JPH08195374A - 洗浄装置および洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被処理基板例えば半導体ウエハに対して同一
の処理槽で薬液処理とリンス処理とを行うにあたって被
処理基板の表面処理を高い均一性で行うこと。 【構成】 処理槽の底部に、バルブ６２を介装した管径
の大きい薬液排出管６１を接続し、薬液排出管６１の下
端に薬液回収容器６３を設け、薬液の再利用を図る。一
方処理槽の上方にリンス液容器５１を設け、このリンス
液容器５１の底面の例えば複数個所に、バルブ５３を介
装した管径の大きい供給管５２を接続する。処理槽３内
で薬液処理が終了した後薬液排出管６１より急速に薬液
を排出し、次いでリンス液容器５１内の例えば純水をバ
ルブ５３を開いて急速に供給し、こうしてウエハＷの露
出時間を例えば１０秒以内に抑えてウエハＷの上部の乾
きを防止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置及び洗浄方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では、半導体
ウエハ（以下「ウエハ」という）表面のパーティクル、
有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去
するために洗浄装置が使用されており、その中でもウエ
ット洗浄装置は、前記コンタミネーションを効果的に除
去でき、しかもバッチ処理が可能でスループットが良好
であるため幅広く普及している。

【０００３】この種の洗浄装置では、薬液槽内にてウエ
ハに対してアンモニア、フッ酸、塩酸などの薬液処理を
行った後、リンス槽内にて例えば純水によりリンスを行
っており、その装置構成については、薬液槽及びリンス
槽の組が各薬液毎にシリーズに配列され、例えば５０枚
のウエハを一括して各槽に順次搬送するための搬送系が
設けられている。

【０００４】そして最近では装置の小型化を図るために
薬液槽とリンス槽とを共通化して、同一の槽で薬液によ
る処理とリンスとを行う１バス方式の洗浄装置が検討さ
れつつある。このような１バス方式の洗浄装置の従来例
について図７を参照しなが説明すると、図中１は処理槽
であり、この処理槽１内には整流板１１が設けられてい
る。先ず処理槽１内に薬液例えばフッ酸溶液を供給し、
循環路１３により循環しておき、保持棒１４ａ〜１４ｃ
を有する保持具１４に例えば５０枚のウエハＷを並列に
保持して薬液に浸漬する。次いで薬液の循環を止め、リ
ンス液供給路１５よりリンス液例えば純水を処理槽１内
に供給すると共にドレイン管１６より液を排出しながら
純水により処理槽１内を置換し、ウエハＷをリンスする
ようにしている。なおＶａ、Ｖｂ、Ｖｃ、Ｖｄ、はバル
ブ、Ｐはポンプ，Ｆはフィルタである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述の方
法では、薬液が純水に置換されて排出されるため、薬液
の消費量が大きく、コストアップになっていたし、また
純水に置換される時間即ち液の比抵抗が純水の値に回復
するまでの時間が長く、スループットの向上の妨げにな
っていた。

【０００６】一方薬液による処理が終了した後薬液を処
理槽１内から排出し純水をリンス供給路１５を通じて処
理槽１内に満たす方法も検討されているが、この場合に
は純水を処理槽１の底部から例えば外径３／４インチの
ＰＦＡ（テトラフルオロエレチレン−パーフルオロアル
キルビニルエーテル共重合体）チューブを通じて処理槽
１内に供給するので、純水の供給量としてはせいぜい５
０リットル／分が限界であり、従って急速な純水の供給
ができないため、処理槽内の薬液を排出し始めてから純
水で満たすまでの時間が、例えば８インチウエハＷ用の
処理槽の場合最短でも２０〜２５秒以上にもなってしま
う。この結果ウエハＷの下部は濡れているのでフッ酸溶
液と接触しているが、上部は乾いてしまってフッ酸溶液
が欠乏している状態となるため、濡れている部分と乾い
ている部分とでエッチング処理のムラが生じ、エッチン
グ処理の均一性が低くなるという問題が起こる。このよ
うな表面処理のムラは、フッ酸溶液によるエッチング処
理に限らず、他の洗浄処理においても同様に起こる。

