JPH08142597A

JPH08142597A - 転写箔及びこれを用いた装飾ガラス

Info

Publication number: JPH08142597A
Application number: JP30945094A
Authority: JP
Inventors: Katsuhiko Taki; 克彦瀧
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1994-11-21
Filing date: 1994-11-21
Publication date: 1996-06-04

Abstract

(57)【要約】【目的】本発明は、立体感があり、意匠効果の優れた
転写箔を提供し、それを用いた装飾ガラスを得ることを
目的とする。【構成】基材シート１１に電離放射線硬化性樹脂で凹
凸模様１２を形成し、その上に光透過性が１０〜９０％
になるように、半透明な薄膜層１３を形成した後、光輝
性樹脂で凹部に樹脂を充填して凹凸形状のある光輝性樹
脂層１４を設け、その上から絵柄１６を印刷し、更に接
着剤をコートして接着剤層１７を形成して転写箔２を作
製する。この転写箔２を用いて、プライマー層１８を形
成したガラス板１９に転写し、凹凸模様１２を形成した
基材シート１１を剥離し、転写層の表面となった半透明
な薄膜層１３の上に隠蔽層（図示せず）を設けて装飾ガ
ラス板とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、種々の製品の表面に微
細な凹凸模様を賦与して意匠効果の優れた製品を製造す
るための転写箔に関し、更にそれを用いた装飾ガラスに
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】基材シートの表面に転写層を積層した転
写箔は種々知られているが、これらの転写箔は、基材シ
ート側から加熱して転写層を被転写体に接着し、しかる
後基材シートを剥離して転写層を被転写体に転写するよ
うに構成されている。その中で、転写層表面に凹凸模様
を形成して、転写後斜光により被転写体表面が虹採色を
発するようにした転写箔も提案されている。（特開平２
ー６３９００号公報）また、凹凸模様を形成した基材シートに半透明の金属蒸
着膜等を形成した後、このシートをガラス基板に貼り付
けて装飾ガラスを製造する方法も提案されている。ま
た、基材フィルムに剥離層を形成した後、凹凸模様を設
けた透明ラッカー被覆層を形成し、その凹凸模様の上に
金属蒸着膜を設け、更に接着層を設けた転写箔も提案さ
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、転写層表面に
凹凸模様を形成して、転写後斜光により被転写体表面が
虹採色を発するようにした転写箔は、立体感に乏しく、
意匠的に優れたものにならない。又、加熱により熱可塑
性樹脂にエンボス加工を行うため、深い凹凸形状の再現
が難しく、そのエンボス形状も経時変化により変形する
欠点がある。凹凸模様を形成した基材シートに半透明の
金属蒸着膜等を形成した後、このシートをガラス基板に
貼り付けて装飾ガラスを製造する方法は、現場施工時
に、ガラスに貼り付けたシートが上手に切れず、作業性
に問題がある。基材フィルムに凹凸模様を設けた透明ラ
ッカー被覆層を形成し、その凹凸模様の上にアルミニウ
ム（以下Ａｌとする）蒸着膜を設け、更に接着層を設け
た転写箔は、Ａｌ蒸着膜が５００Åと厚いため、転写層
が不透明となり立体感のある意匠性に優れた被転写体は
得られない。

【０００４】本発明は、これらの問題を解決し、従来の
転写箔では見られない、立体感のある意匠性に優れた転
写箔を提供し、その転写箔を用いることにより、意匠効
果の優れた装飾ガラス等の被転写体を得ようとすもので
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】基材シートに、微細な凹
凸面を有する樹脂層、光透過率が１０〜９０％の薄膜
層、光輝性物質を含有する樹脂層を順次形成したことを
特徴とする転写箔とし、また、前記転写箔の光輝性物質
を含有する樹脂層の上に絵柄層及び接着剤層を形成した
転写箔とした。更に、前記微細な凹凸面を有する樹脂層
が電離放射線硬化性樹脂であることを特徴とする転写箔
とした。そして、前記転写箔を用いて、プライマー層を
形成したガラス基板のプライマー層の表面に、光輝性物
質を含有する樹脂層の表面を接するように転写した後
に、転写された微細な樹脂層の表面に隠蔽層を形成して
装飾ガラスを作製した。

【０００６】

【作用】本発明によれば、基材シートに形成される微細
な凹凸模様は、ロール凹版を使用して電離放射線硬化性
樹脂で形成されるので、所望の凹凸模様を精度よく再現
されたものとなる。そのため、その上に形成した半透明
の金属薄膜層、光輝性物質を含有する樹脂層からなる転
写層は、電離放射線硬化性樹脂の凹凸模様を忠実に再現
して、被転写体に転写されるので、凹凸模様の上に形成
した薄くて光が透過する金属薄膜層の存在により、従来
の転写箔では見られない立体感のある意匠性に優れた被
転写体を得ることができる。また、この転写箔を用いて
ガラス板に転写することにより、意匠効果の高い装飾ガ
ラスを得ることができる。

