JPH0825823A - 印刷凹版およびその製造方法 - Google Patents

印刷凹版およびその製造方法

Info

Publication number
JPH0825823A
JPH0825823A JP16546494A JP16546494A JPH0825823A JP H0825823 A JPH0825823 A JP H0825823A JP 16546494 A JP16546494 A JP 16546494A JP 16546494 A JP16546494 A JP 16546494A JP H0825823 A JPH0825823 A JP H0825823A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alignment marker
metal film
glass
etching
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP16546494A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuo Ogata
一雄 緒方
Koji Inoue
浩治 井上
Kazuhiro Matsuoka
和宏 松岡
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP16546494A priority Critical patent/JPH0825823A/ja
Publication of JPH0825823A publication Critical patent/JPH0825823A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Methods (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 基体1がガラス系脆性基体であっても、短時
間で正確に位置測定が行える。 【構成】 ガラス系脆性基体1と、このガラス系脆性基
体1上に形成した基体エッチングパターン5ならびに基
体エッチングによる位置合わせマーカー6と、この基体
エッチングによる位置合わせマーカー6の上に重ねて形
成した金属膜エッチングによる位置合わせマーカー8と
を備えたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、位置合わせマーカー
を形成したガラス系脆性基体印刷凹版およびその製造方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、オフセット印刷等に用いられる凹
版の基体材料には金属が用いられてきたが、近年作成の
し易さならびに安価な点から、ガラスや石英のようなガ
ラス系脆性基体を使用する場合も増えてきており、パタ
ーニングの手段として、主として湿式法のエッチング液
浸漬法等が実用化されている。
【0003】印刷に用いられる凹版は、通常、版面と同
一の面に位置合わせマーカーを形成し、これを多くは光
学式の位置測定センサで読み取って、印刷の所定位置の
設定や調整等を行っている。この位置合わせマーカーが
ないと、多色刷り等複数回の印刷を行う場合、それぞれ
の印刷において位置ずれを起こしてしまう恐れがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】印刷に際しては、凹版
として用いるエッチングパターンと同一の面に、位置合
わせマーカーをエッチングパターンと同様に凹面で作成
する。金属で作られた凹版では、この凹面とその他の部
分の反射率が大幅に異なることから、これらの位置合わ
せマーカーは、広く使われている光学式の位置測定セン
サで容易に読み取ることができる。
【0005】凹版の基体に、ガラスや石英のようなガラ
ス系脆性基体を用いた場合について、図3を用いて説明
する。図において、11はガラス系脆性基体、12は基
体エッチングパターン、13は位置合わせマーカーであ
る。位置合わせマーカー13は、ガラス系脆性基体11
に作られた所要の基体エッチングパターン12と同様に
して、同一の面に凹面で作成される。
【0006】しかし、ガラス系脆性基体11が透明であ
る場合、この位置合わせマーカー13の凹面とその他の
部分の反射率はほとんど差がなく、広く使われている光
学式の位置測定センサでは、位置合わせマーカー13と
周囲の基体平面部との識別がつき難い。このため、位置
測定センサによる位置合わせマーカー13の検出に時間
を要したり、誤った位置測定を行う等の問題が多く発生
した。
【0007】この発明の目的は、基体がガラス系脆性基
体であっても、短時間で正確に位置測定が行える印刷凹
版およびその製造方法を提供することである。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の印刷凹版は、
ガラス系脆性基体と、このガラス系脆性基体上に形成し
たパターンならびに位置合わせマーカーと、この位置合
わせマーカーの上に重ねて形成した金属膜位置合わせマ
ーカーとを備えたものである。請求項2の印刷凹版の製
造方法は、ガラス系脆性基体上に金属膜を形成し、この
金属膜上に樹脂パターンを形成し、この樹脂パターンを
マスクとして金属膜にエッチングにより金属膜パターン
を形成し、樹脂パターンを除去し、金属膜パターンをマ
スクとしてガラス系脆性基体にエッチングによりパター
ンならびに位置合わせマーカーを形成し、この位置合わ
せマーカーを覆って金属膜パターン上に貼付パッチを貼
付し、この貼付パッチをマスクとして金属膜パターンを
エッチングにより除去し、位置合わせマーカーの上に重
ねて金属膜位置合わせマーカーを形成したものである。
【0009】
【作用】請求項1の構成によれば、ガラス系脆性基体上
に、位置合わせマーカーならびにその上に重ねて金属膜
位置合わせマーカーを形成したので、印刷作業に際して
は、広く使われている光学式の位置測定センサによっ
て、位置合わせマーカーとその周辺部とが充分識別で
き、版面と同一の面にある位置合わせマーカーの読み取
りが容易に行える。
【0010】請求項2の構成によれば、ガラス系脆性基
体上に、位置合わせマーカーならびにその上に重ねて金
属膜位置合わせマーカーが形成され、版面と同一の面に
ある位置合わせマーカーの読み取りが容易に行える。ま
た、印刷凹版の製造に際しては、位置合わせマーカーを
覆って貼付パッチを貼付ならびに除去する工程が新たに
付加されるのみであり、特別な構造,材料,工程等が不
要である。
【0011】
【実施例】この発明の一実施例を図1および図2に示
す。まず、図2を用いて、印刷凹版の製造方法について
説明する。 図2(a)に示すように、厚さ1.1mm、縦横寸法