【０００７】本発明は、このような事情のもとになされ
たものであり、その目的は均一な表面処理を行うことが
できる洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の被処理基板を各々縦向きで処理槽内に並列に配列し
て、この処理槽内にて薬液により処理を行い、その後リ
ンス液によりリンスを行う洗浄装置において、前記薬液
による処理の後、前記処理槽の底部から薬液を急速に排
出するための薬液排出部と、この薬液排出部により処理
槽内の薬液を排出した後、前記処理槽の上方からリンス
液を急速に供給するための第１のリンス液供給部と、こ
の第１のリンス液供給部によりリンス液が前記処理槽内
に供給された後、処理槽内のリンス液を新たなリンス液
で置換するための第２のリンス液供給部と、を備えたこ
とを特徴とする。

【０００９】請求項２の発明は、複数の被処理基板を各
々縦向きで処理槽内に並列に配列して、この処理槽内に
て薬液により処理を行い、その後リンス液によりリンス
を行う洗浄装置において、前記処理槽の底部から薬液を
急速に排出するための薬液排出部と、この薬液排出部か
ら排出された薬液を回収する回収容器と、この回収容器
内の薬液を循環しながら濾過するための循環濾過部と、
前記回収容器内の薬液の濃度を所定濃度にするための薬
液補充部と、前記薬液排出部により処理槽内の薬液を排
出した後、前記処理槽の上方からリンス液を急速に供給
するための第１のリンス液供給部と、この第１のリンス
液供給部によりリンス液が前記処理槽内に供給された
後、処理槽内のリンス液を新たなリンス液で置換するた
めの第２のリンス液供給部と、前記処理槽内のリンス液
を排出するためのリンス液排出部と、リンス液を前記処
理槽内から排出した後に前記回収容器内の薬液を前記処
理槽に戻すための薬液返送手段と、を備えたことを特徴
とする。

【００１０】請求項３の発明は、請求項１または２の発
明において、薬液排出部により処理槽から薬液を排出し
て被処理基板の一部が露出した時点から、第１のリンス
液供給部によりリンス液を処理槽内に供給して被処理基
板の全部が浸漬する時点までの時間が１０秒以内である
ことを特徴とする。

【００１１】請求項４の発明は、請求項１、２または３
の発明において、第１のリンス液供給部は、処理槽より
も高い位置に設けられたリンス液容器と、このリンス液
容器の下部からリンス液を排出して処理槽内に供給する
ためのリンス液流路と、このリンス液流路を開閉するバ
ルブと、を備えたことを特徴とする。

【００１２】請求項５の発明は、複数の被処理基板を各
々縦向きで処理槽内に並列に配列して、この処理槽内に
て薬液により処理を行い、その後リンス液によりリンス
を行う洗浄方法において、前記薬液による処理の後、前
記処理槽の底部から薬液を急速に排出して薬液を回収す
る工程と、次いで処理槽内にリンス液を急速に供給する
工程と、その後処理槽内に新たなリンス液を供給して処
理槽内の液を新たなリンス液で置換する工程と、次に処
理槽内のリンス液を排出する工程と、然る後、既に回収
し循環濾過した薬液を処理槽に返送する工程と、を含
み、リンス液を処理槽内から排出して被処理基板の一部
が露出した時点から、リンス液を処理槽内に供給して被
処理基板の全部が浸漬するまでの時間が１０秒以内であ
ることを特徴とする。

【００１３】

【作用】被処理基板を処理槽内で薬液により処理した後
薬液排出部により処理槽内の薬液を急速に排出し、次い
で第１のリンス液供給部より例えば処理槽の上方のリン
ス液容器からリンス液を急速に処理槽内に供給して、被
処理基板の一部が薬液の排出により露出し始めてから、
被処理基板の全部がリンス液に浸漬されるまでの時間を
例えば１０秒以内に抑える。続いて第１のリンス液供給
部よりリンス液を処理槽内に供給して被処理基板のリン
ス液を行う。従って薬液からリンス液への置換が短時間
で行われるので被処理基板の上部の乾きを防止でき、均
一な表面処理を行うことができる。そして処理槽内から
排出された薬液は、一旦回収容器に貯液しておき、次の
被処理基板の洗浄処理に再利用することにより薬液の消
費量を少なくすることができる。また処理槽内の薬液を
純水により徐々に置換する従来の方法と比べ、薬液と純
水とを一気に入れ替えるためリンス効率が飛躍的に高ま
り、処理時間の短縮化、純水の使用量の低減が可能にな
る。

