JPH08203281A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

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JPH08203281A
JPH08203281A JP7013156A JP1315695A JPH08203281A JP H08203281 A JPH08203281 A JP H08203281A JP 7013156 A JP7013156 A JP 7013156A JP 1315695 A JP1315695 A JP 1315695A JP H08203281 A JPH08203281 A JP H08203281A
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JP
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voltage
power supply
circuit
value
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JP7013156A
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Eiji Haseo
英二 長谷尾
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】ワード線の電圧を電源電圧が一定値以下の場合
に電源電圧以下に昇圧し、一定値を越える場合には電源
電圧を出力することにより、電源電圧が高い場合やBT
テスト時におけるワード線の劣化を抑え信頼性を確保す
る。 【構成】電源電圧検出回路101と、昇圧回路102
と、電源選択回路103とを備え電源電圧検出回路10
1の検出信号φ1により昇圧回路102を制御して、電
源電圧値が一定値を超える場合はこの電源電圧値を出力
し、電源電圧値が一定値以下の場合には昇圧した電圧を
出力する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置に関し、特
に昇圧制御回路を有する半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、メモリの動作電圧範囲は通常5.
0V±10%であるが、低電圧対応のメモリの動作電圧
範囲は3.0V±10%かまたは3.3V±10%が一
般的であり、低電圧対応のメモリには、このメモリのワ
ード線の電圧を供給電源電圧以上に昇圧する昇圧制御回
路が搭載されている。
【0003】しかし、この昇圧制御回路は使用する電源
電圧の全ての範囲においてワード線電圧を昇圧してお
り、メモリに使用する半導体MOSトランジスタのゲー
ト酸化膜の破壊等の信頼性上の問題があった。そこで、
例えば特開昭62−177787号公報に開示される昇
圧制御回路は、電源電圧の変化を検出し、ワード線を昇
圧する電圧量を変化させて高い電源電圧時においては、
昇圧する量を少なくすることにより過度の電圧がワード
線に印加されるのを抑える構成である。
【0004】この従来の昇圧制御回路について図面を参
照して説明する。
【0005】図6を参照すると、電源電圧検出回路を有
する従来の昇圧制御回路は、出号信号φ4を出力する電
源電圧検出回路61,昇圧起動信号φ3を受け出力電圧
V2を出力するワード線昇圧回路62およびワード線選
択回路63のそれぞれにより構成され、電源電圧検出回
路61により電源電圧の値を検出し、ワード線昇圧回路
62の昇圧用キャパシタ(図示してない)への充電時間
を電源電圧検出信号により制御し、電源電圧が高い場合
には充電時間を短くし、電源電圧が通常あるいはそれ以
下の場合には長くとることによって動作電圧範囲の広域
化を図ってきた。
【0006】次に、より詳細に従来の昇圧制御回路につ
いて説明する。
【0007】図7は、従来用いられてきた電源電圧検出
回路61の一構成例である。
【0008】図7を参照すると、電源電圧検出回路61
は、Pチャネル型トランジスタ29および32とNチャ
ネル型トランジスタ30,31および33のそれぞれに
よって構成されトランジスタ29,30,31により基
準電圧VREFを発生し、トランジスタ32,33によ
り比較電圧すなわち、出力信号φ4を発生する。トラン
ジスタ29,30,および31のそれぞれにより発生さ
れる基準電圧VREFは電源電圧を比較する際の基準と
なるものであり、この値はトランジスタ30,31のし
きい値電圧のみに依り決定され、電源電圧に依存しない
値をとる。トランジスタ32,33はトランジスタ2
9,30および31のそれぞれにより発生された基準電
圧VREFにより制御され、出力信号φ4を発生する。
電源電圧が高い場合には、出力信号φ4はハイレベルに
