JPH08286758A - 位置決め装置 - Google Patents

位置決め装置

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JPH08286758A
JPH08286758A JP10918395A JP10918395A JPH08286758A JP H08286758 A JPH08286758 A JP H08286758A JP 10918395 A JP10918395 A JP 10918395A JP 10918395 A JP10918395 A JP 10918395A JP H08286758 A JPH08286758 A JP H08286758A
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gain
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compensator
positioning device
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浩之 関口
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ＸＹステージのすべての位置において、安定
でかつ高精度な位置決め装置を提供する。 【構成】 移動体１を移動させる駆動手段２，３、移動
体の位置を測定する位置測定手段６、および位置測定手
段の測定値をフィードバックさせて移動体を所定の目標
位置７へ移動させるべく駆動手段に対し制御信号を出力
する制御手段４を有する位置決め装置において、制御手
段のゲインを移動体の位置に応じて変化させながら設定
するゲイン設定手段を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、移動体の位置決め装置
に関し、特に、高精度な位置決めが必要とされる移動体
の位置決め装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の位置決め装置に係るＸＹス
テージの一例を示す。同図において、７１はＸステー
ジ、７２はＹステージ、７３はヨーガイド、７４はエア
パッド、７５はＸステージ駆動用リニアモータ、７６は
Ｙステージ駆動用リニアモータ、７７は計測ミラー、７
８はＹステージ位置計測用ミラー面、７９はＸステージ
位置計測用ミラー面、８０はＸステージ位置計測用レー
ザ光、８１はＹステージ位置計測用レーザ光である。Ｘ
Ｙステージ７１，７２は静圧エアパッドを用いたリニア
モータによるダイレクトドライブステージである。Ｘス
テージ位置計測用ミラー面７９にレーザ干渉計のＸステ
ージ位置計測用レーザ光８０を当て、Ｘステージ７１の
位置を計測して、Ｘステージ７１を目標位置に位置決め
する。Ｙステージ位置計測用ミラー面７８にレーザ干渉
計のＹステージ位置計測用レーザ光８１を当て、Ｙステ
ージ７２の位置を計測して、Ｙステージ７２を目標位置
に位置決めする。
【０００３】図５は図４のＸステージ７１およびＹステ
ージ７２を有するＸＹステージを制御する、従来の位置
決め装置のブロック図である。同図において、１はＸＹ
ステージ、２はＸＹステージ１を駆動するモータ、３は
モータ２に電流を流すドライバ、４はＸＹステージ１を
安定、かつ高精度に制御するための制御手段である補償
器、５は現在位置と目標位置の偏差を求める差分器、６
はＸＹステージ１の位置を計測するレーザ干渉計、７は
目標位置レジスタである。ここで、補償器４の伝達関数
は、例えば、ＰＩＤ制御ならば、数１式のように表わせ
る。ただし、ｓはラプラス演算子である。
【０００４】
【数１】 従来、このような位置決め装置において、補償器４のゲ
インつまりＫp ，Ｋi，Ｋd はＸＹステージ１がどの位
置にあっても常に固定である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ＸＹス
テージ１は、ＸＹステージ１の位置によって機械的特性
が変化することは避けられない。
【０００６】このため、上記従来例ではＸＹステージ１
の位置にかかわらず補償器４のゲインが固定であるた
め、ある位置では位置決め精度が良好であっても、別の
位置では系が不安定になり発振してしまったり、どの位
置でも安定となるようにゲインを下げてしまうと、位置
決め精度が悪化してしまうというような不具合がある。
本発明の目的は、この従来技術の問題点に鑑み、ＸＹス
テージのすべての位置において、安定、かつ高精度な位
置決め装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明では、移動体を移動させる駆動手段、移動体
の位置を測定する位置測定手段、および位置測定手段の
測定値をフィードバックさせて移動体を所定の目標位置
へ移動させるべく駆動手段に対し制御信号を出力する制
御手段を有する位置決め装置において、制御手段のゲイ
ンを移動体の位置に応じて変化させながら設定するゲイ
ン設定手段を具備することを特徴としている。
【０００８】また、ゲイン設定手段は、制御手段のゲイ
ンを移動体の位置の関数として設定するものであること
を特徴としている。
【０００９】また、ゲイン設定手段は、移動体の位置に
対応するゲインのテーブルを参照することにより制御手
段のゲインを設定するものであることを特徴としてい
る。
【００１０】
【作用】本発明によれば、移動体の位置によって機械的
特性が変化しても、移動体の位置に応じて、制御手段で
