JPH08181391A - 面発光レーザ及び面発光レーザアレイ及び光情報処理装置 - Google Patents

面発光レーザ及び面発光レーザアレイ及び光情報処理装置

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JPH08181391A
JPH08181391A JP4963895A JP4963895A JPH08181391A JP H08181391 A JPH08181391 A JP H08181391A JP 4963895 A JP4963895 A JP 4963895A JP 4963895 A JP4963895 A JP 4963895A JP H08181391 A JPH08181391 A JP H08181391A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 垂直共振器型面発光レーザアレイの偏光の向
きを制御して揃える。 【構成】 矩形断面のものについて説明する。陽極側半
導体多層膜2のポスト断面形状を単一モードが得られる
6×6μm と十分小さくし、さらに一方の辺を5μm と
した、6×5μm の矩形とする。ポスト側面では、その
面に垂直な偏光の損失が大きい。6μm の長辺側での長
辺に平行な偏光の損失と5μm の短辺側での短辺に垂直
な偏光の損失の比は、辺の長さの比にほぼ等しいため、
長辺に垂直な偏光の損失が大きい。結果として短辺に垂
直、すなわち長辺に平行な偏光が優勢となり、偏光制御
が実現される。この効果はポスト径が単一モードが得ら
れる程度に十分小さく、さらに本構造のように、片側の
半導体多層反射膜のみをポスト構造にしていることで光
が斜め成分を有する場合に顕著である。また光のフィー
ルドが強い部分にポストを作製し、かつ電流注入をポス
ト中心部まで均一に行うために、ポスト底部と活性層の
距離は光学長1波長程度が最適である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光通信及び光コンピュー
タに用いられる面発光レーザ及び面発光レーザアレイに
関し、特に偏光方向を任意に制御できる面発光レーザ及
び面発光レーザアレイ及び光情報処理装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】光通信、光コンピュータの光源として高
密度化された半導体レーザアレイが必要となっている。
半導体レーザアレイはいくつかの半導体レーザを適当な
ピッチで並べ、各々独立に駆動させている。
【0003】従来用いられている半導体レーザアレイの
主な作製方法としては、一つに別々に作製した半導体レ
ーザを整列させてハンダ、AuSn等の低融点合金によ
り同一のヒートシンクに融着させて作製するフリップチ
ップボンディングによる方法がある。この場合、アライ
メントは機械的な方式になるため、ピッチを詰められな
い、精度が悪いという欠点がある。
【0004】これに対して、一枚の基板上に作り込むモ
ノリシックな作製方法がある。これは端面出射型ストラ
イプレーザでは図22に示すように、適当な間隔でメサ
ストライプを並べて作製するものである。電極を個々に
分割することで、個々のレーザを別々に移動することが
可能となっている。また、このタイプの半導体レーザア
レイは互いの半導体レーザのピッチ、位置精度は光学露
光で決定されるためμm オーダーの精度が得られる。
【0005】しかしながら端面出射型レーザアレイで
は、1次元の配列しかできないため、アレイの数、密度
には限界があり、光情報処理の光源として求められてい
る多くの半導体レーザを集積化した半導体レーザアレイ
には不向きであった。
【0006】これに対して図23に示す面発光レーザで
は、基板に対して垂直方向に光を出射するため、2次元
の配列が容易で高密度なマトリックスアレイが作製され
る利点があり、ファイバ等光学部品への結合効率にも優
れている。したがって光スイッチ、光インターコネクシ
ョン等には光学素子やファイバへの結合あるいはアレイ
素子の大きさを考慮すると、高精度かつ高密度化が可能
な面発光レーザアレイが有望視されている。
【0007】さらに半導体レーザアレイの光通信、光コ
ンピュータへの応用上、偏光方向は安定であることが望
ましい。これは光情報処理のシステム構成で偏光依存性
のある光学素子を用いるためだけではなく、素子の端面
反射等でどんな系でも偏光依存性が存在するため、偏光
の不安定性が系全体を不安定にするためである。
【0008】光通信や光コンピュータで重要となる半導
体レーザアレイの偏光については、端面出射型の半導体
レーザはピッチが波長程度に小さくモードカップリング
が起きる場合を除けば、アレイであることによる特別な
偏光制限効果は存在せず個々の素子の偏光特性を保持す
る。そのため、アレイでは、TEモードに起因する基板
に平行な偏光が優勢となる。
【0009】一方、面発光レーザでは偏光に対して制限
要因が無いため、個々の素子でランダムな方向に偏光が
現れ、かつその偏光方向は不安定で駆動電流や温度等に
よりスイッチングが起きる場合がある。
【0010】面発光レーザの1つである垂直共振器型面
発光レーザは、特願平3−34754号にあるように上
下2組の半導体多層反射膜で共振器を形成し、基板に対
して垂直方向に光を出射する半導体レーザである。端面
出射型ストライプレーザに較べて、出射角が狭い、縦モ
ード間隔が大きい、アレイにしやすい等の特徴を持つ。
【0011】現在、半導体レーザを光源とする光通信等
のシステムでは、偏光の方向に依存するビームスプリッ
タや偏光子などの使用が不可欠なので、面発光レーザに
おいても偏光を制御することが応用上極めて重要であ
る。
【0012】垂直共振器型面発光レーザにおいて偏光を
制御しようとする試みはいくつか報告があるが大きく分
けて2種類ある。
【0013】ひとつは多層反射膜の反射率に異方性を持
たせようという試みでMitsuaki Shimiz
uらがジャパニーズ ジャーナル オブ アプライド
フィジックス30巻L1015−L1017ページ(J
apanese Journal of Applie
d Physics Vol.30,PP.L1015
−1017,1991)に示したように、上部の半導体
多層膜の側面のうち向かいあう2面のみを高反射率の金
属で覆った例があるが実験結果からはこの方法の有効性
は確認されていない。
【0014】もうひとつの方法は、活性層に異方的なス
トレスを与える方法でToshikazu Mukai
