JPH08160424A

JPH08160424A - プラスチック液晶パネル用透明導電性転写箔

Info

Publication number: JPH08160424A
Application number: JP33111794A
Authority: JP
Inventors: Hitoshi Oike; 均尾池; Hiroshi Hatakeyama; 弘畠山
Original assignee: Oike and Co Ltd
Current assignee: Oike and Co Ltd
Priority date: 1994-12-08
Filing date: 1994-12-08
Publication date: 1996-06-21
Anticipated expiration: 2019-12-22
Also published as: JP3604436B2

Abstract

(57)【要約】【目的】従来、長尺ロール状の連続加工が困難であっ
たプラスチック液晶パネル用のシート面に、高品質、高
生産性、低コストで、ガスバリア層、ハードコート層、
反射防止層、透明導電性層等を形成できる透明導電性転
写箔を提供する。【構成】プラスチックフィルムに直接または離型層を
介して、少なくとも透明導電性層および接着層を順次形
成した。【効果】枚葉処理によってしか得られなかったプラス
チックシートを用いたプラスチック液晶パネルを高品
質、高生産性、低コストで、かつ安定的に生産できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、割れにくく、薄く、軽
量なプラスチック液晶パネルに透明導電性層を形成する
のに用いる透明導電性転写箔に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶表示用デバイスとして液晶パ
ネルは益々重要になってきている。特に小型情報機器向
けは、携帯性の向上、落下や外押圧ストレスに対する耐
衝撃性の向上が重要な課題である。またテレビジョンを
はじめ航空機、船舶等の運航に必要な各種の計器盤、操
作盤等にも大型化した液晶表示用デバイスの実用化が待
たれている。

【０００３】ところが現状の液晶パネルは、通常ガラス
板基板を使っていて、薄型軽量化の為にガラス板基板を
薄くすると割れやすくなるという問題点があった。その
上、枚葉にて加工するので生産性が低く、コスト高にな
るという問題点もあった。

【０００４】本発明では、「プラスチック」という用語
には「ポリマー」をも含む用語として使用する。

【０００５】またプラスチックシート基板をガラス板基
板のかわりに用いる事も試みられているが、枚葉にて加
工するので生産性が低く、コスト高になるという問題点
は解決していない。

【０００６】また割れない、軽いという特性を生かした
プラスチックフィルム基板を使ったプラスチック液晶パ
ネルも種々提案されているが、光学特性、耐熱性、加工
性、ガスバリア性等の要求特性を全て満足するものは未
だ実用化されていない。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ガラス板基板やプラス
チックシート基板を使った液晶パネルは、ガラス板基板
やプラスチックシート基板上に枚葉で透明導電性層を真
空蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。またプ
ラスチックフイルム基板を使ったプラスチック液晶パネ
ルには、従来、主としてプラスチックフィルム基板上に
透明導電性層をロール搬送系を有し連続処理できる真空
蒸着法、スパッタリング法等で形成していた。

【０００８】然しながら、前者の方法ではガラス板基板
やプラスチックシート基板を枚葉にて加工する事による
生産性の低さ、即ちコスト高という問題点があった。ま
たプラスチックフィルム基板を使用した後者の方法で
は、ガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等を形
成する後加工工程で、フィルム基板を連続的に搬送させ
るロールでの摩擦等により透明導電性層に傷がつき、導
電性が損なわれるという問題点があった。

【０００９】一方、ガスバリア層、ハードコート層、反
射防止層を形成したあと、透明導電性層を形成する場合
には、反射防止層に傷がつき、外観が損なわれるという
問題点があった。またプラスチックフィルム基板をガラ
ス板基板と同様に枚葉で加工する方法もあるが、生産性
の低さ、即ちコスト高という問題点があった。

【００１０】更に枚葉にて加工する真空蒸着装置、スパ
ッタリング装置ではガラス板基板、プラスチックフィル
ム基板等が大型化するほど生産性が低く、コスト高にな
る傾向が一層顕著になり、また透明導電性層等の物性、
膜厚等の均一なものが形成しにくくなるという問題点が
あった。