ある補償器のゲインを変化させるため、その位置におけ
る機械的特性に合わせたゲインを設定することにより、
移動体が、どの位置にあっても安定でかつ高精度な制御
特性を得ることが可能となる。
【００１１】
【実施例】図１は本発明の一実施例を示しており、図４
に示すＸＹステージを位置決めする位置決め装置のブロ
ック図である。同図において、１はＸＹステージ、２は
ＸＹステージ１を駆動するモータ、３はモータ２に電流
を流すドライバ、４はＸＹステージ１を安定、かつ高精
度に制御するための制御手段である補償器、５は現在位
置と目標位置の偏差を求める差分器、６はＸＹステージ
１の位置を計測するレーザ干渉計、７は目標位置レジス
タである。
【００１２】ＸＹステージ１の位置Ｐは、レーザ干渉計
６によって測定され、差分器５によって目標位置Ｄとの
偏差Ｓが計算される。偏差Ｓは、補償器４によりドライ
バ３への指令Ｖに変換され、指令Ｖに応じてドライバ３
がモータ２に電流Ｉを流してＸＹステージ１を目標位置
に位置決めする。
【００１３】ここで、補償器４にはＸＹステージ１の位
置Ｐが入力される。この補償器４の伝達関数は、ＰＩＤ
制御において数２式のように表される。
【００１４】
【数２】 この式で、ｋp （ｘ，ｙ），ｋi （ｘ，ｙ），ｋd
（ｘ，ｙ）はそれぞれ比例ゲイン、積分ゲイン、微分ゲ
インであり、すべてＸＹステージ１の位置Ｐである
（ｘ，ｙ）の２次元の関数となっている。
【００１５】図２は、比例ゲインｋp （ｘ，ｙ）の一例
を示しており、数３式のように表わされる。
【００１６】
【数３】 この式では、ＸＹステージ１が四隅に行く程ゲインが低
くなっている。積分ゲイン、微分ゲインについても同様
に数４および式のようにそれぞれ表わされる。
【００１７】
【数４】 この補償器のゲインｋp （ｘ，ｙ），ｋi （ｘ，ｙ），
ｋd （ｘ，ｙ）によれば、ＸＹステージ１の位置が四隅
に移動する程、機械的特性が悪化するようなＸＹステー
ジ１においても、ＸＹステージ１の位置に応じた機械的
特性に合わせてゲインが変化するため、ＸＹステージ１
がどの位置にある場合でも安定でかつ高精度な性能を得
ることができる。
【００１８】本発明の他の実施例では、図１の装置の補
償器４ゲインＫとして、ＸＹステージの移動範囲を複数
領域に分割した領域を考え、各領域にＸＹステージが位
置する場合の好ましいゲイン値で構成されるテーブルの
値が用いられる。図３はこの２次元のテーブル値Ｋ11…
Ｋ33と対応する分割領域との関係を示す。このテーブル
を用い、ＸＹステージのそれぞれの位置における機械的
特性に合わせてゲインＫを調整することにより、ＸＹス
テージがどの位置にある場合でも安定でかつ高精度な位
置決め性能を得ることができる。この実施例によれば、
前記テーブルさえ用意しておけば、ＸＹステージの位置
から簡単にゲインＫが求められるため、処理能力の遅い
マイクロプロセッサや簡単なハードウエアにより位置決
め装置における制御手段を実現することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
移動体の位置によって機械的特性が変化するような位置
決め装置において、移動体の位置に応じて制御手段であ
る補償器のゲインを変化させるため、その位置における
機械的特性に合わせたゲインを設定することにより、移
動体のすべての位置において安定でかつ高精度な制御特
性を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一実施例に係る位置決め装置のブロ
ック図である。
【図２】 図１の装置における制御手段のゲインｋp
（ｘ，ｙ）の一例を示すグラフである。
【図３】 本発明の他の実施例における制御手段のゲイ
ンＫのテーブルを説明するための図である。
【図４】 本発明を適用し得るＸＹステージを示す外観
図である。
【図５】 従来の位置決め装置のブロック図である。
【符号の説明】
１：ＸＹステージ、２：モータ、３：ドライバ、４：補
償器、５：差分器、６：レーザ干渉計、７：目標位置レ
ジスタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｆ 21/68 21/30 ５０３Ａ ５１５Ｇ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 移動体を移動させる駆動手段、前記移動
    体の位置を測定する位置測定手段、および前記位置測定
    手段の測定値をフィードバックさせて前記移動体を所定
    の目標位置へ移動させるべく前記駆動手段に対し制御信
    号を出力する制御手段を有する位置決め装置において、 前記制御手段のゲインを前記移動体の位置に応じて変化
    させながら設定するゲイン設定手段を具備することを特
    徴とする位置決め装置。
  2. 【請求項２】 前記ゲイン設定手段は、前記制御手段の
    ゲインを前記移動体の位置の関数として設定するもので
    あることを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
  3. 【請求項３】 前記ゲイン設定手段は、前記移動体の位
    置に対応するゲインのテーブルを参照することにより前
    記制御手段のゲインを設定するものであることを特徴と
    する請求項１記載の位置決め装置。
JP10918395A 1995-04-11 1995-04-11 位置決め装置 Pending JPH08286758A (ja)

