JPH08264151A - イオンビームの平行化調整方法 - Google Patents
イオンビームの平行化調整方法Info
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- JPH08264151A JPH08264151A JP7090202A JP9020295A JPH08264151A JP H08264151 A JPH08264151 A JP H08264151A JP 7090202 A JP7090202 A JP 7090202A JP 9020295 A JP9020295 A JP 9020295A JP H08264151 A JPH08264151 A JP H08264151A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 イオンビームを曲げ戻す平行化手段に供給す
る電流または電圧を、正確にかつ短時間で設定すること
かできる平行化調整方法を提供する。 【構成】 上流側の多点ビームモニタ２０のファラデー
カップＦの内の二つと、その真ん中に位置する下流側の
多点ビームモニタ２２のファラデーカップＢの内の一つ
を用いて、モニタ２０に入射するイオンビームを走査し
て、二つのファラデーカップＦを並列接続してビーム電
流波形を計測し、モニタ２０の位置におけるイオンビー
ムのビーム走査信号上での重心位置を求め、かつ、モニ
タ２２に入射するイオンビームを走査して、一つのファ
ラデーカップＢを用いてビーム電流波形を計測し、モニ
タ２２の位置におけるイオンビームの走査信号上での重
心位置を求め、二つの重心位置が互いに一致するよう
に、平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC を増減させ
てビームの曲げ戻し度合を調整する。
る電流または電圧を、正確にかつ短時間で設定すること
かできる平行化調整方法を提供する。 【構成】 上流側の多点ビームモニタ２０のファラデー
カップＦの内の二つと、その真ん中に位置する下流側の
多点ビームモニタ２２のファラデーカップＢの内の一つ
を用いて、モニタ２０に入射するイオンビームを走査し
て、二つのファラデーカップＦを並列接続してビーム電
流波形を計測し、モニタ２０の位置におけるイオンビー
ムのビーム走査信号上での重心位置を求め、かつ、モニ
タ２２に入射するイオンビームを走査して、一つのファ
ラデーカップＢを用いてビーム電流波形を計測し、モニ
タ２２の位置におけるイオンビームの走査信号上での重
心位置を求め、二つの重心位置が互いに一致するよう
に、平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC を増減させ
てビームの曲げ戻し度合を調整する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、上流側の走査手段に
よって電気的に走査したイオンビームを下流側の平行化
手段によって電気的に曲げ戻すことによって、イオンビ
ームを平行走査する構成のイオン注入装置において、平
行化手段に供給する電流または電圧を、正確にかつ短時
間で設定することができる、イオンビームの平行化調整
方法に関する。電気的にというのは、電界または磁界に
よって、という意味である。
よって電気的に走査したイオンビームを下流側の平行化
手段によって電気的に曲げ戻すことによって、イオンビ
ームを平行走査する構成のイオン注入装置において、平
行化手段に供給する電流または電圧を、正確にかつ短時
間で設定することができる、イオンビームの平行化調整
方法に関する。電気的にというのは、電界または磁界に
よって、という意味である。
【０００２】
【従来の技術】図１０は、イオンビームを平行走査する
構成のイオン注入装置の一例を部分的に示す図である。
図１１は、図１０中の多点ビームモニタ周りの拡大斜視
図である。
構成のイオン注入装置の一例を部分的に示す図である。
図１１は、図１０中の多点ビームモニタ周りの拡大斜視
図である。
【０００３】このイオン注入装置は、図示しないイオン
源から引き出され、かつ必要に応じて質量分析、加速等
が行われたスポット状のイオンビーム２を、上流側の走
査電磁石４によって電気的に走査し、かつその下流側の
平行化電磁石６によって電気的に曲げ戻すことによっ
て、イオンビーム２をＸ方向（たとえば水平方向。以下
同じ）において平行走査（パラレルスキャン）して、Ｘ
方向に直交するＺ方向に平行な平行ビームを得て、それ
をホルダ１０に保持された基板（たとえばウェーハ）８
に照射するよう構成されている。平行化電磁石６は、コ
リメータマグネットと呼ばれる場合もある。
源から引き出され、かつ必要に応じて質量分析、加速等
が行われたスポット状のイオンビーム２を、上流側の走
査電磁石４によって電気的に走査し、かつその下流側の
平行化電磁石６によって電気的に曲げ戻すことによっ
て、イオンビーム２をＸ方向（たとえば水平方向。以下
同じ）において平行走査（パラレルスキャン）して、Ｘ
方向に直交するＺ方向に平行な平行ビームを得て、それ
をホルダ１０に保持された基板（たとえばウェーハ）８
に照射するよう構成されている。平行化電磁石６は、コ
リメータマグネットと呼ばれる場合もある。
【０００４】ホルダ１０および基板８は、この例では、
ホルダ駆動装置１２によって前記Ｘ方向と実質的に直交
するＹ方向（たとえば垂直方向。以下同じ）に機械的に
走査され、これとイオンビーム２の前記電気的走査との
協働（ハイブリッドスキャン）によって、基板８の全面
に均一にイオン注入が行われるようにしている。
ホルダ駆動装置１２によって前記Ｘ方向と実質的に直交
するＹ方向（たとえば垂直方向。以下同じ）に機械的に
走査され、これとイオンビーム２の前記電気的走査との
協働（ハイブリッドスキャン）によって、基板８の全面
に均一にイオン注入が行われるようにしている。
【０００５】ホルダ駆動装置１２は、この例では、ホル
ダ１０を支えるアーム１３を可逆転式のモータ（例えば
ダイレクトドライブモータ）１４によって、矢印Ｒのよ
うに所定角度範囲内で往復回転させるよう構成されてい
る。
ダ１０を支えるアーム１３を可逆転式のモータ（例えば
ダイレクトドライブモータ）１４によって、矢印Ｒのよ
うに所定角度範囲内で往復回転させるよう構成されてい
る。
【０００６】上記のようなイオン注入装置においては、
平行ビームを得るための平行化電磁石６の励磁電流を、
イオンビーム２のイオン種、エネルギー等によって適正
な値に設定しないと、平行ビームを得ることはできな
い。その設定方法として、従来は次の二つが行われてい
た。
平行ビームを得るための平行化電磁石６の励磁電流を、
イオンビーム２のイオン種、エネルギー等によって適正
な値に設定しないと、平行ビームを得ることはできな
い。その設定方法として、従来は次の二つが行われてい
た。
【０００７】〔従来の設定方法１〕この方法は、平行化
電磁石６の出口付近に設けたダンプファラデー１６を用
いるものである。ダンプファラデー１６は、走査電磁石
４の磁界が０のときに（即ち走査電磁石４においてイオ
ンビーム２を全く走査しないときに）、平行化電磁石６
の励磁電流を平行ビームを得るのに適当な値に設定すれ
ばイオンビーム２が通るであろう幾何学的軌道上に設置
してある。従って、走査電磁石４の磁界を０にした状態
で、平行化電磁石６の励磁電流を変化させて、ダンプフ
ァラデー１６でそこに入射するイオンビーム量（ビーム
電流）を計測し、その値が最大になった値に平行化電磁
石６の電流を設定することで、平行ビームを得る励磁電
流を設定することができる。
電磁石６の出口付近に設けたダンプファラデー１６を用
いるものである。ダンプファラデー１６は、走査電磁石
４の磁界が０のときに（即ち走査電磁石４においてイオ
ンビーム２を全く走査しないときに）、平行化電磁石６
の励磁電流を平行ビームを得るのに適当な値に設定すれ
ばイオンビーム２が通るであろう幾何学的軌道上に設置
してある。従って、走査電磁石４の磁界を０にした状態
で、平行化電磁石６の励磁電流を変化させて、ダンプフ
ァラデー１６でそこに入射するイオンビーム量（ビーム
電流）を計測し、その値が最大になった値に平行化電磁
石６の電流を設定することで、平行ビームを得る励磁電
流を設定することができる。
【０００８】〔従来の設定方法２〕この方法は、例えば
特開平４−２２９００号公報に開示されているように、
基板８の上流側に配置された多点ビームモニタ２０およ
び下流側に配置された多点ビームモニタ２２を用いて、
イオンビーム２の平行度を計測するものである。
特開平４−２２９００号公報に開示されているように、
基板８の上流側に配置された多点ビームモニタ２０およ
び下流側に配置された多点ビームモニタ２２を用いて、
イオンビーム２の平行度を計測するものである。
【０００９】各多点ビームモニタ２０、２２は、図１１
に示すように、イオンビーム２を受けてそのビーム電流
を計測する複数のファラデーカップＦ、Ｂをイオンビー
ム２の走査方向であるＸ方向に沿って等間隔に並べたも
のである。各ファラデーカップＦ、ＢのＸ方向上の位置
は予め分かっている。
に示すように、イオンビーム２を受けてそのビーム電流
を計測する複数のファラデーカップＦ、Ｂをイオンビー
ム２の走査方向であるＸ方向に沿って等間隔に並べたも
のである。各ファラデーカップＦ、ＢのＸ方向上の位置
は予め分かっている。
【００１０】尚、図１１中のフィールドクランプ板１８
