JPH08220013A - 二値化閾値決定装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 オペレータの経験に基づいたプリント基板画
像の二値化閾値の決定を自動化する技術を提供し、それ
によってオペレータによる二値化閾値の決定の個人差を
なくし、素早く、安定した２値画像を得る。 【構成】 プリント基板の基材部の仮の濃度分布の範囲
をｉ≦ｔnとし、その内の所定の偏差値αの濃度をｔn+1
として、ｉ≦ｔn+1の濃度範囲を基材部の次の仮の濃度
分布の範囲とする。この処理を繰り返し、次第に基材部
の濃度分布の仮の上限値を下げて行き、最終的にこの上
限値の変化が小さくなり、ほぼ収束したと考えられる基
材部の濃度分布の上限値ｔnを二値化閾値の推奨値ｔmと
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、プリント基板の画像
信号を二値化するための閾値を決定する装置の改良に関
するものである。

【０００２】

【従来の技術】プリント基板の外観検査等を行う場合に
は、プリント基板上の導電パターンや穴（スルーホー
ル）を読み取り装置により読み取る。すなわち反射光及
び透過光源によりプリント基板に光を照射し、その反射
光及び透過光をＣＣＤ等の画像読み取り手段により読取
ってアナログ信号を得る。このアナログ信号は導電パタ
ーンと穴に対する連続信号であり、画像処理部が扱える
デジタル情報ではない。そこで、得られたアナログ信号
をデジタル二値信号に変換する必要がある。すなわち
「基材」か「パターン」か、「穴」か「穴でない」か、
という二値信号にしなければならない。そのために、得
られたアナログ信号を所定の値を閾値として「１」か
「０」のデジタル二値信号に変換する。

【０００３】この様子を示したのが図９であり、この図
９はプリント基板ＰＫの反射光についての二値化処理を
表している。図示しない反射用光源から発せられた入射
光ＩＬはプリント基板ＰＫ表面で反射され、ＣＣＤ等の
読み取り手段によって、アナログ信号ＡＳに変換され
る。その様子は図の９（ｂ）のグラフに示されており、
このグラフの横軸はプリント基板ＰＫのそれぞれの位置
に対応している。このグラフから分かるように、パター
ン部Ｐは明るく基材部Ｂは暗くなっている。このアナロ
グ信号を、パターン部Ｐを「１」、基材部Ｂを「０」と
するようなデジタル二値信号に変換するために、閾値ｔ
0以上を「１」、それ以下を「０」とする。この様子は
図９（ｃ）に示されている。

【０００４】このような閾値ｔ0を適切に定めることが
できるかどうかは後工程における外観検査の精度に大き
な影響があるため、この閾値ｔ0の決定にあたっては、
本スキャンの前にプリスキャンを行い、その結果から濃
度ヒストグラムを作成し、それを基に閾値ｔ0を求め
る。図１０は画像濃度ヒストグラムによる閾値の決定状
況を表している。図１０（ａ）は反射光による濃度ヒス
トグラムであり、図１０（ｂ）は透過光による濃度ヒス
トグラムである。これらの図をみるとプリント基板ＰＫ
の濃度ヒストグラムは明るい側と暗い側に１つずつピー
クをもったグラフであることが分かる。図１０（ａ）で
はピークＲＰ１は基材部Ｂの信号の分布であり、ピーク
ＲＰ２はパターン部Ｐの信号の分布である。このうち、
ピークＲＰ２はピークＲＰ１に比べて一般にピークの高
さが低く、裾が広がっている。これは導電パターン表面
の凹凸や、エッチファクターによるエッジの肩だれの影
響で、パターン部Ｐの明るさの分布が広い範囲に及んで
いるためである。また、図１０（ｂ）ではピークＴＰ１
は基材部Ｂの信号の分布であり、ピークＴＰ２は穴部分
の信号の分布である。この透過光の濃度ヒストグラムで
は、２つのピークが互いにはっきり分かれている。以上
のように透過光による画像信号の場合は、図１０（ｂ）
のように２つのピークがはっきり分かれているため、二
値化閾値ｔの決定に問題はあまりないが、反射光による
画像信号の場合は、図１０（ａ）のように２つのピーク
があまりはっきり分かれていないため、閾値を決めるの
は簡単ではなく、従来から各種の方法が用いられてき
た。その主なものとして、モード法、Ｐ−タイル法、微
分ヒストグラム法、判別分析法等が知られている。図１
０（ａ）の閾値ｔ0はモード法で求めたものである。こ
のモード法は、２つのピークの間の谷に当たる濃度を閾
値ｔ0とする方法である。

