JPH08278498A - Color filter - Google Patents
Color filterInfo
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- JPH08278498A JPH08278498A JP8411595A JP8411595A JPH08278498A JP H08278498 A JPH08278498 A JP H08278498A JP 8411595 A JP8411595 A JP 8411595A JP 8411595 A JP8411595 A JP 8411595A JP H08278498 A JPH08278498 A JP H08278498A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ブラックマトリクスを
有するカラーフィルタに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a color filter having a black matrix.
【０００２】[0002]
【従来の技術】カラーフィルタは、たとえば液晶表示装
置に用いる場合、液晶を介してマトリクスアレイ基板な
どに対向させている。2. Description of the Related Art When used in a liquid crystal display device, for example, a color filter is opposed to a matrix array substrate or the like via a liquid crystal.
【０００３】そして、カラーフィルタは、一般に、透明
基板に、金属または黒色感光性樹脂を用いてストライプ
または格子状の遮光層であるブラックマトリクスをパタ
ーニングし、このブラックマトリクス上に、着色層、オ
ーバーコート層、透明電極および配向膜を形成してい
る。In the color filter, generally, a black matrix which is a light-shielding layer in a stripe or lattice pattern is patterned on a transparent substrate using a metal or a black photosensitive resin, and a coloring layer and an overcoat are formed on the black matrix. A layer, a transparent electrode and an alignment film are formed.
【０００４】また、クロム（Ｃｒ）などの金属をスパッ
タリングや蒸着をし、フォトリソグラフィ法を用いてブ
ラックマトリクスを形成する方法は、薄膜で高いＯＤ値
が得られる。In addition, a method of forming a black matrix by sputtering or vapor deposition of a metal such as chromium (Cr) and using a photolithography method can obtain a high OD value in a thin film.
【０００５】ところが、金属のブラックマトリクスで
は、スパッタリングしてフォトリソグラフィを行なう装
置が高価であるとともに、工程数が多く、反射率が高い
ため、現在では低反射で工程数も少なくてすむ黒色感光
性樹脂を用いたブラックマトリクスが注目されている。However, in the case of a metal black matrix, an apparatus for performing photolithography by sputtering is expensive, and the number of steps is large and the reflectance is high. Therefore, at present, the black photosensitivity is low and the number of steps is small. A black matrix using a resin is drawing attention.
【０００６】そして、この黒色感光性樹脂を用いたブラ
ックマトリクスを有するカラーフィルタについて、図７
を参照して説明する。A color filter having a black matrix using this black photosensitive resin is shown in FIG.
Will be described with reference to.
【０００７】図７に示すように、透明基板１上にマトリ
クス状あるいはストライプ状に黒色感光性樹脂のブラッ
クマトリクス２を形成し、このブラックマトリクス２間
に印刷法によってインキを塗布し、加熱することにより
インキを硬化させて３色（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の着色層３を形
成している。As shown in FIG. 7, a black matrix 2 of black photosensitive resin is formed on a transparent substrate 1 in a matrix or stripe pattern, and ink is applied between the black matrices 2 by a printing method and heated. To cure the ink to form the colored layers 3 of three colors (R, G, B).
【０００８】そして、黒色感光性樹脂を用いてブラック
マトリクス２を形成し、遮光に必要な光学濃度２〜４を
実現しようとする場合、膜厚１μｍ〜３μｍの被膜が必
要である。When the black matrix 2 is formed by using the black photosensitive resin and the optical density of 2 to 4 required for light shielding is to be achieved, a film having a film thickness of 1 μm to 3 μm is required.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カラー
フィルタ印刷用のインキは有機溶剤で透明の樹脂に顔料
を分散したものを使用しているため、軟化点で熱流動を
起こすので、ブラックマトリクス２の間隙部外へもイン
キが流出してしまう。このため、図７に示すように、ブ
ラックマトリクス２の部分の着色層３膜厚が大きくなり
ブラックマトリクス２の周辺部の着色層３が、凹む形状
となって凹凸を生じ、着色層３の上にオーバコート層を
設けても平坦化するのは困難である問題を有している。However, since the ink for color filter printing uses a transparent resin in which a pigment is dispersed, heat flow occurs at the softening point. Ink also flows out of the gap. For this reason, as shown in FIG. 7, the thickness of the colored layer 3 in the black matrix 2 portion becomes large, and the colored layer 3 in the peripheral portion of the black matrix 2 becomes a concave shape to form irregularities, and However, there is a problem that it is difficult to flatten the surface even if an overcoat layer is provided.