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KR1019960010543A KR100193153B1 (ko) 1995-04-11 1996-04-09 위치결정장치
EP02076319A EP1225493B1 (en) 1995-04-11 1996-04-10 Alignment apparatus and method
DE69635357T DE69635357T2 (de) 1995-04-11 1996-04-10 Methode und Vorrichtung zur räumlichen Ausrichtung
DE69628873T DE69628873T2 (de) 1995-04-11 1996-04-10 Ausrichtgerät und -verfahren
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004030500A (ja) * 2002-06-28 2004-01-29 Fanuc Ltd モータ制御装置
JP2007080660A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡装置および同装置における試料ステージの位置決め制御方法
JP2008048545A (ja) * 2006-08-17 2008-02-28 Yaskawa Electric Corp 位置制御装置と位置制御方法
JP2008220022A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Taiheiyo Cement Corp 位置決め制御装置および位置決め制御方法
JP2008258613A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2329349A (en) * 1997-09-09 1999-03-24 Geodetic Technology Internatio Control of mechanical manipulators
DE19752290A1 (de) * 1997-11-26 1999-06-02 Hueller Hille Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Lage und/oder Orientierung zusammenwirkender Maschineneinheiten
JP3755862B2 (ja) * 1999-05-26 2006-03-15 キヤノン株式会社 同期位置制御装置および方法
JP3679776B2 (ja) * 2002-04-22 2005-08-03 キヤノン株式会社 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2005203567A (ja) * 2004-01-15 2005-07-28 Canon Inc 駆動装置、露光装置及びデバイス製造方法
KR100555555B1 (ko) * 2004-02-10 2006-03-03 삼성전자주식회사 광픽업이송장치 및 이를 채용한 디스크 드라이브
US7327437B2 (en) * 2004-12-07 2008-02-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
AR059066A1 (es) 2006-01-27 2008-03-12 Amgen Inc Combinaciones del inhibidor de la angiopoyetina -2 (ang2) y el inhibidor del factor de crecimiento endotelial vascular (vegf)
US7576832B2 (en) * 2006-05-04 2009-08-18 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2008108906A (ja) * 2006-10-25 2008-05-08 Canon Inc 位置決め装置
EP2634655B1 (en) * 2010-10-27 2019-02-20 Makino Milling Machine Co., Ltd. Numerical control method of machine tool, and numerical control device
EP3242934B1 (en) 2015-01-08 2021-08-18 The Board of Trustees of the Leland Stanford Junior University Factors and cells that provide for induction of bone, bone marrow, and cartilage
IT201700020977A1 (it) * 2017-02-24 2018-08-24 Hpt Sinergy Srl Metodo di lavoro per una macchina utensile cartesiana
AT524841B1 (de) * 2021-06-07 2022-10-15 Univ Wien Tech Verfahren und Vorrichtung zur Störgrößenkompensation bei der Positionierung eines Probenträgers