なり、電源電圧が通常あるいはそれ以下の場合にはロウ
レベルを出力する。
【0009】図8は、従来用いられてきたワード線昇圧
回路62の一構成例である。
【0010】図8を参照すると、ワード線昇圧回路62
は、バッファ34および36、昇圧用キャパシタ35、
遅延回路40および41ならびに遅延選択回路43から
成り、バッファ34は昇圧起動信号φ3により制御さ
れ、遅延選択回路43は昇圧起動信号φ3及び電源電圧
検出信号φ4に制御され、遅延回路40あるいは41を
介して電源電圧検出信号φ4の遅延信号φ5を発生す
る。バッファ36は遅延信号φ5に制御され、充電後の
昇圧用キャパシタ35を逆端子側から駆動する。
【0011】更に、動作時における昇圧回路62の詳細
な説明をすると、昇圧起動信号φ3が活性化し、バッフ
ァ34が駆動されると昇圧用キャパシタ35への充電が
開始される。ここで値が通常の供給電圧値より高い場合
には電源電圧検出信号φ4は上述のようにハイレベルに
あり、遅延選択回路43は遅延回路40を選択し遅延回
路40から出力された遅延信号φ5は、NOR回路42
を経てハイレベルからロウレベルへと変化し昇圧を開始
する。
【0012】一方、電源電圧値が通常の供給電圧値かあ
るいはそれ以下の場合には、電源電圧検出信号φ4はロ
ウレベルにあり、遅延選択回路43は遅延回路40より
も遅延量を多くした遅延回路41を選択し、以下電源電
圧が高い場合と同様の手順にて出力される遅延信号φ5
がハイレベルからロウレベルへと変化し昇圧を開始す
る。
【0013】このように、電源電圧が低い場合に遅延量
の多い遅延回路41を選択し昇圧用キャパシタ35の充
電時間を充分にとることにより、ワード線の電位を充分
に昇圧する事を可能にした。また電源電圧が高い場合に
は遅延量の少ない経路を選択しワード線の充電量を制限
することによりワード線の電位を少なく昇圧し、このワ
ード線の電位を比較的低いレベルに抑えている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術では電源電圧を昇圧する際に、電源電圧値が高い場合
と通常あるいはそれにより低い場合とで昇圧用キャパシ
タの充電時間を変化させているのみで、電源電圧値が充
分に高い場合においてもワード線の昇圧が行われてお
り、そのためワード線に過度の電圧が印加されメモリに
用いられる半導体MOSトランジスタのゲート酸化膜破
壊が発生する問題があった。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
電源電圧値が所定の基準値以下のときに検出信号を活性
化し前記所定の基準値を超えたときに前記検出信号を活
性化しない電源電圧検出回路と、起動信号を受け前記電
源電圧を昇圧する昇圧回路と、前記検出信号が活性化さ
れたときは前記昇圧回路の出力電圧を出力し前記検出信
号が活性化されないときは前記電源電圧を出力する電圧
選択回路とから成る昇圧制御回路を備える構成である。
【0016】また、本発明の半導体装置の前記昇圧制御
回路はスタチック型RAMのワード線を昇圧する構成と
することもできる。
【0017】さらにまた、本発明の半導体装置は、前記
電源電圧検出回路の基準値が前記電源電圧値が低電圧か
ら高電圧に変化する場合および高電圧から低電圧に変化
する場合の各々で異った値に設定される構成とすること
もできる。
【0018】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0019】図1は、本発明の第1の実施例の半導体装
置のブロック図である。
【0020】図1を参照すると、この実施例の半導体装
置の昇圧制御回路は、検出信号φ4を出力する電源電圧
検出回路101と、起動信号φ3を受け昇圧電圧VBS
T1を出力する昇圧回路102と、出力電圧VBST2
を出力する電圧選択回路とから成る。
【0021】本発明の第1の実施例の半導体装置の昇圧
制御回路は、電源電圧検出回路101により電源電圧V
CCが一定値以下のときのみ検出信号φ1を活性化し
て、検出信号φ1により電圧選択回路103が昇圧回路
102の出力電圧VBST2である昇圧された電圧を選
択し出力する。一方、電源電圧VCCが一定値を超えた
場合には検出信号φ1を非活性化し、電圧選択回路10
3が電源電圧VCCを出力する。
【0022】さらに、図2(A)を参照すると、本実施
例の電源電圧検出回路101は、負荷素子1,2および
3とPチャネル型トランジスタ4および5ならびにNチ
ャネルトランジスタ6,7および8によって構成され
る。
【0023】Nチャネル型トランジスタ6,7および8
のそれぞれのしきい値電圧をVtn、負荷素子1と2及
びトランジスタ6のゲートとの接続点をN1、負荷素子
3とトランジスタ8のドレインとトランジスタ7のゲー