100mm×100mmの青板ガラスをガラス系脆性基体1
とし、このガラス系脆性基体1上に厚さ1000Åのク
ロム(Cr)からなる金属膜2を形成する。
【0012】 図2(b)に示すように、金属膜2上
に厚さ2μmのフォトレジストからなる樹脂層を塗布
し、露光,現像を行って所望の樹脂パターン3を形成す
る。 図2(c)に示すように、樹脂パターン3をマスク
として酸化セリウム系のエッチャントを用いて、湿式エ
ッチングにより金属膜パターン4を作成し、続いてレジ
スト剥離剤等を用いて樹脂パターン3を全面除去する。
【0013】 図2(d)に示すように、金属膜パタ
ーン4をマスクとして弗化水素酸系のエッチャントを用
いて、湿式エッチングにより、基体エッチングパターン
5および基体エッチングによる位置合わせマーカー6を
作成する。 図2(e)に示すように、基体エッチングによる位
置合わせマーカー6を覆うように、耐酸性の貼付パッチ
7を貼付し、酸化セリウム系のエッチャント等を用い
て、貼付パッチ7に覆われた部分以外の個所の金属膜パ
ターン4を除去する。
【0014】 図2(f)に示すように、貼付パッチ
7を除去し、基体エッチングによる位置合わせマーカー
6、および金属膜エッチングによる位置合わせマーカー
8を露出させ、ガラス系脆性基体印刷凹版9を得る。図
1は、このようにして形成されたガラス系脆性基体印刷
凹版9の斜視図を示している。
【0015】表1に、この実施例のガラス系脆性基体印
刷凹版9の位置測定センサによる位置合わせマーカー
6,8の読み取り時間および読み取りの誤読率につい
て、従来例と比較して示す。なお、従来例は、図3に示
したように、基体エッチングによる位置合わせマーカー
13のみを形成したものである。
【0016】
【表1】 このように、従来例である基体エッチングによる位置合
わせマーカー13のみの場合は、位置測定センサによる
読み取り時間が多く必要であり、また位置読み取りの誤
読の発生も多く、位置合わせマーカー13の読み取りは
難しいということが言える。
【0017】これに対して、この発明の実施例による同
一個所に同形状の基体エッチングによる位置合わせマー
カー6および金属膜エッチングによる位置合わせマーカ
ー8をもったものでは、位置測定センサによる読み取り
は短時間であり、また位置読み取り時の誤読の発生も少
なく、位置合わせマーカー6,8の読み取りは非常に容
易であると言える。
【0018】また、この発明の実施例によれば、従来の
製造工程と同一である基体エッチング工程の後、基体エ
ッチングによる位置合わせマーカー6を含んでいる箇所
を貼付パッチ7で覆うという工程、また金属膜パターン
4を除去した後に貼付パッチ7を除去するという工程の
2工程が増加するのみであり、その所要時間、必要材
料、所要設備はほとんど前後の工程で吸収が可能であ
る。このように、この実施例の構造や製造法は従来例の
構造や製造法と大きな違いがなく、材料,使用工程もほ
とんど同一で、わずかの材料付加ならびに工程付加で大
きな効果を得ることができる。
【0019】また、この発明の実施例での基体エッチン
グは、湿式エッチング液浸漬法であるので、フォトマス
クを使用し、フォトマスクに関わる費用ならびにフォト
工程に関する費用を必要とするが、微細加工品質は優れ
ており、また同じパターンのパターンエッチング基体を
複数個作成する場合、フォトマスクをマスターとしてい
くつも複製できるから、量産性に富んでいる。そのう
え、この方法によればパターン形成が浸漬エッチングに
よるため、材料費,設備費,生産工程数が少ない等、工
業的にも生産性が高く、コスト的にも有利である。
【0020】なお、以上の実施例では、基体に青板ガラ
スを用いたが、ほう硅酸ガラスなどガラス系脆性材料の
構造体が使用可能である。また金属膜2として、多くの
金属が使用可能であるが、望むべくはクロム(Cr),
ニッケル(Ni)がもっとも有効である。金属薄膜の厚
みは、500Å以上で有効と考えられるが、耐久性と経
済性より1000Å〜3000Åが望ましい。
【0021】また、所望の樹脂パターン3の厚みは、
0.5μm以上で有効と考えられるが、耐久性と経済性
より、1μm〜3μm程度が望ましい。また、金属膜2
のエッチャントは実施例に示した以外、金属に対応した
他の種類のエッチャントの選択ができる。また、基体1
のエッチャントは実施例に示した以外、基体1に対応し
た他の種類のエッチャントの選択ができる。
【0022】また、金属膜2を残す箇所は、基体エッチ
ングによる位置合わせマーカー6を含んでいるなら、他
の箇所に広げても特に支障はなく、感光性樹脂など貼付
パッチ7以外の材料を使用しても同様の効果を得ること
ができる。
【0023】
【発明の効果】請求項1の構成によれば、ガラス系脆性
基体上に、位置合わせマーカーならびにその上に重ねて
金属膜位置合わせマーカーを形成したので、印刷作業に
際しては、広く使われている光学式の位置測定センサに
よって、位置合わせマーカーとその周辺部とが充分識別
でき、版面と同一の面にある位置合わせマーカーの読み
取りが容易に行える。したがって、位置測定センサによ
る位置合わせマーカーの検出に時間を必要とせず、かつ
誤読率を低減できるという効果が得られる。
【0024】請求項2の構成によれば、ガラス系脆性基
体上に、位置合わせマーカーならびにその上に重ねて金
属膜位置合わせマーカーが形成され、版面と同一の面に
ある位置合わせマーカーの読み取りが容易に行え、検出
時間の短縮ならびに誤読率を低減できる。また、印刷凹
版の製造に際しては、位置合わせマーカーを覆って貼付
パッチを貼付ならびに除去する工程が新たに付加される
のみであり、特別な構造,材料,工程等が不要であり、
材料費,設備費,工程の追加が不要であるという効果が
得られる。さらに、パターン形成が浸漬エッチングによ
り行え、材料費や設備費が安く、生産工程数が少なく、
処理時間が短い等、工業的にも生産性が高く、コスト的
に有利である。しかも、パターン形成が湿式法であるか
ら、エッチング液浸漬法の特長である微細なパターンが
形成可能であるなど、高い微細加工品質を得ることがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例のガラス系脆性基体印刷凹
版の斜視図である。
【図2】この発明の一実施例のガラス系脆性基体印刷凹
版の製造工程を示す断面図である。
【図3】従来例のガラス系脆性基体印刷凹版の斜視図で
ある。
【符号の説明】
1 ガラス系脆性基体 2 金属膜 3 樹脂パターン 4 金属膜パターン 5 基体エッチングパターン 6 基体エッチングによる位置合わせマーカー 7 貼付パッチ 8 金属膜エッチングによる位置合わせマーカー 9 ガラス系脆性基体印刷凹版