【００１０】本発明は、上記問題点に鑑みなされたもの
で、平坦化を図ることができるカラーフィルタを提供す
ることを目的とする。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a color filter capable of achieving flatness.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項１記載のカラーフ
ィルタは、透明基板と、この透明基板上に形成された複
数の色で形成された着色層と、隣合う異なる色の着色層
間に位置し前記透明基板上にこの基板から離れるに従い
幅細になる順テーパ状に形成された遮光層とを具備した
ものである。According to a first aspect of the present invention, there is provided a color filter including: a transparent substrate; a colored layer formed on the transparent substrate with a plurality of colors; and a colored layer disposed between adjacent colored layers of different colors. On the transparent substrate, a light-shielding layer formed in a forward tapered shape that becomes narrower as it is separated from the substrate is provided.
【００１２】請求項２記載のカラーフィルタは、請求項
１記載のカラーフィルタにおいて、遮光層は、透明基板
からの距離にかかわらず等幅に形成された遮光部と、こ
の遮光部の側部に接し前記透明基板から離れるに従い幅
細になるテーパ部とを具備したものである。A color filter according to a second aspect is the color filter according to the first aspect, wherein the light-shielding layer has a light-shielding portion formed to have an equal width regardless of a distance from the transparent substrate, and a side portion of the light-shielding portion. And a taper portion that becomes narrower as it comes into contact with the transparent substrate.
【００１３】[0013]
【作用】本発明は、透明基板上に形成された隣合う異な
る色の着色層間に形成された遮光層を、透明基板から離
れるに従い幅細になる順テーパ状に形成したため、着色
層の形成時に遮光層近傍の着色層が大きく凹んで、着色
層の最も突出した部分と最も凹んだ部分との差が小さく
なり、平坦性を向上する。According to the present invention, the light-shielding layer formed between the adjacent colored layers of different colors formed on the transparent substrate is formed in a forward taper shape which becomes narrower as the distance from the transparent substrate increases. The colored layer in the vicinity of the light shielding layer is largely recessed, the difference between the most protruding portion and the most recessed portion of the colored layer is reduced, and the flatness is improved.
【００１４】[0014]
【実施例】以下、本発明の一実施例のカラー液晶表示装
置を図面を参照して説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A color liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１５】図１に示すように、カラーフィルタ10は、
透明基板であるガラス基板11上に遮光層となるブラック
マトリクス12が形成され、このブラックマトリクス12は
ガラス基板11上にこのガラス基板11からの距離にかかわ
らず等幅のたとえばカーボンブラックなどの黒色顔料が
含まれた黒色感光性樹脂で形成された遮光部であるブラ
ックマトリクスパターン13と、このブラックマトリクス
パターン13の両側に形成されガラス基板11から離れるに
従い幅狭になるいわゆる順テーパ状に形成された透明樹
脂のテーパ部である透明樹脂パターン14とから形成さ
れ、ブラックマトリクス12間にそれぞれ赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）および青（Ｂ）のインクが配設された着色層15が
形成されている。さらに、ブラックマトリクス12および
着色層15上に図示しないオーバコート層、透明電極およ
び配向膜が形成されている。As shown in FIG. 1, the color filter 10 includes
A black matrix 12 serving as a light-shielding layer is formed on a glass substrate 11 which is a transparent substrate. The black matrix 12 has a uniform width on the glass substrate 11 regardless of the distance from the glass substrate 11, for example, a black pigment such as carbon black. And a black matrix pattern 13 which is a light-shielding portion formed of a black photosensitive resin containing a black matrix pattern 13 and formed on both sides of the black matrix pattern 13 and formed in a so-called forward taper shape which becomes narrower as the distance from the glass substrate 11 increases. A colored layer 15 formed of a transparent resin pattern 14 which is a taper portion of a transparent resin, and in which red (R), green (G) and blue (B) inks are respectively arranged between black matrices 12. There is. Further, an overcoat layer, a transparent electrode, and an alignment film (not shown) are formed on the black matrix 12 and the coloring layer 15.