【０００５】ところで、プリント基板ＰＫは図９（ａ）
のように、一般にパターン部Ｐの断面は裾の広がった台
形をしている。したがってモード法で求めた閾値ｔ0に
よって二値化を行うとパターンのボトムまで捉えられ
ず、実際のパターン幅より細く二値化されるため実際に
は欠陥ではないものを断線や細り欠陥として捉えてしま
うことがある。また、逆に基材部Ｂの表面に薄いパター
ンが存在していて実際には短絡しているような場合に、
モード法で求めた閾値ｔ0によって二値化を行っている
ために、２値画像にパターンとして現れず、その欠陥を
見逃してしまうなどの問題がある。

【０００６】そこでパターン部Ｐのボトムまでをパター
ンとして捉えるために、経験的に基材部Ｂの濃度分布近
くまで閾値を下げることが行われており、その閾値ｔQ
は図９および図１０（ａ）に示されている。こうするこ
とにより、パターン部Ｐの表面状態による影響や、パタ
ーン部Ｐのくびれ等の影響を排除した２値画像信号を得
ることができる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
閾値ｔQを設定するとき、閾値ｔQを閾値ｔ0近くに設定
すると、上記の閾値ｔ0のときのように、二値化の際に
パターンのボトムまで捉えられず、実際のパターン幅よ
り細く二値化されるため、実際には欠陥ではないものを
断線や細り欠陥として捉えてしまうことがあり、逆に、
あまり低い濃度に閾値ｔQを設定してしまうと、基材部
分までもパターンとして二値化してしまうことになり、
正常なパターンを短絡等の欠陥と捉えてしまうなどの問
題がある。ところが現状では、このような重要な閾値ｔ
Qの決定をオペレータの経験に基づいて手動で行ってい
る。そのため経験の少ないオペレータは、適切な濃度に
閾値ｔmを設定するのが困難であり、またそのため何度
か設定しなおすことによって作業時間が増大したり、オ
ペレータによって閾値ｔQに個人差が生じるなどの問題
があった。

【０００８】

【発明の目的】この発明は、従来技術における上述の問
題の克服を意図しており、実際のパターンの幅よりも細
くパターンをとらえてしまう事態を防止しつつ、オペレ
ータの経験に基づいた二値化閾値の決定を自動化する技
術を提供し、それによってオペレータによる二値化閾値
の決定の個人差をなくし、迅速に、安定した２値画像を
得ることを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明の第１の装置
は、基材上に所定の導電パターンが形成されたプリント
基板につき、前記プリント基板の多値またはアナログの
画像信号を二値化信号へと変換する際に使用される二値
化閾値を決定する装置であって、前記画像信号の分布を
カウントすることにより、前記基材からの画像信号に対
応した基材ピークと、前記導電パターンからの画像信号
に対応したパターンピークとを有する統計分布を求める
統計分布取得手段と、当該パターンピークから前記基材
ピークに向かう方向において、前記統計分布の変化が所
定の程度にまで急峻に上昇し始める画像レベルを前記基
材ピークのテイル端点と見なして、当該画像レベルを前
記二値化閾値として決定する二値化閾値決定手段とを備
える。

【００１０】さらに、この発明の第２の装置は、請求項
１の装置において、前記二値化閾値決定手段は、前記テ
イル端点の初期値を設定して仮のテイル端点とする初期
値設定手段と、前記仮のテイル端点を抽出端点として前
記統計分布から前記基材ピークの範囲を抽出し、当該範
囲内の統計分布において所定の偏差値に相当する画像レ
ベルを新たな仮のテイル端点とすることによって、仮の
テイル端点の更新を行なう更新手段と、前記仮のテイル
端点が収束するまで前記更新を繰返し、収束した時点に
おける仮のテイル端点の画像レベルを前記二値化閾値と
して採用する繰返し手段とを有する。

【００１１】

【作用】この発明の請求項１および請求項２の装置によ
れば、プリント基板の多値またはアナログの画像信号の
統計分布は、図１０（ａ）で例示したように基材ピーク
とパターンピークとを有する。そしてそれらの間の区間
では基材ピークの端部とパターンピークの端部とが混在
しているが、その区間のうち基材ピークが急峻に立ち上
り始める位置はパターンピークの影響がほとんどなく、
実質的に基材ピークのみとなる境界であると考えられて
いる。そこで、この発明では基材ピークが急峻に立ち上
がり始める位置をとらえて、それを２値化閾値として採
用する。