は、平行化電磁石６からの磁界が下流側へ漏れ出るのを
阻止するものであり、イオンビーム２はその開口部１９
を通過する。上流側の多点ビームモニタ２０は、開口部
２６を有する支持板２４の前方部に取り付けられてお
り、アーム２８によって矢印Ａのようにビーム軌道に対
して上下させられる。即ち、この多点ビームモニタ２０
は、ビーム電流計測時は、２点鎖線で示すように下げら
れ、イオンビーム２を開口部２６を通して後方へ通過さ
せて基板８に入射させたり多点ビームモニタ２２に入射
させたりするときは、実線で示すように上げられる。
は、平行化電磁石６からの磁界が下流側へ漏れ出るのを
阻止するものであり、イオンビーム２はその開口部１９
を通過する。上流側の多点ビームモニタ２０は、開口部
２６を有する支持板２４の前方部に取り付けられてお
り、アーム２８によって矢印Ａのようにビーム軌道に対
して上下させられる。即ち、この多点ビームモニタ２０
は、ビーム電流計測時は、２点鎖線で示すように下げら
れ、イオンビーム２を開口部２６を通して後方へ通過さ
せて基板８に入射させたり多点ビームモニタ２２に入射
させたりするときは、実線で示すように上げられる。
【００１１】上記のような多点ビームモニタ２０および
２２を用いてイオンビーム２の平行度を計測する方法
は、上記特開平４−２２９００号公報に詳述されている
が、要約して言えば次のとおりである。
２２を用いてイオンビーム２の平行度を計測する方法
は、上記特開平４−２２９００号公報に詳述されている
が、要約して言えば次のとおりである。
【００１２】 まず、上流側の多点ビームモニタ２０
および下流側の多点ビームモニタ２２にイオンビーム２
が入射する状態で最低１往復ずつ走査を行う。
および下流側の多点ビームモニタ２２にイオンビーム２
が入射する状態で最低１往復ずつ走査を行う。
【００１３】 このとき、データロガー等を用いて、
両多点ビームモニタ２０、２２への入射イオンビーム２
のビーム電流のサンプリングを行い、ビーム電流の時間
的変化を表すデータを、両多点ビームモニタ２０、２２
についてそれぞれ求める。この上、下流側のデータは、
多点ビームモニタ２０、２２を構成する複数のファラデ
ーカップＦ、Ｂの各中心にイオンビーム２が入射してい
る状態に対応する複数のピークを持つ。
両多点ビームモニタ２０、２２への入射イオンビーム２
のビーム電流のサンプリングを行い、ビーム電流の時間
的変化を表すデータを、両多点ビームモニタ２０、２２
についてそれぞれ求める。この上、下流側のデータは、
多点ビームモニタ２０、２２を構成する複数のファラデ
ーカップＦ、Ｂの各中心にイオンビーム２が入射してい
る状態に対応する複数のピークを持つ。
【００１４】 このようにして求めたイオンビーム２
の離散的な位置と時間の関係を示すデータに適当な内挿
および外挿を行うことにより、イオンビーム２の走査位
置の連続的な時間的変化を示す関数を、上流側の多点ビ
ームモニタ２０および下流側の多点ビームモニタ２２に
ついてそれぞれ求める。
の離散的な位置と時間の関係を示すデータに適当な内挿
および外挿を行うことにより、イオンビーム２の走査位
置の連続的な時間的変化を示す関数を、上流側の多点ビ
ームモニタ２０および下流側の多点ビームモニタ２２に
ついてそれぞれ求める。
【００１５】 上記二つの（即ち上流側および下流側
についての）関数から、互いに対応する時刻ｔにおける
イオンビーム２の上流側の多点ビームモニタ２０での走
査位置および下流側の多点ビームモニタ２２での走査位
置を求め、この両方の位置関係によって、イオンビーム
２の時刻ｔにおける平行度を求めることができる。そし
て、この注目する時刻ｔを変えることにより、イオンビ
ーム２の走査領域内での複数点の平行度をきめ細かく求
めることができる。
についての）関数から、互いに対応する時刻ｔにおける
イオンビーム２の上流側の多点ビームモニタ２０での走
査位置および下流側の多点ビームモニタ２２での走査位
置を求め、この両方の位置関係によって、イオンビーム
２の時刻ｔにおける平行度を求めることができる。そし
て、この注目する時刻ｔを変えることにより、イオンビ
ーム２の走査領域内での複数点の平行度をきめ細かく求
めることができる。
【００１６】従来の設定方法２は、上記のようにしてイ
オンビーム２の走査領域内における複数点の平行度を計
測し、その結果に基づいて、各点でそれぞれ平行になる
ように、平行化電磁石６の励磁電流を設定するものであ
る。
オンビーム２の走査領域内における複数点の平行度を計
測し、その結果に基づいて、各点でそれぞれ平行になる
ように、平行化電磁石６の励磁電流を設定するものであ
る。
【００１７】
【発明が解決しようとする課題】従来の設定方法１にお
いては、イオンビーム２の大きさ、イオンビーム２内の
電流密度分布等によっては、平行化電磁石６の励磁電流
を適正に設定できない場合が発生する。例えば、大電流
ビームによく見られる、円筒状の（即ち中心部が薄い）
ビーム電流密度分布を有するイオンビーム２の例を図１
２に示すが、この場合は、イオンビーム２の実際の中心
軌道（重心位置）は２ａなのに、ダンプファラデー１６
が最大ビーム電流を検出する位置は２ｂであり、両者に
ずれが生じる。このダンプファラデー１６で検出した位
置２ｂを、イオンビーム２の重心と誤解して、平行化電
磁石６の励磁電流を設定したのでは、当該励磁電流をイ
オンビーム２の平行化に適正な値に設定することはでき
ない。
いては、イオンビーム２の大きさ、イオンビーム２内の
電流密度分布等によっては、平行化電磁石６の励磁電流
を適正に設定できない場合が発生する。例えば、大電流
ビームによく見られる、円筒状の（即ち中心部が薄い）
ビーム電流密度分布を有するイオンビーム２の例を図１
２に示すが、この場合は、イオンビーム２の実際の中心
軌道（重心位置）は２ａなのに、ダンプファラデー１６
が最大ビーム電流を検出する位置は２ｂであり、両者に
ずれが生じる。このダンプファラデー１６で検出した位
置２ｂを、イオンビーム２の重心と誤解して、平行化電
磁石６の励磁電流を設定したのでは、当該励磁電流をイ
オンビーム２の平行化に適正な値に設定することはでき
ない。
【００１８】一方、従来の設定方法２においては、基板
８上のいたる所でのイオンビーム２の平行度を正確に求
めることができるが、データの採取および処理に長時間
を要する。例えば、１回のデータ採取および処理に要す
る時間は、短くても数分間であり、平行化電磁石６の励
磁電流の設定には、３〜５回程度のビーム平行度評価、
励磁電流再設定が必要であり、その場合、処理に要する
時間が１０分〜２０分にもなってしまう。通常は、基板
処理効率（スループット）の要請から、イオンビーム２
の各種調整に使う全時間は１０分〜１５分程度とされて
おり、平行化電磁石６の励磁電流設定だけに上記のよう
な長時間（１０〜２０分）を費やすことは許されない。
８上のいたる所でのイオンビーム２の平行度を正確に求
めることができるが、データの採取および処理に長時間
を要する。例えば、１回のデータ採取および処理に要す
る時間は、短くても数分間であり、平行化電磁石６の励
磁電流の設定には、３〜５回程度のビーム平行度評価、
励磁電流再設定が必要であり、その場合、処理に要する
時間が１０分〜２０分にもなってしまう。通常は、基板
処理効率（スループット）の要請から、イオンビーム２
の各種調整に使う全時間は１０分〜１５分程度とされて
おり、平行化電磁石６の励磁電流設定だけに上記のよう
な長時間（１０〜２０分）を費やすことは許されない。
【００１９】そこでこの発明は、ビームを曲げ戻す平行
化手段に供給する電流または電圧を、正確にかつ短時間
で設定することができる、イオンビームの平行化調整方
法を提供することを主たる目的とする。
化手段に供給する電流または電圧を、正確にかつ短時間
で設定することができる、イオンビームの平行化調整方
法を提供することを主たる目的とする。
【００２０】
【発明の概要】この発明に係る平行化調整方法の一つ
は、イオンビームのビームラインに沿って上流側と下流
側とに互いに距離をあけて配置された上流側ビームモニ
タおよび下流側ビームモニタであって、上流側ビームモ
ニタはイオンビームの走査方向に沿って配置された二つ
のファラデーカップを有し、下流側ビームモニタはイオ
ンビームの走査方向において上流側ビームモニタの前記
二つのファラデーカップのちょうど真ん中に位置するフ
ァラデーカップを有しており、そのような上流側ビーム
モニタおよび下流側ビームモニタを用いて、イオンビー
ムが上流側ビームモニタに入射する状態でイオンビーム
を走査して、同ビームモニタの前記二つのファラデーカ
ップを互いに並列接続しておいてそれらを用いてビーム
電流波形を計測して、このビーム電流波形から上流側ビ
ームモニタの位置におけるイオンビームのビーム走査信
号上での重心位置を求め、イオンビームが下流側ビーム
モニタに入射する状態でイオンビームを走査して、同ビ
ームモニタの前記ファラデーカップを用いてビーム電流
波形を計測して、このビーム電流波形から下流側ビーム
モニタの位置におけるイオンビームのビーム走査信号上
での重心位置を求め、上記のようにして求めた二つの重
心位置が互いに一致するように、前記平行化手段に供給
する電流または電圧を増減させて同平行化手段における
ビームの曲げ戻しの度合を調整することを特徴とする。
は、イオンビームのビームラインに沿って上流側と下流
側とに互いに距離をあけて配置された上流側ビームモニ