【００１４】

【実施例】本発明の実施例に係る洗浄装置について述べ
る。先ず搬送系なども含めた洗浄装置全体について図１
を参照しながら簡単に説明すると、装置全体は、洗浄処
理前の被処理基板例えばウエハをカセット単位で収容す
る搬入部Ａと、ウエハの洗浄処理が行われる洗浄処理部
Ｂと、洗浄処理後のウエハをカセット単位で取り出すた
めの搬出部Ｃとの３つのゾーンによって構成されてい
る。

【００１５】搬入部Ａでは、例えば２５枚のウエハが収
納されたカセットＣが外部からカセット搬送手段２０に
より待機部２１に一旦搬入された後、ローダ部２２に搬
送され、ここで図では見えないウエハチャックによりカ
セットＣ内のウエハが専用のウエハ保持具に移し替えら
れる。洗浄処理部Ｂでは、搬入部Ａと搬出部Ｃとを結ぶ
ラインに沿って例えば３台のウエハ搬送機構Ｒ１〜Ｒ３
が設けられ、ウエハ搬送機構Ｒ１〜Ｒ３は、ウエハを保
持したウエハ保持具を装置内に搬送する保持具搬送手段
を備えている。また前記搬入部Ａ側から順に、ウエハ搬
送機構Ｒ１の保持具搬送手段２３を洗浄、乾燥する洗浄
・乾燥槽Ｔ１、３つの処理槽Ｔ２〜Ｔ４、ウエハ搬送機
構手段Ｒ３の保持具搬送手段２４を洗浄、乾燥する洗浄
・乾燥槽Ｔ５、ウエハを蒸気乾燥させるウエハ乾燥槽Ｔ
６が設けられている。

【００１６】処理槽Ｔ２〜Ｔ４は、洗浄処理液により洗
浄され、かつ夫々例えば純水でリンスされるように構成
され、ウエハは例えば５０枚一括して後述の専用の保持
具で保持されてウエハ搬送機構Ｒ１〜Ｒ３により、順次
処理槽Ｔ２〜Ｔ４内にて洗浄処理が行われる。洗浄処理
部Ｂの上方には、前記ウエハチャックによってウエハが
取り出された後の空のカセットＣを洗浄、乾燥するため
の洗浄・乾燥ライン２５が設けられており、この洗浄乾
燥ラインへのカセットＣの供給は、前記ローダ部２２及
び昇降機構２６によって行われる。

【００１７】ここで上述のウエハ保持具及び処理槽の概
観を図２に示すと、ウエハ保持具３は、一対の端板３０
ａ、３０ｂ間に渡された第１の保持棒３１、第２の保持
棒３２、第３の保持棒３３を有しており、これら保持棒
３１〜３３には、ウエハＷの周縁部を保持する保持溝３
４が平行に例えば５０本形成されている。端板３０ａ、
３０ｂの上端部には夫々水平に折曲された被支持部３５
ａ、３５ｂが形成されている。前記保持具搬送手段は例
えば図２に示すように一対のアーム２７ａ、２７ｂを有
し、前記ウエハ保持具３の被支持部３４ａ、３４ｂの下
面を夫々支持して既述の装置Ｔ２〜Ｔ４内へ搬送するよ
うに構成されている。

【００１８】一方前記３つの処理槽Ｔ２〜Ｔ４は同一の
構造であってもよく、各処理槽４（Ｔ２〜Ｔ４）及びそ
れに関する装置構成について図２及〜図４を参照しなが
ら説明する。処理槽４は、例えば底部周縁が傾斜してい
る矩形状に成形されると共に上縁部に越流用の三角形状
の切欠部４１が形成されており、処理槽４の上縁部の外
側には越流した液を受容する受容槽４２が設けられてい
る。前記処理槽４の上方には、リンス液例えば純水を処
理槽３内に急速に供給するための第１のリンス液供給部
５が設けられ、この第１のリンス液供給部５は、例えば
ボールネジなどによる昇降手段５０ａにより、ウエハ保
持具３の搬送時に干渉しない上方位置と、処理槽４の直
ぐ上の位置（図２の位置）との間で昇降できるようにな
っている。５０ｂはガイド棒である。