【００１２】このため、パターンからの画像信号のほと
んどがパターンとして認識されるとともに、基材からの
信号の影響が過剰に反映されてしまう事態を防止でき
る。

【００１３】特に、請求項２の発明では、上記のように
基材ピークが急峻に立ち上がり始める位置を特定するに
あたって、基材ピークでの偏差値を使用した収束演算を
採用する。このため、統計学的に特に適切な値を２値化
閾値として決定可能である。

【００１４】

【実施例】

【００１５】

【１．装置配列】図１は、この発明の実施例である２値
化閾値決定装置を組み込んだプリント基板検査装置１０
０の概念的ブロック図である。この装置１００は画像読
み取り部１を備えており、この画像読み取り部１は、基
材上に導電パターン（以下「パターン」と略記）が形成
されたプリント基板の画像を光電的に読取るためのＣＣ
Ｄアレイ等を有している。この画像読み取り部１で得ら
れた画像はアナログ画像信号であるが、この信号はＡ／
Ｄ変換回路２において多値のデジタル画像信号に変換さ
れる。

【００１６】この装置１００ではプリント基板のプリス
キャンと本スキャンとを行うが、このうち前者は２値化
閾値の決定などの準備処理のためのものであり、後者は
実際にプリント基板の画像を２値化して外観検査を行う
ためのものである。プリスキャン時にはＡ／Ｄ変換回路
２で得られた多値のデジタル画像信号はヒストグラム作
成回路３（統計分布取得手段）に与えられ、このヒスト
グラム作成回路３では画像信号のレベルごとに画素出現
頻度を表現するヒストグラムを作成する。ＣＰＵ５は後
述するプロセスに従ってこのヒストグラムから２値化閾
値を決定し、その値を「推奨値」として表示部４に表示
させる。オペレータがこの推奨値を採用する旨を操作部
６から指示することによって、この推奨値としての２値
化閾値が２値化回路１０に設定される。なお、オペレー
タは操作部６の操作によって上記推奨値を修正すること
も可能である。

【００１７】一方、本スキャン時にはＡ／Ｄ変換回路２
で得られた多値のデジタル画像信号が２値化回路１０に
与えられ、上記のようにして２値化回路１０に設定され
ている２値化閾値を使用してそのデジタル画像信号の２
値化を行う。このようにして得られたデジタル２値信号
は検査部１１に伝送され、比較検査やＤＲＣ（デザイン
ルールチェック）検査など、周知の種々の外観検査が自
動的に実行される。

【００１８】なお、後述するフローチャートで実行され
る処理のうち、特にその処理主体を指摘していない処理
については、ＣＰＵ５がソフトウェア的に実行する。

【００１９】

【２．処理手順】以下にこの装置によって、二値化閾値
を決定する手順を図２のフローチャートに従って説明し
ていく。まずステップＳ１では画像読み取り部１により
プリント基板のパターンを読み取る。図３は画像読み取
り部１の装置構成を示している。まずオペレータは画像
読み取りの対象となるプリント基板ＰＫを搬送テーブル
Ｔに載置する。次にオペレータはプリント基板ＰＫ上の
読み取り領域（長方形）を操作部６によって入力する。
その後、オペレータは画像読み取り開始の指示を操作部
６より入力する。すると搬送テーブルＴが駆動し始め、
それと同時に光源ＲＬが点灯し、それらによるプリント
基板ＰＫの反射光はレンズＬによってＣＣＤの位置に集
光される。このとき搬送テーブルＴが移動することによ
って、プリント基板ＰＫ上の各サンプルポイントからの
反射光を、ＣＣＤはアナログ信号ＡＳに光電変換する。
この得られたアナログ信号ＡＳはＡ／Ｄ変換回路２によ
って８ビットのデジタル信号（０〜２５５の濃度値）に
変換される。

【００２０】つぎにステップＳ２では、ヒストグラム作
成回路３において、送られたデジタル信号を基に濃度ヒ
ストグラムデータを作成する。このヒストグラム作成回
路３の構成を示したブロック図が図４である。ヒストグ
ラム作成回路３は０から２５５の濃度値の範囲にあわせ
て２５６個の１６ビットカウンタから構成されている。
カウンタ制御回路ＣＣに入力されたデジタル信号ＤＳは
そこで０〜２５５のそれぞれの濃度値に応じたカウンタ
に送られ、そこでカウントされていく。そして全サンプ
ルポイントの濃度値をカウントすれば濃度ヒストグラム
が完成する。

