JPH08288361A - 真空処理装置 - Google Patents
真空処理装置Info
- Publication number
- JPH08288361A JPH08288361A JP11239895A JP11239895A JPH08288361A JP H08288361 A JPH08288361 A JP H08288361A JP 11239895 A JP11239895 A JP 11239895A JP 11239895 A JP11239895 A JP 11239895A JP H08288361 A JPH08288361 A JP H08288361A
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- Japan
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- lid
- chamber
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空処理装置の真空予備室の保守点検時にお
ける蓋の開閉の際の安全性の向上を、きわめて簡単な構
成で図ることを主たる目的とする。 【構成】 真空予備室６の天井部分を形成する蓋１２の
大気圧領域側の外周に、当該蓋１２の大気圧領域に露出
する側端部分１２ａを囲繞するようにガイド３０を設け
るとともに、当該蓋１２の外部に取っ手３１を設ける。
ける蓋の開閉の際の安全性の向上を、きわめて簡単な構
成で図ることを主たる目的とする。 【構成】 真空予備室６の天井部分を形成する蓋１２の
大気圧領域側の外周に、当該蓋１２の大気圧領域に露出
する側端部分１２ａを囲繞するようにガイド３０を設け
るとともに、当該蓋１２の外部に取っ手３１を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置などのように、真空中でウエハなどの試料に、イオン
ビームを照射して当該ウエハを処理する真空処理装置に
関し、より具体的には、前記ウエハを処理するための高
真空領域である処理室に、ウエハを搬出入する際に用い
られる真空予備室の保守点検時における安全性の向上を
図ったものでる。
置などのように、真空中でウエハなどの試料に、イオン
ビームを照射して当該ウエハを処理する真空処理装置に
関し、より具体的には、前記ウエハを処理するための高
真空領域である処理室に、ウエハを搬出入する際に用い
られる真空予備室の保守点検時における安全性の向上を
図ったものでる。
【０００２】
【従来の技術】図４は、従来の真空処理装置の一例であ
るイオン注入装置の一例を部分的に示す概略横断面図で
あり、図５は、図４の線Ａ−Ａに沿う断面図である。
るイオン注入装置の一例を部分的に示す概略横断面図で
あり、図５は、図４の線Ａ−Ａに沿う断面図である。
【０００３】このイオン注入装置は、図示しない真空ポ
ンプによって真空（例えば１０-7〜１０-8Ｔｏｒｒ程
度）に排気される部屋であって、イオンビーム１が導入
されホルダ（プラテンとも呼ばれる）２に保持された試
料であるウエハ３に、イオンビーム１を照射してイオン
注入処理を行う高真空領域の処理室４を有している。
ンプによって真空（例えば１０-7〜１０-8Ｔｏｒｒ程
度）に排気される部屋であって、イオンビーム１が導入
されホルダ（プラテンとも呼ばれる）２に保持された試
料であるウエハ３に、イオンビーム１を照射してイオン
注入処理を行う高真空領域の処理室４を有している。
【０００４】前記ホルダ２は、ウエハ３を保持可能であ
って、同ウエハ３の着脱のための水平状態と、同ウエハ
３にイオンビーム１を照射してイオン注入処理を行うた
めの起立状態（図示例）とに回転できるように構成され
ている。
って、同ウエハ３の着脱のための水平状態と、同ウエハ
３にイオンビーム１を照射してイオン注入処理を行うた
めの起立状態（図示例）とに回転できるように構成され
ている。
【０００５】前記ホルダ２の上流側には、イオンビーム
１がウエハ３およびホルダ２に当った際に、それらから
放出される二次電子がアースへ逃げるのを防止して、イ
オンビーム１のビーム電流計測を正確に行うための箱状
のファラデーケース５が設けられている。
１がウエハ３およびホルダ２に当った際に、それらから
放出される二次電子がアースへ逃げるのを防止して、イ
オンビーム１のビーム電流計測を正確に行うための箱状
のファラデーケース５が設けられている。
【０００６】ところで、この例では高真空領域の処理室
４の左右には、未処理のウエハ３を、大気圧領域側から
処理を行う処理室４内へ搬入するためのロード側の真空
予備室６と、処理済のウエハ３を大気圧領域側へ搬出す
るためのアンロード側の真空予備室７とが、例えばゲー
ト弁式の真空弁８および９をそれぞれ介して隣接されて
いる。また、これら両真空予備室６および７と、大気圧
領域との間には、例えばフラップ弁式の真空弁１０およ
び１１がそれぞれ設けられている。
