉＸp（Ｏ
Ａ）3 -p（ここで、好ましい範囲してｒは１〜２５、ｓ
は０〜１２、ｔは１〜２０、ｕは０〜１２、ｖは１〜２
０、ｗは１〜２５を示す。ＸはＨ，アルキル基，アルコ
キシル基，含フッ素アルキル基又は含フッ素アルコキシ
基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは０、１または２）等
が使用可能である。
【００４２】より具体的な分子を挙げると、以下のもの
がある。ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，
ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＨ3（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，
ＣＨ3（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3，ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，Ｃ
Ｆ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）7−Ｃ6Ｈ6−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（Ｃ
Ｈ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＨ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ
Ｈ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＨ3（ＣＨ2）
6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3
（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）
3，ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3
ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3ＣＯＯ
（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ
2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓ
ｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7Ｃ6Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ
2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉCH3（ＯＣ
2Ｈ5）2，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉCH3（ＯＣ
Ｈ3）2，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ(CH3)2ＯＣ2Ｈ
5，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ(CH3)2ＯＣＨ3 なお、この発明の化学吸着膜の製造方法におけるアルコ
キシシラン界面活性剤の好ましい含有量は、０．１〜３
０％である。
がある。ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，
ＣＦ3ＣＨ2Ｏ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＨ3（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，
ＣＨ3（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3，ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，Ｃ
Ｆ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）7−Ｃ6Ｈ6−Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＨ3ＣＨ2Ｏ（Ｃ
Ｈ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＨ3（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｃ
Ｈ3）2（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＨ3（ＣＨ2）
6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3
（ＣＨ2）6Ｓｉ（ＣＨ3）2（ＣＨ2）9Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）
3，ＣＨ3ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3
ＣＯＯ（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3ＣＯＯ
（ＣＨ2）15Ｓｉ（ＯＣＨ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ
2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓ
ｉ（ＯＣ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7Ｃ6Ｈ6Ｓｉ（ＯＣ
2Ｈ5）3，ＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）5（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ3）3，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉCH3（ＯＣ
2Ｈ5）2，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2ＳｉCH3（ＯＣ
Ｈ3）2，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ(CH3)2ＯＣ2Ｈ
5，ＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ(CH3)2ＯＣＨ3 なお、この発明の化学吸着膜の製造方法におけるアルコ
キシシラン界面活性剤の好ましい含有量は、０．１〜３
０％である。
【００４３】また、本発明の方法におけるシラノール縮
合触媒としては、カルボン酸金属塩、カルボン酸エステ
ル金属塩、カルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金属
塩キレート、チタン酸エステル、またはチタン酸エステ
ルキレート類を利用できるが、特に、シラノール縮合触
媒として、酢酸第１錫、ジブチル錫ジラウレート、ジブ
チル錫ジオクテート、ジブチル錫ジアセテート、ジオク
チル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオ
クチル錫ジアセテート、ジオクタンサン第１錫、ナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸コバルト、２ーエチルヘキセン酸鉄
等のカルボン酸金属塩、ジオクチル錫ビスオクチリチオ
グリコール酸エステル塩、ジオクチル錫マレイン酸エス
テル塩等のカルボン酸エステル金属塩、ジブチル錫マレ
イン酸塩ポリマー、ジメチル錫メルカプトプロピオン酸
塩ポリマー等のカルボン酸金属塩ポリマー、ジブチル錫
ビスアセチルアセテート、ジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレート等のカルボン酸金属塩キレート、テトラブチル
チタネート、テトラノニルチタネート等のチタン酸エス
テル、またはビス（アセチルアセトニル）ジープロピル
チタネート等のチタン酸エステルキレート類を用いるこ
とがより好ましい。
合触媒としては、カルボン酸金属塩、カルボン酸エステ
ル金属塩、カルボン酸金属塩ポリマー、カルボン酸金属
塩キレート、チタン酸エステル、またはチタン酸エステ
ルキレート類を利用できるが、特に、シラノール縮合触
媒として、酢酸第１錫、ジブチル錫ジラウレート、ジブ
チル錫ジオクテート、ジブチル錫ジアセテート、ジオク
チル錫ジラウレート、ジオクチル錫ジオクテート、ジオ
クチル錫ジアセテート、ジオクタンサン第１錫、ナフテ
ン酸鉛、ナフテン酸コバルト、２ーエチルヘキセン酸鉄
等のカルボン酸金属塩、ジオクチル錫ビスオクチリチオ
グリコール酸エステル塩、ジオクチル錫マレイン酸エス
テル塩等のカルボン酸エステル金属塩、ジブチル錫マレ
イン酸塩ポリマー、ジメチル錫メルカプトプロピオン酸
塩ポリマー等のカルボン酸金属塩ポリマー、ジブチル錫
ビスアセチルアセテート、ジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレート等のカルボン酸金属塩キレート、テトラブチル
チタネート、テトラノニルチタネート等のチタン酸エス
テル、またはビス（アセチルアセトニル）ジープロピル
チタネート等のチタン酸エステルキレート類を用いるこ
とがより好ましい。
【００４４】特に、カルボン酸金属塩およびカルボン酸
金属塩キレート類を用いれば、安定した化学吸着膜が得
られた。なお、シラノール縮合触媒の好ましい添加量
は、界面活性剤に対して０．１〜２５％である。
金属塩キレート類を用いれば、安定した化学吸着膜が得
られた。なお、シラノール縮合触媒の好ましい添加量
は、界面活性剤に対して０．１〜２５％である。
【００４５】なお、単にアルコキシ基から脱アルコール
反応を生じさせるのであれば、シラノール縮合触媒の代
わりに鉱酸や有機酸も用いることが可能であるが、前記
の如く化学吸着液に水分が入るのは好ましくない。した
がって、利用できる触媒は前記のシラノール縮合触媒に
限定される。
反応を生じさせるのであれば、シラノール縮合触媒の代
わりに鉱酸や有機酸も用いることが可能であるが、前記
の如く化学吸着液に水分が入るのは好ましくない。した
がって、利用できる触媒は前記のシラノール縮合触媒に
限定される。
【００４６】さらに、活性水素を含まない非水系溶媒と
しては、水を含まない炭化水素系溶媒あるいはフッ化炭
素系溶媒やシリコーン系溶媒を用いることが可能である
が、特に沸点が１００〜２５０℃のものが使用し易い。
なお、石油系の溶剤の他に具体的に使用可能なものは、
石油ナフサ、ソルベントナフサ、石油エーテル、石油ベ
ンジン、イソパラフィン、ノルマルパラフィン、デカリ
ン、工業ガソリン、灯油、リグロイン、ジメチルシリコ
ーン、フェニルシリコーン、アルキル変性シリコーン、
ポリエーテルシリコーン等を挙げることができる。ま
た、フッ化炭素系溶媒には、フロン系溶媒や、フロリナ
ート（３Ｍ社製品）、アフルード（旭ガラス社製品）等
がある。なお、これらは１種単独で用いても良いし、良
く混ざるものなら２種以上を組み合わせてもよい。
しては、水を含まない炭化水素系溶媒あるいはフッ化炭
素系溶媒やシリコーン系溶媒を用いることが可能である
が、特に沸点が１００〜２５０℃のものが使用し易い。
なお、石油系の溶剤の他に具体的に使用可能なものは、
石油ナフサ、ソルベントナフサ、石油エーテル、石油ベ
ンジン、イソパラフィン、ノルマルパラフィン、デカリ
ン、工業ガソリン、灯油、リグロイン、ジメチルシリコ
ーン、フェニルシリコーン、アルキル変性シリコーン、
ポリエーテルシリコーン等を挙げることができる。ま
た、フッ化炭素系溶媒には、フロン系溶媒や、フロリナ
ート（３Ｍ社製品）、アフルード（旭ガラス社製品）等
がある。なお、これらは１種単独で用いても良いし、良
く混ざるものなら２種以上を組み合わせてもよい。
【００４７】また、本発明に使用できる基材としては、
表面に活性水素を含む、即ち水酸基（−ＯＨ）を持つ基
材、例えばＡｌ、Ｃｕ若しくはステンレス等の金属、ガ
ラス、セラミックス、紙、天然繊維、皮革その他親水性
基材が挙げられる。なお、プラスチックや合成繊維のよ
うな表面に水酸基を持たない物質であれば、予め表面を
酸素を含むプラズマ雰囲気中で、例えば１００Ｗで２０
分程度処理若しくはコロナ処理して親水性基を導入する
のが好ましい。親水性基としては、水酸基（−ＯＨ）に
限らず、活性水素を有する−ＣＯＯＨ，−ＣＨＯ，＝Ｎ
Ｈ，−ＮＨ2 等の官能基等でも良い。もっとも、ポリア
ミド樹脂やポリウレタン樹脂の場合は、表面にイミノ基
（−ＮＨ）が存在しており、このイミノ基（−ＮＨ）の
活性水素と化学吸着剤のアルコキシシリル基（−ＳｉＯ
Ａ）とが脱アルコール反応し、シロキサン結合（−Ｓｉ
Ｏ−）を形成するのでとくに表面処理を必要としない。
たとえば、基材がナイロンやポリウレタン１１の場合に
は、図２（ａ）に示したように表面にはイミノ基１２
（活性水素が含まれている）が多く露出しているのでガ
ラス板と同様の方法でに化学吸着単分子膜１３を形成で
きた（図２（ｂ））。
表面に活性水素を含む、即ち水酸基（−ＯＨ）を持つ基
材、例えばＡｌ、Ｃｕ若しくはステンレス等の金属、ガ
ラス、セラミックス、紙、天然繊維、皮革その他親水性
基材が挙げられる。なお、プラスチックや合成繊維のよ
うな表面に水酸基を持たない物質であれば、予め表面を
酸素を含むプラズマ雰囲気中で、例えば１００Ｗで２０
分程度処理若しくはコロナ処理して親水性基を導入する
のが好ましい。親水性基としては、水酸基（−ＯＨ）に
限らず、活性水素を有する−ＣＯＯＨ，−ＣＨＯ，＝Ｎ
Ｈ，−ＮＨ2 等の官能基等でも良い。もっとも、ポリア
ミド樹脂やポリウレタン樹脂の場合は、表面にイミノ基
（−ＮＨ）が存在しており、このイミノ基（−ＮＨ）の
活性水素と化学吸着剤のアルコキシシリル基（−ＳｉＯ
Ａ）とが脱アルコール反応し、シロキサン結合（−Ｓｉ
Ｏ−）を形成するのでとくに表面処理を必要としない。
たとえば、基材がナイロンやポリウレタン１１の場合に
は、図２（ａ）に示したように表面にはイミノ基１２
（活性水素が含まれている）が多く露出しているのでガ
ラス板と同様の方法でに化学吸着単分子膜１３を形成で
きた（図２（ｂ））。
【００４８】（実施例２）あらかじめ、活性水素を表面
に含む基材、例えばステンレス板２１を準備して、アル
カリ洗剤等で良く洗った後水洗して脱脂した（図３
（ａ））。次に、フルオロアルコキシシラン系界面活性
剤としてＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
を５％と、シラノール縮合触媒としてカルボン酸金属塩
キレートであるｎ−ジブチル錫ビスアセチルアセトネー
トを０．５％と、活性水素を含まない非水系溶媒として
フロリナートＦＣ−４０（３Ｍ会社製造の商品名）を９
４．５％とを混合した化学吸着液を７０℃に加熱しなが
らに前記ステンレス板２１を窒素ガス雰囲気中で１０分
間浸漬した。その後、前記吸着液から取り出し基板表面
に残った吸着液中の前記溶媒を蒸発させると図３（ｂ）
に示したように基材表面にシラノール縮合触媒を含んだ
前記フルオロアルコキシシラン系界面活性剤の被膜２２
が形成される。このとき吸着液を加熱しておくと溶媒の
蒸発時間を短くできる効果がある。その後、大気中に取
り出して室温で空気中の水分と反応させると、ステンレ
ス板表面に直接Ｓｉを介して共有結合した膜厚約５ｎｍ
の撥水撥油性のポリマー膜状の被膜２３が形成された
（図３（ｃ））。
に含む基材、例えばステンレス板２１を準備して、アル
カリ洗剤等で良く洗った後水洗して脱脂した（図３
（ａ））。次に、フルオロアルコキシシラン系界面活性
剤としてＣＦ3（ＣＦ2）9（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3
を５％と、シラノール縮合触媒としてカルボン酸金属塩
キレートであるｎ−ジブチル錫ビスアセチルアセトネー
トを０．５％と、活性水素を含まない非水系溶媒として
フロリナートＦＣ−４０（３Ｍ会社製造の商品名）を９
４．５％とを混合した化学吸着液を７０℃に加熱しなが
らに前記ステンレス板２１を窒素ガス雰囲気中で１０分
間浸漬した。その後、前記吸着液から取り出し基板表面
に残った吸着液中の前記溶媒を蒸発させると図３（ｂ）
に示したように基材表面にシラノール縮合触媒を含んだ
前記フルオロアルコキシシラン系界面活性剤の被膜２２
が形成される。このとき吸着液を加熱しておくと溶媒の
蒸発時間を短くできる効果がある。その後、大気中に取
り出して室温で空気中の水分と反応させると、ステンレ
ス板表面に直接Ｓｉを介して共有結合した膜厚約５ｎｍ
の撥水撥油性のポリマー膜状の被膜２３が形成された
（図３（ｃ））。
【００４９】さらに、このようにして形成された化学吸
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を表１に示す。表１から明らかなように、実施例２