タおよび下流側ビームモニタであって、上流側ビームモ
ニタはイオンビームの走査方向に沿って配置された二つ
のファラデーカップを有し、下流側ビームモニタはイオ
ンビームの走査方向において上流側ビームモニタの前記
二つのファラデーカップのちょうど真ん中に位置するフ
ァラデーカップを有しており、そのような上流側ビーム
モニタおよび下流側ビームモニタを用いて、イオンビー
ムが上流側ビームモニタに入射する状態でイオンビーム
を走査して、同ビームモニタの前記二つのファラデーカ
ップを互いに並列接続しておいてそれらを用いてビーム
電流波形を計測して、このビーム電流波形から上流側ビ
ームモニタの位置におけるイオンビームのビーム走査信
号上での重心位置を求め、イオンビームが下流側ビーム
モニタに入射する状態でイオンビームを走査して、同ビ
ームモニタの前記ファラデーカップを用いてビーム電流
波形を計測して、このビーム電流波形から下流側ビーム
モニタの位置におけるイオンビームのビーム走査信号上
での重心位置を求め、上記のようにして求めた二つの重
心位置が互いに一致するように、前記平行化手段に供給
する電流または電圧を増減させて同平行化手段における
ビームの曲げ戻しの度合を調整することを特徴とする。
【００２１】上記方法によれば、上流側の互いに並列接
続された二つのファラデーカップで求めたイオンビーム
のビーム走査信号上での重心位置は、両ファラデーカッ
プの真ん中に対応している。これは、両ファラデーカッ
プは、Ｚ軸上は同じ所にあり、両ファラデーカップ間で
はビーム電流波形は互いに同じであることが期待できる
からである。
続された二つのファラデーカップで求めたイオンビーム
のビーム走査信号上での重心位置は、両ファラデーカッ
プの真ん中に対応している。これは、両ファラデーカッ
プは、Ｚ軸上は同じ所にあり、両ファラデーカップ間で
はビーム電流波形は互いに同じであることが期待できる
からである。
【００２２】一方、下流側のファラデーカップは、幾何
学的には、上流側の二つのファラデーカップのちょうど
真ん中の後方に設けられている。
学的には、上流側の二つのファラデーカップのちょうど
真ん中の後方に設けられている。
【００２３】従って、イオンビームがＺ軸に平行な場
合、上流側の二つのファラデーカップで求めたイオンビ
ームの重心位置と、下流側のファラデーカップで求めた
イオンビームの重心位置では、互いに一致する。
合、上流側の二つのファラデーカップで求めたイオンビ
ームの重心位置と、下流側のファラデーカップで求めた
イオンビームの重心位置では、互いに一致する。
【００２４】それゆえ、上記のようにして求めた二つの
重心位置が互いに一致するように、平行化手段に供給す
る電流または電圧を増減させて同平行化手段におけるビ
ームの曲げ戻しの度合を調整することで、平行ビームを
得ることができる。
重心位置が互いに一致するように、平行化手段に供給す
る電流または電圧を増減させて同平行化手段におけるビ
ームの曲げ戻しの度合を調整することで、平行ビームを
得ることができる。
【００２５】このような方法は、従来の設定方法１と違
って、イオンビームの平行度を実際に計測するので、平
行化手段に対する電流または電圧設定を正確に行うこと
ができる。
って、イオンビームの平行度を実際に計測するので、平
行化手段に対する電流または電圧設定を正確に行うこと
ができる。
【００２６】また、従来の設定方法２と違って、上流側
ビームモニタにおける計測が１回、下流側ビームモニタ
における計測が１回の合計２回の計測で済むため、平行
化手段に対する電流または電圧設定を短時間で行うこと
ができる。
ビームモニタにおける計測が１回、下流側ビームモニタ
における計測が１回の合計２回の計測で済むため、平行
化手段に対する電流または電圧設定を短時間で行うこと
ができる。
【００２７】
【実施例】図１は、この発明に係る平行化調整方法を実
施する装置の構成例を示す図である。図１０および図１
１の例と同一または相当する部分には同一符号を付して
いる。
施する装置の構成例を示す図である。図１０および図１
１の例と同一または相当する部分には同一符号を付して
いる。
【００２８】この実施例においては、上流側ビームモニ
タおよび下流側ビームモニタとして、前述したような多
点ビームモニタ２０および２２をそれぞれ用いる。両多
点ビームモニタ２０、２２は、元々は、前述した特開平
４−２２９００号公報に記載されているように、イオン
ビーム２の走査波形整形に用いられるものであり、これ
を兼用すれば、平行化調整用に新たにビームモニタを設
ける必要がなくなり、機器構成を簡略化することができ
るので都合が良い。但しそのようにせずに、多点ビーム
モニタ２０および２２とは別に、イオンビーム２のビー
ムラインに沿って上流側と下流側とに互いに距離をあけ
て配置された上流側ビームモニタおよび下流側ビームモ
ニタであって、上流側ビームモニタはイオンビームの走
査方向Ｘに沿って配置された二つのファラデーカップを
有し、下流側ビームモニタはイオンビーム２の走査方向
Ｘにおいて上流側ビームモニタの前記二つのファラデー
カップのちょうど真ん中に位置するファラデーカップを
有するものを設けても良い。
タおよび下流側ビームモニタとして、前述したような多
点ビームモニタ２０および２２をそれぞれ用いる。両多
点ビームモニタ２０、２２は、元々は、前述した特開平
４−２２９００号公報に記載されているように、イオン
ビーム２の走査波形整形に用いられるものであり、これ
を兼用すれば、平行化調整用に新たにビームモニタを設
ける必要がなくなり、機器構成を簡略化することができ
るので都合が良い。但しそのようにせずに、多点ビーム
モニタ２０および２２とは別に、イオンビーム２のビー
ムラインに沿って上流側と下流側とに互いに距離をあけ
て配置された上流側ビームモニタおよび下流側ビームモ
ニタであって、上流側ビームモニタはイオンビームの走
査方向Ｘに沿って配置された二つのファラデーカップを
有し、下流側ビームモニタはイオンビーム２の走査方向
Ｘにおいて上流側ビームモニタの前記二つのファラデー
カップのちょうど真ん中に位置するファラデーカップを
有するものを設けても良い。
【００２９】両多点ビームモニタ２０、２２には、ビー
ム電流変換器３０が接続されている。このビーム電流変
換器３０は、入力されるビーム電流Ｉを増幅する増幅器
３４、Ａ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器３６および入力を多
点ビームモニタ２０側と多点ビームモニタ２２側とに切
り換えるスイッチ３２を備えている。このビーム電流変
換器３０は、多点ビームモニタ２０または２２を構成す
る複数のファラデーカップＦまたはＢの一つ一つに入力
するビーム電流Ｉを独立して計測可能である。計測され
たビーム電流Ｉを表す信号は、波形整形・制御器４０に
供給される。
ム電流変換器３０が接続されている。このビーム電流変
換器３０は、入力されるビーム電流Ｉを増幅する増幅器
３４、Ａ／Ｄ変換するＡ／Ｄ変換器３６および入力を多
点ビームモニタ２０側と多点ビームモニタ２２側とに切
り換えるスイッチ３２を備えている。このビーム電流変
換器３０は、多点ビームモニタ２０または２２を構成す
る複数のファラデーカップＦまたはＢの一つ一つに入力
するビーム電流Ｉを独立して計測可能である。計測され
たビーム電流Ｉを表す信号は、波形整形・制御器４０に
供給される。
【００３０】波形整形・制御器４０は、演算処理用のＣ
ＰＵ４２、データ記憶用のメモリ４４およびＤ／Ａ変換
用のＤ／Ａ変換器４６を備えており、特開平４−２２９
００号公報に開示されているような波形整形機能を有し
ている。即ち、基板８上でのイオンビーム２の走査速度
が一定になるような、換言すれば基板８上のビーム走査
方向のイオン注入量が均一になるような波形をしたビー
ム走査信号４８を発生する波形整形機能を有している。
ＰＵ４２、データ記憶用のメモリ４４およびＤ／Ａ変換
用のＤ／Ａ変換器４６を備えており、特開平４−２２９
００号公報に開示されているような波形整形機能を有し
ている。即ち、基板８上でのイオンビーム２の走査速度
が一定になるような、換言すれば基板８上のビーム走査
方向のイオン注入量が均一になるような波形をしたビー
ム走査信号４８を発生する波形整形機能を有している。
【００３１】このビーム走査信号４８は一例として、図
１中に示すように、三角波の上下端部を少し曲げたよう
な波形をしている。
１中に示すように、三角波の上下端部を少し曲げたよう
な波形をしている。
【００３２】波形整形・制御器４０はまた、以下に詳述
するような方法で、平行化電源６０から平行化電磁石６
に供給する励磁電流ＩC を制御（増減）して、平行化電
磁石６におけるビームの曲げ戻しの度合を自動的に調整
する制御機能をも有している。
するような方法で、平行化電源６０から平行化電磁石６
に供給する励磁電流ＩC を制御（増減）して、平行化電
磁石６におけるビームの曲げ戻しの度合を自動的に調整
する制御機能をも有している。
【００３３】但し、上記の波形整形機能と制御機能と
を、互いに別の制御器に持たせるようにしても良い。
を、互いに別の制御器に持たせるようにしても良い。
【００３４】波形整形・制御器４０からのビーム走査信
号４８は、増幅器から成る走査電源５０で増幅され、ビ
ーム走査電流５２として走査電磁石４に与えられ、所定
のビーム走査磁界を作る。
号４８は、増幅器から成る走査電源５０で増幅され、ビ