４の左右には、未処理のウエハ３を、大気圧領域側から
処理を行う処理室４内へ搬入するためのロード側の真空
予備室６と、処理済のウエハ３を大気圧領域側へ搬出す
るためのアンロード側の真空予備室７とが、例えばゲー
ト弁式の真空弁８および９をそれぞれ介して隣接されて
いる。また、これら両真空予備室６および７と、大気圧
領域との間には、例えばフラップ弁式の真空弁１０およ
び１１がそれぞれ設けられている。
【０００７】両真空予備室６および７内は、それぞれウ
エハ３を処理室４との間で出し入れする前には、図示し
ない粗引ポンプで真空（例えば１０-1〜１０-3Ｔｏｒｒ
程度）に排気され、また、ウエハ３を大気圧領域との間
で出し入れする前には、大気圧状態に戻される。
エハ３を処理室４との間で出し入れする前には、図示し
ない粗引ポンプで真空（例えば１０-1〜１０-3Ｔｏｒｒ
程度）に排気され、また、ウエハ３を大気圧領域との間
で出し入れする前には、大気圧状態に戻される。
【０００８】両真空予備室６および７の天井部分には、
図５に示すように大気圧領域に通じる保守点検用の開口
６１（７１）が設けられている。これら開口６１（７
１）には、大気圧領域側（矢印Ｂ方向）に開く、例えば
断面形状が逆凸形状の蓋１２が設けられ、常時は大気圧
領域と区画され、気密が保持されている。
図５に示すように大気圧領域に通じる保守点検用の開口
６１（７１）が設けられている。これら開口６１（７
１）には、大気圧領域側（矢印Ｂ方向）に開く、例えば
断面形状が逆凸形状の蓋１２が設けられ、常時は大気圧
領域と区画され、気密が保持されている。
【０００９】この真空予備室６（７）には、図示しない
搬送アームによってウエハ３を搬出入するための搬送口
６２が形成されており、その入口には、矢印Ｃ方向に開
閉するフラップ弁式の前述した真空弁１０（１１）が設
けられている。６３は、前記真空予備室６の一部を形成
する側壁部である。４１は、高真空領域である処理室４
を形成する真空チャンバである。
搬送アームによってウエハ３を搬出入するための搬送口
６２が形成されており、その入口には、矢印Ｃ方向に開
閉するフラップ弁式の前述した真空弁１０（１１）が設
けられている。６３は、前記真空予備室６の一部を形成
する側壁部である。４１は、高真空領域である処理室４
を形成する真空チャンバである。
【００１０】１３は、ゲート弁式の真空弁８（９）を上
下に駆動する駆動軸で、図示しない駆動源に連結されて
おり、矢印Ｄのように昇降され、上昇したときには側壁
部６３に当接して真空予備室６（７）と、高真空領域の
処理室４とを仕切っている。なお、図中の１４は、真空
シール軸受であり、１５〜２０は、気密を保持するため
の、例えばＯリングなどからなるパッキングである。
下に駆動する駆動軸で、図示しない駆動源に連結されて
おり、矢印Ｄのように昇降され、上昇したときには側壁
部６３に当接して真空予備室６（７）と、高真空領域の
処理室４とを仕切っている。なお、図中の１４は、真空
シール軸受であり、１５〜２０は、気密を保持するため
の、例えばＯリングなどからなるパッキングである。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】ところが上述の構成に
よれば、真空予備室６および７の保守点検を行うには、
当該真空予備室６および７を大気圧状態に保持し、蓋１
２を取外すことになるが、この作業のために蓋１２と、
真空予備室６および７を形成する側壁部６３との間に、
指を挿入する必要があるが、このとき真空弁８（９）が
何らかの異常により下降し、真空リークが発生した場
合、蓋１２が真空吸引され、指がこの間に挟まれるとい
った危険があった。
よれば、真空予備室６および７の保守点検を行うには、
当該真空予備室６および７を大気圧状態に保持し、蓋１
２を取外すことになるが、この作業のために蓋１２と、
真空予備室６および７を形成する側壁部６３との間に、
指を挿入する必要があるが、このとき真空弁８（９）が
何らかの異常により下降し、真空リークが発生した場
合、蓋１２が真空吸引され、指がこの間に挟まれるとい
った危険があった。
【００１２】そこでこの発明は、この種の真空処理装置
の真空予備室の保守点検時における前記蓋の開閉の際の
安全性の向上を、きわめて簡単な構成で図ることを主た
る目的とする。
の真空予備室の保守点検時における前記蓋の開閉の際の
安全性の向上を、きわめて簡単な構成で図ることを主た
る目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の真空処理装置は、前述したような真空予
備室の天井部分を形成する前記蓋の大気圧領域側の外周
に、当該蓋の大気圧領域に露出する側端部分を囲繞する
ようにガイドを設けるとともに、前記蓋の外部に取っ手
を設けたことを特徴とする。
め、この発明の真空処理装置は、前述したような真空予
備室の天井部分を形成する前記蓋の大気圧領域側の外周
に、当該蓋の大気圧領域に露出する側端部分を囲繞する