の化学吸着ポリマー膜の製造方法で処理したものでは、
実施例１に比べて接触角はやや劣るが、表面を水を含ん
だ布で５万回繰り返し擦って洗浄した後でも、撥水・撥
油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性が高い被膜が得
られた。
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を表１に示す。表１から明らかなように、実施例２
の化学吸着ポリマー膜の製造方法で処理したものでは、
実施例１に比べて接触角はやや劣るが、表面を水を含ん
だ布で５万回繰り返し擦って洗浄した後でも、撥水・撥
油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性が高い被膜が得
られた。
【００５０】（実施例３）はじめに、基材として、アク
リル樹脂よりなるプラスチック板３１を用意し、表面を
３００Ｗ５分程度プラズマ処理して、プラスチック板の
表面を清浄にするとともに表面に活性水素を含む水酸基
３２（図４（ａ））を付与した。次に、ヘキサアルコキ
シジシロキサンの一つであるヘキサメトキシジシロキサ
ン（オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン、またはテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤でも同様の被膜が形成できる）を１
％とフロリナートＦＣ−４０（３Ｍ会社製造の商品名、
活性水素を含まないフッ化炭素非水系溶媒）を９８．７
５％とジブチル錫ジオクテート（シラノール縮合触媒）
を０．２５％含む混合溶液（化学吸着液）を作り、乾燥
雰囲気（相対湿度２５％）中で前記プラスチック板３１
表面に塗布して、乾燥雰囲気中で室温で２時間放置して
前記プラスチック板３１表面に前記ヘキサアルコキシシ
ロキサンを化学吸着させた。その後、フレオン１１３
（ダイキン社製造の商品名、フッ化炭素非水系の溶媒）
で洗浄して余分な吸着試薬を除去した後、残った未反応
のアルコキシ基を加水分解するとプラスチック板３１表
面にシロキサン結合を介して共有結合したヘキサメトキ
シシロキサンからできた化学吸着単分子膜状のシロキサ
ン系内層膜３３を形成できた（図４（ｂ））。従って、
図４（ｂ）からも明らかなように、これまでの工程でプ
ラスチック板表面には多数の水酸基（活性水素を含む）
を付与できた。
リル樹脂よりなるプラスチック板３１を用意し、表面を
３００Ｗ５分程度プラズマ処理して、プラスチック板の
表面を清浄にするとともに表面に活性水素を含む水酸基
３２（図４（ａ））を付与した。次に、ヘキサアルコキ
シジシロキサンの一つであるヘキサメトキシジシロキサ
ン（オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン、またはテトラアルコキシ
シラン系界面活性剤でも同様の被膜が形成できる）を１
％とフロリナートＦＣ−４０（３Ｍ会社製造の商品名、
活性水素を含まないフッ化炭素非水系溶媒）を９８．７
５％とジブチル錫ジオクテート（シラノール縮合触媒）
を０．２５％含む混合溶液（化学吸着液）を作り、乾燥
雰囲気（相対湿度２５％）中で前記プラスチック板３１
表面に塗布して、乾燥雰囲気中で室温で２時間放置して
前記プラスチック板３１表面に前記ヘキサアルコキシシ
ロキサンを化学吸着させた。その後、フレオン１１３
（ダイキン社製造の商品名、フッ化炭素非水系の溶媒）
で洗浄して余分な吸着試薬を除去した後、残った未反応
のアルコキシ基を加水分解するとプラスチック板３１表
面にシロキサン結合を介して共有結合したヘキサメトキ
シシロキサンからできた化学吸着単分子膜状のシロキサ
ン系内層膜３３を形成できた（図４（ｂ））。従って、
図４（ｂ）からも明らかなように、これまでの工程でプ
ラスチック板表面には多数の水酸基（活性水素を含む）
を付与できた。
【００５１】得られた単分子膜状のシロキサン系膜３３
の水の接触角を常法により測定すると３０°以下であ
り、親水性に富んでいた。したがってこの工程で終了す
れば、基材表面を親水性に処理できたことになる。
の水の接触角を常法により測定すると３０°以下であ
り、親水性に富んでいた。したがってこの工程で終了す
れば、基材表面を親水性に処理できたことになる。
【００５２】そこで、さらに前記プラスチック板３１を
第２のアルコキシシラン系界面活性剤としてＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3を５％と、シラノー
ル縮合触媒としてカルボン酸金属塩であるｎ−ジブチル
錫ジアセテートを０．１％と、活性水素を含まない非水
系溶媒としてフロリナートＦＣ−４０（３Ｍ社製）を９
４．９％とを混合した化学吸着液を作り、乾燥した雰囲
気（相対湿度３０％以下）中で室温（非水系の溶媒の沸
点以下なら、加熱しても良い。）で前記プラスチック板
３１２時間浸漬した。その後、前記吸着液から取り出し
フロリナートＦＣ−４０で良く洗浄すると、図４（ｃ）
に示したようにプラスチック板表面にシロキサン結合を
介して共有結合した化学吸着単分子膜状のＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ−）3でできた外層膜３４を
高密度に形成できた。
第２のアルコキシシラン系界面活性剤としてＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3を５％と、シラノー
ル縮合触媒としてカルボン酸金属塩であるｎ−ジブチル
錫ジアセテートを０．１％と、活性水素を含まない非水
系溶媒としてフロリナートＦＣ−４０（３Ｍ社製）を９
４．９％とを混合した化学吸着液を作り、乾燥した雰囲
気（相対湿度３０％以下）中で室温（非水系の溶媒の沸
点以下なら、加熱しても良い。）で前記プラスチック板
３１２時間浸漬した。その後、前記吸着液から取り出し
フロリナートＦＣ−４０で良く洗浄すると、図４（ｃ）
に示したようにプラスチック板表面にシロキサン結合を
介して共有結合した化学吸着単分子膜状のＣＦ3（Ｃ
Ｆ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ−）3でできた外層膜３４を
高密度に形成できた。
【００５３】さらに、このようにして形成された化学吸
着単分子累積膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で
評価した。結果を後の表１に示す。表１から明らかなよ
うに、本実施例の化学吸着膜の製造方法で処理したもの
では、表面を水を含んだ布で繰り返し擦って洗浄した後
でも、撥水・撥油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性
が高い被膜が得られた。
着単分子累積膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で
評価した。結果を後の表１に示す。表１から明らかなよ
うに、本実施例の化学吸着膜の製造方法で処理したもの
では、表面を水を含んだ布で繰り返し擦って洗浄した後
でも、撥水・撥油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性
が高い被膜が得られた。
【００５４】（実施例４）はじめに、基材として、アル
マイト処理されたアルミ板４１を用意し、良く洗浄し
た。（図５（ａ））次に、ヘキサエトキシジシロキサン
を３％とｎ−デカン（活性水素を含まない非水系溶媒）
を９６．５％とジオクチル錫ビスオクチリチオグリコー
ル酸エステル塩（シラノール縮合触媒）を０．５％含む
混合溶液（化学吸着液）を作り、窒素ガス中で前記アル
ミ板４１表面に塗布して、乾燥雰囲気中で室温で２時間
放置して前記アルミ板４１表面に前記ヘキサエトキシジ
シロキサンを化学吸着させた。その後、クロロホルム
（非水系の溶媒）で洗浄して残余の未反応吸着試薬を除
去した後表面に残った未反応のアルコキシ基を加水分解
するとアルミ板４１のアルマイト表面にシロキサン結合
を介して共有結合したヘキサエトキシジシロキサンから
できた化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜４２を
形成できた（図５（ｂ））。従って、図５（ｂ）からも
明らかなように、これまでの工程でアルミ板表面にはア
ルマイト層を介して多数の水酸基すなわち活性水素を付
与できたことになる。
マイト処理されたアルミ板４１を用意し、良く洗浄し
た。（図５（ａ））次に、ヘキサエトキシジシロキサン
を３％とｎ−デカン（活性水素を含まない非水系溶媒）
を９６．５％とジオクチル錫ビスオクチリチオグリコー
ル酸エステル塩（シラノール縮合触媒）を０．５％含む
混合溶液（化学吸着液）を作り、窒素ガス中で前記アル
ミ板４１表面に塗布して、乾燥雰囲気中で室温で２時間
放置して前記アルミ板４１表面に前記ヘキサエトキシジ
シロキサンを化学吸着させた。その後、クロロホルム
（非水系の溶媒）で洗浄して残余の未反応吸着試薬を除
去した後表面に残った未反応のアルコキシ基を加水分解
するとアルミ板４１のアルマイト表面にシロキサン結合
を介して共有結合したヘキサエトキシジシロキサンから
できた化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜４２を
形成できた（図５（ｂ））。従って、図５（ｂ）からも
明らかなように、これまでの工程でアルミ板表面にはア
ルマイト層を介して多数の水酸基すなわち活性水素を付
与できたことになる。
【００５５】次に、第２のフルオロアルコキシシラン系
界面活性剤としてＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2Ｈ5）3を５％と、シラノール縮合触媒としてカルボ
ン酸金属塩キレートであるジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレートを１％と、活性水素を含まない非水系溶媒とし
てフロリナートＦＣ−４０を９４％とを混合した化学吸
着液を７０℃に加熱して、前記アルミ板４１を窒素ガス
雰囲気中で１０分間浸漬した。その後、前記吸着液から
取り出し基板表面に残った吸着液中の前記溶媒を蒸発さ
せると基材表面にシラノール縮合触媒を含んだフルオロ
アルコキシシラン系界面活性剤の被膜が形成される。こ
のとき吸着液が加熱されていると溶媒の蒸発を速く終了
できる効果がある。その後、大気中に取り出して残って
いるアルコキシ基を空気中の水分と反応させると、ステ
ンレス板表面にシロキサン結合を介して共有結合した膜
厚約７ｎｍの撥水撥油性のポリマー膜状の被膜４３が形
成された（図５（ｃ））。
界面活性剤としてＣＦ3（ＣＦ2）7（ＣＨ2）2Ｓｉ（Ｏ
Ｃ2Ｈ5）3を５％と、シラノール縮合触媒としてカルボ
ン酸金属塩キレートであるジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレートを１％と、活性水素を含まない非水系溶媒とし
てフロリナートＦＣ−４０を９４％とを混合した化学吸
着液を７０℃に加熱して、前記アルミ板４１を窒素ガス
雰囲気中で１０分間浸漬した。その後、前記吸着液から
取り出し基板表面に残った吸着液中の前記溶媒を蒸発さ
せると基材表面にシラノール縮合触媒を含んだフルオロ
アルコキシシラン系界面活性剤の被膜が形成される。こ
のとき吸着液が加熱されていると溶媒の蒸発を速く終了
できる効果がある。その後、大気中に取り出して残って
いるアルコキシ基を空気中の水分と反応させると、ステ
ンレス板表面にシロキサン結合を介して共有結合した膜
厚約７ｎｍの撥水撥油性のポリマー膜状の被膜４３が形
成された（図５（ｃ））。
【００５６】さらに、このようにして形成された化学吸
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を後の表１に示す。表１から明らかなように、実施
例４の化学吸着膜の製造方法で処理したものでは、表面
を水を含んだ布で繰り返し擦って洗浄した後でも、撥水
・撥油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性が高い被膜
が得られた。
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を後の表１に示す。表１から明らかなように、実施
例４の化学吸着膜の製造方法で処理したものでは、表面
を水を含んだ布で繰り返し擦って洗浄した後でも、撥水
・撥油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性が高い被膜
が得られた。
【００５７】（実施例５）あらかじめ、活性水素を表面
に含む基材、例えば紙５１を準備して、良く乾燥した後
（図６（ａ））、第１のアルコキシシラン系界面活性剤
としてテトラメトキシジシランを０．５％と、シラノー
ル縮合触媒としてチタン酸エステルであるテトラブチル
チタネートを０．１％と、活性水素を含まない非水系溶
媒としてアフルードを９９．４％とを混合した化学吸着
液に前記紙５１を窒素ガス雰囲気中で室温で１０分間浸
漬した。その後、前記吸着液から取り出し紙表面に残っ
た吸着液中の前記溶媒を蒸発させると紙の繊維表面にシ
ラノール縮合触媒を含んだテトラメトキシシランの被膜
が形成された。このとき紙を加熱したり、吸着液を加熱
すると溶媒の蒸発を速く終了できる効果がある。その
後、大気中に取り出して表面に残ったメトキシ基を加水
分解させると、紙の繊維表面には図６（ｂ）に示したよ
うに水酸基が含まれているのでＳｉＯを介してテトラメ
トキシシランからできた繊維表面に共有結合した膜厚約
４ｎｍの親水性のポリシロキサン被膜５２が形成され
た。
に含む基材、例えば紙５１を準備して、良く乾燥した後
（図６（ａ））、第１のアルコキシシラン系界面活性剤
としてテトラメトキシジシランを０．５％と、シラノー
ル縮合触媒としてチタン酸エステルであるテトラブチル
チタネートを０．１％と、活性水素を含まない非水系溶
媒としてアフルードを９９．４％とを混合した化学吸着
液に前記紙５１を窒素ガス雰囲気中で室温で１０分間浸
漬した。その後、前記吸着液から取り出し紙表面に残っ
た吸着液中の前記溶媒を蒸発させると紙の繊維表面にシ
ラノール縮合触媒を含んだテトラメトキシシランの被膜
が形成された。このとき紙を加熱したり、吸着液を加熱
すると溶媒の蒸発を速く終了できる効果がある。その
後、大気中に取り出して表面に残ったメトキシ基を加水
分解させると、紙の繊維表面には図６（ｂ）に示したよ
うに水酸基が含まれているのでＳｉＯを介してテトラメ
トキシシランからできた繊維表面に共有結合した膜厚約
４ｎｍの親水性のポリシロキサン被膜５２が形成され
た。
【００５８】得られたポリマー状のシロキサン系膜５２
の水の接触角を常法により測定してみたが、親水性が高
く測定は不可能であった。したがってこの工程で終了す
れば、基材表面に多数の水酸基を付与することで基材表
面を親水性に処理できたことになる。
の水の接触角を常法により測定してみたが、親水性が高
く測定は不可能であった。したがってこの工程で終了す
れば、基材表面に多数の水酸基を付与することで基材表
面を親水性に処理できたことになる。
【００５９】そこで、さらに前記紙５１に第２のアルコ
キシシラン系界面活性剤としてＣＦ 3（ＣＦ2）7（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3を３％と、シラノール縮合触
媒としてカルボン酸金属塩であるｎ−ジブチル錫ジアセ
テートを０．１％と、活性水素を含まない非水系溶媒と
してヘキサデカンを９４．９％とを混合した化学吸着液
を窒素雰囲気中で塗布し、室温で２０分放置した。その
後、クロロホルムで良く洗浄すると、図６（ｃ）に示し
たように紙の繊維表面にポリシロキサン結合を介して共
有結合した化学吸着単分子膜状のＣＦ3（ＣＦ2）7（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（Ｏ−）3でできた外層膜５３を高密度で形
成できた。
キシシラン系界面活性剤としてＣＦ 3（ＣＦ2）7（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（ＯＣ2Ｈ5）3を３％と、シラノール縮合触
媒としてカルボン酸金属塩であるｎ−ジブチル錫ジアセ
テートを０．１％と、活性水素を含まない非水系溶媒と
してヘキサデカンを９４．９％とを混合した化学吸着液
を窒素雰囲気中で塗布し、室温で２０分放置した。その
後、クロロホルムで良く洗浄すると、図６（ｃ）に示し
たように紙の繊維表面にポリシロキサン結合を介して共
有結合した化学吸着単分子膜状のＣＦ3（ＣＦ2）7（Ｃ
Ｈ2）2Ｓｉ（Ｏ−）3でできた外層膜５３を高密度で形
成できた。
【００６０】さらに、このようにして形成された化学吸
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を表１に示す。表１から明らかなように、実施例５
の化学吸着膜の製造方法で処理したものでは、基材が紙