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ガラス系脆性基体と、このガラス系脆性
    基体上に形成したパターンならびに位置合わせマーカー
    と、この位置合わせマーカーの上に重ねて形成した金属
    膜位置合わせマーカーとを備えた印刷凹版。
  2. 【請求項2】 ガラス系脆性基体上に金属膜を形成し、
    この金属膜上に樹脂パターンを形成し、この樹脂パター
    ンをマスクとして前記金属膜にエッチングにより金属膜
    パターンを形成し、前記樹脂パターンを除去し、前記金
    属膜パターンをマスクとして前記ガラス系脆性基体にエ
    ッチングによりパターンならびに位置合わせマーカーを
    形成し、この位置合わせマーカーを覆って前記金属膜パ
    ターン上に貼付パッチを貼付し、この貼付パッチをマス
    クとして前記金属膜パターンをエッチングにより除去
    し、前記位置合わせマーカーの上に重ねて金属膜位置合
    わせマーカーを形成する印刷凹版の製造方法。
JP16546494A 1994-07-18 1994-07-18 印刷凹版およびその製造方法 Pending JPH0825823A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16546494A JPH0825823A (ja) 1994-07-18 1994-07-18 印刷凹版およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16546494A JPH0825823A (ja) 1994-07-18 1994-07-18 印刷凹版およびその製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0825823A true JPH0825823A (ja) 1996-01-30