【００１６】そして、このカラーフィルタ10に、たとえ
ばスイッチング素子などが配設されたアクティブ型の図
示しないマトリクスアレイ基板を間隙を介して対向して
配設し、これらマトリクスアレイ基板およびカラーフィ
ルタ10間に、液晶を挟持封入してカラー液晶表示装置を
形成している。An active type matrix array substrate (not shown) having switching elements, for example, is disposed on the color filter 10 so as to face each other with a gap therebetween, and between the matrix array substrate and the color filter 10. A liquid crystal is sandwiched and enclosed to form a color liquid crystal display device.
【００１７】次に、上記実施例のカラーフィルタの製造
方法について説明する。Next, a method for manufacturing the color filter of the above embodiment will be described.
【００１８】まず、図２に示すように、ガラス基板11上
にネガ型黒色感光性樹脂をスピンナで２μｍの厚さで塗
布し、オーブン中で８０℃で２０分間乾燥させ、露光時
の酸素遮断膜としてポリビニルアルコール水溶液を塗布
し、同様にしてオーブン中で８０℃で２０分間乾燥させ
る。そして、図示しないフォトマスク上から膜面に２０
０ｍｊ／ｃｍ2 のエネルギで紫外線を照射させ、弱アル
カリ水溶液であるたとえば３％炭酸水素ナトリウム水溶
液で現像し、スピンナで乾燥させてブラックマトリクス
パターン13を形成する。その後、２００℃のオーブン中
で６０分間ベーキングすることでブラックマトリクスパ
ターン13を硬化させ、膜厚１．５μｍ、パターン幅３０
μｍ、開口部７０μｍのブラックマトリクス基板21を形
成する。First, as shown in FIG. 2, a negative type black photosensitive resin is applied on a glass substrate 11 with a spinner to a thickness of 2 μm and dried in an oven at 80 ° C. for 20 minutes to block oxygen during exposure. A polyvinyl alcohol aqueous solution is applied as a film and similarly dried in an oven at 80 ° C. for 20 minutes. Then, the film surface of 20
Ultraviolet rays are irradiated with an energy of 0 mj / cm 2 , the image is developed with a weak alkaline aqueous solution, for example, 3% sodium hydrogen carbonate aqueous solution, and dried with a spinner to form a black matrix pattern 13. After that, the black matrix pattern 13 is cured by baking in an oven at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a film thickness of 1.5 μm and a pattern width of 30 μm.
A black matrix substrate 21 having a size of μm and an opening of 70 μm is formed.
【００１９】次に、図３に示すように、このブラックマ
トリクス基板21に１．５μｍの厚さで透明ポジレジスト
22をスピンナで塗布し、オーブン中で７０℃で１５分間
乾燥した後、このブラックマトリクス基板21の開口部７
０μｍに対して、マスクパターン幅５０μｍのフォトマ
スク23をブラックマトリクス基板21の膜面から３０μｍ
の間隔を維持して１０ｍｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射させ
た。なお、フォトマスク23は、ブラックマトリクスパタ
ーン13，13間の中間に対応する位置に開口部24が形成さ
れ、この開口部24がそれぞれブラックマトリクスパター
ン13，13間の中央に位置するように対向させる。Next, as shown in FIG. 3, a transparent positive resist having a thickness of 1.5 μm is formed on the black matrix substrate 21.