であり、紙の表面が凸凹であるため、極めて高い撥水撥
油性が得られるが、柔らかいため表面を水を含んだ布で
繰り返し１万回擦って洗浄すると、撥水撥油性が大幅に
劣化し固体の場合に比べて耐久性は劣っていた。
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を表１に示す。表１から明らかなように、実施例５
の化学吸着膜の製造方法で処理したものでは、基材が紙
であり、紙の表面が凸凹であるため、極めて高い撥水撥
油性が得られるが、柔らかいため表面を水を含んだ布で
繰り返し１万回擦って洗浄すると、撥水撥油性が大幅に
劣化し固体の場合に比べて耐久性は劣っていた。
【００６１】（実施例６）あらかじめ、基材としてセラ
ミックスであるアルミナ板６１を準備して、アルカリ洗
剤等で良く洗った後水洗して脱脂した（図７（ａ））。
次に、第１のアルコキシシラン系界面活性剤としてヘキ
サメトキシジシロキサンを５％と、シラノール縮合触媒
としてカルボン酸金属塩キレートであるｎ−ジブチル錫
ビスアセチルアセトネートを０．５％と、活性水素を含
まない非水系溶媒としてｎ−デカンを９４．５％とを混
合した化学吸着液を室温で前記アルミナ板６１の表面に
塗布し、３０分放置した。その後、基板表面に残った吸
着液中の前記溶媒を蒸発させると基材表面にシラノール
縮合触媒を含んだヘキサエトキシジシロキサンの被膜が
形成される。このとき吸着液が加熱されていると溶媒の
蒸発を速く終了できる効果がある。その後、大気中に取
り出して表面に残ったメトキシ基を加水分解させると、
アルミナ板表面に直接Ｓｉを介して共有結合した膜厚約
５ｎｍの親水性のポリシロキサン被膜６２が形成された
（図７（ｂ））。
ミックスであるアルミナ板６１を準備して、アルカリ洗
剤等で良く洗った後水洗して脱脂した（図７（ａ））。
次に、第１のアルコキシシラン系界面活性剤としてヘキ
サメトキシジシロキサンを５％と、シラノール縮合触媒
としてカルボン酸金属塩キレートであるｎ−ジブチル錫
ビスアセチルアセトネートを０．５％と、活性水素を含
まない非水系溶媒としてｎ−デカンを９４．５％とを混
合した化学吸着液を室温で前記アルミナ板６１の表面に
塗布し、３０分放置した。その後、基板表面に残った吸
着液中の前記溶媒を蒸発させると基材表面にシラノール
縮合触媒を含んだヘキサエトキシジシロキサンの被膜が
形成される。このとき吸着液が加熱されていると溶媒の
蒸発を速く終了できる効果がある。その後、大気中に取
り出して表面に残ったメトキシ基を加水分解させると、
アルミナ板表面に直接Ｓｉを介して共有結合した膜厚約
５ｎｍの親水性のポリシロキサン被膜６２が形成された
（図７（ｂ））。
【００６２】次にアルコキシシラン系界面活性剤として
フッ化炭素基を含むＣＦ3（ＣＦ2） 7（ＣＨ2）2Ｓｉ
（ＯＣ2Ｈ5）3を５％と、シラノール縮合触媒としてカ
ルボン酸金属塩キレートであるジオクチル錫ビスアセチ
ルラウレートを１％と、活性水素を含まない非水系溶媒
としてフロリナートＦＣ−４０を９４％とを混合した化
学吸着液に７０℃に加熱しながらに前記アルミ板６１を
窒素ガス雰囲気中で１０分間浸漬した。その後、前記吸
着液から取り出し基板表面に残った吸着液中の前記溶媒
を蒸発させると基材表面にシラノール縮合触媒を含んだ
フルオロアルコキシシラン系界面活性剤の被膜が形成さ
れる。このとき吸着液が加熱されていると溶媒の蒸発を
速く終了できる効果がある。その後、大気中に取り出し
て空気中の水分と反応させると、アルミナ板表面にポリ
シロキサン結合を介して共有結合した膜厚約６ｎｍの撥
水撥油性のポリマー膜状のアルコキシシラン界面活性剤
でできた被膜６３が形成された（図７（ｃ））。
フッ化炭素基を含むＣＦ3（ＣＦ2） 7（ＣＨ2）2Ｓｉ
（ＯＣ2Ｈ5）3を５％と、シラノール縮合触媒としてカ
ルボン酸金属塩キレートであるジオクチル錫ビスアセチ
ルラウレートを１％と、活性水素を含まない非水系溶媒
としてフロリナートＦＣ−４０を９４％とを混合した化
学吸着液に７０℃に加熱しながらに前記アルミ板６１を
窒素ガス雰囲気中で１０分間浸漬した。その後、前記吸
着液から取り出し基板表面に残った吸着液中の前記溶媒
を蒸発させると基材表面にシラノール縮合触媒を含んだ
フルオロアルコキシシラン系界面活性剤の被膜が形成さ
れる。このとき吸着液が加熱されていると溶媒の蒸発を
速く終了できる効果がある。その後、大気中に取り出し
て空気中の水分と反応させると、アルミナ板表面にポリ
シロキサン結合を介して共有結合した膜厚約６ｎｍの撥
水撥油性のポリマー膜状のアルコキシシラン界面活性剤
でできた被膜６３が形成された（図７（ｃ））。
【００６３】さらに、このようにして形成された化学吸
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を表１に示す。表１から明らかなように、実施例６
の化学吸着膜の製造方法で処理したものでは、表面を水
を含んだ布で５万回繰り返し擦って洗浄した後でも、撥
水・撥油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性が高い被
膜が得られた。
着膜の撥水撥油性を実施例１と同様の方法で評価した。
結果を表１に示す。表１から明らかなように、実施例６
の化学吸着膜の製造方法で処理したものでは、表面を水
を含んだ布で５万回繰り返し擦って洗浄した後でも、撥
水・撥油性はほとんど劣化せず、極めて耐久性が高い被
膜が得られた。
【００６４】（比較例１）実施例１の化学吸着液でジ−
ｎ−ブチル錫ジアセテートを除き、実施例１と同様の実
験をした。処理結果を第１表に示す。なお、本比較例の
ようにアルコキシシラン系の物質のみを用いた場合に
は、５万回擦ると形成された被膜の耐久性がほとんど無
かった。
ｎ−ブチル錫ジアセテートを除き、実施例１と同様の実
験をした。処理結果を第１表に示す。なお、本比較例の
ようにアルコキシシラン系の物質のみを用いた場合に
は、５万回擦ると形成された被膜の耐久性がほとんど無
かった。
【００６５】（比較例２）実施例４の化学吸着液でシラ
ノール縮合触媒であるジオクチル錫ビスオクチリチオグ
リコール酸エステル塩よびジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレートを除き、実施例４と同様に実験をした。処理結
果を第１表に示す。なお、比較例１と同様に形成された
被膜の耐久性はほとんど無かった。
ノール縮合触媒であるジオクチル錫ビスオクチリチオグ
リコール酸エステル塩よびジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレートを除き、実施例４と同様に実験をした。処理結
果を第１表に示す。なお、比較例１と同様に形成された
被膜の耐久性はほとんど無かった。
【００６６】
【表１】
【００６７】表１から明らかなように、本発明の化学吸
着膜の製造方法で処理したものでは、表面を水を含んだ
布で繰り返し擦って洗浄した後でも、撥水・撥油性を保
持していたが、比較例１、２では撥水・撥油性がやや悪
く、耐久テスト後はほとんどなくなっていた。このこと
は、シラノール縮合触媒添加の効果が絶大であることを
示している。
着膜の製造方法で処理したものでは、表面を水を含んだ
布で繰り返し擦って洗浄した後でも、撥水・撥油性を保
持していたが、比較例１、２では撥水・撥油性がやや悪
く、耐久テスト後はほとんどなくなっていた。このこと
は、シラノール縮合触媒添加の効果が絶大であることを
示している。
【００６８】
【発明の効果】以上説明した通り、前記本発明の方法に
よれば、活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜を形成
する方法において、少なくともアルコキシシラン系界面
活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノー
ル縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させ
て、前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合し
た化学吸着膜を形成することにより、膜製造時に有害な
塩酸ガスが発生せず、反応速度も実用的に十分である化
学吸着膜の製造方法を実現できる。
よれば、活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜を形成
する方法において、少なくともアルコキシシラン系界面
活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノー
ル縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させ
て、前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合し
た化学吸着膜を形成することにより、膜製造時に有害な
塩酸ガスが発生せず、反応速度も実用的に十分である化
学吸着膜の製造方法を実現できる。
【００６９】また前記本発明の化学吸着液によれば、化
学吸着膜の製造方法に有用な化学吸着液を提供できる。
本発明の方法を用いて、少なくともアルコキシシラン系
界面活性剤と活性水素を含まない非水系溶媒とシラノー
ル縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触させて
前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合した化
学吸着膜を製造する。あるいは、活性水素を含む基材の
表面に化学吸着膜を形成する方法において、少なくとも
ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、またはテ
トラアルコキシシラン界面活性剤と活性水素を含まない
非水系溶媒とシラノール縮合触媒を含む混合溶液を前記
基材表面に接触させて前記基材表面にシロキサン結合を
介して共有結合したシロキサン系化学吸着膜よりなる内
層膜を形成する工程と、少なくとも第２のアルコキシシ
ラン系界面活性剤と活性水素を含まない非水系溶媒とシ
ラノール縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触
させて前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合
した前記アルコキシシラン系界面活性剤でできた化学吸
着膜よりなる外層膜を形成する工程を含み２層構造の化
学吸着膜を製造すれば、少なくともアルコキシシリル基
を一個有する物質がＳｉ原子を介して基材表面に化学吸
着して共有結合で固定された超薄膜が基材表面に安全に
しかも簡単に形成できる。つまり、従来のように膜製造
時に有害な塩酸ガスが発生することなく、プラスチッ
ク、セラミックス、ガラス、その他各種材料にも、効率
よく保護膜を形成できる効果がある。
学吸着膜の製造方法に有用な化学吸着液を提供できる。
本発明の方法を用いて、少なくともアルコキシシラン系
界面活性剤と活性水素を含まない非水系溶媒とシラノー
ル縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触させて
前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合した化
学吸着膜を製造する。あるいは、活性水素を含む基材の
表面に化学吸着膜を形成する方法において、少なくとも
ジアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、またはテ
トラアルコキシシラン界面活性剤と活性水素を含まない
非水系溶媒とシラノール縮合触媒を含む混合溶液を前記
基材表面に接触させて前記基材表面にシロキサン結合を
介して共有結合したシロキサン系化学吸着膜よりなる内
層膜を形成する工程と、少なくとも第２のアルコキシシ
ラン系界面活性剤と活性水素を含まない非水系溶媒とシ
ラノール縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触
させて前記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合
した前記アルコキシシラン系界面活性剤でできた化学吸
着膜よりなる外層膜を形成する工程を含み２層構造の化
学吸着膜を製造すれば、少なくともアルコキシシリル基
を一個有する物質がＳｉ原子を介して基材表面に化学吸
着して共有結合で固定された超薄膜が基材表面に安全に
しかも簡単に形成できる。つまり、従来のように膜製造
時に有害な塩酸ガスが発生することなく、プラスチッ
ク、セラミックス、ガラス、その他各種材料にも、効率
よく保護膜を形成できる効果がある。
【００７０】したがって、エレクトロニクス製品、特に
電化製品、自動車、産業機器、鏡、眼鏡レンズ等の耐熱
性、耐候性、耐摩耗性超薄膜コーティングを必要とする
機器に極めて容易に適用できる効果がある。
電化製品、自動車、産業機器、鏡、眼鏡レンズ等の耐熱
性、耐候性、耐摩耗性超薄膜コーティングを必要とする
機器に極めて容易に適用できる効果がある。
【００７１】なおこのとき、シラノール縮合触媒を失活
させないためには、処理雰囲気及び吸着液中の水分をで
きるだけ少なくしておくことが肝要である。
させないためには、処理雰囲気及び吸着液中の水分をで
きるだけ少なくしておくことが肝要である。
【図１】 本発明の第１の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
【図２】 本発明の第１の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
【図３】 本発明の第２の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
【図４】 本発明の第３の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
【図５】 本発明の第４の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
【図６】 本発明の第５の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
【図７】 本発明の第６の実施例における表面処理工程
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
を説明するためのもので、基材表面を分子レベルまで拡
大した模式断面図である。
１ ガラス板 ２ 水酸（ＯＨ）基 ３ 化学吸着単分子膜 １１ ナイロン板 １２ イミノ基 １３ 化学吸着単分子膜 ２１ ステンレス板 ２２ 界面活性剤の被膜 ２３ ポリマー状の被膜 ３１ アクリル板 ３２ 水酸基 ３３ シロキサン単分子膜 ３４ フロロシラン系単分子膜 ４１ アルミ板 ４２ シロキサン単分子膜 ４３ フロロシラン系ポリマー膜 ５１ 紙の繊維 ５２ ポリシロキサン膜 ５３ フロロシラン系単分子膜 ６１ アルミナ板 ６２ ポリシロキサン膜 ６３ フロロシラン系ポリマー膜
Claims (26)
- 【請求項１】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、少なくともアルコキシシラン
系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シ
ラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接
触させて、前記基材表面にシロキサン結合を介して共有
結合した化学吸着膜を形成することを特徴とする化学吸
着膜の製造方法。 - 【請求項２】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、少なくともアルコキシシラン
系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シ
ラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接
触させ、前記基材表面に前記界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次いで非水系の溶媒で洗
浄することにより、基材表面にシロキサン結合を介して
共有結合した前記界面活性剤分子よりなる単分子膜状の
被膜を形成する請求項１に記載の化学吸着膜の製造方
法。 - 【請求項３】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、少なくともアルコキシシラン
系界面活性剤と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シ
ラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接
触させて、前記基材表面に前記界面活性剤をシロキサン
結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒を蒸発さ