【００１１】本発明は、上記のような種々の問題点を解
決する事、即ち連続したプラスチックフィルムを使用し
て連続処理方法により生産性が向上でき、コストが低減
でき、しかもガスバリア層、ハードコート層、反射防止
層、透明導電性層の何れもが損傷を受ける事がない、プ
ラスチック液晶パネル用の透明導電性転写箔を提供する
事を目的とする。

【００１２】

【課題を解決する為の手段】本発明は、予めプラスチッ
クシート基板の片面にガスバリア層、ハードコート層、
反射防止層等が形成されているプラスチック液晶パネル
用基材の他の片面に透明導電性を付与するのに適した透
明導電性転写箔を転写方式により転写するという手段を
採用する事により、上記目的を達成する事に成功した。

【００１３】本発明の透明導電性転写箔は、フレキシブ
ルなプラスチックフィルム(11)に直接または離型層(12)
を介して、透明導電性層(13)及び接着層(14)を順次形成
し、要すればガスバリア層(15)を形成する。これらの層
はプラスチックフィルムを連続的に搬送する装置を備え
た真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーティング装
置等を用いて大量に、容易に、品質良く、安価に形成す
る事が可能である。

【００１４】本発明の透明導電性転写箔を、前記のプラ
スチックシート基板に熱転写方式で転写する事により、
プラスチック液晶パネルに傷をつける事なく、透明導電
性層(13)を形成する事ができる。尚、本発明の透明導電
性転写箔は、前記プラスチックシート基板に限らず、こ
れよりも薄いプラスチックフィルム基板の片面にガスバ
リア層、ハードコート層、反射防止層等が形成されてい
るプラスチック液晶パネル用基材に適用する事もでき
る。また逆に厚いプラスチック板基板やガラス板基板の
片面にガスバリア層、ハードコート層、反射防止層等が
形成されている液晶パネル用基材に適用する事もでき
る。

【００１５】

【作用】本発明の透明導電性転写箔は、プラスチックシ
ート基板のような従来法ならば枚葉で透明導電層を真空
蒸着法、スパッタリング法等で形成しなければならなか
ったプラスチック液晶パネル用基板にも、長尺のロール
巻きプラスチックフィルム(11)にロール搬送系を有し連
続処理できる真空蒸着装置、スパッタリング装置、コー
ティング装置で生産性よく、ロー・コストで所望層を形
成した本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性転
写箔を枚葉式の汎用転写機を用いて、効率よく、しかも
すべての層に損傷を与える事なく、所望層を全面に或は
所望の部位に所望のパターンに転写形成する事ができ
る。

【００１６】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導
電性転写箔において用いるプラスチックフィルム(11)と
しては、特に制限はなく、例えばポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート、ポリエチレンテレフタレート−イソフタレ
ート共重合体等のポリエステル系をはじめ、ポリカーボ
ネート系、ポリアミド系、ポリオレフィン系等のプラス
チックフィルムがあげられる。また、これらのプラスチ
ックは２種またはそれ以上のものがブレンドされていて
もよく、例えばポリエチレンテレフタレートにポリエチ
レンテレフタレート−イソフタレート共重合体がブレン
ドされていてもよい。更にまた、これらのプラスチック
フィルムが２種またはそれ以上のものが積層された複層
フイルムであってもよい。

【００１７】更に、これらのプラスチックフィルム(11)
の表面は各種の表面処理が施されていてもよい。特に透
明導電性層(13)との剥離性を増す為に真空中でフッ素系
化合物を用いて表面をプラズマ処理する方法、大気中で
高温の熱処理を行いプラスチックフィルムの表面にオリ
ゴマーを滲出す方法、窒素ガス雰囲気中で電子線を照射
しプラスチックフィルム表面を変質させる方法、プラス
チックフィルムの製膜工程において、アクリル樹脂系、
ポリビニルアルコール系、ポリオレフィン系等の異種プ
ラスチックフィルムを積層し、表面を改質する方法等が
用いられる。