トとの接続点をN2、トランジスタ4のゲートとドレイ
ン及びNチャネル型トランジスタ6のドレインとの接続
点をN3とする。負荷素子1および2は、電源電圧VC
Cを検出する規定値をその抵抗分割比により定める働き
をする。
【0024】図2(B)は、電源電圧VCCに対する接
続点N1とN2との電圧変化を表した図である。電源電
圧VCCに対する接続点N1の電圧を直線VN1とし、
接続点N2の電圧を直線VN2とし、この二つの直線の
交わるところの電源電圧VCCが基準電圧V0となる。
接続点N2の電圧は電源電圧VCCがしきい値Vtnを
超えるまでは徐々に増加して行くが、その後はしきい値
Vtn近傍の電圧において一定値をとる。
【0025】電源電圧VCCが基準電圧V0以下の場合
には接続点N1の電圧はしき値Vtnよりも低い値であ
りNチャネル型トランジスタ6はoffしている。その
際、接続点N3はハイレベルにあるためPチャネル型ト
ランジスタ4および5はoffしており、検出信号φ1
にはロウレベルが出力されている。
【0026】一方、電源電圧が基準電圧V0よりも高い
場合にはNチャネル型トランジスタ6はonし、接続点
N3の電圧が下がりPチャネル型トランジスタ4,5は
onする。その際の検出信号φ1の電圧は、Pチャネル
型トランジスタ5とNチャネル型トランジスタ7とのオ
ン抵抗の分割比により決定するが、Nチャネル型トラン
ジスタ7のオン抵抗値をPチャネル型トランジスタ5の
オン抵抗値よりも大きく設定しておくことにより検出信
号φ1はハイレベルを出力する。
【0027】図3は、本発明の第1の実施例の半導体装
置の昇圧回路102の回路構成図である。
【0028】図3を参照すると、この昇圧回路102
は、バッファ9,11と昇圧用キャパシタ10および遅
延回路12により構成される。バッファ9は起動信号φ
3により制御され、起動信号φ3が活性化するとバッフ
ァ9が駆動する。その際、起動信号φ3を受けた遅延回
路12は遅延信号を出力しバッファ11を起動し、昇圧
用キャパシタ10を充電し、その結果昇圧された電圧V
BST1が出力される。
【0029】図4(A)は、本発明の第1の実施例の半
導体装置の電圧選択回路の回路構成図である。
【0030】図4(A)を参照すると、この電圧選択回
路103は、Pチャネル型トランジスタ13,14,1
5および16とNチャネル型トランジスタ17,18と
によって構成され、昇圧回路102により昇圧された電
圧VBST1または電源電圧VCCのどちらか一方を検
出信号φ1により選択し、電圧選択回路101の出力電
圧VBST2を出力する。
【0031】図4(B)は、電源電圧VCC、検出信号
φ1、節点N4,N5および出力電圧VBST2のそれ
ぞれの電圧波形図であり、また電源電圧が一定値以下の
場合と一定値を超えた場合におけるPチャネル型トラン
ジスタ13,14,15および16のそれぞれのオン/
オフの状態を示している。
【0032】この電圧選択回路103は、検出信号φ1
が時刻t0でロウレベルからハイレベルに変化すると、
Nチャネル型トランジスタ18がonし、Pチャネル型
トランジスタ13,16がonすると出力電圧VBST
2は電源電圧VCCとなる。
【0033】一方、電源電圧検出回路101の検出信号
φ1が時刻t1でハイレベルからロウレベルへと変化す
ると、Nチャネル型トランジスタ18がoffし、Pチ
ャネル型トランジスタ14および15のそれぞれonす
る。この時、電圧選択回路103の出力電圧VBST2
は昇圧された電圧VBST1を出力する。
【0034】つまり、電源電圧VCCが一定値以下のと
きには、電圧選択回路103は昇圧された電圧VBST
1を出力し、また電源電圧VCCが一定値を超えた場合
には電源電圧値を出力する。
【0035】例えば、本発明をスタチック型RAMのワ
ード線の昇圧回路として用いた場合には、電源電圧検出
回路101における電源電圧VCCの基準値を5.0V
±10%と低電圧品3.0V±10%との間の電圧に設
定する。より具体的には、この基準値を概略3.5Vと
した場合、電源電圧VCCが概略3.5Vかそれ以下の
場合にはワード線に昇圧した電圧を出力し、概略3.5
Vを超える場合には電源電圧を出力することによって、
低電圧動作時のマージンを確保し、またワード線に過度
の電圧がかかるのを防ぎ、信頼性上の問題の発生を抑え
ることができる。
【0036】次に、本発明の第2の実施例について説明
する。
【0037】図1に示す第1の実施例の半導体装置にお
いては、電源電圧の基準電圧の検出値は基準電圧V0で
あり、電源電圧が基準電圧V0より低い電圧から高い電
圧に変化した場合と、逆に高い電圧から低い電圧に変化
する場合において電源電圧が基準電圧V0の値をとった
場合に電圧選択回路103の出力VBST2が不安定な
値をとり、この回路をメモリセルのワード線の昇圧回路
として用いる場合に問題となる。