ーム走査電流５２として走査電磁石４に与えられ、所定
のビーム走査磁界を作る。
【００３５】波形整形・制御器４０からの励磁電流制御
信号Ｓは平行化電源６０に与えられ、同平行化電源６０
から平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC の設定が行
われる。
信号Ｓは平行化電源６０に与えられ、同平行化電源６０
から平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC の設定が行
われる。
【００３６】多点ビームモニタ２０および２２は、先に
図１１に示したような構成をしている。この例では、上
流側の多点ビームモニタ２０は、Ｘ方向におけるビーム
走査の中心２ｃから対称に１６個のファラデーカップＦ
から構成されており、下流側の多点ビームモニタ２２は
１１個のファラデーカップＢから構成されている。
図１１に示したような構成をしている。この例では、上
流側の多点ビームモニタ２０は、Ｘ方向におけるビーム
走査の中心２ｃから対称に１６個のファラデーカップＦ
から構成されており、下流側の多点ビームモニタ２２は
１１個のファラデーカップＢから構成されている。
【００３７】ビームライン上手からビーム軌道上で、上
流側および下流側のファラデーカップＦおよびＢのビー
ム走査方向Ｘ上の位置を見た一例を図２に示す（但しこ
れはＸ方向上の位置を概念的に示したものであって、実
際にこのように見える訳ではなく、実際は図１１に示し
たように、上流側の多点ビームモニタ２０はビーム軌道
に対して上下する構造となっており、下流側の多点ビー
ムモニタ２２にイオンビーム２が入射する場合は、上流
側の多点ビームモニタ２０はそれを妨げないようにされ
ている。）。各々のファラデーカップＦ、Ｂに付した添
字は、各々のファラデーカップの番号を示す。
流側および下流側のファラデーカップＦおよびＢのビー
ム走査方向Ｘ上の位置を見た一例を図２に示す（但しこ
れはＸ方向上の位置を概念的に示したものであって、実
際にこのように見える訳ではなく、実際は図１１に示し
たように、上流側の多点ビームモニタ２０はビーム軌道
に対して上下する構造となっており、下流側の多点ビー
ムモニタ２２にイオンビーム２が入射する場合は、上流
側の多点ビームモニタ２０はそれを妨げないようにされ
ている。）。各々のファラデーカップＦ、Ｂに付した添
字は、各々のファラデーカップの番号を示す。
【００３８】この図２は、各ファラデーカップＦと各フ
ァラデーカップＢとが等ピッチ配列されている場合の例
を示す。即ち、上流側の二つのファラデーカップのちょ
うど真ん中に下流側のファラデーカップＢが位置してお
り、それらの間隔（ピッチ）は等しくＬである。
ァラデーカップＢとが等ピッチ配列されている場合の例
を示す。即ち、上流側の二つのファラデーカップのちょ
うど真ん中に下流側のファラデーカップＢが位置してお
り、それらの間隔（ピッチ）は等しくＬである。
【００３９】この実施例では、上流側の二つのファラデ
ーカップ、例えばファラデーカップＦ8 およびＦ9 と、
その真ん中に位置する下流側の一つのファラデーカッ
プ、即ちファラデーカップＢ6 とを用いる。
ーカップ、例えばファラデーカップＦ8 およびＦ9 と、
その真ん中に位置する下流側の一つのファラデーカッ
プ、即ちファラデーカップＢ6 とを用いる。
【００４０】このようなファラデーカップを用いた平行
化調整方法の工程の例を以下に示す。尚、各工程におけ
る以下のような処理ないし制御は、この例では波形整形
・制御器４０において行われる。
化調整方法の工程の例を以下に示す。尚、各工程におけ
る以下のような処理ないし制御は、この例では波形整形
・制御器４０において行われる。
【００４１】 上記二つのファラデーカップＦ8 およ
びＦ9 を互いに電気的に並列接続しておき、イオンビー
ム２が上流側の多点ビームモニタ２０に入射する状態
で、波形整形・制御器４０からビーム走査信号４８を出
力してイオンビーム２を走査する。そして、ファラデー
カップＦ8 とＦ9 の両方で得られるビーム電流ＩF を計
測して、それのビーム走査信号４８に対する波形を計測
する。その一例を図３中に実線で示す。二山あるのは、
ファラデーカップＦ8 とＦ9 とで得られたビーム電流を
加算した（両ファラデーカップＦ8 、Ｆ9 を並列接続し
ている）からである。
びＦ9 を互いに電気的に並列接続しておき、イオンビー
ム２が上流側の多点ビームモニタ２０に入射する状態
で、波形整形・制御器４０からビーム走査信号４８を出
力してイオンビーム２を走査する。そして、ファラデー
カップＦ8 とＦ9 の両方で得られるビーム電流ＩF を計
測して、それのビーム走査信号４８に対する波形を計測
する。その一例を図３中に実線で示す。二山あるのは、
ファラデーカップＦ8 とＦ9 とで得られたビーム電流を
加算した（両ファラデーカップＦ8 、Ｆ9 を並列接続し
ている）からである。
【００４２】 イオンビーム２が下流側の多点ビーム
モニタ２２に入射する状態でイオンビーム２を上記と同
様に走査して、ファラデーカップＢ6 で得られるビーム
電流ＩB を計測して、それのビーム走査信号４８に対す
る波形を計測する。その一例を図３中に破線で示す。
モニタ２２に入射する状態でイオンビーム２を上記と同
様に走査して、ファラデーカップＢ6 で得られるビーム
電流ＩB を計測して、それのビーム走査信号４８に対す
る波形を計測する。その一例を図３中に破線で示す。
【００４３】 上記ビーム電流波形ＩF およびＩB か
ら、それらの波形データのビーム走査信号４８上での重
心位置ＦM およびＢM をそれぞれ求める。その場合、ビ
ーム電流Ｉに適当なしきい値Ｈを設けてノイズ成分等を
カットするようにしても良く、そのようにすれば重心位
置をより正しく求めることができる。
ら、それらの波形データのビーム走査信号４８上での重
心位置ＦM およびＢM をそれぞれ求める。その場合、ビ
ーム電流Ｉに適当なしきい値Ｈを設けてノイズ成分等を
カットするようにしても良く、そのようにすれば重心位
置をより正しく求めることができる。
【００４４】 図２に示したようなファラデーカップ
Ｆ8 、Ｆ9 およびＢ6 の配置の場合、上記重心位置ＦM
とＢM とが一致した場合に、イオンビーム２は平行ビー
ムになっている。これは、下流側のファラデーカップＢ
6 は、幾何学的には、上流側の二つのファラデーカップ
Ｆ8 、Ｆ9 のちょうど真ん中の後方に設けられているか
ら、イオンビーム２がＺ軸に平行な平行ビームの場合、
両重心位置ＦM とＢMとは互いに一致するはずだからで
ある。
Ｆ8 、Ｆ9 およびＢ6 の配置の場合、上記重心位置ＦM
とＢM とが一致した場合に、イオンビーム２は平行ビー
ムになっている。これは、下流側のファラデーカップＢ
6 は、幾何学的には、上流側の二つのファラデーカップ
Ｆ8 、Ｆ9 のちょうど真ん中の後方に設けられているか
ら、イオンビーム２がＺ軸に平行な平行ビームの場合、
両重心位置ＦM とＢMとは互いに一致するはずだからで
ある。
【００４５】平行化電磁石６における曲げ戻しが適正
で、イオンビーム２が平行ビームの場合、即ちイオンビ
ーム２のＺ軸の方向に対する角度θ（図４、図５参照）
が０度の場合のビーム軌道の例を図４に示す。
で、イオンビーム２が平行ビームの場合、即ちイオンビ
ーム２のＺ軸の方向に対する角度θ（図４、図５参照）
が０度の場合のビーム軌道の例を図４に示す。
【００４６】従って図３の例の場合は、ＦM ≠ＢM だか
ら、イオンビームは平行ビームではない。具体的には、
ビーム走査信号４８が小さい（ビーム走査信号４８の大
きさと、ビーム上手から見たイオンビーム２の位置とを
対応させるために、図３および図８においては、ビーム
走査信号４８の大きさは右側ほど小さく取っている）方
に、即ち、走査電磁石４におけるイオンビーム２の走査
が小さい方に、重心位置ＢM がずれているから、図５に
示すように、平行化電磁石６における曲げ戻しが過大で
ある。従って、イオンビーム２のＺ軸に対する角度、即
ち平行度θは０度ではない。
ら、イオンビームは平行ビームではない。具体的には、
ビーム走査信号４８が小さい（ビーム走査信号４８の大
きさと、ビーム上手から見たイオンビーム２の位置とを
対応させるために、図３および図８においては、ビーム
走査信号４８の大きさは右側ほど小さく取っている）方
に、即ち、走査電磁石４におけるイオンビーム２の走査
が小さい方に、重心位置ＢM がずれているから、図５に
示すように、平行化電磁石６における曲げ戻しが過大で
ある。従って、イオンビーム２のＺ軸に対する角度、即
ち平行度θは０度ではない。
【００４７】図６は、平行化電磁石６における曲げ戻し
が不足の場合の例を示す。この場合も、イオンビーム２
の平行度θは０度ではない。
が不足の場合の例を示す。この場合も、イオンビーム２
の平行度θは０度ではない。
【００４８】上記のような関係は、上流側の二つのファ
ラデーカップＦとその真ん中の下流側の一つのファラデ
ーカップＢの組が、イオンビーム２の走査方向Ｘ上のど
の位置にあっても成立する。
ラデーカップＦとその真ん中の下流側の一つのファラデ
ーカップＢの組が、イオンビーム２の走査方向Ｘ上のど
の位置にあっても成立する。
【００４９】 このように、平行化電磁石６における
イオンビーム２の曲げ戻しの過不足の大きさは、ＦM −
ＢM の絶対値によって求めることができ、過大か不足か
はＦM −ＢM の極性によって求めることができる。この