22 was applied with a spinner and dried in an oven at 70 ° C. for 15 minutes, and then the opening 7 of the black matrix substrate 21 was formed.
With respect to 0 μm, a photomask 23 having a mask pattern width of 50 μm is 30 μm from the film surface of the black matrix substrate 21.
Was irradiated with ultraviolet rays of 10 mj / cm 2 . Note that the photomask 23 has an opening 24 formed at a position corresponding to the middle between the black matrix patterns 13 and 13, and opposes the opening 24 so that the opening 24 is located at the center between the black matrix patterns 13 and 13, respectively. .
【００２０】また、透明ポジレジスト22膜上の露光量分
布は、光の回折により図５に示すように、ブラックマト
リクスパターン13，13間の中央で最大値をとり、ブラッ
クマトリクスパターン13に近づくにしたがって徐々に減
少していく。As shown in FIG. 5, the exposure dose distribution on the transparent positive resist 22 film takes a maximum value at the center between the black matrix patterns 13 and 13 and approaches the black matrix pattern 13 as shown in FIG. Therefore, it gradually decreases.
【００２１】さらに、透明ポジレジスト22の露光量と残
膜率の関係は、図６に示すように、３ｍｊ／ｃｍ2 以下
の露光量を与えても、現像で透明ポジレジスト22を溶解
することはできず、３ｍｊ／ｃｍ2 以上の部分では現像
によって膜厚は徐々に減少していき、１０ｍｊ／ｃｍ2
以上照射することですべてが溶解する。Further, as for the relationship between the exposure amount of the transparent positive resist 22 and the residual film rate, as shown in FIG. 6, even if the exposure amount of 3 mj / cm 2 or less is applied, the transparent positive resist 22 is dissolved by the development. The film thickness gradually decreases due to the development in the area of 3 mj / cm 2 or more, and 10 mj / cm 2
All are dissolved by the above irradiation.
【００２２】したがって、０．３％水酸化カリウム水溶
液で現像することで、透明樹脂パターン14は図４に示す
ように、全く現像されないブラックマトリクスパターン
13の側面近傍の膜厚がブラックマトリクスパターン13と
等しく、ブラックマトリクスパターン13から離れるに従
い徐々に減少していき、ブラックマトリクスパターン1
3，13の間隙部の中央５０μｍの膜厚が０になる、すな
わち透明樹脂パターン14はガラス基板11から遠ざかるに
従い幅が薄くなる順テーパ状の形状になる。Therefore, the transparent resin pattern 14 is not developed at all by developing with a 0.3% potassium hydroxide aqueous solution, as shown in FIG.
The film thickness in the vicinity of the side surface of 13 is equal to that of the black matrix pattern 13 and gradually decreases as the distance from the black matrix pattern 13 increases.
The film thickness of 50 μm in the center of the gap between 3 and 13 becomes 0, that is, the transparent resin pattern 14 has a forward taper shape in which the width becomes thinner as the distance from the glass substrate 11 increases.
【００２３】さらに、これらブラックマトリクス12間に
熱硬化性樹脂を有機溶剤で希釈したワニスにそれぞれ
Ｒ、Ｇ、Ｂの有機顔料を分散させたインキを塗布後に加
熱して着色層15を形成するとともに、これらブラックマ
トリクス12および着色層15上に、図示しないオーバコー
ト層、透明電極および配向膜を形成して図１に示すカラ
ーフィルタ10が完成する。Further, a varnish obtained by diluting a thermosetting resin with an organic solvent is applied between the black matrixes 12 and inks in which R, G, and B organic pigments are respectively dispersed are applied and heated to form a colored layer 15. An overcoat layer, a transparent electrode and an alignment film (not shown) are formed on the black matrix 12 and the coloring layer 15 to complete the color filter 10 shown in FIG.