【0038】上述の問題点を改良した本発明の第2の実
施例の半導体装置は、第1の実施例の半導体装置の電源
電圧検出回路101の代わりに図5(A)に示す電源電
圧検出回路51を用いた以外は、第1の実施例の半導体
装置と同一構成である。
【0039】この第2の実施例の半導体装置の電源電圧
検出回路51は、基準電圧を決定する働きをする抵抗1
9と並列に、検出信号φ2に制御されるPチャネル型ト
ランジスタ22を接続したものである。
【0040】図5(B)は、この第2の実施例の電源電
圧検出回路51の電源電圧と検出信号φ2および出力電
圧VBST2の電圧波形図であり、第1の基準電圧V0
は前述の値と同一であるが、第2の基準電圧V1はトラ
ンジスタ22の特性の関数として決まり第1の基準電圧
V0よりも低い電圧である。この波形図よりわかるよう
に出力VBST2は電源電圧が低い電圧から高い電圧に
変化する場合と高い電圧から低い電圧に変化する場合に
よって基準電圧が変わり、先に述べたように問題の発生
を抑制することができる。
【0041】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、電源電圧
を検出しその検出信号により制御される電源選択回路に
より、電源電圧が一定値以下の場合にのみ昇圧した電圧
を出力させ、一定値を超える場合には電源電圧を出力さ
せることが可能となり、本発明をメモリセルのワード線
昇圧回路として用いた場合には電源電圧が高いときには
電源電圧を出力することができるためワード線の劣化を
抑える効果を有する。また、本発明は、電源電圧検出回
路の基準値を概略3.5Vに制限するものではなく更に
広範囲に応用できるという事は言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の半導体装置のブロック
図である。
【図2】本発明の第1の実施例の半導体装置の電源電圧
検出回路であり、分図(A)はその回路図を示し、分図
(B)はその電圧波形を示す図である。
【図3】本発明の第1の実施例の半導体装置の昇圧回路
図である。
【図4】本発明の第1の実施例の半導体装置の電源電圧
検出回路であり、分図(A)はその回路図を示し、分図
(B)はその電圧波形とトランジスタの状態を示す図で
ある。
【図5】本発明の第1の実施例の半導体装置の電源電圧
検出回路であり、分図(A)はその回路図を示し、分図
(B)はその電圧波形とトランジスタの状態を示す図で
ある。
【図6】従来の半導体装置のブロック図である。
【図7】従来の半導体装置の電源検出回路図である。
【図8】従来のワード線昇圧回路図である。
【符号の説明】
1,2,3,19,20,21 負荷素子 4,5,13,14,15,16,22,23,24,
29,32 P型MOSトランジスタ 6,7,8,17,18,25,26,27,30,3
1,33 N型MOSトランジスタ 9,11,34,36 駆動バッファ 10,35 昇圧用キャパシタ 38,39 NAND回路 42 NOR回路 28,37 インバータ回路 12,40,41 遅延回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/822 21/8244 27/11 27/105 27/10 481 H01L 27/04 G 27/10 381 441

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電源電圧値が所定の基準値以下のときに
    検出信号を活性化し前記所定の基準値を超えたときに前
    記検出信号を活性化しない電源電圧検出回路と、起動信
    号を受け前記電源電圧を昇圧する昇圧回路と、前記検出
    信号が活性化されたときは前記昇圧回路の出力電圧を出
    力し前記検出信号が活性化されないときは前記電源電圧
    を出力する電圧選択回路とから成る昇圧制御回路を備え
    る半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記昇圧制御回路はスタチック型RAM
    のワード線を昇圧することを特徴とする請求項1記載の
    半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記電源電圧検出回路の基準値が前記電
    源電圧値が低電圧から高電圧に変化する場合および高電
    圧から低電圧に変化する場合の各々で異った値に設定さ
    れることを特徴とする請求項1または2記載の半導体装
    置。
JP7013156A 1995-01-30 1995-01-30 半導体装置 Pending JPH08203281A (ja)

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