例の場合は、ＦM −ＢM の極性が正の場合は曲げ戻し過
大であり、従ってその差に相当する分、平行化電磁石６
に供給する励磁電流ＩC を小さくし、ＦM −ＢM の極性
が負の場合は曲げ戻し不足であり、従ってその差に相当
する分、平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC を大き
くし、このようにしてＦM −ＢM を０にする。
イオンビーム２の曲げ戻しの過不足の大きさは、ＦM −
ＢM の絶対値によって求めることができ、過大か不足か
はＦM −ＢM の極性によって求めることができる。この
例の場合は、ＦM −ＢM の極性が正の場合は曲げ戻し過
大であり、従ってその差に相当する分、平行化電磁石６
に供給する励磁電流ＩC を小さくし、ＦM −ＢM の極性
が負の場合は曲げ戻し不足であり、従ってその差に相当
する分、平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC を大き
くし、このようにしてＦM −ＢM を０にする。
【００５０】このようにして容易に、平行化電磁石６に
供給する励磁電流ＩC の値を、平行ビームを得るのに適
正な値に設定することができる。これは、波形整形・制
御器４０において自動で行うことも可能である。
供給する励磁電流ＩC の値を、平行ビームを得るのに適
正な値に設定することができる。これは、波形整形・制
御器４０において自動で行うことも可能である。
【００５１】尚、走査電磁石４および平行化電磁石６に
おけるイオンビーム２の曲げ方向が上記例とは逆（即
ち、ビーム進行方向に向いて右方向）の場合は、平行化
電磁石６におけるイオンビーム２の曲げ戻しが過大か不
足かは、上記例と逆になることは容易に理解できよう。
おけるイオンビーム２の曲げ方向が上記例とは逆（即
ち、ビーム進行方向に向いて右方向）の場合は、平行化
電磁石６におけるイオンビーム２の曲げ戻しが過大か不
足かは、上記例と逆になることは容易に理解できよう。
【００５２】上記実施例の平行化調整方法は、前述した
従来の設定方法１と違って、イオンビーム２の平行度
を、イオンビームの重心位置を計測することで実際に計
測するので、平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC の
設定を正確に行うことができる。
従来の設定方法１と違って、イオンビーム２の平行度
を、イオンビームの重心位置を計測することで実際に計
測するので、平行化電磁石６に供給する励磁電流ＩC の
設定を正確に行うことができる。
【００５３】しかも、前述した従来の設定方法２と違っ
て、上流側の多点ビームモニタ２０における計測が１
回、下流側の多点ビームモニタ２２における計測が１回
の合計２回の計測で済むため、平行化電磁石６に供給す
る励磁電流ＩC の設定を短時間で行うことができる。よ
り具体的には、前述したように上流側の多点ビームモニ
タ２０が１６個のファラデーカップＦから成り、下流側
の多点ビームモニタ２２が１１個のファラデーカップＢ
から成る場合、従来の設定方法２では合計２７点の計測
が必要であったのに対して、上記実施例の方法では、上
流側で１点（二つのファラデーカップＦを用いるがそれ
らは並列接続しているので１点とみなすことができ
る）、下流側で１点の合計２点の計測で済むため、計測
に要する時間は単純計算すると２／２７という短時間で
済む。
て、上流側の多点ビームモニタ２０における計測が１
回、下流側の多点ビームモニタ２２における計測が１回
の合計２回の計測で済むため、平行化電磁石６に供給す
る励磁電流ＩC の設定を短時間で行うことができる。よ
り具体的には、前述したように上流側の多点ビームモニ
タ２０が１６個のファラデーカップＦから成り、下流側
の多点ビームモニタ２２が１１個のファラデーカップＢ
から成る場合、従来の設定方法２では合計２７点の計測
が必要であったのに対して、上記実施例の方法では、上
流側で１点（二つのファラデーカップＦを用いるがそれ
らは並列接続しているので１点とみなすことができ
る）、下流側で１点の合計２点の計測で済むため、計測
に要する時間は単純計算すると２／２７という短時間で
済む。
【００５４】尚、上記実施例では、上流側の二つのファ
ラデーカップＦと、それらのちょうど真ん中に位置する
下流側の一つのファラデーカップＢとを用いているが、
それとは逆に、下流側の二つのファラデーカップＢ（例
えば図２に示すファラデーカップＢ5 およびＢ6 ）と、
そのちょうど真ん中に位置する上流側の一つのファラデ
ーカップＦ（例えば図２に示すファラデーカップＦ8 ）
とを用いても、上記と同様にして、平行ビームを得るた
めの平行化電磁石６に対する励磁電流ＩC の設定を正確
にかつ短時間で行うことができる。
ラデーカップＦと、それらのちょうど真ん中に位置する
下流側の一つのファラデーカップＢとを用いているが、
それとは逆に、下流側の二つのファラデーカップＢ（例
えば図２に示すファラデーカップＢ5 およびＢ6 ）と、
そのちょうど真ん中に位置する上流側の一つのファラデ
ーカップＦ（例えば図２に示すファラデーカップＦ8 ）
とを用いても、上記と同様にして、平行ビームを得るた
めの平行化電磁石６に対する励磁電流ＩC の設定を正確
にかつ短時間で行うことができる。
【００５５】次に、上流側の多点ビームモニタ２０を構
成する各ファラデーカップＦと下流側の多点ビームモニ
タ２２を構成する各ファラデーカップＢとが等ピッチ配
列されていない場合の例を説明する。即ち、図７に示す
ように、上流側のファラデーカップＦ間の間隔（ピッ
チ）はＬF であり、下流側のファラデーカップＢ間の間
隔（ピッチ）はＬB であり、上流側のファラデーカップ
Ｆと下流側のファラデーカップＢ間の間隔（ピッチ）は
ＬFBであり、各間隔ＬF 、ＬB 、ＬFBの大きさは任意で
ある。これが一般的な場合であり、その内で、ＬF ＝Ｌ
B ＝２ＬFB＝２Ｌという特殊な場合が前述した図２の例
である。
成する各ファラデーカップＦと下流側の多点ビームモニ
タ２２を構成する各ファラデーカップＢとが等ピッチ配
列されていない場合の例を説明する。即ち、図７に示す
ように、上流側のファラデーカップＦ間の間隔（ピッ
チ）はＬF であり、下流側のファラデーカップＢ間の間
隔（ピッチ）はＬB であり、上流側のファラデーカップ
Ｆと下流側のファラデーカップＢ間の間隔（ピッチ）は
ＬFBであり、各間隔ＬF 、ＬB 、ＬFBの大きさは任意で
ある。これが一般的な場合であり、その内で、ＬF ＝Ｌ
B ＝２ＬFB＝２Ｌという特殊な場合が前述した図２の例
である。
【００５６】このようなファラデーカップを用いた平行
化調整方法の工程の例を、先の実施例との相違点を主体
にして、以下に説明する。尚、この実施例の場合も、各
工程における以下のような処理ないし制御は、波形整形
・制御器４０において行われる。
化調整方法の工程の例を、先の実施例との相違点を主体
にして、以下に説明する。尚、この実施例の場合も、各
工程における以下のような処理ないし制御は、波形整形
・制御器４０において行われる。
【００５７】 この実施例の場合も、上流側の二つの
ファラデーカップＦ、例えばファラデーカップＦ8 およ
びＦ9 と、下流側の一つのファラデーカップＢ、例えば
ファラデーカップＢ6 とをそれぞれ用いてビーム電流を
計測して、それのビーム走査信号４８に対する波形を計
測する。但しこの場合は、図２の例の場合と違って、フ
ァラデーカップＦ8 とＦ9 のビーム電流を独立して計測
する。このようにして、ファラデーカップＦ8 、Ｆ9 、
Ｂ6 を用いて計測されたビーム電流波形ＩF8、ＩF9、Ｉ
B6の一例を図８に示す。
ファラデーカップＦ、例えばファラデーカップＦ8 およ
びＦ9 と、下流側の一つのファラデーカップＢ、例えば
ファラデーカップＢ6 とをそれぞれ用いてビーム電流を
計測して、それのビーム走査信号４８に対する波形を計
測する。但しこの場合は、図２の例の場合と違って、フ
ァラデーカップＦ8 とＦ9 のビーム電流を独立して計測
する。このようにして、ファラデーカップＦ8 、Ｆ9 、
Ｂ6 を用いて計測されたビーム電流波形ＩF8、ＩF9、Ｉ
B6の一例を図８に示す。
【００５８】 上記ビーム電流波形ＩF8、ＩF9、ＩB6
から、それらの波形データのビーム走査信号４８上での
重心位置ＦM8、ＦM9、ＢM6をそれぞれ求める。この場合
も、ビーム電流に適当なしきい値を設けても良いのは前
述のとおりである。
から、それらの波形データのビーム走査信号４８上での
重心位置ＦM8、ＦM9、ＢM6をそれぞれ求める。この場合
も、ビーム電流に適当なしきい値を設けても良いのは前
述のとおりである。
【００５９】 上記二つの重心位置ＦM8、ＦM9と、そ
れを求めるのに用いた二つのファラデーカップＦ8 、Ｆ
9 のビーム走査方向Ｘ上での空間的位置との関係を表す
一次関数を求める。図９の例では、上記重心位置を縦軸
に、上記空間的位置を横軸に取って、上記一次関数を直
線Ｇで示している。この直線Ｇは、Ｆ8 とＦM8との交点
ＰF8と、Ｆ9 とＦM9との交点ＰF9とを結んだ線である。
Ｂ6 とＢM6との交点ＰB6がこの直線Ｇ上にあれば、イオ
ンビーム２は完全に平行化されているといえる。これ
は、イオンビーム２が平行ビームであれば、イオンビー
ム２の重心位置と、それを計測するのに用いたファラデ
ーカップの空間的位置との関係が、イオンビーム２の上