【００２４】ここで、図７に示す従来のカラーフィルタ
と、図１に示す上記実施例のカラーフィルタ10とで、熱
硬化性樹脂を有機溶剤で希釈したワニスにそれぞれＲ、
Ｇ、Ｂの有機顔料を分散させたインキをオフセット印刷
機を用いて２．５μｍの厚さで印刷することによって３
色の着色層３，15を設け、オーブン中で２３０℃で６０
分間ベーキングを行ない、着色層３，15の高低差を比較
したところ、図７に示す従来例の場合には１．１２μｍ
であるのに対し、図１に示す実施例の場合には０．２７
μｍとかなり高低差が小さくなる。Here, in the conventional color filter shown in FIG. 7 and the color filter 10 of the above embodiment shown in FIG.
By printing the ink in which the organic pigments of G and B are dispersed at a thickness of 2.5 μm using an offset printing machine, 3
Providing colored layers 3, 15 and 60 at 230 ℃ in the oven
When baking was performed for a minute and the height differences of the colored layers 3 and 15 were compared, it was 1.12 μm in the case of the conventional example shown in FIG.
On the other hand, in the case of the embodiment shown in FIG.
The difference in height is quite small with μm.
【００２５】すなわち、図７に示す従来例では、ブラッ
クマトリクス２の直上の中央部の着色層３の膜厚が最大
で、ブラックマトリクス２の周辺部の着色層３の膜厚が
最小であるため、高低差が大きいのに対し、図１に示す
実施例では、ブラックマトリクス12の両側面に透明樹脂
パターン14が順テーパ状にパターニングされているた
め、ブラックマトリクス12の周辺部の着色層15の膜厚が
従来よりも増加し、高低差が減少する。That is, in the conventional example shown in FIG. 7, the thickness of the colored layer 3 in the central portion immediately above the black matrix 2 is maximum, and the thickness of the colored layer 3 in the peripheral portion of the black matrix 2 is minimum. In contrast to the large difference in height, in the embodiment shown in FIG. 1, the transparent resin patterns 14 are patterned in a forward tapered shape on both side surfaces of the black matrix 12, so that the colored layer 15 in the peripheral portion of the black matrix 12 is formed. The film thickness is increased and the height difference is reduced compared to the conventional one.
【００２６】上記実施例によれば、ブラックマトリクス
基板21に印刷法により色置きをした場合に最も膜厚の高
さが低くなるブラックマトリクス12の側面に順テーパ状
の透明樹脂パターン14を設けているため、この部分の膜
厚が増大し着色層15の膜厚差つまり山谷差の小さく平坦
化に優れる。According to the above-described embodiment, the forward taper transparent resin pattern 14 is provided on the side surface of the black matrix 12 which has the lowest film thickness when the black matrix substrate 21 is colored by the printing method. Therefore, the film thickness of this portion is increased, and the difference in film thickness of the colored layer 15, that is, the difference between peaks and valleys is small, and the flattening is excellent.
【００２７】そして、上述のカラーフィルタ10を用いて
液晶表示装置を製造すると、着色層15上に形成する対向
電極との間にギャップのばらつきが生じず、液晶の配向
に乱れがないために表示むら、しみのない優れた表示性
能が達成できる。When a liquid crystal display device is manufactured by using the color filter 10 described above, a gap does not occur between the counter electrode formed on the colored layer 15 and the liquid crystal alignment is not disturbed. Excellent display performance without unevenness or spots can be achieved.
【００２８】なお、ブラックマトリクス12は、ブラック
マトリクスパターン13および透明樹脂パターン14を有す
る構成に限らず、黒色感光性樹脂のみで順テーパ状に形
成しても、同様の効果を得ることができる。Incidentally, the black matrix 12 is not limited to the structure having the black matrix pattern 13 and the transparent resin pattern 14, but the same effect can be obtained by forming the black matrix 12 in a forward tapered shape only with the black photosensitive resin.
