JPH0825849B2 - 固形の植物活性組成物調製方法 - Google Patents

固形の植物活性組成物調製方法

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JPH0825849B2
JPH0825849B2 JP62200123A JP20012387A JPH0825849B2 JP H0825849 B2 JPH0825849 B2 JP H0825849B2 JP 62200123 A JP62200123 A JP 62200123A JP 20012387 A JP20012387 A JP 20012387A JP H0825849 B2 JPH0825849 B2 JP H0825849B2
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Description

【発明の詳細な説明】 この発明は式Iの部分 を含んでいる植物活性化合物よりなる新規固形の植物活
性組成物の調製のための方法に関するものである。
式Iとして上に記された部分を含んでいる植物活性化
合物がN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合
物、又は“PMCM"化合物としてここに示されている。こ
れらの化合物及び式Iの部分は以降に更に定義され、説
明されるであろう。
多くの植物活性N−ホスホノメチル−N−カルボキシ
メチル化合物が技術上知られている。この発明を記する
ことに使用されたように“植物活性”なる語は植物成長
制御として、除草剤として、落葉剤として、又は類似物
として有用であることを意味している。そのようなN−
ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物及びそれ
らの使用は米国特許第3,455,675;3,556,762;4,405,531;
3,868,407;4,140,513;4,315,765;4,481,026,及び4,397,
676号明細書及び国際出願W084/03607公報に記載されて
いる。
これらの特許は参考としてここに説明され、組入れら
れている。又殆んどのこれらの特許はそのような化合物
を調製するため使用される工程の記述を含んでいる。以
下の特許は付加的工程記述を提供している:米国特許第
3,288,846;4,507,250;4,147,719;及び4,487,724号明細
書。これらの特許も参考として、ここに組入れられてい
る。
ある種のN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物、特に水可溶性N−ホスホノメチル−N−カルボ
キシメチル塩、はしばしば固体の形でえることが困難で
ある。それらは水溶液から結晶化し単離することに困難
である。それらはガラス状の結晶でない固体を作り、空
気にさらされると直に湿ったケーキにかわる。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の
市販製剤は一般に固型で売られておらず、水溶液として
売られている。しばしば、これらの溶液は約50%のN−
ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物を含んで
いる。したがって、貯蔵、輸送及び容器処分に実質的な
むだがある。
水中でN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化
合物は通常酸性である。それらは内張されていない鋼、
或は、亜鉛メッキ鋼と反応し、高度に燃焼性混合ガスを
作る水素ガスを発生できる。若し燃焼すると、この混合
物は噴出し、爆発し、人に障害を生じさせるであろう。
それ故、化合物の水溶液は通常プラスチック又は特別に
内張された鋼容器で貯蔵され、輸送される。
貯蔵、輸送及び容器処分を助けるため、及びN−ホス
ホノメチル−N−カルボキシメチル溶液にともなう問題
を避けるため、固型でN−ホスホノメチル−N−カルボ
キシメチル化合物を包装し、売ることが望まれるであろ
う。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物を
含んでいる所謂水和又は可溶粉剤を開示している代表的
特許は米国特許第4,025,331;4,414,158;4,481,026;及び
4,405,531号明細書を含んでいる。これらはN−ホスホ
ノメチル−N−カルボキシメチル化合物、不活性固体増
量剤及び1つ以上の界面活性剤を含む水和組成物或は粉
状組成物を広く開示している。そのような水和剤の欠点
は固体増量剤が特殊な大きさの容器で輸送される活性成
分の量を減じることである。更に、そのような粉に含ま
れた植物活性化合物の多く、特にN−ホスホノメチル−