【００１８】上記のプラスチックフィルム(11)は二軸延
伸されたものが好適である。また厚さとしては、特に制
限はなく、例えば通常９〜７５μｍの範囲、好ましくは
１２〜３８μｍの範囲から適宜選択使用される。

【００１９】プラスチックフィルム(11)の厚さが９μｍ
以下の場合には、プラスチックフィルムに皺、カール等
の欠点が発生し易く、取り扱いにくいので好ましくな
い。一方、７５μｍ以上の場合には熱転写時の熱伝導が
遅く、転写の作業性が劣るので好ましくなく、またプラ
スチックフィルムの剛性が強い為、搬送中に擦り傷が入
りやすく好ましくない。

【００２０】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導
電性転写箔における離型層(12)は、透明導電性層(13)と
の界面において容易に剥離する事が一つの要件である。
離型層を構成する樹脂としては、特に制限はなく、例え
ばエポキシ−メラミン樹脂、アクリル−メラミン樹脂、
メラミン樹脂、尿素樹脂、尿素−メラミン樹脂、シリコ
ーン樹脂、アクリル−シリコーン樹脂、フッ素樹脂等が
あげられる。これらの樹脂の１種またはそれ以上の樹脂
の有機溶剤溶液、エマルジョン等のコーティング剤をロ
ールコーティング法、グラビアコーティング法等の通常
コーティング法によりプラスチックフィルム(11)上に塗
布し、溶媒を乾燥（熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、
紫外線硬化性樹脂等の場合は硬化）する事によって形成
する。

【００２１】離型層(12)の厚さとしては、特に制限はな
く、例えば通常０．１〜１０μｍの範囲、好ましくは
０．２〜５μｍの範囲から適宜選択使用される。

【００２２】離型層(12)の厚さが０．１μｍより薄い場
合には、剥離が重く目的とする剥離性を得る事ができな
いので好ましくない。一方、１０μｍより厚い場合には
剥離が軽すぎる為に、順次形成する層が加工工程中で脱
落する可能性があるので好ましくない。

【００２３】また、離型層(12)は、次の方法によっても
形成する事ができる。水酸基、エーテル基、カルボキシ
ル基、アミノ基等を１個以上有する水溶性有機物質、例
えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等
のビニル系水溶性樹脂、メチルセルロース、カルボキシ
ルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒ
ドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロ
ース等の繊維素エーテル系樹脂、アクリル酸ソーダ、ア
クリル酸アンモニウム等のアクリル酸系水溶性物質、澱
粉、デキストリン、ニカワ、ゼラチン等の天然水溶性物
質、カゼイン、カゼイン酸ソーダ、カゼイン酸アンモニ
ウム等のタンパク質系水溶性物質、その他ポリエチレン
オキサイド、カラギーナン、グルコマンガン等の１種ま
たはそれ以上の物質の水溶液のコーティング剤をロール
コーティング法、グラビアコーティング法等の通常コー
ティング法によりプラスチックフィルム(11)上に塗布
し、乾燥する事によって形成される。

【００２４】これらの水溶性離型層(12)を形成した場合
は、その上に透明導電性層(13)、接着層(14)を順次形成
し、プラスチック液晶パネルに転写したのち、水溶性離
型層と透明導電性層との界面において剥離ができず、プ
ラスチックフィルムと水溶性離型層の間で剥離して、水
溶性離型層が残っても水洗によって水溶性離型層を完全
に除去する事により所望の透明導電性層を露出する事が
できる。

【００２５】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導
電性転写箔における透明導電性層(13)は導電性を有し、
かつ薄膜形成時に透明性を有するものである。透明導電
性層を構成する材料としては、特に制限はなく、例え
ば、金、パラジウム等の金属、酸化インジウム、酸化
錫、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化
錫系、酸化インジウム−酸化亜鉛系、酸化亜鉛−酸化ア
ルミニウム系、酸化インジウム−酸化ガリウム系等の金
属酸化物があげられる。特に好ましくは酸化インジウム
−酸化錫を真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ
ーティング法等によって形成した透明導電性層である。

