JPH08235644A - 多層記録媒体の製造方法及び多層記録媒体 - Google Patents
多層記録媒体の製造方法及び多層記録媒体Info
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- JPH08235644A JPH08235644A JP7040567A JP4056795A JPH08235644A JP H08235644 A JPH08235644 A JP H08235644A JP 7040567 A JP7040567 A JP 7040567A JP 4056795 A JP4056795 A JP 4056795A JP H08235644 A JPH08235644 A JP H08235644A
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D17/00—Producing carriers of records containing fine grooves or impressions, e.g. disc records for needle playback, cylinder records; Producing record discs from master stencils
- B29D17/005—Producing optically read record carriers, e.g. optical discs
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 半透明反射膜１２とマスター盤２１の間に介
在されたフィルム状フォトポリマ１３’は、（Ｂ）に示
すように、圧着ローラ２３ａ及び２３ｂによってディス
ク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１に両面が圧
着される。圧着ローラ２３ａ及び２３ｂの回転によって
両面が圧着されたフィルム状フォトポリマ１３’は、デ
ィスク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１との間
に介在された状態で、（Ｃ）に示すように、ＵＶランプ
２４からの紫外線の照射により硬化し、中間層１３とな
る。中間層１３が形成された後、マスター盤２１は
（Ｄ）に示すように剥離される。マスター盤２１が剥離
された中間層１３には、第２の情報信号層１３ａが転写
されている。 【効果】 中間層の形成の簡易化と、厚みムラ抑止を
可能とし、短時間製造と高精度製造を実現できる。
在されたフィルム状フォトポリマ１３’は、（Ｂ）に示
すように、圧着ローラ２３ａ及び２３ｂによってディス
ク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１に両面が圧
着される。圧着ローラ２３ａ及び２３ｂの回転によって
両面が圧着されたフィルム状フォトポリマ１３’は、デ
ィスク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１との間
に介在された状態で、（Ｃ）に示すように、ＵＶランプ
２４からの紫外線の照射により硬化し、中間層１３とな
る。中間層１３が形成された後、マスター盤２１は
（Ｄ）に示すように剥離される。マスター盤２１が剥離
された中間層１３には、第２の情報信号層１３ａが転写
されている。 【効果】 中間層の形成の簡易化と、厚みムラ抑止を
可能とし、短時間製造と高精度製造を実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、信号記録領域である情
報信号層が複数積層された例えば、情報信号がピットに
よって記録された多層光ディスク等の多層記録媒体の製
造方法及び多層記録媒体に関する。
報信号層が複数積層された例えば、情報信号がピットに
よって記録された多層光ディスク等の多層記録媒体の製
造方法及び多層記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンピュータの記録装置や音楽・
画像情報のパッケージメディアとしての光ディスクや、
光磁気ディスク等のディスク状記録媒体の高密度化が進
んでいる。この高密度化の１つの方法として、信号記録
領域である情報信号層が複数積層された多層光ディスク