【００２９】[0029]
【発明の効果】本発明によれば、順テーパ状の遮光層を
用いたため平坦化に優れ、表示むら、しみのない優れた
表示性能を達成できる。According to the present invention, since a light shielding layer having a forward tapered shape is used, flattening is excellent, and excellent display performance without display unevenness and spots can be achieved.
【図１】本発明の一実施例のカラーフィルタを示す断面
図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a color filter according to an embodiment of the present invention.
【図２】同上カラーフィルタの一製造工程を示す断面図
である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing one manufacturing process of the above color filter.
【図３】同上カラーフィルタの図２に示す次の製造工程
を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing the next manufacturing step of the above color filter shown in FIG.
【図４】同上カラーフィルタの図３に示す次の製造工程
を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing the next manufacturing process of the above color filter shown in FIG.
【図５】同上露光量と開口部との関係を示すグラフであ
る。FIG. 5 is a graph showing a relationship between an exposure amount and an opening portion.
【図６】同上残膜率と露光量との関係を示すグラフであ
る。FIG. 6 is a graph showing the relationship between the residual film rate and the exposure dose.
【図７】従来例のカラーフィルタを示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a conventional color filter.
10 カラーフィルタ 11 透明基板としてのガラス基板 12 遮光層としてのブラックマトリクス 13 遮光部としてのブラックマトリクスパターン 14 テーパ部としての透明樹脂パターン 15 着色層 10 Color filter 11 Glass substrate as a transparent substrate 12 Black matrix as a light shielding layer 13 Black matrix pattern as a light shielding portion 14 Transparent resin pattern 15 as a tapered portion 15 Colored layer
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成７年８月３日[Submission date] August 3, 1995
【手続補正１】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】特許請求の範囲[Name of item to be amended] Claims
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【特許請求の範囲】[Claims]
【手続補正２】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１１[Correction target item name] 0011
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項１記載のカラーフ
ィルタは、透明基板と、この透明基板上に形成された複
数の色の着色層と、隣合う異なる色の着色層間に位置し
前記透明基板上にこの透明基板からの距離にかかわらず
等幅に形成された遮光部と、この遮光部の側部に接し前
記透明基板から離れるに従い幅細になる順テーパ状に形
成された透明樹脂のテーパ部とを具備したものである。A color filter according to claim 1 is located between a transparent substrate, a plurality of colored layers formed on the transparent substrate, and adjacent colored layers of different colors. On the substrate regardless of the distance from this transparent substrate
The light-shielding part formed with the same width and the side part of this light-shielding part
The transparent resin taper portion is formed in a forward taper shape that becomes narrower as the distance from the transparent substrate increases.
【手続補正３】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１２[Correction target item name] 0012
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１２】請求項２記載のカラーフィルタは、透明基
板と、この透明基板上に形成された複数の色の着色層
と、隣合う異なる色の着色層間に位置し前記透明基板上
にこの透明基板から離れるに従い幅細になる順テーパ状
に形成された遮光層とを具備したものである。The color filter according to claim 2 is a transparent substrate.
Plate and colored layers of multiple colors formed on this transparent substrate
And located between adjacent colored layers of different colors on the transparent substrate
In addition, the forward taper shape becomes narrower as it goes away from this transparent substrate.
And a light-shielding layer formed on .
【手続補正４】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００１３[Correction target item name] 0013
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００１３】[0013]
【作用】本発明は、透明基板上に形成された隣合う異な
る色の着色層間に、遮光部を透明基板からの距離にかか
わらず等幅に形成し、この遮光部の側部に接して透明基
板から離れるに従い幅細になる順テーパ状に透明樹脂の
テーパ部を形成したため、着色層の形成時に遮光層近傍
の着色層が大きく凹んで、着色層の最も突出した部分と
最も凹んだ部分との差が小さくなり、平坦性を向上す
る。According to the present invention , the light-shielding portion is provided at a distance from the transparent substrate between the adjacent colored layers of different colors formed on the transparent substrate.