haraらがジャパニーズ ジャーナル オブ アプラ
イドフィジックス31巻1389−1390ページ(J
apanese Journal of Applie
d Physics,31,pp.1389−139
0,1992)に示したように基板を楕円に掘りこんで
異方的なストレスを与えることで長軸に平行な偏光を得
ようというものだが、基板へのストレスを用いると、温
度変化による熱膨張や、パッケージング、取扱い時に発
生するストレスの影響を受け易く現実的でない。
【0015】その他では特開平1−265584号公報
にあるような、光出射部に矩形の高屈折率導波部を設
け、その長辺に平行な偏光を通す試みがあるが、高屈折
率導波部へ有効に光が閉じ込められるかは疑問で、それ
を用いた偏光制御効果も強くないと考えられる。
【0016】また特開平4−242989号公報にある
ように、異方形状を有する電極により、異方的な利得を
与える利得閉じ込め型レーザの一種の例があるが、利得
閉じ込め型においては閉じ込めが弱く光は発散してお
り、電極下部に閉じ込められている割合(光閉じ込め係
数)は非常に小さいので、電極形状の変化で与えられる
利得の異方性は非常に弱い。従って、それを利用した偏
波制御効果も小さいと思われる。
【0017】特開平4−144183号公報には垂直共
振器部分を2軸を有する異方的な形状にして偏光制御を
試みた例がある。図10にこの素子を上面から見た図を
示す。この公報には偏光制御の物理的な根拠に関しては
何も記載されておらず、ただ長軸に平行な偏波が得られ
ると記されている。図10(b)のようなひし形断面の
面発光レーザが偏光制御効果が無いことは、アイイーイ
ーイー フォトニクステクノロジー レターズ第6巻4
1ページ(IEEE Photonics Techn
ology Letters,6,pp.40−42,
1994)により、また、他の実施例である楕円形状の
断面(図10(a))を有する面発光レーザについて
も、特開平1−266584号公報の[従来の技術]の
中の記載に十分な偏光制御効果が無いことが記されてお
り、単に共振器の断面形状を異方的にしただけでは偏光
方向の制御を行うことはできなかった。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】別々に作製した半導体
レーザを並べて半導体レーザアレイを作製する場合、端
面出射型半導体レーザアレイでは、基板に平行な偏光を
有する端面出射型レーザを、目的の方向へそれぞれ基板
を傾けさせて配置することにより、レーザアレイの偏光
を任意に設定することができるが、この場合、通常の基
板面を基準とした同一ヒートシンクへの融着による配置
が難しく、作製が非常に困難となる。
【0019】また、従来の半導体レーザアレイの偏光方
向は同一基板上にモノリシックに作製した場合、端面出
射型半導体レーザアレイでは偏光方向が基板に平行な成
分だけになり、面発光レーザの偏光制御についてはいろ
いろな試みがなされているにも関わらず、十分な偏光制
御を行うことができていないために面発光レーザアレイ
で個々のレーザ素子ごとには全くばらばらの偏光となっ
ていた。
【0020】さらに従来例では数個の素子についてのデ
ータしか示されておらず、実際は素子作製時の引っかき
傷、ストレスや素子評価時の戻り光等の再現性の乏しい
要因による数十個の素子について偏光方向が揃うことで
ある。したがって偏光制御の評価で、少なくとも50個
程度の素子についてその偏光方向を調べても、なお良好
な偏光制御が確認できるものでなければならない。
【0021】上記の従来の面発光レーザは偏光を制御で
きていないこと以外にも問題がある。ひとつには半導体
レーザが直線偏光を示していないので、偏光方向が定ま
らない。また、光の導波方向に垂直な断面の径が大き
く、このため横モードあるいは縦モードが単一となって
いない場合がある。多モードの場合、偏波は各モードで
同じ向きとは限らない。従って偏光の制御は直線偏光を
示し、かつ、単一モードが得られる程度の小さい素子で
実現される必要がある。
【0022】さらに偏光方向が任意に設定されたレーザ
アレイという概念が無かったためにそれを利用したシス
テムの実例も無いが、後で述べるように、1アレイ内で
偏光方向が任意に設定されれば、偏光を利用した光路制
御、偏光多重通信等様々なシステム応用が考えられる。
【0023】本発明の目的は、少なくとも50個以上の
面発光素子の偏波方向をある一方向に揃えることができ
る単一横モードで発振する面発光レーザを提供しさらに
これを用いてモノリシックな一つのアレイ内の各素子の
偏光方向を任意に設定できる面発光レーザアレイを提供
することである。
【0024】また、レーザアレイの任意に設定された偏
光を利用した光路制御、偏光多重通信等様々な光情報処
理装置を提供することである。
【0025】
【課題を解決するための手段】本発明の面発光レーザは
半導体基板上に活性層と前記活性層をはさむ光閉じ込め
層からなる中間層と、前記中間層の上下に第1及び第2
半導体多層反射膜とを有する面発光レーザにおいて、前
記第1半導体多層反射膜のみポスト構造を有し、前記第
1半導体多層反射膜の側面は1組の互いに平行な平面を
持ち、基板と平行な前記第1半導体多層反射膜の断面の
径は第2半導体反射膜の断面の径より小さく、かつ単一
横モード(0次モード)及び単一縦モード(0次モー
ド)で発振する大きさで、前記第1半導体多層反射膜の
断面を構成する辺の内、前記一組の互いに平行な平面上
にある辺が最も長いことを特徴とする。
【0026】本発明の面発光レーザは半導体周期的多層
膜からなる上下一組の分布反射型(DBR;Distr
ibuted Bragg Reflector)反射
鏡により垂直共振器を構成し、前記上下の反射鏡にはさ
まれた中間層が活性層と光閉じ込め層からなり、上部反
射鏡のみ側壁が基板に対して垂直、または垂直に近い角
度となるポスト構造を有し、ポスト構造の下部以外の活
性層が不活性領域を有し、前記ポスト構造の断面積は十
分小さく基本単一横モード(0次モード)及び単一縦モ
ードで発振する大きさで出射された光は直線偏光であ
り、基板に平行なポスト構造の断面は向かい合う一組の
平行な辺を有し、平行な辺は直線であり、平行な辺はそ
の向かい合う端点どうしを結んだ直線よりも長く、平行
な辺と同じかそれより長い直線は断面の中に存在なく、
直線とは直線及び光が直線と感じる程度に直線に類似し
た図形であることを特徴とする。
【0027】また前記上部反射鏡のポスト構造最下部と
活性層との距離が1波長程度であることを特徴とする。