が提案されている。
画像情報のパッケージメディアとしての光ディスクや、
光磁気ディスク等のディスク状記録媒体の高密度化が進
んでいる。この高密度化の１つの方法として、信号記録
領域である情報信号層が複数積層された多層光ディスク
が提案されている。
【０００３】この多層光ディスクには、例えば、情報信
号記録領域である情報信号層が２層に重ね合わされて構
成される２層光ディスクがある。図５に示すように、こ
の２層光ディスク３０は、一方の面上にピット列によっ
て第１の情報信号層３１ａが形成されたポリカーボネー
ト等の透明な合成樹脂材料からなるディスク基板３１
と、第１の情報信号層３１ａ上に形成された例えば窒化
シリコンＳｉＮ2のような誘電体薄膜からなる半透明の
反射膜３２と、この半透明の反射膜３２上に接する面と
対向する面にピット列によって第２の情報信号層３３ａ
が形成された透明樹脂材料からなる厚さ４０μｍの中間
層３３と、第２の情報信号層３３ａ上に形成された例え
ばアルミニウムＡｌからなる反射膜３４と、この反射膜
３４上に皮膜形成される保護層３５からなる。
号記録領域である情報信号層が２層に重ね合わされて構
成される２層光ディスクがある。図５に示すように、こ
の２層光ディスク３０は、一方の面上にピット列によっ
て第１の情報信号層３１ａが形成されたポリカーボネー
ト等の透明な合成樹脂材料からなるディスク基板３１
と、第１の情報信号層３１ａ上に形成された例えば窒化
シリコンＳｉＮ2のような誘電体薄膜からなる半透明の
反射膜３２と、この半透明の反射膜３２上に接する面と
対向する面にピット列によって第２の情報信号層３３ａ
が形成された透明樹脂材料からなる厚さ４０μｍの中間
層３３と、第２の情報信号層３３ａ上に形成された例え
ばアルミニウムＡｌからなる反射膜３４と、この反射膜
３４上に皮膜形成される保護層３５からなる。
【０００４】このように構成された２層光ディスクから
情報信号を読み取るには、図５に示す光学ピックアップ
装置の対物レンズ３６から照射されるレーザ光の焦点位
置を２段階に変えればよい。すなわち、第１の情報信号
層３１ａ上の情報信号を読み取るには、レーザ光Ｌ1に
よる焦点スポットを該第１の情報信号層３１ａに記録さ
れているピット列に合わせ、第２の情報信号層３３ａ上
の情報信号を読み取るには、図中破線で示すレーザ光Ｌ
2により形成される焦点スポットを該第２の情報信号層
３３ａに記録されているピット列に合わせればよい。こ
のため、第１の情報信号層３１ａ上には、上述したよう
に半透明の反射膜３２が形成されている。
情報信号を読み取るには、図５に示す光学ピックアップ
装置の対物レンズ３６から照射されるレーザ光の焦点位
置を２段階に変えればよい。すなわち、第１の情報信号
層３１ａ上の情報信号を読み取るには、レーザ光Ｌ1に
よる焦点スポットを該第１の情報信号層３１ａに記録さ
れているピット列に合わせ、第２の情報信号層３３ａ上
の情報信号を読み取るには、図中破線で示すレーザ光Ｌ
2により形成される焦点スポットを該第２の情報信号層
３３ａに記録されているピット列に合わせればよい。こ
のため、第１の情報信号層３１ａ上には、上述したよう
に半透明の反射膜３２が形成されている。
【０００５】このような２層光ディスク３０において、
中間層３３を形成するには、主に以下のような２つの方
法があった。先ず、紫外線硬化型樹脂（ＵＶレジン）を
スピンコートで塗布する方法である。また、中間層の厚
みに相当する所定の厚みを備えたスペーサを挟み、間に
ＵＶレジンを滴下し圧着、硬化させる方法である。
中間層３３を形成するには、主に以下のような２つの方
法があった。先ず、紫外線硬化型樹脂（ＵＶレジン）を
スピンコートで塗布する方法である。また、中間層の厚
みに相当する所定の厚みを備えたスペーサを挟み、間に
ＵＶレジンを滴下し圧着、硬化させる方法である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記ＵＶレ
ジンをスピンコートして中間層を形成する方法は、１回
の塗布で約１０μｍ程度しか塗布できないため、塗布し
ては硬化させ、さらにその上に塗布を重ねるという工程
を４回繰り返さなければならなかった。このため、多層
光ディスクの製造に時間を必要とさせていた。また、こ
のスピンコートの繰り返しは、外周部にＵＶレジンのた