ようにガイドを設けるとともに、前記蓋の外部に取っ手
を設けたことを特徴とする。
【００１４】また、請求項２記載の発明では、前記ガイ
ドの高さを、前記蓋の大気圧領域に露出する側端部分の
厚みと同一またはそれ以上としたことを特徴とする。
ドの高さを、前記蓋の大気圧領域に露出する側端部分の
厚みと同一またはそれ以上としたことを特徴とする。
【００１５】
【作用】上記構成によれば、真空予備室の保守点検を行
うときは、当該真空予備室を大気圧状態に保持し、前記
蓋に形成された取っ手を掴んで、当該蓋を取外すことが
できる。
うときは、当該真空予備室を大気圧状態に保持し、前記
蓋に形成された取っ手を掴んで、当該蓋を取外すことが
できる。
【００１６】この蓋の取外し作業のために、従来のよう
に蓋の側端部分から真空予備室を形成する側壁部との間
に、指を挿入しようとしても、蓋の大気圧領域に露出す
る側端部分を囲繞する前記ガイドの存在によって阻止さ
れる。
に蓋の側端部分から真空予備室を形成する側壁部との間
に、指を挿入しようとしても、蓋の大気圧領域に露出す
る側端部分を囲繞する前記ガイドの存在によって阻止さ
れる。
【００１７】したがって、この作業中に仮に真空弁が何
らかの異常により下降し、真空リークが発生し、蓋が真
空吸引されても、指がこの間に挟まれるといった危惧は
ない。
らかの異常により下降し、真空リークが発生し、蓋が真
空吸引されても、指がこの間に挟まれるといった危惧は
ない。
【００１８】また、請求項２記載の発明によれば、前記
ガイドの高さを、前記蓋の大気圧領域に露出する側端部
分の厚みと同一またはそれ以上としてあるので、蓋の側
端部分から真空予備室を形成する側壁部との間に、指が
挿入されるのを完全に阻止することができる。
ガイドの高さを、前記蓋の大気圧領域に露出する側端部
分の厚みと同一またはそれ以上としてあるので、蓋の側
端部分から真空予備室を形成する側壁部との間に、指が
挿入されるのを完全に阻止することができる。
【００１９】
【実施例】図１は、この発明の一実施例に係る真空処理
装置の一例であるイオン注入装置のロード側の真空予備
室部分を示す概略縦断面図である。図２は、図１の平面
図である。なお、図１および図２において、図４および
図５の従来例と同一または相当する部分には、同一符号
を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に説
明する。
装置の一例であるイオン注入装置のロード側の真空予備
室部分を示す概略縦断面図である。図２は、図１の平面
図である。なお、図１および図２において、図４および
図５の従来例と同一または相当する部分には、同一符号
を付し、以下においては当該従来例との相違点を主に説
明する。
【００２０】この実施例のイオン注入装置は、前述した
ような真空予備室６の天井部分を形成する蓋１２の大気
圧領域側の外周に、当該蓋１２の大気圧領域に露出する
側端部分１２ａを囲繞するように、リング状のガイド３
０を溶接などにより固着している。
ような真空予備室６の天井部分を形成する蓋１２の大気
圧領域側の外周に、当該蓋１２の大気圧領域に露出する
側端部分１２ａを囲繞するように、リング状のガイド３
０を溶接などにより固着している。
【００２１】このガイド３０の高さｈは、前記蓋１２の
大気圧領域に露出する側端部分１２ａと真空予備室６の
一部を形成する側壁部６３との間から、指が挿入される
のを阻止するためであり、通常は前記蓋１２の大気圧領
域に露出する側端部分１２ａの厚みｔと同一またはそれ
以上とするのが好ましい。
大気圧領域に露出する側端部分１２ａと真空予備室６の
一部を形成する側壁部６３との間から、指が挿入される
のを阻止するためであり、通常は前記蓋１２の大気圧領
域に露出する側端部分１２ａの厚みｔと同一またはそれ
以上とするのが好ましい。
【００２２】前記蓋１２の大気圧領域側に、当該蓋１２
を取外す際に手で持つための取っ手３１を溶接などによ
り設けている。この取っ手３１の形状や大きさなどは、
特に限られるものではなく、取外しの際に持ちやすいも
のであればよい。
を取外す際に手で持つための取っ手３１を溶接などによ
り設けている。この取っ手３１の形状や大きさなどは、
特に限られるものではなく、取外しの際に持ちやすいも
のであればよい。
【００２３】以上の構成によるイオン注入装置におい
て、真空予備室６の保守点検を行ときは、当該真空予備
室６を大気圧状態に保持し、前記蓋１２に形成された取
っ手３１を掴んで、当該蓋１２を取外す。
て、真空予備室６の保守点検を行ときは、当該真空予備
室６を大気圧状態に保持し、前記蓋１２に形成された取
っ手３１を掴んで、当該蓋１２を取外す。
【００２４】したがって、この蓋１２の取外し作業のた
めに、従来のように蓋１２の側端部分１２ａから真空予
備室６の一部を形成する側壁部６３との間に、指を挿入
しようとしても、蓋１２の大気圧領域に露出する側端部
分１２ａを囲繞するように設けられたガイド３０の存在