【0028】本発明の面発光レーザアレイはモノリシッ
クな一つの面発光レーザアレイ内で各素子の偏光が任意
の方向に設定されていることを特徴とする。
【0029】また前記面発光レーザアレイの各面発光レ
ーザは、半導体基板上に活性層と前記活性層をはさむ光
閉じこめ層からなる中間層と、前記中間層の上下に第1
及び第2半導体多層反射膜とを有する面発光レーザであ
って、前記第1半導体多層反射膜のみポスト構造を有
し、前記第1半導体多層反射膜の断面は単一基本横モー
ドで発振する程度に小さく、前記ポスト構造の断面形状
が非等方的で横モード形状に異方性を与える形状で、前
記上部反射膜のポスト構造最下部と活性層との距離が光
学長1波長程度であり、前記ポストの方向が各素子ごと
に任意に設定されていることを特徴とする。
【0030】また前記面発光レーザアレイの各面発光レ
ーザは隣どうしで交互に偏光が90度異なることを特徴
とする。
【0031】また前記面発光レーザアレイの各面発光レ
ーザは偏光方向が30度づつずれていることを特徴とす
る。
【0032】また前記面発光レーザアレイは偏光方向の
揃った一群の面発光レーザアレイと、前記偏光方向の揃
った一群の面発光レーザアレイとは偏光方向が異なる一
個または数個の面発光レーザとを1単位とし、複数単位
のアレイ群で構成されることを特徴とする。
【0033】本発明の光インターコネクション装置は各
発光素子の偏光が任意の方向に設定されている面発光レ
ーザアレイと、前記面発光レーザアレイからの光を互い
の異なる偏光成分に分離する偏光素子とを有することを
特徴とする。
【0034】本発明の光インターコネクション装置は前
記面発光レーザアレイと、前記面発光レーザアレイから
の光を伝送用信号光と制御用信号光とに分割する偏光ビ
ームスプリッタとを有することを特徴とする。
【0035】また前記制御用信号光が面発光レーザアレ
イ用のモニター光であることを特徴とする。
【0036】本発明の自由空間光接続方法は面発光レー
ザアレイ内で各発光素子の偏光が任意の方向に設定さ
れ、前記面発光レーザから出射される光を偏光成分を分
割する偏光光学素子に入射させ、前記偏光方向の設定に
より個々の発光素子の光路決定を行うことを特徴とす
る。
【0037】本発明の立体映像ディスプレイ装置は偏光
が交互に90度異なるレーザマトリックスアレイを光源
に用いることを特徴とする。
【0038】本発明の光スイッチ網は互いに偏光方向が
90度異なり直線偏光を示す少なくとも2つのレーザ光
を出射する半導体レーザアレイと前記半導体レーザの各
々に対応した受光素子を有するスイッチノードと、前記
スイッチノードから出射された1偏光成分を反射させ光
路を変えて異なるスイッチノード内の受光素子へと導く
偏光反射手段とを有することを特徴とする。
【0039】本発明の偏光多重伝送装置は互いに偏光方
向が90度異なり直線偏光を示す少なくとも2つのレー
ザ光を出射する半導体レーザアレイと、前記2つのレー
ザ光を伝送する1本の光ファイバと、前記2つのレーザ
光を集光し前記1本のファイバへ導く光学素子とで構成
されることを特徴とする。
【0040】本発明の偏光シフトキーイング方式コヒー
レント光通信装置は面発光レーザアレイ内で各発光素子
の偏光方向が90度異なる直線偏光を示す2つのレーザ
光を交互に変調する光源を有することを特徴とする。
【0041】
【作用】例えばマックス ボルンとエミル ウォルフ
著、平川徹と横田英司訳「光学の原理I」(東海大学出
版会、1988年第6刷51〜73ページ)にあるよう
に一般に、平面での反射は平面に平行偏光は透過率が低
く、垂直な偏光は透過率が高い。従って、本発明のよう
な、断面に直線を有するポスト構造、すなわち側面に平
面を有するポスト構造では、側面に平行な偏光成分はポ
スト外へ光が透過することによる回折損失が小さい。逆
に、側面に垂直な偏光成分はポスト外へ光が透過するこ
とによる回折損失が大きい。その結果、平面側面に平行
な偏光が優勢となる。本来DBRを利用した垂直共振器
では、光は上下に往復し、ポスト側面での影響は小さ
い。しかし本発明ではポストサイズが基本横モードが得
られる程度に小さいので、ポスト側面での回折損失の影
響を受ける。さらに本発明では、上側DBRはポスト加
工され横方向の光閉じ込めがなされているが、下側のD
BR反射鏡は加工されていないために、光の横方向閉じ
込めが下部DBRで小さく光が広がる。その結果、往復
している光の進行方向に斜め成分があらわれるので、ポ
スト側面の回折損失の影響をより受け易くなる。
【0042】また、本発明では、ポスト構造の底部と活
性層との距離が光学長一波長程度と短いので、光強度が
強い位置において上記の平面側面の影響を及ぼすことが
可能となる。
【0043】本発明では面発光レーザの偏光方向を一方
の方向に設定することができるので、高密度、高精度の
モノリシックな半導体レーザアレイで、一つのアレイ内
の各素子の偏光方向を任意に設定できる半導体レーザア
レイを得ることができる。
【0044】また、偏光方向が任意なので偏光ビームス
プリッタ等の偏光依存光学部品との組み合わせで、さま
ざまな機能をもたせることが可能となる。
【0045】
【実施例】以下図面を用いて本発明の面発光レーザの実
施例を説明する。
【0046】図1に本発明の面発光レーザの実施例を示
す。上下2組のGaAs/AlAs半導体多層反射膜
2、6で共振器を形成し、基板に対して垂直方向に光を
出射するレーザである。中間層はInGaAs活性層3
とAlGaAs光閉じ込め層4よりなる。上側の、陽極
側半導体多層反射膜2は反応性イオンビームエッチング
により、ポスト形状に加工する。ポスト下部以外の活性
層3はプロトン注入により不活性化領域5に変性され
る。また下部陰極側半導体多層反射膜6まで貫いてエッ
チングを行い、そこに陰極7をとる。陽極1はポスト全
体を電極材で覆う。陰極7と陽極1間に電流を流し、レ
ーザ発振を行う。この面発光レーザの断面8を6μm ×
5μm の矩形とする。
【0047】この構造の面発光レーザでは、ポスト断面
のサイズが6.5μm ×6.5μmより小さくなると横
モード、縦モードともに単一モードとなり、直線偏光を
示す。例えば大久保勝彦著「ISDN自体の光ファイバ
技術(理工学社)1−17ページに示されているよう
に、シングルモード光ファイバの場合、単一モードが得
られたコア径9のサイズでは、図2に示すとおりモード
サイズ11がコア径9より少しだけ大きい状態である。
【0048】同様に本実施例では図3のように単一モー
ドが得られる程度にポスト径を小さくしているのでポス