N−カルボキシメチル塩、が吸湿性、又は潮解性である
という欠点がある。そのような水和/可溶剤の包装、貯
蔵、及び使用に大変な注意が必要とされている。若しも
最終使用者がそのような粉剤の一部のみを使用するな
ら、残ったものの安定性を保証するため、広範囲の予防
手段がとられねばならない。
潮解性の問題への解答は米国特許出願番号第762,466
号に記されている。それには活性成分、植物活性N−ホ
スホノメチル−N−カルボキシメチル化合物、好ましく
は塩、が溶剤及び溶かされた界面活性剤と混合され、溶
剤が除去され、界面活性剤が固体になる温度に冷却され
ている。更にその生成物はペレット、フレーク、粒状の
ような特殊な型に加工されている。固体組成物は引続き
畑で適切な希釈剤、通常、水にとかされ、組成物の植物
活性が指示されている植物に適用される。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の
酸形は実質的に水又は他の溶剤にとけないので、これま
で手順はこれら化合物を水性塩溶液として作ることであ
った。通常塩は水性溶剤系でその場所で作られる。代表
的な塩はN−ホスホノメチルグリシンのイソプロピルア
ミン塩である。
然しながら、出願第762,466号に記された工程におけ
るステップの1つが削除されえることがわかった。即ち
水性溶剤系における塩調製の削除である。そしてN−ホ
スホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の酸形を環
境温度で液体であるアミンと直接反応することでN−ホ
スホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の水可溶性
アミン塩を調製することで、もっと効率的な工程がえら
れる。反応はN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチ
ル化合物のアミン塩を作るようにアミンに対し十分な時
間続けられ、過剰のアミンを十分に蒸発させる。それに
よりN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物
の固体アミン塩が作られる。この塩はそれから溶かされ
た界面活性剤と混合され、出願番号第762,466号に記さ
れたステップに類似の方法で固化される。
従って、植物活性N−ホスホノメチル−N−カルボキ
シメチル組成物が実質的に非吸湿性及び非潮解性である
固型でたやすく得られることが判明した。工程は次の工
程からなっている: (a) 植物活性N−ホスホノメチル−N−カルボキシ
メチル化合物の不溶性酸形をまわりの温度で液体である
アミン、好ましくはイソプロピルアミン、或はブチルア
ミン、と十分な時間反応させ、該N−ホスホノメチル−
N−カルボキシメチル化合物の固体アミン塩を作る工
程; (b) 該N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物の該固体アミン塩を、まわりの温度で固体である
溶かされた界面活性剤と混合する工程: (c) (b)で作られた該混合物を該界面活性剤の融
点以下の温度に冷却し、まわりの温度で固体であるN−
ホスホノメチル−N−カルボキシメチル組成物を作る工
程及び (d) ペレット、フレーク、粒剤及び粉剤のような特
殊な型に該組成物を加工する工程。
ここに使用されたように、“固体”なる項は、組成物
が特定の型と容積をもち、変形に抵抗する物理的状態に
関係している。固体は例えばペレット、フレーク、粒剤
又は粉剤のようないかなる適切な特定の型にも加工され
るであろう。固体組成物は引続きは遠い畑で適切な希釈
剤、通常好ましくは水、に溶かされえる。そして組成物
の植物活性が定められている植物に適用される。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物は
により示されるであろう。ここでZは水素、有機部分又
は無機部分である。Zが水素以外であるN−ホスホノメ
チル−N−カルボニルメチル化合物を開示している代表
的特許は米国特許第3,888,915;3,933,946;4,062,699;4,
119,430;4,322,239;及び4,084,954号明細書を含んでい
る。
好ましいN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物において、Zは水素又は有機置換基である。代表
的な有機置換基はメチレンカルボキシリック;メチレン
ホスホニツク;メチレンシアノ;ホルミル、アセチル、
ベンゾイル、パーフルオロアシル、及びチオカルボニル
のようなカルボニル;シアノ、カルバモイル或はカルボ
キシル置換エチレンのようなエチレン;及びベンゼンス
ルホニル置換基を含んでいる。窒素が3有機置換基を含
んでいる化合物を開示している特許は米国特許第3,455,