流側および下流側の両者において全て同一になるからで
ある。
れを求めるのに用いた二つのファラデーカップＦ8 、Ｆ
9 のビーム走査方向Ｘ上での空間的位置との関係を表す
一次関数を求める。図９の例では、上記重心位置を縦軸
に、上記空間的位置を横軸に取って、上記一次関数を直
線Ｇで示している。この直線Ｇは、Ｆ8 とＦM8との交点
ＰF8と、Ｆ9 とＦM9との交点ＰF9とを結んだ線である。
Ｂ6 とＢM6との交点ＰB6がこの直線Ｇ上にあれば、イオ
ンビーム２は完全に平行化されているといえる。これ
は、イオンビーム２が平行ビームであれば、イオンビー
ム２の重心位置と、それを計測するのに用いたファラデ
ーカップの空間的位置との関係が、イオンビーム２の上
流側および下流側の両者において全て同一になるからで
ある。
【００６０】 上記直線Ｇから、イオンビーム２が完
全に平行化されている場合の、ファラデーカップＢ6 の
空間的位置におけるイオンビーム２のビーム走査信号４
８上での重心位置ＢM6′を求める、これは、矢印Ｃのよ
うに、Ｂ6 の位置における直線Ｇ上の点ＰB6′を求め、
更に矢印Ｄのように、当該点ＰB6′での重心位置ＢM6′
を求めることで、求めることができる。
全に平行化されている場合の、ファラデーカップＢ6 の
空間的位置におけるイオンビーム２のビーム走査信号４
８上での重心位置ＢM6′を求める、これは、矢印Ｃのよ
うに、Ｂ6 の位置における直線Ｇ上の点ＰB6′を求め、
更に矢印Ｄのように、当該点ＰB6′での重心位置ＢM6′
を求めることで、求めることができる。
【００６１】従って、図８の例の場合は、ＢM6′≠ＢM6
だから、イオンビーム２は平行ビームではない。具体的
には、図９に示すように、ビーム走査信号４８が小さい
方に、即ち走査電磁石４におけるイオンビーム２の走査
が小さい方に、現実の重心位置ＢM6がずれているから、
先に図５に示した場合と同様に、平行化電磁石６におけ
る曲げ戻しが過大である。従って、イオンビームの平行
度θは０度ではない。
だから、イオンビーム２は平行ビームではない。具体的
には、図９に示すように、ビーム走査信号４８が小さい
方に、即ち走査電磁石４におけるイオンビーム２の走査
が小さい方に、現実の重心位置ＢM6がずれているから、
先に図５に示した場合と同様に、平行化電磁石６におけ
る曲げ戻しが過大である。従って、イオンビームの平行
度θは０度ではない。
【００６２】 このように、平行化電磁石６における
イオンビーム２の曲げ戻しの過不足の大きさは、ＢM6′
−ＢM6の絶対値によって求めることができ、過大か不足
かはＢM6′−ＢM6の極性によって求めることができる。
この例の場合は、ＢM6′−ＢM6の極性が正の場合は曲げ
戻し過大であり、従ってその差に相当する分、平行化電
磁石６に供給する励磁電流ＩC を小さくし、ＢM6′−Ｂ
M6の極性が負の場合は曲げ戻し不足であり、従ってその
差に相当する分、平行化電磁石６に供給する励磁電流Ｉ
C を大きくし、このようにしてＢM6′−ＢM を０にす
る。
イオンビーム２の曲げ戻しの過不足の大きさは、ＢM6′
−ＢM6の絶対値によって求めることができ、過大か不足
かはＢM6′−ＢM6の極性によって求めることができる。
この例の場合は、ＢM6′−ＢM6の極性が正の場合は曲げ
戻し過大であり、従ってその差に相当する分、平行化電
磁石６に供給する励磁電流ＩC を小さくし、ＢM6′−Ｂ
M6の極性が負の場合は曲げ戻し不足であり、従ってその
差に相当する分、平行化電磁石６に供給する励磁電流Ｉ
C を大きくし、このようにしてＢM6′−ＢM を０にす
る。
【００６３】このようにして容易に、平行化電磁石６に
供給する励磁電流ＩC の値を、平行ビームを得るのに適
正な値に設定することができる。これは、波形整形・制
御器４０において自動で行うことも可能である。
供給する励磁電流ＩC の値を、平行ビームを得るのに適
正な値に設定することができる。これは、波形整形・制
御器４０において自動で行うことも可能である。
【００６４】尚上記のような関係は、上流側の二つのフ
ァラデーカップＦと下流側の一つのファラデーカップＢ
の組が、イオンビーム２の走査方向Ｘ上のどの位置にあ
っても成立する。
ァラデーカップＦと下流側の一つのファラデーカップＢ
の組が、イオンビーム２の走査方向Ｘ上のどの位置にあ
っても成立する。
【００６５】また、走査電磁石４および平行化電磁石６
におけるイオンビーム２の曲げ方向が上記例と逆（即
ち、ビーム進行方向に向いて右方向）の場合は、平行化
電磁石６におけるイオンビーム２の曲げ戻しが過大か不
足かは、上記例と逆になることは容易に理解できよう。
におけるイオンビーム２の曲げ方向が上記例と逆（即
ち、ビーム進行方向に向いて右方向）の場合は、平行化
電磁石６におけるイオンビーム２の曲げ戻しが過大か不
足かは、上記例と逆になることは容易に理解できよう。
【００６６】この実施例の平行化調整方法も、イオンビ
ーム２の平行度を、イオンビーム２の重心位置を計測す
ることで実際に計測するので、平行化電磁石６に供給す
る励磁電流ＩC の設定を正確に行うことができる。
ーム２の平行度を、イオンビーム２の重心位置を計測す
ることで実際に計測するので、平行化電磁石６に供給す
る励磁電流ＩC の設定を正確に行うことができる。
【００６７】また、上流側の多点ビームモニタ２０にお
ける計測が２回、下流側の多点ビームモニタ２２におけ
る計測が１回の合計３回の計測で済むため、平行化電磁
石６に供給する励磁電流ＩC の設定を短時間で行うこと
ができる。
ける計測が２回、下流側の多点ビームモニタ２２におけ
る計測が１回の合計３回の計測で済むため、平行化電磁
石６に供給する励磁電流ＩC の設定を短時間で行うこと
ができる。
【００６８】先の図２および図３を参照して説明した実
施例とこの実施例とを比べると、先の実施例では、ファ
ラデーカップが等ピッチ配列であることを要するけれど
も、上流側の多点ビームモニタ２０における計測が１回
で済み、かつ図９に示したような一次関数を求める必要
がないので、計測およびデータの処理が容易であり、従
って平行化電磁石６の励磁電流設定をより簡単に行うこ
とができる。一方、この実施例では、逆に、上流側の多
点ビームモニタ２０における計測が２回になり、かつ図
９に示したような一次関数を求める処理が必要であるけ
れども、ファラデーカップが等ピッチ配列である必要が
ないので、機器構成の自由度が大きく汎用性が高い。
施例とこの実施例とを比べると、先の実施例では、ファ
ラデーカップが等ピッチ配列であることを要するけれど
も、上流側の多点ビームモニタ２０における計測が１回
で済み、かつ図９に示したような一次関数を求める必要
がないので、計測およびデータの処理が容易であり、従
って平行化電磁石６の励磁電流設定をより簡単に行うこ
とができる。一方、この実施例では、逆に、上流側の多
点ビームモニタ２０における計測が２回になり、かつ図
９に示したような一次関数を求める処理が必要であるけ
れども、ファラデーカップが等ピッチ配列である必要が
ないので、機器構成の自由度が大きく汎用性が高い。
【００６９】この後の実施例でも、上流側の二つのファ
ラデーカップＦと下流側の一つのファラデーカップＢと
を用いているが、それとは逆に、下流側の二つのファラ
デーカップＢ（例えば図７に示すファラデーカップＢ5
およびＢ6 ）と、上流側の一つのファラデーカップＦ
（例えば図７に示すファラデーカップＦ8 ）とを用いて
も、上記と同様にして、平行ビームを得るための平行化
電磁石６に供給する励磁電流ＩC の設定を正確にかつ短
時間で行うことができる。
ラデーカップＦと下流側の一つのファラデーカップＢと
を用いているが、それとは逆に、下流側の二つのファラ
デーカップＢ（例えば図７に示すファラデーカップＢ5
およびＢ6 ）と、上流側の一つのファラデーカップＦ
（例えば図７に示すファラデーカップＦ8 ）とを用いて
も、上記と同様にして、平行ビームを得るための平行化
電磁石６に供給する励磁電流ＩC の設定を正確にかつ短
時間で行うことができる。
【００７０】尚、上記いずれの実施例でも、走査電磁石
４および平行化電磁石６を用いて、磁界によってイオン
ビーム２を平行ビーム化しているが、それの代わりに、
上下流に配置された２組の平行平板状の電極を用いて、
即ち上流側に配置されていてイオンビームを静電的に走
査する走査電極と、下流側に配置されていてイオンビー
ム２を静電的に曲げ戻す平行化電極とを用いて、電界に
よってイオンビーム２を平行ビーム化するようにしても
良い。その場合は、下流側の平行化電極に供給する電圧
を上記と同様の方法で設定すれば良い。
４および平行化電磁石６を用いて、磁界によってイオン
ビーム２を平行ビーム化しているが、それの代わりに、
上下流に配置された２組の平行平板状の電極を用いて、
即ち上流側に配置されていてイオンビームを静電的に走
査する走査電極と、下流側に配置されていてイオンビー
ム２を静電的に曲げ戻す平行化電極とを用いて、電界に
よってイオンビーム２を平行ビーム化するようにしても
良い。その場合は、下流側の平行化電極に供給する電圧
を上記と同様の方法で設定すれば良い。
【００７１】
【発明の効果】この発明は上記のとおり構成されている
ので、次のような効果を奏する。
ので、次のような効果を奏する。
【００７２】請求項１および２記載の平行化調整方法に
よれば、イオンビームの平行度を、イオンビームの重心
位置を計測することで実際に計測するので、イオンビー
ムを曲げ戻す平行化手段に供給する電流または電圧の設