【００１９】前記第１のリンス液供給部５は、リンス液
を貯液するリンス液容器５１と、このリンス液容器５１
の底面に複数例えば前後に２個ずつ左右に並べた合計４
個のリンス液供給路をなす、供給管５２と、この供給管
５２を開閉するバルブ５３とを有しており、リンス液容
器５１は図示しないリンス液供給源からリンス液が充填
されるようになっている。また処理槽４の上部には、前
記保持搬送手段と干渉しない位置に図４に示すように薬
液供給部６０が設けられている。

【００２０】一方処理槽４の底部には処理槽４内の薬液
を急速に排出する薬液排出部６が設けられており、この
薬液排出部６は、処理槽４の底部において前後２ヶ所に
接続された排出管６１と、この排出管６１の上端開口部
付近に設けられたバルブ６２とから構成されると共に、
排出管６１の下端側は薬液の回収容器６３に接続されて
いる。薬液排出部６及び第１のリンス液供給部５は処理
槽４内の薬液を急速に排出し、リンス液を急速に供給し
てウエハＷの露出時間を短くするものであるため、供給
管５２及び排出管６１の数及び管径については、ウエハ
Ｗのサイズや処理枚数などに応じて後で詳述する如くウ
エハＷの露出時間が例えば１０秒以内となるように設定
される。

【００２１】前記処理槽４の底部と受容槽４２との間に
は、受容槽４２側からバルブＶ１、ポンプＰ、フィルタ
Ｆ、温調器Ｔ、バルブＶ２、Ｖ３がこの順に介装された
循環濾過部をなす第１の薬液循環路７１が設けられると
共に、この薬液循環路７１のバルブＶ３と処理槽４の底
部との間からは、第２のリンス液供給部をなす、バルブ
４が介装されたリンス液供給路７２が分岐されている。
従って薬液循環路７１の一部はリンス液供給路７２を兼
用していることになる。

【００２２】前記薬液循環路７１におけるバルブＶ２及
びＶ３の間からはリンスが終了した後に処理槽４内のリ
ンス液を排出するための、バルブＶ５が介装されたドレ
イン管７３が分岐されている。また薬液循環路７１にお
けるポンプＰの受容槽４２側、及び温調器ＨとバルブＶ
２との間から夫々バルブＶ６、Ｖ７が介装された分岐路
７４ａ、７４ｂが分岐されると共に、これら分岐路７４
ａ、７４ｂは夫々回収容器６３の底部及び上部に接続さ
れ、分岐路７４ａ、７４ｂと薬液循環路７１の一部とに
よって、回収容器６３内の薬液を循環するための第２の
薬液循環路７４が構成されている。

【００２３】前記受容槽４２の底部には、処理槽４内か
ら越流したリンス液を排出する、バルブＶ８を有するド
レイン管７５が接続されている。なおリンス液供給路７
２、薬液循環路７１、７４は例えば外径３／４インチの
ＰＦＡ（テトラフルオロエレチレン−パーフルオロアル
キルビニルエーテル共重合体）チューブで構成されてい
る。そしてまた回収容器６３には、回収した薬液の濃度
を所定の値にするために薬液を補充する薬液補充部６４
が接続されている。

【００２４】前記処理槽の底部とウエハ保持具３との間
には、前後に平行に伸びるスリット４３が形成された整
流板４４が設けられると共には、リンス液供給路７２の
供給口に対向する位置には、供給口と略同径の拡散板４
５（図３参照）が設けられている。なお図４において処
理槽４及び受容槽４２に対する薬液循環路７１及びドレ
イン管７５の接続位置は、図３と整合しないが、便宜上
示したものであり、薬液循環路７１は図４において実際
には処理槽４の底部の左右方向の中心部に接続されるも
のである。