れ及び回り込みを生じさせてしまうため中間層に厚みム
ラが発生してしまい、高精度の多層ディスクの製造を妨
げていた。
ジンをスピンコートして中間層を形成する方法は、１回
の塗布で約１０μｍ程度しか塗布できないため、塗布し
ては硬化させ、さらにその上に塗布を重ねるという工程
を４回繰り返さなければならなかった。このため、多層
光ディスクの製造に時間を必要とさせていた。また、こ
のスピンコートの繰り返しは、外周部にＵＶレジンのた
れ及び回り込みを生じさせてしまうため中間層に厚みム
ラが発生してしまい、高精度の多層ディスクの製造を妨
げていた。
【０００７】また、スペーサを挟みＵＶレジンを滴下、
圧着、硬化させて中間層を形成する方法も、いちいちス
ペーサを挟み込まなければならなかった。このため、上
記方法と同様に、多層光ディスクの製造に時間を必要と
させていた。またＵＶレジンがスペーサから漏れてしま
うため、高精度の多層ディスクの製造を妨げていた。
圧着、硬化させて中間層を形成する方法も、いちいちス
ペーサを挟み込まなければならなかった。このため、上
記方法と同様に、多層光ディスクの製造に時間を必要と
させていた。またＵＶレジンがスペーサから漏れてしま
うため、高精度の多層ディスクの製造を妨げていた。
【０００８】本発明は、上記実情に鑑みてなされたもの
であり、中間層の形成の簡易化と、厚みムラ抑止によ
り、短時間製造と高精度製造を実現できる多層記録媒体
の製造方法及び多層記録媒体の提供を目的とする。
であり、中間層の形成の簡易化と、厚みムラ抑止によ
り、短時間製造と高精度製造を実現できる多層記録媒体
の製造方法及び多層記録媒体の提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る多層記録媒
体の製造方法は、上記課題を解決するために、第１の情
報信号層が形成された基板と第２の情報信号層を転写す
るマスター盤との間にフィルム状光硬化高分子材料を介
在させて圧着した後、上記マスター盤を剥離して上記中
間層を形成する工程を有する。
体の製造方法は、上記課題を解決するために、第１の情
報信号層が形成された基板と第２の情報信号層を転写す
るマスター盤との間にフィルム状光硬化高分子材料を介
在させて圧着した後、上記マスター盤を剥離して上記中
間層を形成する工程を有する。
【００１０】本発明に係る多層記録媒体は、上記課題を
解決するために、光を透過させる透明の基板と、上記基
板に形成される第１の情報信号層と、上記第１の情報信
号層上にフィルム状光硬化高分子材料を用いて形成され
る透明の中間層と、上記中間層の上記第１の情報信号層
側の面と対向する面に形成される第２の情報信号層と、
上記第２の情報信号層上に形成される保護層とを有す
る。
解決するために、光を透過させる透明の基板と、上記基
板に形成される第１の情報信号層と、上記第１の情報信
号層上にフィルム状光硬化高分子材料を用いて形成され
る透明の中間層と、上記中間層の上記第１の情報信号層
側の面と対向する面に形成される第２の情報信号層と、
上記第２の情報信号層上に形成される保護層とを有す
る。
【００１１】
【作用】第１の情報信号層上に形成された半透明の反射
膜と上記第２の情報信号層を転写するマスター盤との間
にフィルム状光硬化高分子材料を介在させて圧着した
後、該フィルム状光硬化高分子材料に光を照射して硬化
させてから、上記マスター盤を剥離して上記中間層を形
成する。
膜と上記第２の情報信号層を転写するマスター盤との間
にフィルム状光硬化高分子材料を介在させて圧着した
後、該フィルム状光硬化高分子材料に光を照射して硬化
させてから、上記マスター盤を剥離して上記中間層を形
成する。
【００１２】
【実施例】以下、本発明に係る多層記録媒体の製造方法
及び多層記録媒体の実施例について図面を参照しながら
説明する。この実施例は、情報信号記録領域である情報
信号層が２層に重ね合わされて構成される２層光ディス
クである。なお、この２層光ディスクの情報信号層には
ピット列が形成されるものとする。
及び多層記録媒体の実施例について図面を参照しながら
説明する。この実施例は、情報信号記録領域である情報
信号層が２層に重ね合わされて構成される２層光ディス
クである。なお、この２層光ディスクの情報信号層には
ピット列が形成されるものとする。
【００１３】図１に示すように、この２層光ディスク１