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5745602A (en) * 1980-09-01 1982-03-15 Fanuc Ltd Control system for industrial robot
DE3042917A1 (de) * 1980-11-14 1982-07-08 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Regeleinrichtung fuer das signal eines elektromagnetischen stellwerks, insbesondere bei einer brennkraftmaschine mit selbstzuendung
DE3439495A1 (de) * 1983-10-31 1985-05-09 General Electric Co., Schenectady, N.Y. Elektronisch stellbare nachgiebigkeit
JPS60214018A (ja) * 1984-04-06 1985-10-26 Mitsubishi Electric Corp 位置決め制御装置
US4710865A (en) * 1984-11-14 1987-12-01 Canon Kabushiki Kaisha Control system for positioning an object using switching from a speed control mode to a position control mode with adjustable brain
JPS61122718A (ja) * 1984-11-20 1986-06-10 Fujitsu Ltd サ−ボ制御装置
JPS61256414A (ja) * 1985-05-10 1986-11-14 Hitachi Ltd 位置制御装置
US5040431A (en) * 1988-01-22 1991-08-20 Canon Kabushiki Kaisha Movement guiding mechanism
US5184055A (en) * 1989-10-06 1993-02-02 Canon Kabushiki Kaisha Device for positioning control
JP3087305B2 (ja) * 1990-03-05 2000-09-11 株式会社ニコン ステージ装置
DE4040796A1 (de) * 1990-12-17 1992-07-02 Mannesmann Ag Verfahren zur adaptiven regelung positionierbarer antriebe
US5323012A (en) * 1991-08-16 1994-06-21 The Regents Of The University Of California Apparatus for positioning a stage
US5229699A (en) * 1991-10-15 1993-07-20 Industrial Technology Research Institute Method and an apparatus for PID controller tuning
US5408591A (en) * 1992-06-01 1995-04-18 Calcomp Inc. Automatic calibration and servo control scheme for offsetting mechanical and electronic component variances
US5223778A (en) * 1992-09-16 1993-06-29 Allen-Bradley Company, Inc. Automatic tuning apparatus for PID controllers
JP3277581B2 (ja) * 1993-02-01 2002-04-22 株式会社ニコン ステージ装置および露光装置
JPH06297058A (ja) * 1993-04-19 1994-10-25 Murata Mach Ltd 板材加工機のテーブル制御装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004030500A (ja) * 2002-06-28 2004-01-29 Fanuc Ltd モータ制御装置
US7248014B2 (en) 2002-06-28 2007-07-24 Fanuc Ltd Motor control system
JP2007080660A (ja) * 2005-09-14 2007-03-29 Hitachi High-Technologies Corp 電子顕微鏡装置および同装置における試料ステージの位置決め制御方法
JP2008048545A (ja) * 2006-08-17 2008-02-28 Yaskawa Electric Corp 位置制御装置と位置制御方法
JP2008220022A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Taiheiyo Cement Corp 位置決め制御装置および位置決め制御方法
JP2008258613A (ja) * 2007-04-05 2008-10-23 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

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