【００２６】透明導電性層(13)の厚さとしては、特に制
限はなく、例えば通常５０〜１０００Åの範囲、表面電
気抵抗値として通常１０Ω／□〜１０⁴ Ω／□の範囲、
好ましくは２０Ω／□〜５００Ω／□の範囲から適宜選
択実施される。また透明導電性層の光線透過率は波長５
５０ｎｍでの平行光線透過率で通常６０〜９５％の範
囲、好ましくは８０〜９５％の範囲から適宜選択実施さ
れる。

【００２７】表面電気抵抗値が、１０Ω／□以下の場合
にはプラセルの誤動作を生じたり、精度が悪くなるので
好ましくない。一方、１０⁴ Ω／□以上の場合にはプラ
セルの作動時間にタイムラグが生じるので好ましくな
い。また、光線透過率が６０％以下になるとプラセルの
表示が著しく見にくくなるので好ましくない。

【００２８】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導
電性転写箔における接着層(14)は、透明性、耐熱性、接
着性が良好なものであれば、特に制限はない。接着層を
構成する樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボ
ネート系、ポリアミド系、セルロース系等の樹脂及びこ
れらの変性物の１種または２種以上の混合物からなる樹
脂があげられる。

【００２９】接着層(14)は、前記樹脂を有機溶剤に溶解
したコーティング剤をグラビアコーティング法、リバー
スロールコーティング法等で前記透明導電性層(13)上に
塗布乾燥して形成する。

【００３０】また、ポリアミド系、ポリエステル系等の
ホットメルト接着剤で接着層(14)を形成する場合には、
ホットメルト用コーターや、押出コーティング装置を用
いる。また、ホットメルト接着層を形成する樹脂は、紫
外線や電子線によってアフターキュアにより硬化し、接
着性を増すものも好適である。

【００３１】接着層(14)の厚さは被着体の表面状態に応
じて、通常０．３〜２０μｍの範囲、好ましくは０．５
〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。

【００３２】接着層(14)の厚さが０．３μｍより薄い場
合には充分な接着力が得られず好ましくない。一方、２
０μｍより厚い場合には著しく透明性を阻害するので好
ましくない。

【００３３】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導
電性転写箔におけるガスバリア層(15)は、透明性がよ
く、ガスバリア性が良好なものであれば特に制限はない
が、例えばＳｉ，Ａｌ，Ｍｇ，Ｚｎ，Ｚｒ等の金属の１
種または２種以上の混合物、特に好ましくは、酸化ケイ
素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ケイ素
−酸化アルミニウム、酸化ケイ素−酸化マグネシウム、
酸化アルミニウム−酸化マグネシウム等を真空蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ
ＣＶＤ法等によって形成する。

【００３４】また、ガスバリア層(15)はエチレン−ビニ
ルアルコール系重合体、ポリシラザン系樹脂から得られ
るＳｉＮ系化合物、アクリロニトリル系共重合体等の重
合体溶液をコーティングし、溶媒を乾燥、後処理等を施
す事によっても形成する事ができる。

【００３５】ガスバリア層(15)の膜厚は、真空蒸着薄膜
の場合は通常５０〜１０００Åの範囲、また重合体膜か
ら形成する場合は通常０．１〜１０μｍの範囲、好まし
くは０．５〜３μｍの範囲から適宜選択実施される。

【００３６】真空蒸着薄膜からなるガスバリア層(15)の
厚さがが５０Åより薄い場合にはガスバリア性が不足す
るので好ましくない。一方１０００Åより厚い場合には
クラックが発生しやすいので好ましくない。

【００３７】重合体膜からなるガスバリア層(15)の厚さ
が０．１μｍより薄い場合にはガスバリア性が不足する
ので好ましくない。一方１０μｍより厚い場合には透明
性を阻害するので好ましくない。