せた後、水と反応させることにより、基材表面にシロキ
サン結合を介して共有結合したポリマー膜状の被膜を形
成する請求項１に記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項４】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキサ
ン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシラ
ンから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、前
記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合したシロ
キサン系化学吸着膜よりなる内層膜を形成し、次いで第
２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水素を含ま
ない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む混合溶液
を、前記基材表面の内層膜に接触させて、前記内層膜表
面にシロキサン結合を介して共有結合した前記第２のア
ルコキシシラン系界面活性剤分子の化学吸着膜よりなる
外層膜を形成することを特徴とする化学吸着膜の製造方
法。 - 【請求項５】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキサ
ン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシラ
ンから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、前
記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン
結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄す
ることにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結
合した化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜を形成
し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活
性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を
含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させて、前
記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄
することにより前記基材表面にシロキサン結合を介して
共有結合した化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコキ
シシラン系界面活性剤分子の外層膜を形成する請求項４
に記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項６】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキサ
ン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシラ
ンから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触させ、前記基
材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン結合
を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄するこ
とにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結合し
た化学吸着単分子膜状のシロキサン系内層膜を形成し、
次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、活性水
素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を含む
混合溶液を前記基材表面に接触させて、前記基材表面に
前記界面活性剤分子をシロキサン結合を介して共有結合
させ、前記非水系の溶媒を蒸発させた後、表面に残った
第２のアルコキシシラン系界面活性剤のアルコキシ基を
水と反応させることにより、基材表面にシロキサン結合
を介して共有結合したポリマー膜状の前記第２のアルコ
キシシラン系界面活性剤分子の化学吸着膜よりなる外層
膜を形成する請求項４に記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項７】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキサ
ン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシラ
ン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラン系
界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラ
ノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触
させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤をシロキ
サン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒を蒸
発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコキシ
基を水と反応させることにより、基材表面にシロキサン
結合を介して共有結合したポリシロキサン系内層膜を形
成し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤と、
活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒
を含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させて前
記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子をシロキサ
ン結合を介して共有結合させ、次いで非水系の溶媒で洗
浄することにより前記基材表面にシロキサン結合を介し
て共有結合した化学吸着単分子膜状の前記第２のアルコ
キシシラン系界面活性剤分子の外層膜を形成する請求項
４に記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項８】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキサ
ン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシラ
ン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラン系
界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラ
ノール縮合触媒を含む混合溶液を前記基材表面に接触さ
せ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロ
キサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒を
蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコキ
シ基を水と反応させることにより、基材表面にシロキサ
ン結合を介して共有結合したポリシロキサン系内層膜を
形成し、次いで第２のアルコキシシラン系界面活性剤
と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を前記基材表面の内層膜に接触させ
て、前記界面活性剤分子をシロキサン結合を介して共有
結合させ、前記非水系の溶媒を蒸発させた後、表面に残
った第２のアルコキシシラン界面活性剤分子のアルコキ
シ基を水と反応させることにより、基材表面の内層膜表
面にシロキサン結合を介して共有結合したポリマー膜状
の前記第２のアルコキシシラン系界面活性剤分子の化学
吸着膜よりなる外層膜を形成する請求項４に記載の化学
吸着膜の製造方法。 - 【請求項９】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着膜
を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキサ
ン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシシ
ラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシラ
ンから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、前
記基材表面にシロキサン結合を介して共有結合したシロ
キサン系化学吸着膜を形成することを特徴とする化学吸
着膜の製造方法。 - 【請求項１０】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着
膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキ
サン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシ
シラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシ
ランから選ばれる少なくとも一つのシラン系界面活性剤
と、活性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合
触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接触させて、前
記基材表面に前記シラン系界面活性剤分子をシロキサン
結合を介して共有結合させ、次に非水系の溶媒で洗浄す
ることにより基材表面にシロキサン結合を介して共有結
合した化学吸着単分子膜状のシロキサン系膜を形成する
ことを特徴とする請求項９に記載の化学吸着膜の製造方
法。 - 【請求項１１】 活性水素を含む基材の表面に化学吸着
膜を形成する方法において、ヘキサアルコキシジシロキ
サン、オクタアルコキシトリシロキサン、ジアルコキシ
シラン、トリアルコキシシラン及びテトラアルコキシシ
ラン系界面活性剤から選ばれる少なくとも一つのシラン
系界面活性剤と、活性水素を持たない非水系溶媒と、シ
ラノール縮合触媒を含む混合溶液を、前記基材表面に接
触させ、前記基材表面に前記シラン系界面活性剤をシロ
キサン結合を介して共有結合させ、前記非水系の溶媒を
蒸発させた後、表面に残った界面活性剤分子のアルコキ
シ基を水と反応させることにより、基材表面にシロキサ
ン結合を介して共有結合したポリシロキサン系膜を形成
することを特徴とする請求項９に記載の化学吸着膜の製
造方法。 - 【請求項１２】 シラノール縮合触媒が、カルボン酸金
属塩、カルボン酸エステル金属塩、カルボン酸金属塩ポ
リマー、カルボン酸金属塩キレート、チタン酸エステル
及びチタン酸エステルキレート類から選ばれる少なくと
も一つの物質である請求項１〜１１のいずれかに記載の
化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項１３】 シラノール縮合触媒が、酢酸第１錫、
ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジ
ブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジ
オクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジアセテート、
ジオクタン酸第１錫、ナフテン酸鉛、ナフテン酸コバル
ト、２−エチルヘキセン酸鉄、ジオクチル錫ビスオクチ
リチオグリコール酸エステル塩、ジオクチル錫マレイン
酸エステル塩、ジブチル錫マレイン酸塩ポリマー、ジメ
チル錫メルカプトプロピオン酸塩ポリマー、ジブチル錫
ビスアセチルアセテート、ジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレート、テトラブチルチタネート、テトラノニルチタ
ネート及びビス（アセチルアセトニル）ジープロピルチ
タネートから選ばれる少なくとも一つである請求項１〜
１２のいずれかに記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項１４】 アルコキシシラン界面活性剤が、フッ
化炭素基を含む請求項１〜１３のいずれかに記載の化学
吸着膜の製造方法。 - 【請求項１５】 フッ化炭素基を含むアルコキシシラン
界面活性剤が、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−（Ｒ）m−ＳｉＸp
（ＯＡ）3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、
ビニレン基、エチニレン基、、アリーレン基、シリコン
若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、
ｐは０、１または２）、またはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）
w−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，
アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基又は
含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは
０、１または２）で表される物質である請求項１４に記
載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項１６】 基材が、金属、セラミックス、ガラ
ス、プラスチック、紙、繊維及び皮革から選ばれる少な
くとも一つである請求項１〜１５のいずれかに記載の化
学吸着膜の製造方法。 - 【請求項１７】 プラスチックまたは繊維が、予め表面
を酸素を含むプラズマまたはコロナ雰囲気で処理して親
水性化したものである請求項１６に記載の化学吸着膜の
製造方法。 - 【請求項１８】 非水系の溶媒が、水を含まない炭化水
素系溶媒またはフッ化炭素系溶媒である請求項１〜１７
のいずれかに記載の化学吸着膜の製造方法。 - 【請求項１９】 アルコキシシラン系界面活性剤と、活
性水素を含まない非水系溶媒と、シラノール縮合触媒を
少なくとも含む混合溶液である化学吸着液。 - 【請求項２０】 シラノール縮合触媒が、カルボン酸金
属塩、カルボン酸エステル金属塩、カルボン酸金属塩ポ
リマー、カルボン酸金属塩キレート、チタン酸エステル
及びチタン酸エステルキレート類から選ばれる少なくと
も一つの物質である請求項１９に記載の化学吸着液。 - 【請求項２１】 シラノール縮合触媒が、酢酸第１錫、
ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジオクテート、ジ
ブチル錫ジアセテート、ジオクチル錫ジラウレート、ジ
オクチル錫ジオクテート、ジオクチル錫ジアセテート、
ジオクタン酸第１錫、ナフテン酸鉛、ナフテン酸コバル
ト、２−エチルヘキセン酸鉄、ジオクチル錫ビスオクチ
リチオグリコール酸エステル塩、ジオクチル錫マレイン
酸エステル塩、ジブチル錫マレイン酸塩ポリマー、ジメ
チル錫メルカプトプロピオン酸塩ポリマー、ジブチル錫
ビスアセチルアセテート、ジオクチル錫ビスアセチルラ
ウレート、テトラブチルチタネート、テトラノニルチタ
ネート及びビス（アセチルアセトニル）ジープロピルチ
タネートから選ばれる少なくとも一つである請求項１９
に記載の化学吸着液。 - 【請求項２２】 アルコキシシラン界面活性剤がフッ化
炭素基を含む請求項１９、２０または２１に記載の化学
吸着液。 - 【請求項２３】 フッ化炭素基を含むアルコキシシラン
界面活性剤が、ＣＦ3−（ＣＦ2）n−（Ｒ）m−ＳｉＸp
（ＯＡ）3-p（ｎは０または整数、Ｒはアルキレン基、
ビニレン基、エチニレン基、、アリーレン基、シリコン
若しくは酸素原子を含む置換基、ｍは０又は１、Ｘは
Ｈ，アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基
又は含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、
ｐは０、１または２）、またはＣＦ3ＣＯＯ−（ＣＨ2）
w−ＳｉＸp（ＯＡ）3-p（ここで、ｗは整数、ＸはＨ，