675;3,556,762;4,132,662;4,261,727;3,988,142;3,970,
695;4,180,394;4,047,927;3,853,530;4,203,756;3.991,
095;及び3,996,040号明細書を含んでいる。好ましい第
3窒素置換N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物はN,N−ビス−(ホスホノメチル)グリシンであ
る。望まれた植物活性が除草活性であるとき、Zが水素
であるN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合
物が最も好ましい。代表的はRはハロゲン,−NHOH,−N
(R′)2,−OR2,−SR2,及び−OHを含んでいる。ここで
R′は独立に水素、アルキル或はヒドロキシアルキル、
好ましくは約炭素数5以下を含んでいる、アルケニル、
好ましくは炭素数約5以下を含んでいる、或はフェニル
基からえらばれ、R2は独立に水素、アルキル、ヒドロキ
シアルキル又はクロロアルキル、好ましくは炭素数約5
以下を含んでいる、アルコキシ、好ましくは炭素数5以
下を含んでいる、アルキレンアミン、好ましくは炭素数
5以下を含んでいる、フェニル或はベンジル基からえら
ばれている。
発明の工程で出発物質として使用される植物活性N−
ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物は植物活
性化合物の水可溶性アミン塩を作るためアミンと反応で
きねばならない。発明の工程及び組成物における使用の
ために好ましい植物活性化合物はN−ホスホノメチルグ
リシンである。N−ホスホノメチルグリシンは不溶性の
酸で、その調製法は米国特許第3,799,758号明細書、フ
ランズ(Franz.)に記載され、請求されている。
酸N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物
との反応に使用されるアミンは、長さにおいて約3から
約10の炭素原子の範囲の炭素鎖をもついかなる有機アミ
ンでもよい。最も好ましいアインはイソプロピルアミン
である。然しながら、n−ブチルアミン、セチルアミ
ン、デシルアミンのような他のアミン類及び類似物も使
用されえる。アミンは酸N−ホスホノメチル−N−カル
ボキシメチル化合物と約1:1のモル比で反応させられ
る。然しながら、過剰のアミンが使用されえる。アミン
は酸N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物
と十分な時間反応させられ、過剰が留去され、N−ホス
ホノメチル−N−カルボキシメチル化合物のアミン塩よ
りなる固体組成物をのこす。
不溶性酸N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物とアミンの反応は通常まわりの温度で行われる
が、アミンの融点までの高温が使用されえる。使用され
るアミンはいずれもまわりの温度で液体であらねばなら
ない。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物と
使用される特別の界面活性剤の選択は重要である。特別
のN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物と
の連結で使用される特別の界面活性剤の選択はこの出願
の教示にもとずいた不必要な実験なしに、当業者により
容易になされるであろう。界面活性剤が使用されると
き、それはまわりの温度で固体であらねばならない。即
ち、それは高融点をもたねばならない。好ましい界面活
性剤は50℃以上の融点をもっている。又界面活性剤は吸
湿性或は潮解性であるべきでない。固体になったとき、
界面活性剤は植物活性組成物の最終使用者によりえらば
れた希釈剤にたやすく溶け分散すべきである。好ましい
実施態様において、固体界面活性剤は水にとける。界面
活性剤は、最終生成物が希釈剤と混合されるとき、最少
の発泡を生じるべきである。
界面活性剤が周りの温度で固体であることは特に重要
である。実際的に、最終使用者により希釈剤と混合され
る前に、固体生成物が曝されるであろう最高の温度で固
体であらねばならない。そのような温度は一般に約−20
℃から50℃の範囲にある。
発明における使用に対する好ましい界面活性剤は官能
をもつアルキルオキサイドの非イオン性ブロック共重合
体である。ここでR3及びR4は同じか、異なっており、水
素, 或はN−からえらばれている。R7はアルキルアリール基
からえらばれ、そのアルキル部分、或はアルキルアリー
ル基は約8から約30の炭素原子の範囲、及びそれらの混
合物である。mは約20から約200、nは約0から約10の
範囲で、m+nは約25に等しいか、それより大である。