【００２１】ところでこのとき、プリント基板ＰＫ全体
の全サンプルポイントをサンプリングの対象とすると、
サンプル数が多すぎて１６ビットカウンタではオーバー
フローしてしまうことがある。例として４００×４００
ｍｍ角の読み取り領域の濃度ヒストグラムを作成する場
合を考える。この実施例では、１サンプルポイントの大
きさは、１６×１６μｍである。したがってこの領域を
全てサンプリングすると、総サンプリング数は、 （４００,０００／１６）² ＝ ６２５,０００,０００ となる。よって、０〜２５５の濃度値に均等に全データ
が分布したとすると、１濃度値当りの分布度数は ６２５,０００,０００／２５６ ＝ ２,４４１,４０６ となり、１６ビットカウンタではオーバーフローしてし
まい、正確な濃度ヒストグラムが得られない。そこでこ
の実施例では読み取り領域の大きさによらず総サンプリ
ング数を一定にすることにより、この不具合を解消して
いる。その方法を示した図が図５である。この図５に示
したように読み取り領域ＩＲに対してＸ軸およびＹ軸を
採る。この図５で、小さな正方形１つが１サンプルポイ
ントを表していて、この例では１６×１６μｍの大きさ
である。したがって、このときの読み取り領域ＩＲの範
囲は、（Ｘmin,Ｙmin）〜（Ｘmax,Ｙmax）と表される。
そしてＸ方向のサンプリングを間引いて行い、総サンプ
リング数を一定にする。図５の例では３列とばしにサン
プリングしている。このように、この実施例では、総サ
ンプリング数を一定にするためにサンプリングを間引い
て行うが、この間引き具合の決定は、自動的にＣＰＵ５
で行われる。

【００２２】つぎに、図２のステップＳ３の処理に移
る。このステップＳ３では判別分析法により二値化閾値
の初期値ｔ0を求める。この処理の詳細を示したフロー
チャートが図６である。まずステップＳ３１でステップ
Ｓ２で求めた濃度ヒストグラムｈ(i)をもとに全サンプ
リング数ＴＳを求める。つぎにステップＳ３２では濃度
ヒストグラムｈ(i)をもとに、濃度平均値ｒｍと分散Ｓ
を求める。そしてステップＳ３３で全サンプリング数Ｔ
Ｓと、濃度平均値ｒｍと分散Ｓを用いて、全濃度域を２
つの領域（クラス）に分け、その２つのクラスの濃度平
均値の分散であるクラス間分散を最大にするように濃度
値ｉを求め、それを二値化閾値の初期値ｔ0とする。こ
れにより図１０（ａ）で示したように、基材部Ｂの分布
のピークＲＰ１（「基材ピーク」に相当）とパターン部
ＰのピークＲＰ２（「パターンピーク」に相当）との間
の谷の位置に二値化閾値の初期値ｔ0を設定する。な
お、判別分析法による二値化閾値の設定の詳細は、大津
展之著”判別および最少２乗基準に基づく自動しきい値
選定法”電子通信学会論文誌(D)Vol.J63-D,No42 PP.349
-356,April1980等に示されている。

【００２３】これで図２のステップＳ３の処理は終わ
り、以下のステップで二値化閾値の初期値ｔ0を基に二
値化閾値の推奨値ｔmを求めていく。この二値化閾値の
推奨値ｔmを求める方法は以下の通りである。すなわ
ち、プリント基板ＰＫは基材部Ｂとパターン部Ｐの２つ
の部分から成っており、したがって基材部Ｂ以外の部分
をパターン部Ｐと判断できる。そこで比較的明るさの安
定している基材部Ｂの濃度分布に着目し、その分布の様
子から基材部Ｂの明るさの上限値（「テイル端点」に相
当）を二値化閾値の推奨値ｔmとして求める。具体的に
は、基材部Ｂの仮の濃度分布の範囲をｉ≦ｔnとし、そ
の内の所定の偏差値αの濃度をｔn+1として、ｉ≦ｔn+1
の濃度範囲を基材部Ｂの次の仮の濃度分布の範囲とす
る。この処理を繰り返すことによって次第に基材部Ｂの
濃度分布の仮の上限値を下げて行き、最終的にこの上限
値の変化が小さくなり、ほぼ収束した（濃度分布が立ち
上がっている付近）と考えられる基材部Ｂの濃度分布の
上限値ｔNを二値化閾値の推奨値ｔmとするものである。