０は、主面上にピット列によって第１の情報信号層１１
ａが形成されたポリカーボネート等の透明な合成樹脂材
料からなるディスク基板１１と、第１の情報信号層１１
ａ上に形成された例えば窒化シリコンＳｉＮ2のような
誘電体薄膜からなる半透明の反射膜１２と、この半透明
反射膜１２上の対向する面にピット列によって第２の情
報信号層１３ａが形成された厚さ４０μｍの中間層１３
と、第２の情報信号層１３ａ上に形成された例えばアル
ミニウムＡｌからなる反射膜１４と、この反射膜１４上
に皮膜形成される保護層１５からなる。
０は、主面上にピット列によって第１の情報信号層１１
ａが形成されたポリカーボネート等の透明な合成樹脂材
料からなるディスク基板１１と、第１の情報信号層１１
ａ上に形成された例えば窒化シリコンＳｉＮ2のような
誘電体薄膜からなる半透明の反射膜１２と、この半透明
反射膜１２上の対向する面にピット列によって第２の情
報信号層１３ａが形成された厚さ４０μｍの中間層１３
と、第２の情報信号層１３ａ上に形成された例えばアル
ミニウムＡｌからなる反射膜１４と、この反射膜１４上
に皮膜形成される保護層１５からなる。
【００１４】ここで、中間層１３は、透明なフィルム状
光硬化高分子材料、いわゆるフィルム状ドライフォトポ
リマーからなる。例えば、このいわゆるフィルム状ドラ
イフォトポリマーとしては、デュポン社製の「ＳＵＲＰ
ＨＥＸ」（商品名）がある。このいわゆるフィルム状ド
ライフォトポリマは、例えば７０℃〜８０℃で軟化され
てから所定の型に圧着された後、紫外線の照射に応じて
硬化し、上記所定の型を保つ。２層光ディスク１０の中
間層１３としては、一般的に４０μｍの均一な厚みが要
求される。従来は、上述したように、ＵＶレジンを繰り
返しスピンコートして中間層を形成したり、スペーサに
ＵＶレジンを滴下、圧着、硬化させて中間層を形成して
いたので、該中間層の形成自体に手間を要していた。し
かし、この中間層１３は、予め厚みが４０μｍで均一で
ある上記いわゆるフィルム状フォトポリマーを圧着して
形成されるので手間がかからない。
光硬化高分子材料、いわゆるフィルム状ドライフォトポ
リマーからなる。例えば、このいわゆるフィルム状ドラ
イフォトポリマーとしては、デュポン社製の「ＳＵＲＰ
ＨＥＸ」（商品名）がある。このいわゆるフィルム状ド
ライフォトポリマは、例えば７０℃〜８０℃で軟化され
てから所定の型に圧着された後、紫外線の照射に応じて
硬化し、上記所定の型を保つ。２層光ディスク１０の中
間層１３としては、一般的に４０μｍの均一な厚みが要
求される。従来は、上述したように、ＵＶレジンを繰り
返しスピンコートして中間層を形成したり、スペーサに
ＵＶレジンを滴下、圧着、硬化させて中間層を形成して
いたので、該中間層の形成自体に手間を要していた。し
かし、この中間層１３は、予め厚みが４０μｍで均一で
ある上記いわゆるフィルム状フォトポリマーを圧着して
形成されるので手間がかからない。
【００１５】次に、この２層光ディスク１０の製造方法
を説明する。
を説明する。
【００１６】上記製造方法は、第１の情報信号層１１ａ
が形成されたディスク基板１１を成形する基板成形工程
と、この基板成形工程で成形されたディスク基板１１上
の第１の情報信号層１１ａ上に半透明の反射膜１２を形
成する半透明反射膜形成工程と、第１の情報信号層１１
ａ上に形成された半透明反射膜１２と第２の情報信号層
１３ａを転写するマスター盤との間に上記フィルム状フ
ォトポリマを介在させて圧着した後、該フィルム状フォ
トポリマに光を照射して硬化させてから、上記マスター
盤を剥離して上記中間層１３を形成する中間層形成工程
とを有して成る。
が形成されたディスク基板１１を成形する基板成形工程
と、この基板成形工程で成形されたディスク基板１１上
の第１の情報信号層１１ａ上に半透明の反射膜１２を形
成する半透明反射膜形成工程と、第１の情報信号層１１
ａ上に形成された半透明反射膜１２と第２の情報信号層
１３ａを転写するマスター盤との間に上記フィルム状フ
ォトポリマを介在させて圧着した後、該フィルム状フォ
トポリマに光を照射して硬化させてから、上記マスター
盤を剥離して上記中間層１３を形成する中間層形成工程
とを有して成る。
【００１７】以下、製造方法の各工程の詳細について説
明するが、先ず、図２を参照しながら、ディスク基板１