【００３８】本発明の転写箔を転写する被転写体は、通
常プラスチックシートからなる基板である。プラスチッ
クシートとしては、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、ポリエーテルサルホン、ポリノルボルネン系樹脂
（日本合成ゴム株式会社製、ＡＲＴＯＮ（登録商標））
等の耐熱性、透明性の優れたもので、かつ光学的に配向
性のないものが用いられる。これらプラスチックシート
は片面にハードコート層、反射防止層、ガスバリア層等
が設けられている事が多く、非コート面に転写する場合
が多い。尚、本発明の透明導電性転写箔は、前記プラス
チックシートからなる基板に限らず、これよりも薄いプ
ラスチックフィルム基板の片面にガスバリア層、ハード
コート層、反射防止層等が形成されているプラスチック
液晶パネル用基材に適用する事もできる。また逆に厚い
プラスチック板基板やガラス板基板の片面にガスバリア
層、ハードコート層、反射防止層等が形成されている液
晶パネル用基材に適用する事もできる。

【００３９】以下に実施例をあげて本発明を更に具体的
に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定され
るものではない。

【００４０】

【実施例】

実施例１連続した長尺の厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルム片面上にアクリルシリコーン樹脂２０部
（重量部、以下同様）、トルエン４５部、メチルイソブ
チルケトン３５部からなる溶液をロール搬送系を有する
コーターでグラビアコ−ティング法にて連続的に塗布、
乾燥して、厚さ０．５μｍの離型層を５０ｍ／分の速度
で形成した。

【００４１】次にこの離型層の上に、酸化インジウム／
酸化錫＝９０／１０の組成のインジウム・錫酸化物をロ
ール搬送系連続処理できる真空蒸着機を用いスパッタリ
ング法により付着させた。スパッタリングは、１０^-3Ｔ
ｏｒｒにて、アルゴンガス導入のもとに行なった。処理
はフィルム走行速度１ｍ／分で行い付着膜厚は約５００
Åであった。このようにして得られた透明導電性層付き
フィルムは、平行光線透過率８５％、表面電気抵抗値１
００Ω／□を示し、透明性良好な導電性膜が形成され
た。

【００４２】次いで、前記透明導電性層の上に、ポリエ
ステル樹脂１０部、トルエン４０部、メチルエチルケト
ン５０部からなる溶液をリバースロールコーティング法
にて連続的に５０ｍ／分で塗布、乾燥し厚さ１μｍの接
着層を形成して、本発明のプラスチック液晶パネル用透
明導電性転写箔（図１）を得た。

【００４３】このようにして得た透明導電性転写箔を、
片面にハードコート層を設けた厚さ２００μｍのポリカ
ーボネートシートの非ハードコート面に熱転写法により
転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィル
ムを離型層とともに剥離しプラスチック液晶パネル用基
板（図５）を得た。

【００４４】実施例２厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム片
面上にポリビニルアルコール８部、アクリル酸ソーダ２
部、沈降性硫酸バリウム６０部、メタノール２０部、イ
ソプロピルアルコール１０部の組成からなるコーテイン
グ剤を実施例１と同様のコーターで塗布したのち、乾燥
して、約２μｍの水溶性離型層を形成した。次いで該水
溶性離型層上に、酸化インジウム／酸化錫＝９０／１０
の組成のインジウム、錫酸化物をスパッタリング法によ
り実施例１と同様に付着させて、透明性良好な導電性膜
を形成した。

【００４５】次いで前記透明性導電層の上に、実施例１
と同様の接着層を連続的に形成して、本発明のプラスチ
ック液晶パネル用透明導電性転写箔（図１）を得た。

【００４６】このようにして得た透明導電性転写箔を厚
さ２００μｍのポリアリレートシートに熱転写法により
転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィル
ムを剥離しながら水溶性離型層を水洗により溶出させ、
水分を乾燥除去し、プラスチック液晶パネル用基板（図
５）を得た。

【００４７】実施例３実施例１において、コーティング法による離型層を設け
るかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理した
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は実
施例１と全く同じ方法により、プラスチック液晶パネル
用透明導電性転写箔（図２）を得た。

【００４８】このようにして得た透明導電性転写箔を厚
さ２００μｍのポリカーボネートシートに熱転写法によ
り転写した。転写後にポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを剥離しプラスチック液晶パネル用基板（図６）を
得た。