アルキル基，アルコキシル基，含フッ素アルキル基又は
含フッ素アルコキシ基の置換基、Ａはアルキル基、ｐは
０、１または２）で表される物質である請求項２２に記
載の化学吸着液。 - 【請求項２４】 非水系の溶媒が、水を含まない炭化水
素系溶媒またはフッ化炭素系溶媒である請求項１９〜２
３のいずれかに記載の化学吸着液。 - 【請求項２５】 混合溶液の水分率が１０ｐｐｍ以下で
ある請求項１または１９に記載の化学吸着膜の製造方法
及びこれに用いる化学吸着液。 - 【請求項２６】 混合溶液を１００重量％としたとき、
アルコキシシラン系界面活性剤の存在量が０．１〜３０
重量％、シラノール縮合触媒の存在量が０．０００１〜
７．５重量％、活性水素を含まない非水系溶媒の存在量
が６２．５〜９９．８９９９重量％の範囲である請求項
１または１９に記載の化学吸着膜の製造方法及びこれに
用いる化学吸着液。
Priority Applications (11)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7147851A JPH08337654A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
| TW085106943A TW383335B (en) | 1995-06-14 | 1996-06-10 | A method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| US08/661,734 US5849369A (en) | 1995-06-14 | 1996-06-11 | Method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| EP96109503A EP0748658B1 (en) | 1995-06-14 | 1996-06-13 | A method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| KR1019960021129A KR0180819B1 (ko) | 1995-06-14 | 1996-06-13 | 화학흡착막의 제조방법 및 이것에 사용되는 화학흡착액 |
| CA002179120A CA2179120C (en) | 1995-06-14 | 1996-06-13 | A method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| DE69623696T DE69623696T2 (de) | 1995-06-14 | 1996-06-13 | Verfahren zur Herstellung eines chemisch adsorbierten Films und Lösung eines chemischen Adsorbens für dieses Verfahren |
| US09/119,252 US5907013A (en) | 1995-06-14 | 1998-07-20 | Method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| US09/119,471 US6060123A (en) | 1995-06-14 | 1998-07-20 | Method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| US09/487,798 US6280517B1 (en) | 1995-06-14 | 2000-01-20 | Method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
| US09/770,201 US6548116B2 (en) | 1995-06-14 | 2001-01-29 | Method for manufacturing a chemically adsorbed film and a chemical adsorbent solution for the method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7147851A JPH08337654A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08337654A true JPH08337654A (ja) | 1996-12-24 |
Family
ID=15439699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7147851A Pending JPH08337654A (ja) | 1995-06-14 | 1995-06-14 | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (5) | US5849369A (ja) |
| EP (1) | EP0748658B1 (ja) |
| JP (1) | JPH08337654A (ja) |
| KR (1) | KR0180819B1 (ja) |
| CA (1) | CA2179120C (ja) |
| DE (1) | DE69623696T2 (ja) |
| TW (1) | TW383335B (ja) |
Cited By (44)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08337757A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表面処理剤及びその使用方法 |
| WO1999025487A1 (fr) * | 1997-11-18 | 1999-05-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede de production d'un film monomoleculaire de chimisorption, procedes de production de films d'alignement de cristaux liquides et ecrans d'affichage comprenant le film de chimisorption |
| JP2003521594A (ja) * | 2000-02-04 | 2003-07-15 | エスシーエー・ハイジーン・プロダクツ・アーベー | 繊維構造体及び前記繊維構造体を含む吸収物品 |
| JP2004527004A (ja) * | 2001-05-11 | 2004-09-02 | ボシュ・アンド・ロム・インコーポレイテッド | 眼内レンズをパッシベートする方法 |
| WO2004091810A1 (ja) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜製造方法 |
| WO2006009202A1 (ja) * | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜形成方法、有機薄膜形成用補助剤及び有機薄膜形成用溶液 |
| WO2006070857A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Nippon Soda Co., Ltd. | 剥離層を有する成形用金型又は電鋳用母型 |
| JP2007118276A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Kagawa Univ | 単層微粒子膜と累積微粒子膜およびそれらの製造方法。 |
| JP2007129079A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Kagawa Univ | 磁性微粒子とその製造方法およびそれらを用いた磁石とその製造方法 |
| JP2007137793A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 薬剤とその製造方法 |
| JP2007142004A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 配置制御されたパターン状の単層絶縁性微粒子膜と絶縁性微粒子累積膜およびそれらの製造方法 |
| JP2007142006A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 絶縁体微粒子膜とその製造方法及びそれを用いたコンデンサー |
| JP2007142005A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 保護膜とその製造方法 |
| JP2007161748A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Kagawa Univ | 蛍光体微粒子とその製造方法及びそれらを用いた蛍光体被膜 |
| JP2007161749A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Kagawa Univ | パターン状の蛍光体微粒子膜およびその製造方法。 |
| JP2007160519A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Kagawa Univ | 単層蛍光体微粒子膜と蛍光体微粒子膜積層体およびそれらの製造方法とそれらを用いた表示装置と感光体とセンサー |
| KR100796964B1 (ko) * | 2003-04-15 | 2008-01-22 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기박막 제조방법 |
| WO2008016029A1 (fr) * | 2006-07-31 | 2008-02-07 | Nippon Soda Co., Ltd. | procédé de fabrication d'une couche mince organique par l'utilisation d'un procédé d'amélioration des propriétés physiques du film |
| WO2008059840A1 (fr) | 2006-11-13 | 2008-05-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procédé de formation d'un film mince organique |
| WO2008068873A1 (en) * | 2006-12-08 | 2008-06-12 | Kazufumi Ogawa | Monolayer nanoparticle film, multilayer nanoparticle film, and manufacturing method thereof |
| JP2008137306A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Kazufumi Ogawa | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 |
| JPWO2006087986A1 (ja) * | 2005-02-15 | 2008-07-03 | 日本曹達株式会社 | チタン酸化物粒子の分散液、チタン酸化物薄膜、有機機能膜形成用溶液、有機機能膜形成基体及びその製造方法 |
| US7422642B2 (en) | 2002-03-12 | 2008-09-09 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for preparing chemical adsorption film and solution for preparing chemical adsorption film used in the method |
| JP2008258226A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-10-23 | Kagawa Univ | 光センサーおよびその製造方法 |
| JP2008258223A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-10-23 | Kagawa Univ | 太陽電池およびその製造方法 |
| WO2008139633A1 (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Kazufumi Ogawa | Patterned single layer insulating particle film and insulating particle accumulation film where their arrangements are controlled, and method of manufacturing them |
| WO2008139634A1 (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Kazufumi Ogawa | Insulant fine particle film, a method of manufacturing the same, and a capacitor made thereof |
| WO2008143064A1 (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-27 | Kazufumi Ogawa | 撥水撥油防汚性表面を有する部材とその撥水撥油防汚性表面の製造方法 |
| CN100451054C (zh) * | 2003-04-15 | 2009-01-14 | 日本曹达株式会社 | 有机薄膜制造方法 |
| WO2009013904A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜の基材への作製方法 |
| JP2009054958A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Kagawa Univ | 磁性流体とその製造方法並びに磁性流体を用いた磁性流体軸受装置及び磁気シール装置 |
| WO2009104424A1 (ja) | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| KR20110074462A (ko) | 2009-12-24 | 2011-06-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 고체 재료의 표면 처리 방법 |
| WO2013057945A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 日本曹達株式会社 | 表面被覆処理した無機粉体 |
| JP2014051595A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Nippon Soda Co Ltd | 有機無機複合薄膜の製造方法 |
| JP2015511174A (ja) * | 2012-02-28 | 2015-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素シラン系膜を有する物品の製造方法 |
| JP5724021B1 (ja) * | 2014-06-25 | 2015-05-27 | アイシン軽金属株式会社 | 高耐アルカリ性アルミニウム部材及びその製造方法 |
| KR20150111371A (ko) | 2010-11-11 | 2015-10-05 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기 박막 형성용 고형물 또는 유상물을 사용한 유기 박막 적층체 제조 방법 |
| WO2015159371A1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-10-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 被覆膜、被覆膜の形成方法ならびに発光ダイオードデバイス |
| JP2016016641A (ja) * | 2014-07-10 | 2016-02-01 | 日本曹達株式会社 | 機能性を有する積層体 |
| WO2016063463A1 (ja) * | 2014-10-21 | 2016-04-28 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
| JP2016140989A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 断熱フィルム、断熱ガラスおよび窓 |