ト構造により閉じ込められている光のモードサイズ11
はポストサイズ12より少しだけ大きい。そのためポス
ト側面の構造による影響を受け、ポスト形状による偏光
制御が有効に働く。
【0049】逆に従来例のような、単一モードの得られ
ない大きい径のポストではこのようなポスト側面の構造
による偏光制御は本質的に起こることはない。
【0050】本来単一モードでは光は直進するので側面
の影響は小さいが、実施例では上部のDBRのみ加工し
てあるため、下部のDBRには横方向に光を閉じ込める
要因が無い。従って図5のように光は下部で広がり斜め
成分を有するようになる。このためポスト側面の影響を
より受け易い構造となっている。
【0051】本発明のポスト断面8は矩形である。従っ
てポスト側面は平面で囲まれている。図5のようにポス
ト内13からポスト外14へ漏れる光はポスト側面の平
面17ではその面に垂直な偏光15の方が平行な偏光1
6より大きいことは上述のとおりである。
【0052】本実施例の6×5μm の矩形ポスト構造の
面発光レーザでは、長辺側18、短辺側19ともにその
辺に垂直な偏光15の損失が大きくなる。一方図6のよ
うに各辺からの損失の総計の比は単純に長さの比にほぼ
等しいので、長辺側18での、長辺に垂直な偏光の損失
が大きくなる。その結果短辺に垂直、すなわち長辺に平
行な偏光(短辺に垂直な偏光)が優勢となる。
【0053】本実施例で用いた構造の面発光レーザでは
KosakaらがIEEE フォトニクス テクノロジ
ー レターズ6巻323ページ(H.Kosaka e
tal.,IEEE Photonics Lette
rs 6,323,1994)に示したように一辺の長
さが6μm より小さくなると急激に回折損が増加する。
そのために損失を利用した本発明では、サイズを6μm
径を基準に小さくするのが非常に有効となる。
【0054】光のフィールドを考えると、図4に示すよ
うに活性層3がもっとも強く離れると弱くなる。従っ
て、実施例で最良の効果を得るためには、ポスト底部2
4と活性層3の距離が短いことが望ましい。しかし、近
すぎると、電流がポストの端だけを流れ中心部まで注入
されなくなってしまう。その結果レーザ発振のために高
注入を必要とするようになり、横モードが不安定にな
る。従ってこのポストと活性層の距離には最適値が存在
し、実施例で示した光学長1程度波長で良好な結果が得
られている。
【0055】図7に断面のサイズを6×6μm から6×
3.5μm まで0.25μm おきに変化させた面発光レ
ーザ8×8マトリックスアレイ(64素子)について、
偏光の方向の割合を示す。短辺のサイズが6μm から減
ると、一旦短辺に平行な偏光が増える。これは、例えば
阿部英太郎著「マイクロ波」(東京大学出版会:198
3年初版)54頁に記されている一般の矩形マイクロ導
波管でよく知られているように、もともと矩形導波路で
は基本モードの偏波は、図8のように短辺に平行になる
からである(図は導波管外への漏れ損失がない場合)。
しかも長辺と短辺のサイズがさほど変わらないところで
は、長辺と短辺、各々の辺に垂直な偏光の側面での損失
の差があまりないので偏光制御効果は小さく、矩形形状
による基本偏光方向が優勢となるためである。さらに短
辺の長を小さくしていくこと、長辺における側面での垂
直方向の偏光の損失が増すので、次第に長辺に平行な偏
光が優勢となり長辺に平行な偏光が残る。
【0056】また、活性層とポストとの距離の最適化を
はかることにより、ポスト部での光の場を強くし、損失
の影響を大きくすることができる。本実施例では5μm
以下で100%長辺に平行となり完全に偏光制御を実現
することができた。図7中で矩形形状が6×4.25μ
m のもので100%でなかったのは、素子の作成時に一
部のポスト形状を壊してしまったためと考えられる。
【0057】本発明の実施例の矩形以外のポスト構造の
断面を図9に示す。図に示したとおり本実施例のポスト
形状は矩形に限られたものではなく断面の中で最も長い
1組の辺が他の辺より長ければよい。
【0058】本実施例ではGaAs/AlAs系材料で
あったが、他の材料系でもかまわない。その場合、断面
サイズは、発振波長の光学長にともなって変化する。
【0059】また本実施例の基板に平行なポスト構造の
断面を構成する辺は光が直線と感じることができる範囲
内(1波長未満)であれば直線でなくともよい。
【0060】以下、図面を用いて本発明の面発光レーザ
アレイの実施例を説明する。
【0061】図11は本発明の面発光レーザアレイの第
1の実施例の配置を示したもので、個々の半導体レーザ
は上記実施例の面発光レーザを用いている。ポスト構造
を用いた屈折率導波型面発光レーザで、ポスト断面を基
本横モードが得られる6μm程度に十分小さくし、さら
に矩形形状にすることで偏光を一方向に規定させてい
る。
【0062】基板は研磨により100μm の厚さ、ドー
ピングは電極コンタクト部は4×1018cm-3半導体多層
反射膜は1×1018cm-3以下となっている。この矩形ポ
ストを図11に示すように隣どうしで90度異なるよう
に配置している。
【0063】図12は本発明のアレイ内の偏光方向を示
す図である。図12に示す通り偏光方向2は125μm
ピッチの8×8の64マトリックスアレイ内で交互にほ
ぼ90度異なる偏光が得られている。
【0064】このアレイに対して図13に示すようなフ
ァイバアレイ103を結合する場合、偏光子をレーザア
レイとファイバアレイの間に挟むことで、クロストーク
を大幅に削減できるので、ファイバとレーザの位置ずれ
の許容度を少なくとも21/2倍にすることができる。
【0065】図14に本発明の面発光レーザアレイの第
2の実施例を示す。
【0066】図14は面発光レーザアレイの第1の実施
例で用いた矩形ポストの面発光レーザを偏光方向を30
度ずつずらした面発光レーザアレイである。このとき、
偏光子を通過させると、透過光強度は最初のレーザ光の
出力に対してcos30度、cos60度、cos90
度、すなわち0.87、0.5、0倍となるので、特別
な駆動回路を必要とせずにアレイ内の光強度を変化させ
ることができる。
【0067】本実施例では矩形ポストの面発光レーザの
偏光方向のずれ角を30度としたが、これに限られるこ
とはなく、例えば15度づつであればcos15、co
s30、cos45、・・・、cos90倍すなわち
0.97、0.87、0.7、・・・、0倍とすること
ができる。
【0068】以下、本発明の面発光レーザアレイを適用
した光情報処理装置の例を示す。