【００４９】実施例４実施例１と同じ方法で、ポリエチレンテレフタレートフ
ィルム上に、離型層、透明導電性層を連続的に形成した
のち、次いで、酸化アルミニウムを電子ビーム加熱真空
蒸着法により付着させた。真空蒸着は真空度１０^-5Ｔｏ
ｒｒにて行なった。フィルム走行速度ｍ／分で付着膜厚
は約５００Åであった。このようにして得られたガスバ
リア層付きフィルムは酸素ガス透過率１．５ｃｃ／ｍ²
／２４ｈｒｓ、水蒸気透過率０．５ｇ／ｍ² ／２４ｈｒ
ｓ、平行光線透過率８４％を示し、透明性良好な導電
性、ガスバリア性膜が形成された。

【００５０】次いで前記ガスバリア層の上に、実施例１
と同様の接着層を形成して、本発明のプラスチック液晶
パネル用透明導電性転写箔（図３）を得た。

【００５１】このようにして得た透明導電性転写箔を片
面にハードコート層を設けた厚さ２００μｍのポリアリ
レートシートに熱転写法により転写した。転写後にポリ
エチレンテレフタレートフィルムを離型層とともに剥離
し、プラスチック液晶パネル用基板を（図７）得た。

【００５２】実施例５実施例４において、コーティング法のよる離型層を設け
るかわりに、フッ素系化合物で表面をプラズマ処理した
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる以外は実
施例４と全く同じ方法により、透明導電性層、酸化アル
ミニウムによるガスバリア層、接着層を設け、プラスチ
ック液晶パネル用透明導電性転写箔（図４）を得た。

【００５３】このようにして得た転写箔を、片面にハー
ドコート層、反射防止層を設けた厚さ２００μｍのポリ
アリレートシートの非コート面に熱転写法により転写し
た。転写後にポリエチレンテレフタレートフィルムを剥
離しプラスチック液晶パネル用基板（図８）を得た。

【００５４】比較例１実施例１において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚
さ２００μｍのポリカーボネートシートに直接にインジ
ウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層
を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。

【００５５】比較例２実施例２において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚
さ２００μｍのポリアリレートシートに直接にインジウ
ム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層を
形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。

【００５６】比較例３実施例３において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに透明導電性層を設けた転写箔を用いるかわりに、厚
さ２００μｍのポリカーボネートシートに直接にインジ
ウム・錫酸化物をスパッタリング法により透明導電性層
を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。

【００５７】比較例４実施例４において、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムに透明導電性層とガスバリア層を設けた転写箔を用い
るかわりに、厚さ２００μｍのポリアリレートシートに
直接に電子ビーム法により酸化アルミニウムのガスバリ
ア層を形成し、次いでスパッタリング法により透明導電
性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。

【００５８】比較例５比較例４において、フッ素系化合物で表面をプラズマ処
理したポリエチレンテレフタレートに透明導電性層とガ
スバリア層を設けた転写箔を用いるかわりに、２００μ
ｍのポリアリレートシートに直接に電子ビーム法により
酸化アルミニウム蒸着ガスバリア層を形成し、次いでス
パッタリング法によりインジウム・錫酸化物の透明導電
性層を形成し、プラスチック液晶パネル用基板を得た。

【００５９】次に実施例１〜５及び比較例１〜５により
作成したプラスチック液晶パネル用基板の各試料につい
て、平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷発
生状態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について評価
を行なった結果を表１に示した。

【００６０】＜評価方法＞ (1) 平行光線透過率ヘイズメータ（日本精密光学株式会社製、ＳＥＰ−ＩＩ
−Ｓ）を用い波長５５０ｎｍ（フィルタ使用）にて測定
する。

【００６１】(2) 表面電気抵抗値デジタルテスター（岩崎通信機株式会社製、ＶＯＡＣ７
０７）を使用し、ゴムロール硬度約６０のゴムシート上
に３５ｍｍ幅、対向距離３５ｍｍの電極をのせ、電極端
子間の抵抗を測定する。