【００２５】次に上述実施例の作用について述べる。先
ず図１に示すローダ部２２において既述のウエハチャッ
クが例えば２個のカセットから２５枚づつウエハを取り
出し、ウエハ保持具３に５０枚移し替える。一方薬液供
給部６０から薬液例えばフッ酸溶液を処理槽４内に供給
しておき、バルブＶ１、Ｖ２、Ｖ３を開きかつ他のバル
ブを閉じてポンプＰにより薬液を循環しておく。このと
き薬液は温調器Ｈにより所定の温度に調整される。そし
て前記保持具搬送手段のアーム２７ａ、２７ｂによりウ
エハ保持具３を処理槽４内に搬送して、図３及び図４に
示すように例えば５０枚のウエハＷを薬液内に浸漬し、
例えば前記フッ酸溶液によりウエハＷ表面の酸化膜をエ
ッチングする。なおウエハ保持具３の搬送時には第１の
リンス液供給部５は上昇位置にあり、その後下降する。

【００２６】しかる後薬液排出部６のバルブ６２を開い
て処理槽４内の薬液を急速に排出管６１を通じて排出
し、この例では排出された薬液を回収容器６３内に回収
する。続いてバルブＶ１〜Ｖ３及び６２を閉じ、第１の
リンス液供給部のバルブ５３を開いてリンス液容器５１
内のリンス液を供給管５２を通じて自然落下させて処理
槽４内に急速に満液になるまで供給する。この場合、薬
液の液面レベルが低下してウエハＷの一部が露出した時
点から、リンス液が供給されてその液面レベルが上昇し
ウエハＷの全部が浸漬されるまでの時間が例えば１０秒
以内（１０秒も含む）とされる。

【００２７】その後バルブＶ４を開き、図示しないリン
ス液供給源からリンス液供給路７２を通じて処理槽４の
底部からリンス液例えば純水を供給する。リンス液は整
流板４３で整流されて上昇し、処理槽４から越流したリ
ンス液がドレイン管７５から排出される。ここで先の工
程でリンス液が急速に処理槽４内に満たされているが、
このときには処理槽４内の内面やウエハＷあるいは保持
具３などに付着している薬液が混在している。従って処
理槽４の底部から新たに純水を供給することによりいわ
ば純度の悪い純水が新たな純水で置換され、処理槽４内
の純水の比抵抗が本来の純水の値に回復する。

【００２８】一方このリンスが行われている間バルブＶ
６、Ｖ７を開いておき、回収容器６３内の薬液を循環路
７４を通じて循環し、温調器Ｈにより所定温度に維持し
ておくと共に、薬液補充部６４より薬液を補充して薬液
濃度を所定値に維持する。この薬液の補充については、
例えば回収容器６３内の薬液濃度を測定し、補充量が演
算される。そして処理槽４内の液の比抵抗が純水の値に
回復した後、バルブＶ４を閉じ、バルブＶ３、Ｖ５を開
いて処理槽４内のリンス液をドレイン管７３から排出す
る。このようにしてウエハＷの洗浄処理が終了した後、
第１のリンス液供給部５を上昇させ、処理槽４内のウエ
ハ保持具３を保持具搬送手段により外部に取り出す。

【００２９】続いてバルブＶ５、Ｖ７を閉じバルブＶ２
を開いて回収容器６３内の薬液を分岐管７４ａからポン
プＰを通じて循環路７１内を送流し、処理槽４の底部よ
り処理槽４内へ供給する。その後バルブＶ６を閉じバル
ブＶ１を開いて処理槽３内の薬液を薬液循環路７１を通
じて循環し、次のウエハＷの薬液処理が行われる。なお
回収容器６３内からの薬液が不足している場合あるいは
薬液濃度が不足している場合は、その不足分は薬液供給
部６０から補給される。