【0069】図15に本発明の面発光レーザアレイを適
用した光インターコネクションの第1の実施例を示す。
【0070】図15において、光源の構成は8個の縦偏
光レーザ123からなる伝送信号用アレイに、1つの横
偏光レーザ120からなる制御信号用のレーザを加えて
1単位とし、これを並列に8個並べられている。光源か
ら出射された光は偏光ビームスプリッタ(PBS)11
8において、伝送信号用アレイからのレーザ光は透過
し、伝送用信号光122と偏光方向が90度異なる制御
用信号光123は別個に取り出される。半導体レーザの
駆動は8素子からなる伝送信号用アレイ1列ごとにまと
めて行っている。制御信号としては、その列が伝送中で
あることを示す信号等の集中管理に使われる信号として
送信される。
【0071】図16に本発明の面発光レーザアレイを適
用した光インターコネクションの第2の実施例を示す。
【0072】本実施例の面発光レーザアレイでは9個の
レーザアレイからなる1列を同時に駆動している。この
うちの真ん中の1素子のみ偏光方向を15度ずらしてモ
ノリシックに形成されている。これにより偏光ビームス
プリッタ(PBS)118により約3%の光出力を分離
でき、分離されたAPC用モニタ光125を自動出力制
御装置(APC:Auto Power Contro
ller)のモニタ光に用いている。
【0073】図17に本発明の面発光レーザアレイを適
用した光インターコネクションの第3の実施例を示す。
【0074】本実施例の面発光レーザアレイでは中央の
2素子の偏光方向を45度ずらしたレーザアレイが形成
されている。偏光ビームスプリッタ(PBS)118に
より横偏光レーザ120の出力光はPBS118上部へ
分離され、また縦偏光レーザ123の出力光は偏光ビー
ムスプリッタ118を透過する。また45度偏光レーザ
133の出力光は透過及びPBS上部への反射に二等分
され異なる偏光方向ごとの1/2強度光134に分離さ
れる。
【0075】この実施例では列ごとの偏光設定で、1段
階であるが、個々の素子ごとの設定や多段階の接続を行
うことにより光インターコネクションにおいて更に複雑
な自由空間光路決定が実現することは言うまでもない。
【0076】図18に本発明の面発光レーザアレイを適
用した立体映像ディスプレイ装置の実施例を示す。
【0077】本発明の立体映像ディスプレイ装置の発光
部135はレーザマトリックスアレイ136で構成され
ていて個々の素子は偏光方向が互いに垂直になるように
配置され、レーザ駆動回路は個々の素子ごとにマトリッ
クスアレイ状に作りつけられている。
【0078】例えば右視野像を縦の偏光、左視野像を横
の偏光で表示することにより、偏光メガネを用いて立体
映像を見ることができる。本発明の面発光レーザアレイ
を用いることにより従来必要であったマトリックス状の
偏光フィルタを用いないで済み、よって偏光フィルタで
の光吸収によるフィルタの熱劣化とスクリーンの明度の
低下を防ぐことができる。
【0079】図19に本発明の光スイッチ網である4×
4のシャッフル網の実施例を示す。
【0080】図19においてスイッチノード119は、
紙面に平行な偏光115を出射する面発光レーザと紙面
に垂直な偏光116を出射する面発光レーザ及びそれぞ
れの半導体レーザに対応する図示していないフォトディ
テクタを1単位として構成されている。
【0081】上記構成のスイッチノード119が4行3
列に配置されていて、スイッチノード119とスイッチ
ノード119間には偏光ビームスプリッタ(PBS)1
18が配置されているものと、偏光ビームスプリッタ1
18と全反射鏡117が配置されているものがあり、偏
光ビームスプリッタ118により対面するスイッチノー
ド119の隣のスイッチノード119へレーザ光を入射
させている。また全反射鏡117により、対面するスイ
ッチノード119の2つ隣のスイッチノード119へと
レーザ光を入射させている。
【0082】本実施例では光路の振り分けが、2つの偏
光方向が異なる半導体レーザに対して1つの偏光ビーム
スプリッタ118、もしくは1つの偏光ビームスプリッ
タ118と全反射鏡117の組み合わせからなる単純な
光学系で構成することができる。
【0083】本実施例ではスイッチノードのレーザの数
を2つとしたが、これに限られるわけではなく2つ以上
でも可能である。
【0084】本実施例では紙面平行方向の光スイッチ網
であるが、これに加えて紙面垂直方向にも光スイッチ網
を構成することができる。
【0085】図20に本発明の偏光多重伝送装置の実施
例を示す。
【0086】光源は紙面に平行な偏光115を出射する
半導体レーザ及び紙面に垂直な偏光116を出射する半
導体レーザで構成されている。各々の半導体レーザから
出射された光はPML(平行平板レンズ)126により
それぞれコリメートされ、さらに集光用凸レンズで集光
されてシングルモードファイバ(SMF:Single
Mode Fiber)128へ入射している。SM
F128では偏光の直交関係が維持されるので、偏光方
向が90度異なる偏光を有する2個のレーザを別々に変
調し、一本のSMF128により偏光多重伝送が行え
る。
【0087】SMF128伝送中に直線偏光ではなくな
るが、直交関係は保持されるので、受信側にソレイユバ
ビネ位相補償板129を通すことで元の2つの直線偏光
に直せ、更に偏光ビームスプリッタ118により分離さ
れ、フォトディテクタ130で受光している。
【0088】図21に本発明の光通信装置の実施例を示
す。本実施例では2つのレーザ素子を用いた偏光シフト
キーイング(polarization shift
keying)伝送装置を例として用いた。
【0089】コヒーレント光通信の一種である偏光シフ
トキーイング伝送では従来、送信側の信号変調は液晶を
用いた偏光変調素子を用いている。液晶を用いた偏光変
調素子を用いた場合、変調速度はせいぜい1000bi
s/sと遅く、光情報処理の高速化の問題となってい
た。
【0090】これに対し、本発明では偏光が互いに垂直
な2つの半導体レーザよりなるレーザアレイを、交互に
光らせて変調を行うので、個々のレーザの変調速度が数
Gbit/sと速く、高速変調が可能である。
【0091】シングルモードファイバ(SMF)128
を伝搬後、合流器32により局地光131と合流させ、
偏光ビームスプリッタ118を通過後それぞれフォトデ
ィテクタ130でうなり成分を検出することで偏光シフ
トキーイング方式の伝送を行っている。
【0092】
【発明の効果】本発明の面発光レーザは偏光制御を完全
に行うことができるので素子どうしの偏光をそろえるた