定を正確に行うことができる。
よれば、イオンビームの平行度を、イオンビームの重心
位置を計測することで実際に計測するので、イオンビー
ムを曲げ戻す平行化手段に供給する電流または電圧の設
定を正確に行うことができる。
【００７３】しかも、上流側ビームモニタにおける計測
が１回、下流側ビームモニタにおける計測が１回の合計
２回の計測で済むため、平行化手段に供給する電流また
は電圧の設定を短時間で行うことができる。
が１回、下流側ビームモニタにおける計測が１回の合計
２回の計測で済むため、平行化手段に供給する電流また
は電圧の設定を短時間で行うことができる。
【００７４】請求項３記載の平行化調整方法によれば、
イオンビームの平行度を、イオンビームの重心位置を計
測することで実際に計測するので、イオンビームを曲げ
戻す平行化手段に供給する電流または電圧の設定を正確
に行うことができる。
イオンビームの平行度を、イオンビームの重心位置を計
測することで実際に計測するので、イオンビームを曲げ
戻す平行化手段に供給する電流または電圧の設定を正確
に行うことができる。
【００７５】しかも、上流側ビームモニタにおける計測
が２回、下流側ビームモニタにおける計測が１回の合計
３回の計測で済むため、平行化手段に供給する電流また
は電圧の設定を短時間で行うことができる。
が２回、下流側ビームモニタにおける計測が１回の合計
３回の計測で済むため、平行化手段に供給する電流また
は電圧の設定を短時間で行うことができる。
【００７６】また、上流側ビームモニタを構成するファ
ラデーカップと、下流側ビームモニタを構成するファラ
デーカップとが等ピッチ配列である必要がないので、機
器構成の自由度が大きく汎用性が高い。
ラデーカップと、下流側ビームモニタを構成するファラ
デーカップとが等ピッチ配列である必要がないので、機
器構成の自由度が大きく汎用性が高い。
【００７７】請求項４記載の平行化調整方法によれば、
イオンビームの平行度を、イオンビームの重心位置を計
測することで実際に計測するので、イオンビームを曲げ
戻す平行化手段に供給する電流または電圧の設定を正確
に行うことができる。
イオンビームの平行度を、イオンビームの重心位置を計
測することで実際に計測するので、イオンビームを曲げ
戻す平行化手段に供給する電流または電圧の設定を正確
に行うことができる。
【００７８】しかも、上流側ビームモニタにおける計測
が１回、下流側ビームモニタにおける計測が２回の合計
３回の計測で済むため、平行化手段に供給する電流また
は電圧の設定を短時間で行うことができる。
が１回、下流側ビームモニタにおける計測が２回の合計
３回の計測で済むため、平行化手段に供給する電流また
は電圧の設定を短時間で行うことができる。
【００７９】また、上流側ビームモニタを構成するファ
ラデーカップと下流側ビームモニタを構成するファラデ
ーカップとが等ピッチ配列である必要がないので、機器
構成の自由度が大きく汎用性が高い。
ラデーカップと下流側ビームモニタを構成するファラデ
ーカップとが等ピッチ配列である必要がないので、機器
構成の自由度が大きく汎用性が高い。
【００８０】請求項５記載の平行化調整方法によれば、
上流側ビームモニタおよび下流側ビームモニタとして、
上流側の多点ビームモニタおよび下流側の多点ビームモ
ニタをそれぞれ用いるので、機器構成の簡略化を図るこ
とができる。
上流側ビームモニタおよび下流側ビームモニタとして、
上流側の多点ビームモニタおよび下流側の多点ビームモ
ニタをそれぞれ用いるので、機器構成の簡略化を図るこ
とができる。
【図１】この発明に係る平行化調整方法を実施する装置
の構成例を示す図である。
の構成例を示す図である。
【図２】上流側ビームモニタを構成するファラデーカッ
プと下流側ビームモニタを構成するファラデーカップと
が等ピッチ配列の場合の例を示す図である。
プと下流側ビームモニタを構成するファラデーカップと
が等ピッチ配列の場合の例を示す図である。
【図３】図２のファラデーカップで得られたビーム電流
波形の例を示す図である。
波形の例を示す図である。
【図４】イオンビームが完全に平行化されている場合の
ビーム軌道の例を示す図である。
ビーム軌道の例を示す図である。
【図５】イオンビームの曲げ戻しが過大な場合のビーム
軌道の例を示す図である。
軌道の例を示す図である。
【図６】イオンビームの曲げ戻しが不足している場合の
ビーム軌道の例を示す図である。
ビーム軌道の例を示す図である。
【図７】上流側ビームモニタを構成するファラデーカッ
プと下流側ビームモニタを構成するファラデーカップと
が等ピッチ配列されていない場合の例を示す図である。
プと下流側ビームモニタを構成するファラデーカップと
が等ピッチ配列されていない場合の例を示す図である。
【図８】図７のファラデーカップで得られたビーム電流
波形の例を示す図である。
波形の例を示す図である。
【図９】ビーム走査信号上でのイオンビームの重心位置
と、それを計測するのに用いたファラデーカップのビー
ム走査方向上での空間的位置との関係を表す一次関数の
例を示す図である。
と、それを計測するのに用いたファラデーカップのビー
ム走査方向上での空間的位置との関係を表す一次関数の
例を示す図である。
【図１０】イオンビームを平行走査する構成のイオン注
入装置の一例を部分的に示す図である。
入装置の一例を部分的に示す図である。
【図１１】図１０中の多点ビームモニタ周りの拡大斜視
図である。
図である。
【図１２】円筒状のビーム電流密度分布を有するイオン
ビームの例を示す図である。
ビームの例を示す図である。
２ イオンビーム ４ 走査電磁石 ６ 平行化電磁石 ８ 基板 １０ ホルダ １２ ホルダ駆動装置 ２０ 上流側の多点ビームモニタ ２２ 下流側の多点ビームモニタ ３０ ビーム電流変換器 ４０ 波形整形・制御器 ４８ ビーム走査信号 ５０ 走査電源 ６０ 平行化電源 ＩC 励磁電流 Ｆ、Ｂ ファラデーカップ ＦM 、ＢM 重心位置
Claims (5)
- 【請求項１】 上流側の走査手段によって電気的に走査
したイオンビームを下流側の平行化手段によって電気的
に曲げ戻すことによって、イオンビームを平行走査する
構成のイオン注入装置において、イオンビームのビーム
ラインに沿って上流側と下流側とに互いに距離をあけて
配置された上流側ビームモニタおよび下流側ビームモニ
タであって、上流側ビームモニタはイオンビームの走査
方向に沿って配置された二つのファラデーカップを有
し、下流側ビームモニタはイオンビームの走査方向にお
いて上流側ビームモニタの前記二つのファラデーカップ
のちょうど真ん中に位置するファラデーカップを有して
おり、そのような上流側ビームモニタおよび下流側ビー
ムモニタを用いて、イオンビームが上流側ビームモニタ
に入射する状態でイオンビームを走査して、同ビームモ
ニタの前記二つのファラデーカップを互いに並列接続し
ておいてそれらを用いてビーム電流波形を計測して、こ
のビーム電流波形から上流側ビームモニタの位置におけ
るイオンビームのビーム走査信号上での重心位置を求
め、イオンビームが下流側ビームモニタに入射する状態
でイオンビームを走査して、同ビームモニタの前記ファ
ラデーカップを用いてビーム電流波形を計測して、この
ビーム電流波形から下流側ビームモニタの位置における
イオンビームのビーム走査信号上での重心位置を求め、
上記のようにして求めた二つの重心位置が互いに一致す
るように、前記平行化手段に供給する電流または電圧を
増減させて同平行化手段におけるビームの曲げ戻しの度
合を調整することを特徴とするイオンビームの平行化調
整方法。 - 【請求項２】 上流側の走査手段によって電気的に走査
したイオンビームを下流側の平行化手段によって電気的
に曲げ戻すことによって、イオンビームを平行走査する
構成のイオン注入装置において、イオンビームのビーム
ラインに沿って上流側と下流側とに互いに距離をあけて
配置された上流側ビームモニタおよび下流側ビームモニ
タであって、下流側ビームモニタはイオンビームの走査
方向に沿って配置された二つのファラデーカップを有
し、上流側ビームモニタはイオンビームの走査方向にお
いて下流側ビームモニタの前記二つのファラデーカップ
のちょうど真ん中に位置するファラデーカップを有して
おり、そのような上流側ビームモニタおよび下流側ビー
ムモニタを用いて、イオンビームが下流側ビームモニタ
に入射する状態でイオンビームを走査して、同ビームモ
ニタの前記二つのファラデーカップを互いに並列接続し
ておいてそれらを用いてビーム電流波形を計測して、こ
のビーム電流波形から下流側ビームモニタの位置におけ
るイオンビームのビーム走査信号上での重心位置を求
め、イオンビームが上流側ビームモニタに入射する状態
でイオンビームを走査して、同ビームモニタの前記ファ
ラデーカップを用いてビーム電流波形を計測して、この
ビーム電流波形から上流側ビームモニタの位置における
イオンビームのビーム走査信号上での重心位置を求め、
上記のようにして求めた二つの重心位置が互いに一致す
るように、前記平行化手段に供給する電流または電圧を
増減させて同平行化手段におけるビームの曲げ戻しの度
合を調整することを特徴とするイオンビームの平行化調
整方法。 - 【請求項３】 上流側の走査手段によって電気的に走査
したイオンビームを下流側の平行化手段によって電気的
に曲げ戻すことによって、イオンビームを平行走査する
構成のイオン注入装置において、イオンビームのビーム