| WO2018043305A1 (ja) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | Jsr株式会社 | 基材表面の選択的修飾方法及び組成物 |
| JP2019104723A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-27 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | ヒドロカルビルオキシジシラン |
Families Citing this family (52)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08337654A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
| GB9606182D0 (en) * | 1996-03-23 | 1996-05-29 | Horsell Graphic Ind Ltd | Production of water-less lithographic plates |
| TW515926B (en) * | 1996-07-10 | 2003-01-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal alignment film and method for producing the same, and liquid crystal display apparatus using the same and method for producing the same |
| TW470861B (en) * | 1996-08-26 | 2002-01-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Chemical adsorption film, method of manufacturing the same, and chemical absorption solution used for the same |
| FI101990B1 (fi) * | 1996-11-22 | 1998-09-30 | Enso Oy | Kuumennettava elintarvikevuoka ja sen valmistusmenetelmä |
| US6112388A (en) | 1997-07-07 | 2000-09-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Embossed metallic flakelets and method for producing the same |
| US6168100B1 (en) | 1997-10-23 | 2001-01-02 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Method for producing embossed metallic flakelets |
| US6517401B1 (en) | 1997-11-18 | 2003-02-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Process for the production of monomolecular chemisorption film, and processes for the production of liquid crystal alignment films and liquid crystal displays by using the chemisorption film |
| JPH11300829A (ja) | 1998-04-22 | 1999-11-02 | Toyota Motor Corp | エンボス模様付き金属薄膜の製造方法 |
| JP3667987B2 (ja) * | 1998-05-14 | 2005-07-06 | 亀谷産業株式会社 | マーキングが施されたゴルフボール及びゴルフボールへのマーキング方法 |
| US6328699B1 (en) * | 2000-01-11 | 2001-12-11 | Cedars-Sinai Medical Center | Permanently implantable system and method for detecting, diagnosing and treating congestive heart failure |
| EP1257367A4 (en) * | 2000-02-08 | 2005-01-26 | Adsil Lc | METHOD FOR INCREASING THE THERMAL EFFICIENCY THROUGH THE USE OF SILANE COATINGS AND COATED ARTICLES |
| DE10006270B4 (de) * | 2000-02-12 | 2006-07-20 | Bayerische Motoren Werke Ag | Lackierverfahren und damit hergestelltes Metallbauteil |
| US6686522B2 (en) | 2000-06-22 | 2004-02-03 | Shinko Corporation | Musical instrument with a body made of polyurethane foam |
| US6730420B1 (en) | 2000-10-31 | 2004-05-04 | Komag, Inc. | Magnetic thin film recording media having extremely low noise and high thermal stability |
| US6765136B2 (en) * | 2002-01-16 | 2004-07-20 | Gibson Guitar Corp. | Hydrophobic polymer string treatment |
| US8100844B2 (en) * | 2002-04-25 | 2012-01-24 | Ultraflex Systems, Inc. | Ambulating ankle and knee joints with bidirectional dampening and assistance using elastomeric restraint |
| WO2003090651A1 (en) * | 2002-04-25 | 2003-11-06 | Ultraflex Systems, Inc. | Ambulating knee joint |
| US7200158B2 (en) * | 2002-06-24 | 2007-04-03 | Honeywell International | Clock synchronizing method over fault-tolerant Ethernet |
| JP2007523959A (ja) | 2003-06-23 | 2007-08-23 | チューリッヒ大学 | 超疎水性コーティング |
| US20050089694A1 (en) * | 2003-10-27 | 2005-04-28 | Moffatt William A. | Silane coated substrate |
| US7147634B2 (en) | 2005-05-12 | 2006-12-12 | Orion Industries, Ltd. | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
| US8814861B2 (en) | 2005-05-12 | 2014-08-26 | Innovatech, Llc | Electrosurgical electrode and method of manufacturing same |
| US8075995B2 (en) | 2006-03-30 | 2011-12-13 | Becton, Dickinson And Company | Coating system, articles and assembly using the same and methods of reducing sticktion |
| US7943242B2 (en) * | 2006-03-30 | 2011-05-17 | Becton, Dickinson And Company | Sealing members, articles using the same and methods of reducing sticktion |
| US7807219B2 (en) * | 2006-06-27 | 2010-10-05 | Lam Research Corporation | Repairing and restoring strength of etch-damaged low-k dielectric materials |
| ES2431669T3 (es) * | 2006-09-15 | 2013-11-27 | Becton, Dickinson & Company | Componentes médicos que tienen superficies recubiertas que presentan baja fricción y métodos para reducir la adherencia |
| US20080069970A1 (en) * | 2006-09-15 | 2008-03-20 | Becton, Dickinson And Company | Medical Components Having Coated Surfaces Exhibiting Low Friction and Methods of Reducing Sticktion |
| WO2008136132A1 (en) * | 2007-05-01 | 2008-11-13 | Kazufumi Ogawa | Magnetic fine particles and production method therefor, and magnet using the same and production method therefore |
| JP2008282750A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Kagawa Gakusei Venture:Kk | 撥水撥油防汚性表面を有する着氷着雪防止アンテナ及び電線、碍子とその製造方法。 |
| JP2008282751A (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Kagawa Gakusei Venture:Kk | 着氷着雪防止碍子及び電線、アンテナとその製造方法およびそれを用いた送電鉄塔 |
| US9180206B2 (en) * | 2007-05-14 | 2015-11-10 | Empire Technology Development Llc | Pharmaceutical preparation and manufacturing method thereof |
| US20100183861A1 (en) * | 2007-12-27 | 2010-07-22 | Kazufumi Ogawa | Light-reflection coating composition and films |
| US8623127B2 (en) * | 2008-02-18 | 2014-01-07 | Empire Technology Development Llc | Metal mold, process for manufacturing the same, and molded article produced using the mold |
| JP5296875B2 (ja) * | 2008-09-19 | 2013-09-25 | カーディアック ペースメイカーズ， インコーポレイテッド | リード線の潤滑性、耐摩耗性および温度弾性を改善するための表面改質 |
| US8802603B2 (en) | 2010-06-17 | 2014-08-12 | Becton, Dickinson And Company | Medical components having coated surfaces exhibiting low friction and low reactivity |
| US9918898B2 (en) | 2012-02-28 | 2018-03-20 | Corning Incorporated | Glass articles with low-friction coatings |
| US11497681B2 (en) | 2012-02-28 | 2022-11-15 | Corning Incorporated | Glass articles with low-friction coatings |
| US10737973B2 (en) | 2012-02-28 | 2020-08-11 | Corning Incorporated | Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction |
| US10273048B2 (en) | 2012-06-07 | 2019-04-30 | Corning Incorporated | Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings |
| US9034442B2 (en) | 2012-11-30 | 2015-05-19 | Corning Incorporated | Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance |
| US10117806B2 (en) | 2012-11-30 | 2018-11-06 | Corning Incorporated | Strengthened glass containers resistant to delamination and damage |
| JP6269349B2 (ja) * | 2014-06-30 | 2018-01-31 | カシオ計算機株式会社 | 描画装置及び描画装置の描画方法 |
| EP3189017B1 (en) | 2014-09-05 | 2022-11-16 | Corning Incorporated | Glass articles and methods for improving the reliability of glass articles |
| CN104475048A (zh) * | 2014-11-05 | 2015-04-01 | 华玉叶 | 一种用于水处理的交联膜的制备方法 |
| CA2968536C (en) | 2014-11-26 | 2021-05-25 | Corning Incorporated | Methods for producing strengthened and durable glass containers |
| DE102015001902A1 (de) * | 2015-02-18 | 2016-08-18 | Continental Reifen Deutschland Gmbh | Verfahren zur Verbesserung der Haftung zwischen einem Verstärkungselement und einem elastomeren Matrixmaterial |
| EP3150564B1 (en) | 2015-09-30 | 2018-12-05 | Corning Incorporated | Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings |
| AU2016343719B2 (en) | 2015-10-30 | 2021-03-04 | Corning Incorporated | Glass articles with mixed polymer and metal oxide coatings |
| JP7467866B2 (ja) * | 2019-10-02 | 2024-04-16 | 住友ゴム工業株式会社 | 親水性基材及び親水性基材作製方法 |
| GR20220100627A (el) | 2022-08-01 | 2024-03-12 | Παπαδοπουλος Νικολαος-Ξαφακης Σωτηριος Ομορρυθμη Εταιρεια, | Μεθοδος αναπτυξης προστατευτικων και ευκολα καθαριζομενων νανοεπικαλυπτικων συστηματων υψηλης αντοχης για πολλαπλα υποστρωματα |