によって阻止される。
めに、従来のように蓋１２の側端部分１２ａから真空予
備室６の一部を形成する側壁部６３との間に、指を挿入
しようとしても、蓋１２の大気圧領域に露出する側端部
分１２ａを囲繞するように設けられたガイド３０の存在
によって阻止される。
【００２５】この場合、前記ガイド３０の高さｈが、蓋
１２の大気圧領域に露出する側端部分１２ａの厚みｔと
同一またはそれ以上の場合には、完全に指の挿入が阻止
されるので、きわめて安全である。
１２の大気圧領域に露出する側端部分１２ａの厚みｔと
同一またはそれ以上の場合には、完全に指の挿入が阻止
されるので、きわめて安全である。
【００２６】この結果、この作業中に仮に真空弁８が何
らかの異常により下降し、真空リークが発生し、真空予
備室６が真空吸引され、ひいては蓋１２が真空吸引され
ても、指がこの間に挟まれるといった危惧は全くない。
らかの異常により下降し、真空リークが発生し、真空予
備室６が真空吸引され、ひいては蓋１２が真空吸引され
ても、指がこの間に挟まれるといった危惧は全くない。
【００２７】なお、上述の実施例では、ガイド３０とし
て蓋１２の大気圧領域に露出する側端部分１２ａを完全
に囲繞するリング状のものとする場合について説明した
が、この発明は、これに限られることはなく、例えば、
図３に示すような構成としてもよいのは勿論である。
て蓋１２の大気圧領域に露出する側端部分１２ａを完全
に囲繞するリング状のものとする場合について説明した
が、この発明は、これに限られることはなく、例えば、
図３に示すような構成としてもよいのは勿論である。
【００２８】図３は、この発明の他の実施例を示すロー
ド側の真空予備室６の平面図で、この例では、ガイド３
０として、弧状のリング片３０ａを複数個用い、蓋１２
の大気圧領域に露出する側端部分１２ａの外周を囲繞し
たものである。この場合、各リング片３０ａ−３０ａ間
の隙間ｄは、隙間ｄから指が容易に入らない程度のもの
とすればよい。
ド側の真空予備室６の平面図で、この例では、ガイド３
０として、弧状のリング片３０ａを複数個用い、蓋１２
の大気圧領域に露出する側端部分１２ａの外周を囲繞し
たものである。この場合、各リング片３０ａ−３０ａ間
の隙間ｄは、隙間ｄから指が容易に入らない程度のもの
とすればよい。
【００２９】
【発明の効果】この発明は、上記のとおり構成されてい
るので、真空予備室の保守点検を行うときは、当該真空
予備室を大気圧状態に保持し、前記蓋に形成された取っ
手を掴んで、当該蓋を簡単に取外すことができる。
るので、真空予備室の保守点検を行うときは、当該真空
予備室を大気圧状態に保持し、前記蓋に形成された取っ
手を掴んで、当該蓋を簡単に取外すことができる。
【００３０】したがって、この蓋の取外し作業のため
に、従来のように蓋の側端部分から真空予備室を形成す
る真空チャンバの壁部との間に、指を挿入しようとして
も、蓋の大気圧領域に露出する側端部分を囲繞するよう
に設けた、前記ガイドの存在によって阻止される。
に、従来のように蓋の側端部分から真空予備室を形成す
る真空チャンバの壁部との間に、指を挿入しようとして
も、蓋の大気圧領域に露出する側端部分を囲繞するよう
に設けた、前記ガイドの存在によって阻止される。
【００３１】この結果、きわめて簡単な構成によって、
上述の作業中に仮に真空弁が何らかの異常により下降
し、真空リークが発生し、蓋が真空吸引されても、指が
この間に挟まれるといった危惧はない。
上述の作業中に仮に真空弁が何らかの異常により下降
し、真空リークが発生し、蓋が真空吸引されても、指が
この間に挟まれるといった危惧はない。
【００３２】また、請求項２記載の発明によれば、前記
ガイドの高さを、前記蓋の大気圧領域に露出する側端部
分の厚みと同一またはそれ以上としてあるので、蓋の側
端部分から真空予備室を形成する側壁部との間に、指が
挿入されるのを完全に阻止することができる。
ガイドの高さを、前記蓋の大気圧領域に露出する側端部
分の厚みと同一またはそれ以上としてあるので、蓋の側
端部分から真空予備室を形成する側壁部との間に、指が
挿入されるのを完全に阻止することができる。
【図１】この発明の一実施例に係る真空処理装置である
イオン注入装置のロード側の真空予備室周りを部分的に
示す概略縦断面図である。
イオン注入装置のロード側の真空予備室周りを部分的に
示す概略縦断面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】この発明の他の実施例に係る真空処理装置であ
るイオン注入装置のロード側の真空予備室周りを部分的
に示す平面図である。
るイオン注入装置のロード側の真空予備室周りを部分的
に示す平面図である。
【図４】従来の真空処理装置の一例であるイオン注入装
置の真空予備室周りを部分的に示す概略横断面図であ
る。
置の真空予備室周りを部分的に示す概略横断面図であ
る。
【図５】図４の線Ａ−Ａに沿う断面図である。