【００３０】上述実施例によれば、処理槽４の上方にリ
ンス液容器５１を設けてこの中のリンス液例えば純水を
落下させるようにしているため処理槽４内に純水を急速
に供給することができる。従ってウエハＷに対して薬液
による処理を終えた後、処理槽４の底部から薬液排出部
６を通じて急速に薬液を排出し、続いてリンス液容器５
１から純水を急速に供給することにより、処理槽４内に
おける薬液からリンス液への置換を短時間で、例えば既
述したウエハＷの露出時間が１０秒以内になるように行
うことができるので、ウエハＷの乾いている領域が全く
なくなるかあるいはあったとしてもそれ程広くはなく、
しかも乾いている領域の存在時間が短いので、ウエハＷ
の面内における表面処理例えばエッチングの均一性が高
くなる。そして処理槽４から排出された薬液は一旦回収
容器６３内に貯液され、再び薬液の処理に利用されるの
で薬液の消費量が少なくて済み、更にリンス効率が高ま
り、純水使用量が低減し、スループットが向上する。

【００３１】ここで本発明者は、上述実施例と同様の試
験装置を用いて、第１のリンス液供給部のリンス液供給
管５２に流量調整バルブを設け、既述のウエハＷの露出
時間を８秒、１０秒、２０秒（ただし小数以下は四捨五
入している）の３通りに設定して、薬液として５％フッ
酸溶液を用い、５０枚のウエハの表面の状態を観察した
ところ、１０秒以下ではいずれのウエハＷも均一な表面
処理が行われていたが、２０秒の場合には各ウエハＷの
上部についてわずかにエッチング量の低い部分が確認さ
れた。従ってウエハＷの露出時間、即ち薬液の排出によ
りウエハＷの一部が露出した時点からリンス液の供給に
よりウエハＷ全体が浸漬されるまでの時間は１０秒以内
であることが好ましい。

【００３２】そして第１のリンス液供給部５は、昇降自
在とすればリンス液を処理槽４に接近した位置から落下
できるので跳ねが少なくて好ましいが、ウエハ保持具３
の搬送に必要なスペースを確保して処理槽４の上方に固
定してもよい。そしてまた第１のリンス液供給部５は、
図５及び図６に示すようにウエハ保持具３の搬送時にウ
エハ保持具３と干渉しない上方位置に設け、リンス液が
ウエハＷに直接当たらないように受容槽４２へ落下する
ように構成してもよい。また処理槽４内にてウエハを保
持するためには、ウエハ保持具にウエハを保持してウエ
ハ保持具ごと搬送する代りに、処理槽４内に予め設けら
れた保持手段にウエハを移し替えるようにしてもよい。

【００３３】以上において本発明は、フッ酸溶液により
酸化膜をエッチングする場合に限らず、例えばリン酸溶
液によって窒化膜をエッチングする場合やリン酸、酢
酸、硝酸の混合液によってアルミニウムをエッチングす
る場合にも適用できる。またその他洗浄処理としては、
ＡＰＭ溶液（アンモニア＋過酸化水素水＋純水）により
パーティクルの除去を行う場合、ＨＰＭ溶液（塩酸＋過
酸化水素水＋純水）により金属汚染を清浄する場合、あ
るいはＳＰＭ溶液（硫酸＋過酸化水素水）によりレジス
ト膜の有機物を除去する場合などであってもよい。なお
被処理基板としては、液晶基板やプリント基板などであ
ってもよい。

【００３４】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、薬液によ
る処理とリンス液によるリンスとを共通の処理槽で行う
にあたって、薬液による処理の後薬液を処理槽から急速
に排出し、次いでリンス液を処理槽内に急速に供給し、
こうして被処理基板の露出時間を短くしているので被処
理基板に対して高い均一性で表面処理を行うことができ
る。また処理槽から排出した薬液を一旦回収容器に回収
してその後再利用することにより薬液の消費量を低減で
きる。またリンス効率が高くなるため純水消費量が低減
し、スループットが向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に係る洗浄装置の全体構成を示
す斜視図である。