| GR20220100628A (el) | 2022-08-01 | 2024-03-12 | Παπαδοπουλος Νικολαος-Ξαφακης Σωτηριος Ομορρυθμη Εταιρεια, | Μεθοδος αναπτυξης ανθεκτικων αντιρρυπαντικων νανοεπικαλυπτικων συστηματων με επιπροσθετη ισχυρη αντιμικροβιακη δραση |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5294884A (en) * | 1976-02-06 | 1977-08-09 | Teijin Ltd | Water and oil repellent laminated product |
| JPS6040254A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性多層膜 |
| JPS61174392A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-06 | Pentel Kk | 耐食性を有する工業用材料 |
| JPS61274766A (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-04 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | フツ素系塗料の塗装方法 |
| JPH04221630A (ja) * | 1990-12-25 | 1992-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 透光性基体の製造方法 |
| JPH04288349A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH0531441A (ja) * | 1990-10-25 | 1993-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フロロカーボン系コーテイング膜及びその製造方法 |
| JPH0543840A (ja) * | 1991-08-13 | 1993-02-23 | Nippon Soda Co Ltd | 塗装面の表面処理剤 |
| JPH0559331A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水・撥油性コーテイング材およびその製造方法 |
Family Cites Families (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3620820A (en) * | 1966-08-01 | 1971-11-16 | Chevron Res | Antiwetting methods and compositions |
| US3645707A (en) * | 1970-02-09 | 1972-02-29 | Owens Corning Fiberglass Corp | Glass fiber coating method |
| DE3407087C2 (de) * | 1984-02-27 | 1994-07-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V., 8000 München | Verfahren und Lack zur Herstellung von kratzfesten Beschichtungen |
| DE3828098A1 (de) * | 1988-08-18 | 1990-03-08 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und zusammensetzung zur herstellung von kratzfesten materialien |
| JP2629975B2 (ja) * | 1989-09-14 | 1997-07-16 | 三菱マテリアル株式会社 | 撥水、撥油性ワックス添加剤 |
| WO1991019752A2 (en) | 1990-06-04 | 1991-12-26 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Crosslinking of polymers containing diaryl ketones |
| DE69120788T2 (de) * | 1990-12-25 | 1996-11-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Nichtverunreinigender, absorbierter Film und Verfahren zu seiner Herstellung |
| CA2059733C (en) * | 1991-01-23 | 1999-10-05 | Kazufumi Ogawa | Water- and oil-repelling film and method of manufacturing the same |
| EP0511590B1 (en) * | 1991-04-30 | 1997-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Functional laminated chemically adsorbed films and methods of manufacturing the same |
| US5372851A (en) * | 1991-12-16 | 1994-12-13 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
| EP0571896B1 (en) * | 1992-05-27 | 1996-08-28 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing a chemically adsorbed film |
| US5435839A (en) * | 1992-12-24 | 1995-07-25 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Finishing agents and method of manufacturing the same |
| DE4303570C2 (de) * | 1993-02-08 | 1997-03-20 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Herstellung von funktionellen Beschichtungen, beschichtete Substrate und Beschichtungsmaterial |
| JPH08337654A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 化学吸着膜の製造方法及びこれに用いる化学吸着液 |
-
1995
- 1995-06-14 JP JP7147851A patent/JPH08337654A/ja active Pending
-
1996
- 1996-06-10 TW TW085106943A patent/TW383335B/zh not_active IP Right Cessation
- 1996-06-11 US US08/661,734 patent/US5849369A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-13 KR KR1019960021129A patent/KR0180819B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-06-13 EP EP96109503A patent/EP0748658B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-06-13 DE DE69623696T patent/DE69623696T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-06-13 CA CA002179120A patent/CA2179120C/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-07-20 US US09/119,471 patent/US6060123A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-20 US US09/119,252 patent/US5907013A/en not_active Expired - Fee Related
-
2000
- 2000-01-20 US US09/487,798 patent/US6280517B1/en not_active Expired - Fee Related
-
2001
- 2001-01-29 US US09/770,201 patent/US6548116B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5294884A (en) * | 1976-02-06 | 1977-08-09 | Teijin Ltd | Water and oil repellent laminated product |
| JPS6040254A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-02 | 旭硝子株式会社 | 撥水撥油性多層膜 |
| JPS61174392A (ja) * | 1985-01-28 | 1986-08-06 | Pentel Kk | 耐食性を有する工業用材料 |
| JPS61274766A (ja) * | 1985-05-30 | 1986-12-04 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | フツ素系塗料の塗装方法 |
| JPH0531441A (ja) * | 1990-10-25 | 1993-02-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フロロカーボン系コーテイング膜及びその製造方法 |
| JPH04221630A (ja) * | 1990-12-25 | 1992-08-12 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 透光性基体の製造方法 |
| JPH04288349A (ja) * | 1991-01-23 | 1992-10-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH079608A (ja) * | 1991-01-23 | 1995-01-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JPH0543840A (ja) * | 1991-08-13 | 1993-02-23 | Nippon Soda Co Ltd | 塗装面の表面処理剤 |
| JPH0559331A (ja) * | 1991-09-03 | 1993-03-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 撥水・撥油性コーテイング材およびその製造方法 |
Cited By (75)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08337757A (ja) * | 1995-06-14 | 1996-12-24 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 表面処理剤及びその使用方法 |
| WO1999025487A1 (fr) * | 1997-11-18 | 1999-05-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Procede de production d'un film monomoleculaire de chimisorption, procedes de production de films d'alignement de cristaux liquides et ecrans d'affichage comprenant le film de chimisorption |
| JP2003521594A (ja) * | 2000-02-04 | 2003-07-15 | エスシーエー・ハイジーン・プロダクツ・アーベー | 繊維構造体及び前記繊維構造体を含む吸収物品 |
| JP2004527004A (ja) * | 2001-05-11 | 2004-09-02 | ボシュ・アンド・ロム・インコーポレイテッド | 眼内レンズをパッシベートする方法 |
| EP2218695A1 (en) | 2002-03-12 | 2010-08-18 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for preparing chemical adsorption film and solution for preparing chemical adsorption film for use therein |
| US7422642B2 (en) | 2002-03-12 | 2008-09-09 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for preparing chemical adsorption film and solution for preparing chemical adsorption film used in the method |
| US7776403B2 (en) | 2003-04-15 | 2010-08-17 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| JP2009090288A (ja) * | 2003-04-15 | 2009-04-30 | Nippon Soda Co Ltd | 有機薄膜の製造方法 |
| KR100796964B1 (ko) * | 2003-04-15 | 2008-01-22 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기박막 제조방법 |
| JPWO2004091810A1 (ja) * | 2003-04-15 | 2006-07-06 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
| CN100451054C (zh) * | 2003-04-15 | 2009-01-14 | 日本曹达株式会社 | 有机薄膜制造方法 |
| EP2275211A1 (en) | 2003-04-15 | 2011-01-19 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| JP4684889B2 (ja) * | 2003-04-15 | 2011-05-18 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜の製造方法 |
| WO2004091810A1 (ja) * | 2003-04-15 | 2004-10-28 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜製造方法 |
| US8197906B2 (en) | 2003-04-15 | 2012-06-12 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| US8426019B2 (en) | 2003-04-15 | 2013-04-23 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| EP2140945A2 (en) | 2003-04-15 | 2010-01-06 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film |
| US8568836B2 (en) | 2004-07-22 | 2013-10-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | Organic thin film forming method, auxiliary agent for forming an organic thin film, and solution for forming an organic thin film |