１作製のためのマスター盤２０と、第２の情報信号層１
３ａを転写するためのマスター盤２１の作製方法を説明
しておく。
明するが、先ず、図２を参照しながら、ディスク基板１
１作製のためのマスター盤２０と、第２の情報信号層１
３ａを転写するためのマスター盤２１の作製方法を説明
しておく。
【００１８】すなわち、マスター盤２０、２１は、図２
の（Ａ）に示すガラス原盤１６に、図２の（Ｂ）に示す
ようにレジスト１７を塗布し、図２の（Ｃ）に示すよう
にレーザ露光してから、図２の（Ｄ）に示すように現像
処理することによって得られた成形ピット１８に、図２
の（Ｅ）に示すように無電解メッキ処理を施し、導電性
薄膜１９を形成したのち、図２の（Ｆ）に示すように電
解メッキ処理を施して作製される。そして、マスター盤
２０，２１は、図２の（Ｇ）に示すように、ガラス原盤
１６から剥離される。このようにして作製されたマスタ
ー盤２０は、基板成形工程に使用される。
の（Ａ）に示すガラス原盤１６に、図２の（Ｂ）に示す
ようにレジスト１７を塗布し、図２の（Ｃ）に示すよう
にレーザ露光してから、図２の（Ｄ）に示すように現像
処理することによって得られた成形ピット１８に、図２
の（Ｅ）に示すように無電解メッキ処理を施し、導電性
薄膜１９を形成したのち、図２の（Ｆ）に示すように電
解メッキ処理を施して作製される。そして、マスター盤
２０，２１は、図２の（Ｇ）に示すように、ガラス原盤
１６から剥離される。このようにして作製されたマスタ
ー盤２０は、基板成形工程に使用される。
【００１９】先ず、図３の（Ａ）に示すように、スタン
パーとなるマスター盤２０を成形機２２内にセットした
後、該成形機２２内に高温で溶解されたポリカーボネー
ト樹脂材料を注入し、図３の（Ｂ）に示すように圧縮成
形して第１の情報信号層１１ａが転写されたディスク基
板１１を成形する。
パーとなるマスター盤２０を成形機２２内にセットした
後、該成形機２２内に高温で溶解されたポリカーボネー
ト樹脂材料を注入し、図３の（Ｂ）に示すように圧縮成
形して第１の情報信号層１１ａが転写されたディスク基
板１１を成形する。
【００２０】次に、ディスク基板１１には、図３の
（Ｃ）に示すように、第１の情報信号層１１ａ上に例え
ば窒化シリコンＳｉＮ2のような誘電体薄膜からなる半
透明の反射膜１２がスパッタリングにより形成される。
この半透明の反射膜１２は、例えばＨｅ−Ｎｅレーザが
発生する波長６３２ｎｍのレーザ光を２０〜４０％反射
すると共に、５０〜８０％透過させる。
（Ｃ）に示すように、第１の情報信号層１１ａ上に例え
ば窒化シリコンＳｉＮ2のような誘電体薄膜からなる半
透明の反射膜１２がスパッタリングにより形成される。
この半透明の反射膜１２は、例えばＨｅ−Ｎｅレーザが
発生する波長６３２ｎｍのレーザ光を２０〜４０％反射
すると共に、５０〜８０％透過させる。
【００２１】次に、図４の（Ａ）に示すように、第１の
情報信号層１１ａ上に形成された半透明反射膜１２と第
２の情報信号層１３ａを転写するマスター盤２１との間
に上記フィルム状フォトポリマ１３’を介在させる。こ
こで、上記フィルム状フォトポリマ１３’は、上述した
ように、厚みが例えば４０μｍで均一とされている。こ
のフィルム状フォトポリマ１３’は、例えば７０℃程度
に加熱されてから、図４の（Ａ）に示すように挿入され
る。半透明反射膜１２とマスター盤２１の間に介在され
たフィルム状フォトポリマ１３’は、図４の（Ｂ）に示
すように、圧着ローラ２３ａ及び２３ｂによってディス
ク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１に両面が圧
着される。圧着ローラ２３ａ及び２３ｂの回転によって
両面が圧着されたフィルム状フォトポリマ１３’は、デ
ィスク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１との間
に介在された状態で、図４の（Ｃ）に示すように、ＵＶ
ランプ２４からの紫外線の照射により硬化し、中間層１
３となる。中間層１３が形成された後、マスター盤２１
は図４の（Ｄ）に示すように剥離される。マスター盤２
１が剥離された中間層１３には、第２の情報信号層１３
ａが転写されている。
情報信号層１１ａ上に形成された半透明反射膜１２と第
２の情報信号層１３ａを転写するマスター盤２１との間