めの偏光素子等の光学素子を用いなくても光コンピュー
ティングや光通信等に適用でき、システムを簡素化する
ことができる。
【0093】本発明に示した偏光方向が任意に設定され
たレーザアレイを用いることにより、偏光多重伝送装
置、自由空間光路決定方法等様々な機能が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図1】矩形断面を有する面発光レーザの構造を示す図
である。
【図2】シングルモードファイバにおけるコア径とモー
ドサイズの関係を示す図である。
【図3】矩形断面ポストにおけるポストサイズとモード
サイズの関係を示す図である。
【図4】ポスト側面における漏れ損失の偏光依存性を説
明するための図である。
【図5】損失の総計は長辺側で多いことを示す図であ
る。
【図6】面発光レーザ垂直断面での光のフィールドの形
状を示す図である。
【図7】偏波の割合のポストサイズ依存性を示す図であ
る。
【図8】矩形導波管での基本モードの偏波方向を示す図
である。
【図9】本発明に適用できる、矩形以外の断面形状の例
を示す図である。
【図10】従来の面発光レーザの断面形状を示す図であ
る。
【図11】交互に90度異なる偏光を有する本発明の面
発光レーザマトリックスアレイを示す図である。
【図12】図11に示されたレーザアレイの偏光方向を
示す図である。
【図13】二次元ファイバアレイを示す図である。
【図14】30度ずつ異なる偏光を有する本発明の面発
光レーザアレイを示す図である。
【図15】8個の伝送用レーザと1個の偏光方向の異な
る制御用レーザの1次元アレイの列からなるレーザマト
リックスアレイを示す図である。
【図16】9個のレーザのうち1個をAPC用モニタ光
として用いるレーザの1次元アレイの列からなるレーザ
マトリックスアレイを示す図である。
【図17】偏光を列ごとに設定したレーザマトリックス
アレイを用いた自由空間光路決定を示す図である。
【図18】交互に垂直な偏光を有するレーザマトリック
スアレイを用いた立体ディスプレイ装置を示す図であ
る。
【図19】垂直な偏光を有するアレイを光源に用いた本
発明の4×4シャッフル網を示す図である。
【図20】本発明の偏光多重伝送を示す図である。
【図21】垂直な偏光を有する1アレイを光源に用いた
本発明の偏光シフトキーイング方式の光伝送装置を示す
図である。
【図22】従来のモノリシックな端面出射型ストライプ
レーザアレイを示す図である。
【図23】ポスト構造を有する面発光レーザを示す図で
ある。
【符号の説明】
1 陽極 2 ポスト状陽極側多層反射膜 3 InGaAs活性層 4 光閉じ込め層 5 イオン注入による不活性化領域 6 陰極側半導体多層反射膜 7 陰極 8 面発光レーザ断面 9 コア 10 クラッド 11 モードサイズ 12 ポストサイズ 13 ポスト内 14 ポスト外 15 側面に垂直な偏光 16 側面に平行な偏光 17 ポスト側面 18 長辺 19 短辺 20 ポスト断面 21 長辺で損失が多い長辺に垂直な偏光 22 短辺で損失が多い短辺に垂直な偏光 23 光のフィールド 24 ポスト構造底面 25 矩形導波管 26 偏波方向 101 矩形ポスト 102 偏光方向 103 光ファイバアレイ 104 電極 105 酸化シリコン 106 メサストライプ 107 活性層 108 陽極 109 陽極側半導体多層反射膜 110 InGaAs活性層 111 光閉じこめ層 112 不活性化領域 113 陰極側半導体多層膜 114 陰極 115 紙面に平行な偏光 116 紙面に垂直な偏光 117 全反射鏡 118 偏光ビームスプリッタ 119 スイッチノード 120 横偏光レーザ 121 制御用信号光 122 伝送用信号光 123 縦偏光レーザ 124 15度偏光レーザ 125 APC(Auto Power Contro
ller)用モニタ光 126 PML(Planar Micro Len
s) 127 集光用凸レンズ 128 SMF(Single Mode Fibe
r) 129 バビネーソレイユ位相補償板 130 PD(Photo Detector) 131 局地光 132 合流器 133 45度偏光レーザ 134 1/2強度光 135 発光部 136 偏光が交互に垂直なレーザマトリックスアレイ

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】半導体基板上に活性層と前記活性層をはさ
    む光閉じ込め層からなる中間層と、前記中間層の上下に
    第1及び第2半導体多層反射膜とを有する面発光レーザ
    において、前記第1半導体多層反射膜のみポスト構造を
    有し、前記第1半導体多層反射膜の側面は1組の互いに
    平行な平面を持ち、基板と平行な前記第1半導体多層反
    射膜の断面の径は第2半導体反射膜の断面の径より小さ
    く、かつ単一横モード(0次モード)及び単一縦モード
    (0次モード)で発振する大きさで、前記第1半導体多
    層反射膜の断面を構成する辺の内、前記一組の互いに平
    行な平面上にある辺が最も長いことを特徴とする面発光
    レーザ。
  2. 【請求項2】半導体周期的多層膜からなる上下一組の分
    布反射型(DBR;Distributed Brag
    g Reflector)反射鏡により垂直共振器を構
    成し、前記上下の反射鏡にはさまれた中間層が活性層と
    光閉じ込め層からなり、上部反射鏡のみ側壁が基板に対
    して垂直、または垂直に近い角度となるポスト構造を有
    し、ポスト構造の下部以外の活性層が不活性領域を有
    し、前記ポスト構造の断面積は十分小さく基本単一横モ
    ード(0次モード)及び単一縦モードで発振する大きさ
    で出射された光は直線偏光であり、基板に平行なポスト
    構造の断面は向かい合う一組の平行な辺を有し、平行な
    辺は直線であり、平行な辺はその向かい合う端点どうし
    を結んだ直線よりも長く、平行な辺と同じかそれより長
    い直線は断面の中に存在なく、直線とは直線及び光が直
    線と感じる程度に直線に類似した図形であることを特徴
    とする面発光型レーザ。
  3. 【請求項3】前記上部反射鏡のポスト構造最下部と活性
    層との距離が1波長程度であることを特徴とする請求項
    1記載の面発光型レーザ。
  4. 【請求項4】モノリシックな一つの面発光レーザアレイ
    内で各素子の偏光が任意の方向に設定されていることを