| WO2006009202A1 (ja) * | 2004-07-22 | 2006-01-26 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜形成方法、有機薄膜形成用補助剤及び有機薄膜形成用溶液 |
| KR100912854B1 (ko) * | 2004-12-28 | 2009-08-18 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 박리층을 갖는 성형용 금형 또는 전주용 모형 및 그들의 제조 방법 |
| JPWO2006070857A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2008-06-12 | 日本曹達株式会社 | 剥離層を有する成形用金型又は電鋳用母型及びそれらの製造方法 |
| US8361375B2 (en) | 2004-12-28 | 2013-01-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | Forming mold or electroforming mother die having release layer and method for manufacturing the same |
| WO2006070857A1 (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-06 | Nippon Soda Co., Ltd. | 剥離層を有する成形用金型又は電鋳用母型 |
| EP2366521A2 (en) | 2004-12-28 | 2011-09-21 | Nippon Soda Co., Ltd. | Molding die or master pattern for electroforming each having release layer |
| KR100891891B1 (ko) * | 2004-12-28 | 2009-04-03 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 박리층을 갖는 성형용 금형 또는 전주용 모형 및 그들의제조 방법 |
| JP4602994B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2010-12-22 | 日本曹達株式会社 | 剥離層を有する成形用金型又は電鋳用母型及びそれらの製造方法 |
| JPWO2006087986A1 (ja) * | 2005-02-15 | 2008-07-03 | 日本曹達株式会社 | チタン酸化物粒子の分散液、チタン酸化物薄膜、有機機能膜形成用溶液、有機機能膜形成基体及びその製造方法 |
| JP4746032B2 (ja) * | 2005-02-15 | 2011-08-10 | 日本曹達株式会社 | チタン酸化物粒子の分散液、チタン酸化物薄膜、有機機能膜形成用溶液、有機機能膜形成基体及びその製造方法 |
| JP2007118276A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Kagawa Univ | 単層微粒子膜と累積微粒子膜およびそれらの製造方法。 |
| JP2007129079A (ja) * | 2005-11-04 | 2007-05-24 | Kagawa Univ | 磁性微粒子とその製造方法およびそれらを用いた磁石とその製造方法 |
| JP2007137793A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 薬剤とその製造方法 |
| JP2007142004A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 配置制御されたパターン状の単層絶縁性微粒子膜と絶縁性微粒子累積膜およびそれらの製造方法 |
| JP2007142006A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 絶縁体微粒子膜とその製造方法及びそれを用いたコンデンサー |
| JP2007142005A (ja) * | 2005-11-16 | 2007-06-07 | Kagawa Univ | 保護膜とその製造方法 |
| JP2007160519A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Kagawa Univ | 単層蛍光体微粒子膜と蛍光体微粒子膜積層体およびそれらの製造方法とそれらを用いた表示装置と感光体とセンサー |
| JP2007161748A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Kagawa Univ | 蛍光体微粒子とその製造方法及びそれらを用いた蛍光体被膜 |
| JP2007161749A (ja) * | 2005-12-09 | 2007-06-28 | Kagawa Univ | パターン状の蛍光体微粒子膜およびその製造方法。 |
| CN101495246A (zh) * | 2006-07-31 | 2009-07-29 | 日本曹达株式会社 | 使用膜物性改善处理方法制成的有机薄膜的制造方法 |
| US8133546B2 (en) | 2006-07-31 | 2012-03-13 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for producing organic thin film by using film physical property improving process |
| WO2008016029A1 (fr) * | 2006-07-31 | 2008-02-07 | Nippon Soda Co., Ltd. | procédé de fabrication d'une couche mince organique par l'utilisation d'un procédé d'amélioration des propriétés physiques du film |
| JP5275799B2 (ja) * | 2006-07-31 | 2013-08-28 | 日本曹達株式会社 | 膜物性改善処理方法を用いてなる有機薄膜の製造方法 |
| US9416283B2 (en) | 2006-11-13 | 2016-08-16 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for forming organic thin film |
| US8864896B2 (en) | 2006-11-13 | 2014-10-21 | Nippon Soda Co., Ltd. | Method for forming organic thin film |
| WO2008059840A1 (fr) | 2006-11-13 | 2008-05-22 | Nippon Soda Co., Ltd. | Procédé de formation d'un film mince organique |
| JP2008137306A (ja) * | 2006-12-04 | 2008-06-19 | Kazufumi Ogawa | 金型とその製造方法及びそれを用いて作製した成型品 |
| WO2008068873A1 (en) * | 2006-12-08 | 2008-06-12 | Kazufumi Ogawa | Monolayer nanoparticle film, multilayer nanoparticle film, and manufacturing method thereof |
| JP2008258226A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-10-23 | Kagawa Univ | 光センサーおよびその製造方法 |
| JP2008258223A (ja) * | 2007-03-31 | 2008-10-23 | Kagawa Univ | 太陽電池およびその製造方法 |
| US9373805B2 (en) | 2007-03-31 | 2016-06-21 | Empire Technology Development Llc | Optical sensor and method for making the same |
| WO2008139634A1 (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Kazufumi Ogawa | Insulant fine particle film, a method of manufacturing the same, and a capacitor made thereof |
| WO2008143064A1 (ja) * | 2007-05-14 | 2008-11-27 | Kazufumi Ogawa | 撥水撥油防汚性表面を有する部材とその撥水撥油防汚性表面の製造方法 |
| WO2008139633A1 (en) * | 2007-05-14 | 2008-11-20 | Kazufumi Ogawa | Patterned single layer insulating particle film and insulating particle accumulation film where their arrangements are controlled, and method of manufacturing them |
| JP5286266B2 (ja) * | 2007-07-24 | 2013-09-11 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜の基材への作製方法 |
| WO2009013904A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Nippon Soda Co., Ltd. | 有機薄膜の基材への作製方法 |
| JP2009054958A (ja) * | 2007-08-29 | 2009-03-12 | Kagawa Univ | 磁性流体とその製造方法並びに磁性流体を用いた磁性流体軸受装置及び磁気シール装置 |
| WO2009104424A1 (ja) | 2008-02-22 | 2009-08-27 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜形成用溶液及びその製造方法 |
| US9303124B2 (en) | 2008-02-22 | 2016-04-05 | Nippon Soda Co., Ltd. | Solution for formation of organic thin film, and method for production thereof |
| US8541631B2 (en) | 2009-12-24 | 2013-09-24 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Surface treatment method for solid material |
| KR20110074462A (ko) | 2009-12-24 | 2011-06-30 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 고체 재료의 표면 처리 방법 |
| EP2341108A1 (en) | 2009-12-24 | 2011-07-06 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Surface treatment method for solid material |
| KR20150111371A (ko) | 2010-11-11 | 2015-10-05 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 유기 박막 형성용 고형물 또는 유상물을 사용한 유기 박막 적층체 제조 방법 |
| US9309416B2 (en) | 2010-11-11 | 2016-04-12 | Nippon Soda Co., Ltd. | Process for producing organic thin film laminate using solid or oily material for organic thin film formation applications |
| KR20140068168A (ko) | 2011-10-18 | 2014-06-05 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 표면 피복 처리한 무기 분체 |
| WO2013057945A1 (ja) | 2011-10-18 | 2013-04-25 | 日本曹達株式会社 | 表面被覆処理した無機粉体 |
| JP2015511174A (ja) * | 2012-02-28 | 2015-04-16 | ダイキン工業株式会社 | 含フッ素シラン系膜を有する物品の製造方法 |
| JP2014051595A (ja) * | 2012-09-07 | 2014-03-20 | Nippon Soda Co Ltd | 有機無機複合薄膜の製造方法 |
| WO2015159371A1 (ja) * | 2014-04-15 | 2015-10-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 被覆膜、被覆膜の形成方法ならびに発光ダイオードデバイス |
| JP5724021B1 (ja) * | 2014-06-25 | 2015-05-27 | アイシン軽金属株式会社 | 高耐アルカリ性アルミニウム部材及びその製造方法 |
| JP2016016641A (ja) * | 2014-07-10 | 2016-02-01 | 日本曹達株式会社 | 機能性を有する積層体 |
| WO2016063463A1 (ja) * | 2014-10-21 | 2016-04-28 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
| JPWO2016063463A1 (ja) * | 2014-10-21 | 2017-06-08 | 日本曹達株式会社 | 有機薄膜製造方法 |
| JP2016140989A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | 富士フイルム株式会社 | 断熱フィルム、断熱ガラスおよび窓 |
| WO2018043305A1 (ja) * | 2016-09-01 | 2018-03-08 | Jsr株式会社 | 基材表面の選択的修飾方法及び組成物 |
| JPWO2018043305A1 (ja) * | 2016-09-01 | 2019-06-24 | Jsr株式会社 | 基材表面の選択的修飾方法及び組成物 |
| JP2019104723A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-27 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | ヒドロカルビルオキシジシラン |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5907013A (en) | 1999-05-25 |
| CA2179120A1 (en) | 1996-12-15 |
| US5849369A (en) | 1998-12-15 |
| US20010005531A1 (en) | 2001-06-28 |
| KR0180819B1 (ko) | 1999-03-20 |
| US6548116B2 (en) | 2003-04-15 |
| US6060123A (en) | 2000-05-09 |
| EP0748658B1 (en) | 2002-09-18 |
| EP0748658A2 (en) | 1996-12-18 |
| TW383335B (en) | 2000-03-01 |
| DE69623696D1 (de) | 2002-10-24 |
| US6280517B1 (en) | 2001-08-28 |
| CA2179120C (en) | 2003-04-01 |
| DE69623696T2 (de) | 2003-06-12 |
| EP0748658A3 (en) | 1998-04-15 |
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