R7の例はソルビタン;ココヤシ、オレイル、パルミチ
ル、獣脂、ステアリル、ラウリル、大豆油、ひまし油、
ノニルフェノキシ、ジノニルフェノキシ、オクチルフェ
ノキシ、及びジオクチルフェノキシのような脂肪族基を
含んでいる。
発明の組成物に使用される好ましい非イオン性界面活
性剤は例えばプルロニック(Pluronic)F-38、F−68、
F−77、F−87、F−88、F−89、F−108及びF−127
のようなプルロニック界面活性剤を含んでいる。プルロ
ニック界面活性剤は工業的に入手可能で(BASF)、エチ
レンオキサイド又はプロピレンオキサイドブロック共重
合体よりなっている。
この発明の工程及び組成物に非イオン界面活性剤使用
の利点は、それらが一般に廉価で、たやすく入手でき、
低又は非刺激性で、哺乳動物にしばしば低毒性で、融け
た状態で真空下低又は非発泡性であるということであ
る。
カチオン性、アニオン性、或は両性のような他の界面
活性剤も使用されえる。然しながらそれらは泡を生じる
であろう。又哺乳動物にもっと毒性があろう。
そのような他の界面活性剤はエムコル(Emcol)CC-57
(カチオン性)、アークアト(arquad)C−50(カチオ
ン性)、エソミイーン(Ethomeen)18/12(カチオン
性)、エソミイーン18/15(カチオン性)、エソミイー
ン18/60(カチオン性)、エソミイーンT/60(カチオン
性)、アルカフォス(alkaphos)K-380(アニオン性)
及びウイツユネート(Witconate)AOK(アニオン性)を
含んでいる。
種々の非イオン性界面活性剤、又はカチオン性、アニ
オン性、或は両性界面活性剤と非イオン界面活性剤の混
合物も、望まれるなら使用されえる。
次の界面活性剤はこの発明の工程及び組成物に有用で
ある。
発明により使用されえる界面活性剤の付加的クラスは
以下の表−IIに記されている。
まわりの温度で固体であるある界面活性剤は発泡す
る。最終製品が最終使用者により希釈剤と混合されると
き、発泡問題が生じるであろう。それ故、発明のある実
施態様はあわ止め剤を含んでいる。あわ止め剤は融けた
界面活性剤の固化に先立ちいかなる時にも加えられるで
あろう。
有用なあわ止め剤の代表的なものはシルコラップ(Si
lcolapse)5008(シリコン基体あわ止め)、及びあわ止
めエマルシオン(Emulsion)Q−94(SWS Silicones Co
rp.)のような化合物を含んでいる。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物、
界面活性剤及びあわ止め剤に加え、組成物は又、乾燥助
剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、分散剤、湿潤剤及びその
他農業上許容されている物質のような他の一般的補助剤
を含みえる。代表的乾燥助剤はマイクロセル(Microce
l)E、エアロシル(aerosil)200及びハイ−シル (H
i-Sil )233を含んでいる。代表的紫外線吸収剤はテヌ
ピン(Tinuvin)770、テヌピンP、及びジニトロアニリ
ンを含んでいる。
N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の
界面活性剤への比は広範囲に変化する。特別の界面活性
剤の選択はこの発明により使用されたN−ホスホノメチ
ル−N−カルボキシメチル化合物の植物活性に影響を及
ぼすことが知られているので、固体組成の望まれた活性
は、特別の界面活性剤を選ぶとき、考えられるべきであ
る。製品が適用に先立ち、全体的に希釈剤に溶け、或は
たやすく分散する限り、望まれる多くの界面活性剤が使
用されるであろう。価格を考慮すると、発明の目的、即
ち実質的に吸湿性でない固体製品の生成、がえられる最
少の界面活性剤が使用されるべきである。N−ホスホノ
メチル−N−カルボキシメチル化合物の界面活性剤への
重量比は代表的に約10:1から約1:10であり、好ましい比
は約4:1から約1:2、最も好ましい比は約2:1から約1:1で
ある。
この発明の組成物の代表的製剤は以下のようである。
ことわりのない限り、製剤は重量%によっている。
69.3% N−ホスホノメチルグリシンの イソプロピルアミン塩 30.7% テトロニック(Tetronic)980 (融点,58℃)100.0% 計 69.3% N−ホスホノメチルグリシンの イソプロピルアミン塩 30.7% F−108(融点,57℃)100.0% 計 69.3% N−ホスホノメチルグリシンの ブチルアミン塩 30.7% テトロニック(Tetronic)909 (融点,59℃)100.0% 計 69.3% N−ホスホノメチルグリシンの セチルアミン塩 30.7% プルロニック(Pluronic)F−108 (融点,57℃)100.0% 計 この発明による固体組成物は、N−ホスホノメチル−