３ ウエハ（試料） ４ 処理室 ６，７ 真空予備室 ６１ 開口 ８，９，１０，１１ 真空弁 １２ 蓋 １２ａ 側端部分 ３０ ガイド ３１ 取っ手
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｊ 37/317 9508−2Ｇ Ｈ０１Ｊ 37/317 Ｂ Ｈ０１Ｌ 21/265 Ｈ０１Ｌ 21/265 Ｄ
Claims (2)
- 【請求項１】 大気圧領域と、試料を処理する高真空領
域の処理室との間に位置し、前記大気圧領域および処理
室とは、それぞれ真空弁を介して区画され、その天井部
には大気圧領域に通じる保守点検用の開口を形成すると
ともに、この開口に大気圧領域側に開く蓋を設けてなる
真空予備室を備えた真空処理装置において、前記真空予
備室の天井部分を形成する前記蓋の大気圧領域側の外周
に、当該蓋の大気圧領域に露出する側端部分を囲繞する
ようにガイドを設けるとともに、前記蓋の外部に取っ手
を設けたことを特徴とする真空処理装置。 - 【請求項２】 前記ガイドの高さを、前記蓋の大気圧領
域に露出する側端部分の厚みと同一またはそれ以上とし
たことを特徴とする請求項１記載の真空処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11239895A JPH08288361A (ja) | 1995-04-13 | 1995-04-13 | 真空処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11239895A JPH08288361A (ja) | 1995-04-13 | 1995-04-13 | 真空処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08288361A true JPH08288361A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=14585669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11239895A Pending JPH08288361A (ja) | 1995-04-13 | 1995-04-13 | 真空処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08288361A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002048244A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Ulvac Japan Ltd | シール方法及びシール機構並びに真空処理装置 |
| JP2008536073A (ja) * | 2005-04-15 | 2008-09-04 | ジーエスアイ グループ リミテッド | ガスベアリングスピンドル |
| KR100942303B1 (ko) * | 2007-12-20 | 2010-02-16 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 척의 가동 지지 장치 |
| JP2013175670A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | 基板搬送装置及び当該基板搬送装置を用いた半導体製造装置 |
| JP2015088694A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
-
1995
- 1995-04-13 JP JP11239895A patent/JPH08288361A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002048244A (ja) * | 2000-08-02 | 2002-02-15 | Ulvac Japan Ltd | シール方法及びシール機構並びに真空処理装置 |
| JP2008536073A (ja) * | 2005-04-15 | 2008-09-04 | ジーエスアイ グループ リミテッド | ガスベアリングスピンドル |
| KR100942303B1 (ko) * | 2007-12-20 | 2010-02-16 | 주식회사 에이디피엔지니어링 | 척의 가동 지지 장치 |
| JP2013175670A (ja) * | 2012-02-27 | 2013-09-05 | Nissin Ion Equipment Co Ltd | 基板搬送装置及び当該基板搬送装置を用いた半導体製造装置 |
| JP2015088694A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空処理装置 |
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