ラインに沿って上流側と下流側とに互いに距離をあけて
配置された上流側ビームモニタおよび下流側ビームモニ
タであって、上流側ビームモニタはイオンビームの走査
方向に沿って配置された二つのファラデーカップを有
し、下流側ビームモニタはイオンビームの走査方向にお
いて上流側ビームモニタの前記二つのファラデーカップ
と任意の位置関係にあるファラデーカップを有してお
り、そのような上流側ビームモニタおよび下流側ビーム
モニタを用いて、イオンビームが上流側ビームモニタに
入射する状態でイオンビームを走査して、同ビームモニ
タの前記二つのファラデーカップをそれぞれ用いてビー
ム電流波形を二つ計測して、この各ビーム電流波形から
上流側ビームモニタの位置におけるイオンビームのビー
ム走査信号上での第１および第２の重心位置をそれぞれ
求め、イオンビームが下流側ビームモニタに入射する状
態でイオンビームを走査して、同ビームモニタの前記フ
ァラデーカップを用いてビーム電流波形を計測して、こ
のビーム電流波形から下流側ビームモニタの位置におけ
るイオンビームのビーム走査信号上での第３の重心位置
を求め、前記ビーム走査信号上での第１および第２の重
心位置と、それを求めるのに用いた二つのファラデーカ
ップのビーム走査方向上での空間的位置との関係を表わ
す一次関数を求め、この一次関数から、イオンビームが
完全に平行化されている場合の前記下流側ビームモニタ
の前記ファラデーカップの空間的位置におけるイオンビ
ームのビーム走査信号上での第４の重心位置を求め、上
記のようにして求めた第３と第４の重心位置が互いに一
致するように、前記平行化手段に供給する電流または電
圧を増減させて同平行化手段におけるビームの曲げ戻し
の度合を調節することを特徴とするイオンビームの平行
化調整方法。 - 【請求項４】 上流側の走査手段によって電気的に走査
したイオンビームを下流側の平行化手段によって電気的
に曲げ戻すことによって、イオンビームを平行走査する
構成のイオン注入装置において、イオンビームのビーム
ラインに沿って上流側と下流側とに互いに距離をあけて
配置された上流側ビームモニタおよび下流側ビームモニ
タであって、下流側ビームモニタはイオンビームの走査
方向に沿って配置された二つのファラデーカップを有
し、上流側ビームモニタはイオンビームの走査方向にお
いて下流側ビームモニタの前記二つのファラデーカップ
と任意の位置関係にあるファラデーカップを有してお
り、そのような上流側ビームモニタおよび下流側ビーム
モニタを用いて、イオンビームが下流側ビームモニタに
入射する状態でイオンビームを走査して、同ビームモニ
タの前記二つのファラデーカップをそれぞれ用いてビー
ム電流波形を二つ計測して、この各ビーム電流波形から
下流側ビームモニタの位置におけるイオンビームのビー
ム走査信号上での第１および第２の重心位置をそれぞれ
求め、イオンビームが上流側ビームモニタに入射する状
態でイオンビームを走査して、同ビームモニタの前記フ
ァラデーカップを用いてビーム電流波形を計測して、こ
のビーム電流波形から上流側ビームモニタの位置におけ
るイオンビームのビーム走査信号上での第３の重心位置
を求め、前記ビーム走査信号上での第１および第２の重
心位置と、それを求めるのに用いた二つのファラデーカ
ップのビーム走査方向上での空間的位置との関係を表わ
す一次関数を求め、この一次関数から、イオンビームが
完全に平行化されている場合の前記上流側ビームモニタ
の前記ファラデーカップの空間的位置におけるイオンビ
ームのビーム走査信号上での第４の重心位置を求め、上
記のようにして求めた第３と第４の重心位置が互いに一
致するように、前記平行化手段に供給する電流または電
圧を増減させて同平行化手段におけるビームの曲げ戻し
の度合を調節することを特徴とするイオンビームの平行
化調整方法。 - 【請求項５】 前記上流側ビームモニタおよび下流側ビ
ームモニタとして、イオンビームの走査方向に沿って互
いに等間隔に配置された復数のファラデーカップを有す
る上流側の多点ビームモニタおよび下流側の多点ビーム
モニタをそれぞれ用いる請求項１、２、３または４記載
のイオンビームの平行化調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09020295A JP3407468B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | イオンビームの平行化調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09020295A JP3407468B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | イオンビームの平行化調整方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08264151A true JPH08264151A (ja) | 1996-10-11 |
| JP3407468B2 JP3407468B2 (ja) | 2003-05-19 |
Family
ID=13991912
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09020295A Expired - Lifetime JP3407468B2 (ja) | 1995-03-22 | 1995-03-22 | イオンビームの平行化調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3407468B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001185072A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-07-06 | Applied Materials Inc | イオン注入装置およびそれに用いるビームストップ |
| WO2006020643A2 (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Axcelis Technologies, Inc. | Ion beam measurement systems and methods for ion implant dose and uniformity control |
| JP2010516036A (ja) * | 2007-01-12 | 2010-05-13 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | イオン注入個所の磁界低減化技術 |
| CN103779161A (zh) * | 2012-11-08 | 2014-05-07 | 北京中科信电子装备有限公司 | 一种离子均匀注入的宽带束扫描方法 |
| CN103811256A (zh) * | 2012-11-13 | 2014-05-21 | 斯伊恩股份有限公司 | 离子注入装置、射束平行化装置及离子注入方法 |
-
1995
- 1995-03-22 JP JP09020295A patent/JP3407468B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001185072A (ja) * | 1999-10-12 | 2001-07-06 | Applied Materials Inc | イオン注入装置およびそれに用いるビームストップ |
| WO2006020643A2 (en) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Axcelis Technologies, Inc. | Ion beam measurement systems and methods for ion implant dose and uniformity control |
| WO2006020643A3 (en) * | 2004-08-13 | 2006-06-22 | Axcelis Tech Inc | Ion beam measurement systems and methods for ion implant dose and uniformity control |
| JP2010516036A (ja) * | 2007-01-12 | 2010-05-13 | ヴァリアン セミコンダクター イクイップメント アソシエイツ インコーポレイテッド | イオン注入個所の磁界低減化技術 |
| CN103779161A (zh) * | 2012-11-08 | 2014-05-07 | 北京中科信电子装备有限公司 | 一种离子均匀注入的宽带束扫描方法 |
| CN103811256A (zh) * | 2012-11-13 | 2014-05-21 | 斯伊恩股份有限公司 | 离子注入装置、射束平行化装置及离子注入方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3407468B2 (ja) | 2003-05-19 |
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|---|---|---|---|
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