【図２】本発明の実施例に用いられるウエハ保持具、リ
ンス液容器及び処理槽を示す斜視図である。

【図３】本発明の実施例の要部を示す縦断側面図であ
る。

【図４】本発明の実施例の要部を示す縦断正面図であ
る。

【図５】本発明の他の実施例の要部を示す縦断側面図で
ある。

【図６】本発明の他の実施例の要部を示す縦断正面図で
ある。

【図７】従来の洗浄装置を示す縦断正面図である。

【符号の説明】

３ ウエハ保持具 ４ 処理槽 ４２ 受容槽 ５ 第１のリンス液供給部 ５１ リンス液容器 ５２ リンス液供給路 ５３ バルブ ６ 薬液排出部 ６１ 薬液排出管 ６２ バルブ ６３ 回収容器 ７１、７４ 薬液循環路 ７２ 第２のリンス液供給部をなすリンス液供給
管 Ｗ ウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 戸島 孝之 山梨県韮崎市藤井町北下条2381番地の１ 東京エレクトロン九州株式会社山梨事業所 内

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 複数の被処理基板を各々縦向きで処理槽
   内に並列に配列して、この処理槽内にて薬液により処理
   を行い、その後リンス液によりリンスを行う洗浄装置に
   おいて、 前記薬液による処理の後、前記処理槽の底部から薬液を
   急速に排出するための薬液排出部と、 この薬液排出部により処理槽内の薬液を排出した後、前
   記処理槽の上方からリンス液を急速に供給するための第
   １のリンス液供給部と、 この第１のリンス液供給部によりリンス液が前記処理槽
   内に供給された後、処理槽内のリンス液を新たなリンス
   液で置換するための第２のリンス液供給部と、を備えた
   ことを特徴とする洗浄装置。
2. 【請求項２】 複数の被処理基板を各々縦向きで処理槽
   内に並列に配列して、この処理槽内にて薬液により処理
   を行い、その後リンス液によりリンスを行う洗浄装置に
   おいて、 前記処理槽の底部から薬液を急速に排出するための薬液
   排出部と、 この薬液排出部から排出された薬液を回収する回収容器
   と、 この回収容器内の薬液を循環しながら濾過するための循
   環濾過部と、 前記回収容器内の薬液の濃度を所定濃度にするための薬
   液補充部と、 前記薬液排出部により処理槽内の薬液を排出した後、前
   記処理槽の上方からリンス液を急速に供給するための第
   １のリンス液供給部と、 この第１のリンス液供給部によりリンス液が前記処理槽
   内に供給された後、処理槽内のリンス液を新たなリンス
   液で置換するための第２のリンス液供給部と、 前記処理槽内のリンス液を排出するためのリンス液排出
   部と、 リンス液を前記処理槽内から排出した後に前記回収容器
   内の薬液を前記処理槽に戻すための薬液返送手段と、を
   備えたことを特徴とする洗浄装置。
3. 【請求項３】 薬液排出部により処理槽から薬液を排出
   して被処理基板の一部が露出した時点から、第１のリン
   ス液供給部によりリンス液を処理槽内に供給して被処理
   基板の全部が浸漬する時点までの時間が１０秒以内であ
   ることを特徴とする請求項１または２記載の洗浄装置。
4. 【請求項４】 第１のリンス液供給部は、処理槽よりも
   高い位置に設けられたリンス液容器と、このリンス液容
   器の下部からリンス液を排出して処理槽内に供給するた
   めのリンス液流路と、このリンス液流路を開閉するバル
   ブと、を備えたことを特徴とする請求項１、２または３
   記載の洗浄装置。
5. 【請求項５】 複数の被処理基板を各々縦向きで処理槽
   内に並列に配列して、この処理槽内にて薬液により処理
   を行い、その後リンス液によりリンスを行う洗浄方法に
   おいて、 前記薬液による処理の後、前記処理槽の底部から薬液を
   急速に排出して薬液を回収する工程と、 次いで処理槽内にリンス液を急速に供給する工程と、 その後処理槽内に新たなリンス液を供給して処理槽内の
   液を新たなリンス液で置換する工程と、 次に処理槽内のリンス液を排出する工程と、 然る後、既に回収し循環濾過した薬液を処理槽に返送す
   る工程と、を含み、 リンス液を処理槽内から排出して被処理基板の一部が露
   出した時点から、リンス液を処理槽内に供給して被処理
   基板の全部が浸漬するまでの時間が１０秒以内であるこ
   とを特徴とする洗浄方法。