Family

ID=15812918

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP16546494A Pending JPH0825823A (ja) 1994-07-18 1994-07-18 印刷凹版およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0825823A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010245467A (ja) * 2009-04-10 2010-10-28 Siix Corp 透明部品の実装方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010245467A (ja) * 2009-04-10 2010-10-28 Siix Corp 透明部品の実装方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100988437B1 (ko) 네가티브 포토레지스트를 이용한 유리 또는 금속 식각방법 및 이를 이용한 클리쉐의 제조방법
TW586149B (en) Graytone mask producing method
EP0231916A2 (en) X-ray exposure masks
JPS63173053A (ja) 多層構造体とその製造方法
JPH11153805A (ja) 透明電極膜用アライメントマーク
JPH0825823A (ja) 印刷凹版およびその製造方法
JP4029828B2 (ja) 両面マスク用ブランクの製造方法および両面マスクの製造方法
JP2000238447A (ja) 印刷凹版、印刷凹版の製造方法及び記憶媒体
JP3467317B2 (ja) 印刷用凹版
JPS625243A (ja) コンタクト露光用マスク
JP2004145174A (ja) 両面マスクの作成方法
JP3529967B2 (ja) アライメントマーク付きフォトマスク用ブランクスの製造方法
JPS6323703Y2 (ja)
JPS60128447A (ja) フオトマスク
JPS638900Y2 (ja)
JPS6294927A (ja) チエツク用ブランクス
KR101148112B1 (ko) 액정표시장치용 인쇄판 및 그 제조방법
JPS61156012A (ja) 二焦点走査板の製造方法
JPS5984245A (ja) フオトマスク
JP2000079770A (ja) 印刷用転写ロール及び基板へのダイレクト印刷方法
JPS60231331A (ja) リフトオフ・パタ−ンの形成方法
JP2021019070A (ja) インプリントモールド用基板及びインプリントモールド、並びにそれらの製造方法
JPH0640179A (ja) 印刷版
JPH02172110A (ja) 透明電極付基板の製造方法
JPS6113000B2 (ja)