【００６２】(3) 表面状態（傷発生状態）肉視及び光学顕微鏡観察による。

【００６３】(4) 酸素ガス透過率ＭＯＤＥＲＮＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲＣｏ．製、ＭＯ
ＤＥＬＯＸ−ＴＲＡＮ１００ＴＷＩＮを使用し、
２５℃、ＤＲＹ状態で測定する。

【００６４】(5) 水蒸気透過率ＭＯＤＥＲＮＣＯＮＴＲＯＬＬＥＲＣｏ．製、ＭＯ
ＤＥＬＷＡＴＥＲＶＡＰＯＲＴＲＡＮＳＭＩＳＳＩ
ＯＮＤＬ１００を使用し、４０℃、９０％ＲＨ状態で
測定する。

【００６５】

【表１】尚、表面状態は透明導電性層の表面状態である。

【００６６】表１から実施例１〜５のものはプラスチッ
ク液晶パネル用基板の表面状態を調べたところ、すり傷
は全く発生していない事がわかる。これに対し、比較例
１〜５のものはすり傷が加工工程中に発生して、このす
り傷の為に酸素透過率及び水蒸気透過率は共に増大し、
ガスバリア性が低下した事がわかる。つまり、実施例１
〜５のものは比較例１〜５のものに比較して何れも優れ
ている事がわかる。

【００６７】

【発明の効果】本発明のプラスチック液晶パネル用透明
導電性転写箔は、フレキシブルな長尺プラスチックフィ
ルムに直接または離型層を介して、透明導電性層及び接
着層、要すれば、ガスバリア層を、連続的に搬送する装
置を備えた真空蒸着装置、スパッタリング装置、コーテ
ィング装置などを用いて生産性よく、ロー・コストで所
望層を形成を形成する事ができる。従って、従来法なら
ば枚葉で透明導電層を真空蒸着法、スパッタリング法等
で形成しなければならなかったプラスチック液晶パネル
用基板等にも、本発明のプラスチック液晶パネル用透明
導電性転写箔を枚葉式の汎用転写機で、効率よく、しか
もすべての層に損傷を与える事なく、所望層を全面に或
は所望の部位に所望のパターンに転写形成する事ができ
る。つまり、従来の枚葉での加工では得られなかった、
平行光線透過率、表面電気抵抗値、表面状態（傷発生状
態）、酸素ガス透過率、水蒸気透過率について共に優れ
たものが、生産性よく、安価にかつ安定的に生産でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔の実施例１及び実施例２を示す慨略断面図であ
る。

【図２】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔の実施例３を示す慨略断面図である。

【図３】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔の実施例４を示す慨略断面図である。

【図４】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔の実施例５を示す慨略断面図である。

【図５】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔（実施例１及び実施例２）をプラスチック液晶用
シートに転写したプラスチック液晶パネルの例を示す慨
略断面図である。

【図６】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔（実施例３）をプラスチック液晶用シートに転写
したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図であ
る。

【図７】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔（実施例４）をプラスチック液晶用シートに転写
したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図であ
る。

【図８】本発明のプラスチック液晶パネル用透明導電性
転写箔（実施例５）をプラスチック液晶用シートに転写
したプラスチック液晶パネルの例を示す慨略断面図であ
る。

【符号の説明】

11 プラスチックフィルム 12 離型層 13 透明導電性層 14 接着層 15 ガスバリア層 21 プラスチックシート 22 ハードコート層 23 反射防止層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラスチックフィルム(11)に直接または
離型層(12)を介して透明導電性層(13)及び接着層(14)を
順次形成した事を特徴とするプラスチック液晶パネル用
透明導電性転写箔。
【請求項２】プラスチックフィルム(11)に直接または
離型層(12)を介して透明導電性層(13)、ガスバリア層(1
5)及び接着層(14)を順次形成した事を特徴とするプラス
チック液晶パネル用透明導電性転写箔。
【請求項３】透明導電性層(13)が酸化インジウムを主
成分とする物質からなる請求項１または２記載のプラス
チック液晶パネル用透明導電性転写箔。