N−カルボキシメチル化合物が界面活性剤と本質的混合
物を作ることで特徴づけられている。N−ホスホノメチ
ル−N−カルボキシメチル化合物がはまず界面活性剤マ
トリックスを通して分散される。そのような本質的分散
はN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物に
よる湿気の吸収を妨げると信じられている。
この発明の組成物はいかなる適切な方法でも調製され
えるが、好ましい工程は次のようである。
まず、酸N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物の分量がえられる。通常それは粒剤か、粉剤であ
ろう。それからこの化合物は好ましくはまわりの温度で
液状アミン、好ましくはイソプロピルアミンと約1:1の
モル比で反応或は混合され、N−ホスホノメチル−N−
カルボキシメチル化合物のアミン塩が作られる。このア
ミン塩も固体で、一般に粒剤、又は粒剤の型である。次
にN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の
新に作られたアミン塩が十分な時間とけた界面活性剤と
混合され、界面活性剤のマトリックス内にN−ホスホノ
メチル−N−カルボキシメチル粒状物又は粉状物の完全
な分散をえる。
ある実施態様において、界面活性剤は単にN−ホスホ
ノメチル−N−カルボキシメチル化合物と最初に混合さ
れるけれども、好ましくは、界面活性剤は溶融状態で加
えられ、それから温度は界面活性剤の融点以上にあげら
れる。溶融界面活性剤の最初の使用は混合を容易にす
る。
溶融された界面活性剤を作る又は保持するため、最初
の混合の温度の下限は界面活性剤の融点である。上限は
特別のN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合
物、界面活性剤、或は他の添加物が分解するであろう温
度である。N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル
化合物として、N−ホスホノメチルグリシンのイソプロ
ピルアミンが選ばれるとき、50°から80℃の温度範囲が
一般に使用される。
界面活性剤が冷えると、粘稠な混合物が作られる。冷
却で、最終混合物はすぐに固化する。
それから、えられた固体組成は一般的技術により、ペ
レット、フレーク、粒状、或は粒状のようないかなる適
切な特別の型にも加工されえる。当業者によりすぐに評
価されるであろうように、最終粒子の大きさは最後の使
用者による希釈剤における最終製品の溶液或は分散の容
易さに効果を及ぼすであろう。一般に、溶液又は分散の
容易さは粒子サイズが減ずると増加する。然しながら,
逆に、最終製品取扱いの容易さは粒子サイズが増加する
と増加する。固体組成がさらに溶け、分散すると、より
大きな粒子サイズが使用されえる。好ましい実施態様
で、最終製品は約3から約15μの径をもつ粒剤から、約
8から約30メッシュの径をもつ粒剤に、フレークに加工
される。
ここに記された工程により発明の組成物の生成が次の
例に説明されている。ことわりのない限り、%は重量に
よっている。
例1 実験室ロータリーエバポレーターで、テトロニック
908界面活性剤(BASFからエチレンオキサイド及びプロ
ピレンオキサイドのブロック共重合体)融点、58℃の1
2.5gが70℃で円底フラスコ200mlにとかされている。と
かされた界面活性剤に、まわりの温度でN−ホスホノメ
チルグリシンイソプロピルアミン塩42.5gが徐々に加え
られ、その間高温が保持される。それから混合物は室温
に冷却することにより固化される。えられた固体はスパ
ーテルでフラスコから移され、窒素下乳棒及びモーター
で粉状にくだかれた。開放ルツボにおかれた粉末サンプ
ルは潮解性はなかった。
例2 界面活性剤としてイゲパル(Igepal)DM970〔ジアル
キルフェノキシポリ(エチレンオキシ)エタノール、GA
F社〕12.5gが使用したことを除いて例1と同様に組成物
が調製されている。開放下に放置しても潮解しない固体
がえられている。
例3 界面活性剤としてイコノール(Iconol)DNP150、融点
55℃、15g、ハイ−シル (Hi-Sil)(PPGからのヒュー
ムリシカ)1g、あわ止め剤(シルコラプス5008)2滴を
使用し、1mmHg(絶対)で1/2時間100℃で蒸発する以外
は例1と同じように組成物が調製されている。開放下に
放置しても潮解しない固体がえられている。
例4 界面活性剤としてプルロニック(Pluronic) F−10
8、融点56℃、15gを使用する以外は例1におけるように
組成物が調製されている。えられた粘稠なペーストは室
温に冷却することにより固化される。開放下に放置して
もそれは潮解しない。
例5 2つの界面活性剤〔プルロニック(Pluronic) 17R8