    特徴とする面発光レーザアレイ。
  5. 【請求項5】前記面発光レーザアレイの各面発光レーザ
    は、半導体基板上に活性層と前記活性層をはさむ光閉じ
    こめ層からなる中間層と、前記中間層の上下に第1及び
    第2半導体多層反射膜とを有する面発光レーザであっ
    て、前記第1半導体多層反射膜のみポスト構造を有し、
    前記第1半導体多層反射膜の断面は単一基本横モードで
    発振する程度に小さく、前記ポスト構造の断面形状が非
    等方的で横モード形状に異方性を与える形状で、前記上
    部反射膜のポスト構造最下部と活性層との距離が光学長
    1波長程度であり、前記ポストの方向が各素子ごとに任
    意に設定されていることを特徴とする請求項4記載の面
    発光レーザアレイ。
  6. 【請求項6】前記面発光レーザアレイの各面発光レーザ
    は隣どうしで交互に偏光が90度異なることを特徴とす
    る請求項4記載の面発光レーザアレイ。
  7. 【請求項7】前記面発光レーザアレイの各面発光レーザ
    は偏光方向が30度づつずれていることを特徴とする請
    求項4記載の面発光レーザアレイ。
  8. 【請求項8】前記面発光レーザアレイは偏光方向の揃っ
    た一群の面発光レーザアレイと、前記偏光方向の揃った
    一群の面発光レーザアレイとは偏光方向が異なる一個ま
    たは数個の面発光レーザとを1単位とし、複数単位のア
    レイ群で構成されることを特徴とする請求項4記載の面
    発光レーザアレイ。
  9. 【請求項9】各発光素子の偏光が任意の方向に設定され
    ている面発光レーザアレイと、前記面発光レーザアレイ
    からの光を互いの異なる偏光成分に分離する偏光素子と
    を有することを特徴とする光インターコネクション装
    置。
  10. 【請求項10】請求項8に記載の前記面発光レーザアレ
    イと、前記面発光レーザアレイからの光を伝送用信号光
    と制御用信号光とに分割する偏光ビームスプリッタとを
    有することを特徴とする光インターコネクション装置。
  11. 【請求項11】前記制御用信号光が面発光レーザアレイ
    用のモニター光であることを特徴とする請求項10記載
    の光インターコネクション装置。
  12. 【請求項12】面発光レーザアレイ内で各発光素子の偏
    光が任意の方向に設定され、前記面発光レーザから出射
    される光を偏光成分を分割する偏光光学素子に入射さ
    せ、前記偏光方向の設定により個々の発光素子の光路決
    定を行うことを特徴とする自由空間光接続方法。
  13. 【請求項13】偏光が交互に90度異なるレーザマトリ
    ックスアレイを光源に用いることを特徴とする立体映像
    ディスプレイ装置。
  14. 【請求項14】互いに偏光方向が90度異なり直線偏光
    を示す少なくとも2つのレーザ光を出射する半導体レー
    ザアレイと前記半導体レーザの各々に対応した受光素子
    を有するスイッチノードと、前記スイッチノードから出
    射された1偏光成分を反射させ光路を変えて異なるスイ
    ッチノード内の受光素子へと導く偏光反射手段とを有す
    ることを特徴とする光スイッチ網。
  15. 【請求項15】互いに偏光方向が90度異なり直線偏光
    を示す少なくとも2つのレーザ光を出射する半導体レー
    ザアレイと、前記2つのレーザ光を伝送する1本の光フ
    ァイバと、前記2つのレーザ光を集光し前記1本のファ
    イバへ導く光学素子とで構成されることを特徴とする偏
    光多重伝送装置。
  16. 【請求項16】面発光レーザアレイ内で各発光素子の偏
    光方向が90度異なる直線偏光を示す2つのレーザ光を
    交互に変調する光源を有することを特徴とする偏光シフ
    トキーイング方式コヒーレント光通信装置。
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Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10223973A (ja) * 1997-02-07 1998-08-21 Fuji Xerox Co Ltd 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法
JP2004128524A (ja) * 2004-01-29 2004-04-22 Fuji Xerox Co Ltd 面発光型半導体レーザ装置の製造方法
JP2005086170A (ja) * 2003-09-11 2005-03-31 Seiko Epson Corp 面発光型半導体レーザおよびその製造方法
WO2006011370A1 (ja) * 2004-07-30 2006-02-02 Nec Corporation 偏光変調レーザ装置
EP2120303A3 (en) * 2008-05-13 2010-09-29 Ricoh Company, Ltd. Surface-emitting laser, surface-emitting laser array, optical scanning device, and image forming apparatus
JP2013030735A (ja) * 2011-06-24 2013-02-07 Ricoh Co Ltd 面発光レーザアレイ及び画像形成装置
US8477821B2 (en) 2010-01-25 2013-07-02 Fuji Xerox Co., Ltd. Vertical cavity surface emitting laser, vertical cavity surface emitting laser device, and optical transmission device
WO2015162767A1 (ja) * 2014-04-24 2015-10-29 Necディスプレイソリューションズ株式会社 レーザー光源、レーザー光源を備えたプロジェクタ、レーザー光源製造方法
JP2018189772A (ja) * 2017-05-01 2018-11-29 富士通株式会社 光モジュール及び光トランシーバ
WO2022167594A1 (de) * 2021-02-05 2022-08-11 Ams-Osram International Gmbh Laserdiodenanordnung, beleuchtungseinheit und laserprojektionsvorrichtung