に上記フィルム状フォトポリマ１３’を介在させる。こ
こで、上記フィルム状フォトポリマ１３’は、上述した
ように、厚みが例えば４０μｍで均一とされている。こ
のフィルム状フォトポリマ１３’は、例えば７０℃程度
に加熱されてから、図４の（Ａ）に示すように挿入され
る。半透明反射膜１２とマスター盤２１の間に介在され
たフィルム状フォトポリマ１３’は、図４の（Ｂ）に示
すように、圧着ローラ２３ａ及び２３ｂによってディス
ク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１に両面が圧
着される。圧着ローラ２３ａ及び２３ｂの回転によって
両面が圧着されたフィルム状フォトポリマ１３’は、デ
ィスク基板１１の半透明膜１２とマスター盤２１との間
に介在された状態で、図４の（Ｃ）に示すように、ＵＶ
ランプ２４からの紫外線の照射により硬化し、中間層１
３となる。中間層１３が形成された後、マスター盤２１
は図４の（Ｄ）に示すように剥離される。マスター盤２
１が剥離された中間層１３には、第２の情報信号層１３
ａが転写されている。
【００２２】この第２の情報信号層１３ａ上には、例え
ば上記Ｈｅ−Ｎｅレーザからのレーザ光を８０％反射す
るようなアルミニウムＡｌからなる図１に示す反射膜１
４がスパッタ法により形成される。さらに、この反射膜
１４上には図１に示すように、保護膜１５が形成され
る。
ば上記Ｈｅ−Ｎｅレーザからのレーザ光を８０％反射す
るようなアルミニウムＡｌからなる図１に示す反射膜１
４がスパッタ法により形成される。さらに、この反射膜
１４上には図１に示すように、保護膜１５が形成され
る。
【００２３】以上のように、２層光ディスク１０は、中
間層１３を、図４に示すように、予め厚みが均一である
上記フィルム状フォトポリマー１３’をディスク基板１
１の半透明反射膜１２とマスター盤２１との間に介在さ
せてから圧着ローラ２３ａ及び２３ｂを使って圧着して
形成する。したがって、この２層光ディスク１０を製造
する方法は、中間層１３の形成の簡易化と、厚みムラ抑
止を可能とするので、２層光ディスク１０の短時間製造
と高精度製造を実現できる。
間層１３を、図４に示すように、予め厚みが均一である
上記フィルム状フォトポリマー１３’をディスク基板１
１の半透明反射膜１２とマスター盤２１との間に介在さ
せてから圧着ローラ２３ａ及び２３ｂを使って圧着して
形成する。したがって、この２層光ディスク１０を製造
する方法は、中間層１３の形成の簡易化と、厚みムラ抑
止を可能とするので、２層光ディスク１０の短時間製造
と高精度製造を実現できる。
【００２４】なお、上記実施例は、２層光ディスクであ
ったが、半透明反射膜１２と、フィルム状フォトポリマ
１３’の転写を何回も繰り返せば２層よりさらに多層構
造の光ディスクを容易に製造できる。
ったが、半透明反射膜１２と、フィルム状フォトポリマ
１３’の転写を何回も繰り返せば２層よりさらに多層構
造の光ディスクを容易に製造できる。
【００２５】
【発明の効果】本発明に係る多層記録媒体の製造方法
は、第１の情報信号層上に形成された半透明の反射膜と
上記第２の情報信号層を転写するマスター盤との間にフ
ィルム状光硬化高分子材料を介在させて圧着した後、該
フィルム状光硬化高分子材料に光を照射して硬化させて
から、上記マスター盤を剥離して上記中間層を形成する
ので、中間層の形成の簡易化と、厚みムラ抑止を可能と
し、短時間製造と高精度製造を実現できる。
は、第１の情報信号層上に形成された半透明の反射膜と
上記第２の情報信号層を転写するマスター盤との間にフ
ィルム状光硬化高分子材料を介在させて圧着した後、該
フィルム状光硬化高分子材料に光を照射して硬化させて
から、上記マスター盤を剥離して上記中間層を形成する
ので、中間層の形成の簡易化と、厚みムラ抑止を可能と
し、短時間製造と高精度製造を実現できる。
【００２６】本発明に係る多層記録媒体は、光を透過さ
せる透明の基板上に形成された第１の情報信号層上にフ
ィルム状光硬化高分子材料を用いた透明の中間層を形成
してなるので、厚みムラを抑止でき、高精度となる。
せる透明の基板上に形成された第１の情報信号層上にフ
ィルム状光硬化高分子材料を用いた透明の中間層を形成
してなるので、厚みムラを抑止でき、高精度となる。
【図１】本発明に係る多層記録媒体の製造方法及び多層
記録媒体の実施例の概略構成を示す図である。