10g及びトライコール(Trycol) 5946 5g、エメリー
からのエトキシレート化アルキルフェノール界面活性
剤〕の混合物を使用すること以外は例4におけるように
組成物が調製されている。室温に冷却後、えられた粘稠
ペーストは固化する。それは開放下に放置しても潮解し
ない。
例6 プルロニック F108融点56℃、15g、ハイ−シル 1g
を使用する以外は例1におけるように組成物が調製され
ている。冷却するとえられた生成物はすぐに固化する。
開放下に放置しても潮解しない。
例7 界面活性剤としてプルラファック(Plurafac)A−39
(BASFからの線型アルコールエトキシレート界面活性
剤)、融点56℃、25gを使用すること以外は例1におけ
るように組成物が調製されている。えられた粘稠液体は
室温に冷却されたとき、固化する。開放下に放置しても
潮解しない。
この発明の植物活性組成物は、引続き適切な希釈剤、
好ましくは水に溶かされる、又は分散され、スプレー又
は他の一般的方法により望まれる土地に適用されるとき
有用である。湿潤剤、浸漬剤、拡散或は粘着剤を含んで
いる一般的補助剤、分散剤のような補助剤も最終溶液或
は分散に加えられる。
植物活性量を構成する組成の量は植物の性質及び望ま
れた効果に依存する。適用の割合は一般にエーカーあた
りN−ホスホノメチル−N−カルボキシメチル化合物の
約0.01から約50ポンドにかわり、好ましくは全体のコス
ト及び望まれる結果に依存し現実の量で好ましくはエー
カーあたり約0.1から約25ポンドである。同じ程度の効
果をえるため低植物活性を示す組成物はより活性な化合
物よりより高い適用割合を要求するであろうことは当業
者には明らかであろう。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】固形の植物活性組成物調製方法であって、
    該方法は (a) 植物活性N−ホスホノメチル−N−カルボキシ
    ルメチル化合物の酸形を液体アミンと反応させて該N−
    ホスホノメチル−N−カルボキシルメチル化合物のアミ
    ン塩を作る工程; (b) 該N−ホスホノメチル−N−カルボキシルメチ
    ル化合物の該アミン塩を、まわりの温度で固体である溶
    かされた界面活性剤と混合する工程;及び (c) 該混合物を界面活性剤の融点以下の温度に冷却
    し、該界面活性剤及びそのマトリックス内に分散された
    N−ホスホノメチル−N−カルボキシルメチル化合物の
    該アミン塩よりなりまわりの温度で固体である組成物を
    生成する工程 よりなっていることを特徴とする固形の植物活性組成物
    調製方法。
  2. 【請求項2】該アミン塩がイソプロピルアミン塩である
    特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 【請求項3】該N−ホスホノメチル−N−カルボキシル
    メチル化合物がN−ホスホノメチルグリシンである特許
    請求の範囲第1項記載の方法。
  4. 【請求項4】該N−ホスホノメチル−N−カルボキシル
    メチル化合物がN,N−ビス−(ホスホノメチル)グリシ
    ンである特許請求の範囲第1項記載の方法。
  5. 【請求項5】更に固形の植物活性組成物を粒子形に加工
    することよりなる特許請求の範囲第1項記載の方法。
  6. 【請求項6】界面活性剤が非イオン性である特許請求の
    範囲第1項〜第5項のいずれか1項に記載の方法。
  7. 【請求項7】界面活性剤がエチレンオキサイド或はプロ
    ピレンオキサイドブロック共重合体である特許請求の範
    囲第1〜第5項のいずれか1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】界面活性剤が官能基 をもっているアルキルオキサイドのブロック共重合体で
    ある特許請求の範囲第1〜第5項のいずれか1項に記載
    の方法、ここでR3及びR4は独立に水素、 或はN−からえらばれている。R″は炭素原子8から30
    を有するアルキル基、或は炭素原子8から30のアルキル
    基を含むアルキルアリール基及びそれらの混合物からえ
    らばれ、mは20から200、nは0から10で、m+nは25
    に等しいか、それより大である。
  9. 【請求項9】N−ホスホノメチル−N−カルボキシメチ
    ル化合物対界面活性剤の比が重量で10:1から1:10である
    特許請求の範囲第1項記載の方法。
  10. 【請求項10】該組成物を、ペレット、フレーク、粒剤
    或は粉剤のような粒形に加工する付加的ステップを含ん
    でいる特許請求の範囲第1項記載の方法。
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