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008028120A (ja) 2006-07-20 2008-02-07 Sumitomo Electric Ind Ltd 面発光型半導体素子
JP4992503B2 (ja) 2007-03-27 2012-08-08 ソニー株式会社 面発光型半導体レーザおよびその製造方法
JP5316783B2 (ja) 2008-05-15 2013-10-16 株式会社リコー 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置
JP5316784B2 (ja) 2008-06-11 2013-10-16 株式会社リコー 面発光レーザ素子、面発光レーザアレイ、光走査装置及び画像形成装置
JP5326677B2 (ja) 2009-03-09 2013-10-30 ソニー株式会社 半導体レーザおよびその製造方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04234183A (ja) * 1990-12-28 1992-08-21 Nec Corp 面型光半導体素子
JPH05251819A (ja) * 1991-12-27 1993-09-28 American Teleph & Telegr Co <Att> 電子ビーム蒸着多層ミラーを有する光デバイス
JPH0637300A (ja) * 1992-07-15 1994-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光集積回路
JPH0637299A (ja) * 1992-07-15 1994-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光集積回路
JPH06283818A (ja) * 1993-01-28 1994-10-07 Seiko Epson Corp 面発光型半導体レーザ

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04234183A (ja) * 1990-12-28 1992-08-21 Nec Corp 面型光半導体素子
JPH05251819A (ja) * 1991-12-27 1993-09-28 American Teleph & Telegr Co <Att> 電子ビーム蒸着多層ミラーを有する光デバイス
JPH0637300A (ja) * 1992-07-15 1994-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光集積回路
JPH0637299A (ja) * 1992-07-15 1994-02-10 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 光集積回路
JPH06283818A (ja) * 1993-01-28 1994-10-07 Seiko Epson Corp 面発光型半導体レーザ

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10223973A (ja) * 1997-02-07 1998-08-21 Fuji Xerox Co Ltd 面発光型半導体レーザ装置およびその製造方法
JP2005086170A (ja) * 2003-09-11 2005-03-31 Seiko Epson Corp 面発光型半導体レーザおよびその製造方法
US7486713B2 (en) 2003-09-11 2009-02-03 Seiko Epson Corporation Surface-emitting type semiconductor laser and method for manufacturing the same
JP2004128524A (ja) * 2004-01-29 2004-04-22 Fuji Xerox Co Ltd 面発光型半導体レーザ装置の製造方法
WO2006011370A1 (ja) * 2004-07-30 2006-02-02 Nec Corporation 偏光変調レーザ装置
EP2120303A3 (en) * 2008-05-13 2010-09-29 Ricoh Company, Ltd. Surface-emitting laser, surface-emitting laser array, optical scanning device, and image forming apparatus
US8477821B2 (en) 2010-01-25 2013-07-02 Fuji Xerox Co., Ltd. Vertical cavity surface emitting laser, vertical cavity surface emitting laser device, and optical transmission device
JP2013030735A (ja) * 2011-06-24 2013-02-07 Ricoh Co Ltd 面発光レーザアレイ及び画像形成装置
WO2015162767A1 (ja) * 2014-04-24 2015-10-29 Necディスプレイソリューションズ株式会社 レーザー光源、レーザー光源を備えたプロジェクタ、レーザー光源製造方法
US9882345B2 (en) 2014-04-24 2018-01-30 Nec Display Solutions, Ltd. Laser light source, projector provided with laser light source, and method for manufacturing laser light source
JP2018189772A (ja) * 2017-05-01 2018-11-29 富士通株式会社 光モジュール及び光トランシーバ
WO2022167594A1 (de) * 2021-02-05 2022-08-11 Ams-Osram International Gmbh Laserdiodenanordnung, beleuchtungseinheit und laserprojektionsvorrichtung

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