【００２４】実際の処理としては、まずステップＳ４で
ｎ＝０すなわちｔn＝ｔ0とする。つぎに、ステップＳ５
では、基材部Ｂの仮の濃度分布の範囲ｉ≦ｔn内の平均
の濃度値Ｍを求める。すなわち濃度ヒストグラムｈ(i)
を用いて

【００２５】

【数１】

【００２６】という計算になる。ここでΣの和の範囲が
０≦ｉ≦ｔnであることに注意されたい。さらにステッ
プＳ６ではその範囲の濃度分布の標準偏差Ｓを求める。
これを濃度ヒストグラムｈ(i)を用いて式で表すと、

【００２７】

【数２】

【００２８】となる。つぎにステップＳ７で偏差値αに
相当する濃度値ｔn+1を求める。これを式で表すと

【００２９】

【数３】

【００３０】となる。ここでαは、たとえば、７０≦α
≦９０を満たす任意の値である。そしてステップＳ８で
ｔnが収束したかどうかを判定する。すなわちたとえば
２≦β≦５を満たす任意の微小値βに対して、

【００３１】

【数４】

【００３２】を満たせば、ステップＳ１０の処理を行
い、逆に満たさなければステップＳ９の処理を行う。す
なわち、ｔnが収束しない間はステップＳ９でｎをイン
クリメントし、ステップＳ５〜Ｓ７の処理を繰り返す。
そして最終的にｔn，tn-1，…が収束すれば、ステップ
Ｓ１０での仮の閾値tNを二値化閾値の推奨値ｔmとす
る。このときのｔ0〜ｔmを反射光による濃度ヒストグラ
ムｈ(i)と重ねて示したのが、図７である。ｔnが初期値
ｔ0の基材部Ｂの分布のピークＲＰ１とパターン部Ｐの
ピークＲＰ２との間の谷の位置から、次第に基材部Ｂの
分布の裾の部分の推奨値ｔmに向かって収束していく様
子が分かる。以上により二値化閾値の推奨値ｔmが求め
られるが、ちなみにこの実施例ではα＝８５，β＝２と
することによって、経験則的に最適であると考えられる
二値化閾値とほぼ同じ濃度に二値化閾値の推奨値ｔmを
決めることができた。

【００３３】最後にステップＳ１１では得られた二値化
閾値の推奨値ｔmが表示された表示部４の画像を見なが
ら、オペレータが手動で二値化閾値を修正する。図８は
その時の表示部４の画面の様子である。まず、ヒストグ
ラム表示部ＨＤには反射光の濃度ヒストグラムと、現在
の二値化閾値を表す縦線カーソルＶＣが表示されてい
る。また、表示されている二値化閾値の現在値Ｎ１、そ
の現在値の示す濃度の分布度数Ｎ２、二値化閾値の推奨
値Ｎ３、縦と横の表示倍率Ｎ４およびＮ５が、画面下段
に数値で示されている。そして、この二値化閾値の推奨
値を変更したい事情があるときには、オペレータはマウ
スでスライダＳＬをドラッグすることにより、縦線カー
ソルＶＣの表示を移動させることができ、適切な位置に
二値化閾値を修正する事ができる。なお縦線カーソルＶ
Ｃの表示を移動させると、それに応じて二値化閾値の現
在値Ｎ１、その現在値の示す濃度の分布度数Ｎ２も変化
する。さらにより詳しく濃度ヒストグラムｈ(i)の分布
状況を見たい場合は、図示しない表示倍率切替えのオプ
ションボタンで、濃度ヒストグラムｈ(i)の表示倍率を
最高８倍まで上げられる。

【００３４】以上のようにして確定した二値化閾値の値
は図１の２値化回路１０に転送されて、本スキャン時の
二値化において使用される。

【００３５】

【３．変形例】この実施例では二値化閾値の初期値ｔ0
を求めるのに、判別分析法を用いたが、Ｐ−タイル法や
微分ヒストグラム法等の他の方法を用いても良い。

【００３６】また、この実施例では濃度ヒストグラムの
サンプリングを間引いて行い、総サンプリング数を一定
にしているが、間引かないで全サンプリングポイントを
サンプリングして、濃度ヒストグラムを作成しても良
い。