記録媒体の実施例の概略構成を示す図である。
【図２】上記実施例を製造する際のディスク基板作製の
ためのマスター盤と、第２の情報信号層を転写するため
のマスター盤の作製方法を説明するための図である。
ためのマスター盤と、第２の情報信号層を転写するため
のマスター盤の作製方法を説明するための図である。
【図３】上記実施例を製造する際の基板成形工程と、半
透明反射膜形成工程とを説明するための図である。
透明反射膜形成工程とを説明するための図である。
【図４】上記実施例を製造する際の中間層形成工程を説
明するための図である。
明するための図である。
【図５】従来の２層光ディスクの概略構成を示す図であ
る。
る。
１０ ２層光ディスク １１ ディスク基板 １１ａ 第１の情報信号層 １２ 半透明反射膜 １３ 中間層 １３ａ 第２の情報信号層 １４ 反射膜 １５ 保護層
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも第１及び第２の情報信号層が
中間層を挟んで積層してなる多層記録媒体の製造方法に
おいて、 上記第１の情報信号層が形成された基板を成形する工程
と、 上記第１の情報信号層上に半透明の反射膜を形成する工
程と、 上記第１の情報信号層上に形成された半透明の反射膜と
上記第２の情報信号層を転写するマスター盤との間にフ
ィルム状光硬化高分子材料を介在させて圧着した後、該
フィルム状光硬化高分子材料に光を照射して硬化させて
から、上記マスター盤を剥離して上記中間層を形成する
工程とを有することを特徴とする多層記録媒体の製造方
法。 - 【請求項２】 光を透過させる透明の基板と、 上記基板に形成される第１の情報信号層と、 上記第１の情報信号層上にフィルム状光硬化高分子材料
を用いて形成される透明の中間層と、 上記中間層の上記第１の情報信号層側の面と対向する面
に形成される第２の情報信号層と、 上記第２の情報信号層上に形成される保護層とを有する
ことを特徴とする多層記録媒体。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7040567A JPH08235644A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 多層記録媒体の製造方法及び多層記録媒体 |
| US08/607,760 US5708652A (en) | 1995-02-28 | 1996-02-27 | Multi-layer recording medium and method for producing same |
| US08/978,570 US6270611B1 (en) | 1995-02-28 | 1997-11-26 | Multi-layer recording medium and method for producing same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7040567A JPH08235644A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 多層記録媒体の製造方法及び多層記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08235644A true JPH08235644A (ja) | 1996-09-13 |
Family
ID=12584057
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7040567A Pending JPH08235644A (ja) | 1995-02-28 | 1995-02-28 | 多層記録媒体の製造方法及び多層記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08235644A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1995
- 1995-02-28 JP JP7040567A patent/JPH08235644A/ja active Pending
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