However , the transparent resin is formed to have the same width, and the width of the transparent resin is reduced in contact with the side portion of the light-shielding portion as the distance from the transparent substrate increases .
Since the tapered portion is formed, the colored layer near the light-shielding layer is largely recessed when the colored layer is formed, and the difference between the most protruding portion and the most recessed portion of the colored layer is reduced, thus improving the flatness.
【手続補正５】[Procedure Amendment 5]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】００２９[Name of item to be corrected] 0029
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【００２９】[0029]
【発明の効果】本発明によれば、透明基板からの距離に
かかわらず等幅の遮光部およびこの遮光部の側部に接し
て透明基板から離れるに従い幅細になる順テーパ状の透
明樹脂のテーパ部、あるいは、順テーパ状の遮光層を用
いたため平坦化に優れ、表示むら、しみのない優れた表
示性能を達成できる。According to the present invention, the distance from the transparent substrate is
Touch the light-shielding part of equal width and the side of this light-shielding part.
Forward taper that becomes thinner as it moves away from the transparent substrate.
Since a light resin taper portion or a forward-tapered light shielding layer is used, flattening is excellent, and excellent display performance without display unevenness or spots can be achieved.
Claims (2)
層と、 隣合う異なる色の着色層間に位置し前記透明基板上にこ
の基板から離れるに従い幅細になる順テーパ状に形成さ
れた遮光層とを具備したことを特徴とするカラーフィル
タ。1. A transparent substrate, a colored layer formed on the transparent substrate in a plurality of colors, and a transparent layer which is located between adjacent colored layers of different colors and is spaced apart from the substrate on the transparent substrate. And a light-shielding layer formed in a forward tapered shape.
部と、 この遮光部の側部に接し前記透明基板から離れるに従い
幅細になるテーパ部とを具備したことを特徴とする請求
項１記載のカラーフィルタ。2. The light-shielding layer comprises a light-shielding portion formed to have an equal width regardless of the distance from the transparent substrate, and a taper portion which is in contact with a side portion of the light-shielding portion and becomes narrower as the distance from the transparent substrate increases. The color filter according to claim 1, wherein the color filter is formed.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8411595A JPH08278498A (en) | 1995-04-10 | 1995-04-10 | Color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8411595A JPH08278498A (en) | 1995-04-10 | 1995-04-10 | Color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08278498A true JPH08278498A (en) | 1996-10-22 |
Family
ID=13821529
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8411595A Pending JPH08278498A (en) | 1995-04-10 | 1995-04-10 | Color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08278498A (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100387165B1 (en) * | 1998-12-14 | 2003-06-11 | 닛뽄덴끼 가부시끼가이샤 | Liquid crystal display device |
| KR100698059B1 (en) * | 2003-12-27 | 2007-03-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The liquid crystal display device and the method for fabricating the same |
| JP2007163927A (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Seiko Epson Corp | Color filter, electrooptical device, electronic equipment and method of manufacturing color filter |
| WO2008047499A1 (en) * | 2006-10-19 | 2008-04-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate and liquid crystal display |
-
1995
- 1995-04-10 JP JP8411595A patent/JPH08278498A/en active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100387165B1 (en) * | 1998-12-14 | 2003-06-11 | 닛뽄덴끼 가부시끼가이샤 | Liquid crystal display device |
| KR100698059B1 (en) * | 2003-12-27 | 2007-03-23 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | The liquid crystal display device and the method for fabricating the same |
| US7602460B2 (en) | 2003-12-27 | 2009-10-13 | Lg Display Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
| JP2007163927A (en) * | 2005-12-15 | 2007-06-28 | Seiko Epson Corp | Color filter, electrooptical device, electronic equipment and method of manufacturing color filter |
| WO2008047499A1 (en) * | 2006-10-19 | 2008-04-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate and liquid crystal display |
| US8045103B2 (en) | 2006-10-19 | 2011-10-25 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate and liquid crystal display device |
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