【００３７】さらに、この実施例では画像読み取り部１
で読み取ったアナログ信号ＡＳを多値のデジタル信号に
変換した後に２値化しているが、アナログ信号を直接に
２値化する際の閾値設定にもこの発明は適用可能であ
る。

【００３８】上記実施例では基材ピークに関する偏差値
を利用した繰返し収束演算によって２値化閾値を決定し
ているが、基材ピークが急峻に立ち上がる位置として、
微分係数が所定の比較的大きな値以上となり始める位置
を求めるような変形も請求項１の発明の範囲に含まれ
る。

【００３９】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１および請
求項２の発明では、基材ピークが急峻に立ち上がり始め
る位置をとらえて、それを２値化閾値として採用するた
め、パターンからの画像信号のほとんどがパターンとし
て認識されるとともに、基材からの信号の影響が過剰に
反映されてしまう事態を防止できる。

【００４０】したがって、実際のパターン幅よりも細く
パターンをとらえてしまう事態を防止しつつ、２値化閾
値を自動化可能であり、オペレータの個人差を防止でき
るとともに、迅速に、安定した２値化閾値を得ることが
できる。

【００４１】また、請求項２の発明では、上記のように
基材ピークが急峻に立ち上り始める位置を特定するにあ
たって、基材ピークでの偏差値を使用した収束演算を採
用する。このため、統計学的に特に適切な値を２値化閾
値として決定可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例における二値化閾値決定装置を有するプ
リント基板検査装置の構成を示すブロック図である。

【図２】実施例における二値化閾値決定装置の処理手順
を示すフローチャートである。

【図３】実施例における画像読み取り部の装置構成を示
す図である。

【図４】実施例におけるヒストグラム作成回路を示すブ
ロック図である。

【図５】実施例におけるヒストグラム作成時のデジタル
信号のサンプリング例の説明図である。

【図６】実施例における判別分析法による二値化閾値の
初期値の設定手順を示すフローチャートである。

【図７】実施例における反射光の二値化閾値ｔnの推奨
値ｔmへの収束状況を示すグラフである。

【図８】実施例における表示部の画面表示例の説明図で
ある。

【図９】従来例における二値化閾値と二値化との関係を
示す説明図である。

【図１０】従来例における反射光および透過光の濃度ヒ
ストグラムと二値化閾値との関係を示すグラフである。

【符号の説明】

１ 画像読み取り部 ２ Ａ／Ｄ変換回路 ３ ヒストグラム作成回路 ４ 表示部 ５ ＣＰＵ ６ 操作部 １００ プリント基板検査装置 ｔ0 二値化閾値の初期値 ｔm 二値化閾値の推奨値 ＲＰ１ 反射光による濃度ヒストグラムの基材部のピ
ーク ＲＰ２ 反射光による濃度ヒストグラムのパターン部
のピーク ＴＰ１ 透過光による濃度ヒストグラムの基材部のピ
ーク ＴＰ２ 透過光による濃度ヒストグラムの穴部分のピ
ーク

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基材上に所定の導電パターンが形成され
   たプリント基板につき、前記プリント基板の多値または
   アナログの画像信号を二値化信号へと変換する際に使用
   される二値化閾値を決定する装置であって、 前記画像信号の分布をカウントすることにより、前記基
   材からの画像信号に対応した基材ピークと、前記導電パ
   ターンからの画像信号に対応したパターンピークとを有
   する統計分布を求める統計分布取得手段と、 当該パターンピークから前記基材ピークに向かう方向に
   おいて、前記統計分布の変化が所定の程度にまで急峻に
   上昇し始める画像レベルを前記基材ピークのテイル端点
   と見なして、当該画像レベルを前記二値化閾値として決
   定する二値化閾値決定手段と、を備えることを特徴とす
   る二値化閾値決定装置。
2. 【請求項２】 請求項１の装置において、 前記二値化閾値決定手段は、 前記テイル端点の初期値を設定して仮のテイル端点とす
   る初期値設定手段と、 前記仮のテイル端点を抽出端点として前記統計分布から
   前記基材ピークの範囲を抽出し、当該範囲内の統計分布
   において所定の偏差値に相当する画像レベルを新たな仮
   のテイル端点とすることによって、仮のテイル端点の更
   新を行なう更新手段と、 前記仮のテイル端点が収束するまで前記更新を繰返し、
   収束した時点における仮のテイル端点の画像レベルを前
   記二値化閾値として採用する繰返し手段と、を有するこ
   とを特徴とする二値化閾値決定装置。