【０００７】

【実施例】以下、実施例に基づいて、図面を参照にして
本発明を詳しく説明する。図１は本発明の転写箔の一例
を示す拡大断面図である。図２（ａ）は接着剤層を有す
る転写箔の拡大断面図であり、図２（ｂ）は（ａ）図に
更に離型層を設けた場合の転写箔の拡大断面図である。
図３は本発明の転写箔を用いてガラス板に転写したとき
の拡大断面図であり、図４はガラス板に転写後、その表
面に隠蔽層を形成した装飾ガラスの断面図である。図５
は基材シートに微細な凹凸模様の電離放射線硬化性樹脂
層を形成するときの形成方法を示す模式断面図である。

【０００８】図６は実施例１により転写箔を作製すると
きの説明図であり、図７は実施例１により作製した転写
箔を用いて装飾ガラスを作るときの説明図である。図８
は実施例２により転写箔を作製し、それを用いて化粧板
を作るときの説明図である。図９は比較例１により転写
箔を作製し、それを用いて化粧板を作るときの説明図で
あり、図１０は比較例２により転写箔を作製し、それを
用いて化粧板を作るときの説明図である。

【０００９】本発明の転写箔１は、図１に示すように、
基本的には、透明な熱可塑性樹脂からなる基材シート１
１、電離放射線硬化性樹脂からなる凹凸模様１２、半透
明な薄膜層１３、光輝性物質１５を含有する光輝性樹脂
層１４から構成される。また、図２（ａ）に示すよう
に、前記転写箔１に絵柄１６と接着剤層１７を設けて、
転写箔２を構成する。更に、必要に応じて、図２（ｂ）
に示すように、転写箔の剥離性をよくするために、基材
シートに凹凸模様を形成した後に、凹凸模様１２の表面
に離型層３１を設ける場合がある。以上のような構成に
より、光輝性樹脂層には凹凸模様が賦型され、更にその
賦型凹凸模様１２ａには半透明な薄膜層が接着し、転写
の際は賦型凹凸模様と一緒に転写層として被転写体に移
ることになる。

【００１０】そして、前記転写箔１は、半透明な薄膜層
１３と光輝性物質１５を含有する光輝性樹脂層１４が転
写層として、被転写体に転写される。又、転写箔２は、
半透明な薄膜層１３、光輝性樹脂層１４、絵柄１６が接
着剤層１７を介して被転写体に転写される。そのため、
剥離層の剥離性をよくするために、電離放射線硬化性樹
脂からなる凹凸模様１２の上に離型層又は剥離層を設け
てから、半透明な薄膜層１３を形成して、転写箔を作製
する場合がある。

【００１１】次に、本発明の転写箔を使用して装飾ガラ
スを作製する場合について説明する。先ず、図３に示す
ように、ガラス板１９の片面にプライマー層１８を設
け、そのプライマー層の上に図２に示した転写箔２の接
着剤層の面を重ね合わせる。次に、加熱ロール等で転写
箔とガラス板を接着させた後、凹凸模様を形成した基材
シート１１を剥離し、転写層をガラス基板に転写する。
凹凸模様を形成した基材シート１１を剥離することによ
り、光輝性樹脂層に賦型された凹凸模様１２ａと一緒に
半透明な薄膜層１３も転写されるので、転写層表面には
半透明な薄膜層を有する凹凸模様が形成される。更に、
図４に示すように、この転写層の上に隠蔽層２０を形成
して、装飾ガラス３を作製する。

【００１２】本発明の転写箔の製造方法及び転写箔各層
の材質等について、更に詳しく説明する。基材シートの
材質としては、耐熱性があり、寸法安定性のよいシート
或いはフィルムが使用できる。例えば、ポリエチレンテ
レフタレート等のポリエステル、ナイロン等のポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸メチル等のアク
リル樹脂、ポリプロピレン、三酢酸セルロース、セロハ
ン等のプラスチックフィルム或いはシート、又は、銅、
鉄、アルミニウム等の金属箔、紙等が挙げられる。

【００１３】基材シートに凹凸模様を形成したシートと
しては、通常のエンボス加工したエンボスシートも使用
可能であるが、以下に示すように、ロール凹版を使用し
て、基材シートに電離放射線硬化性樹脂で凹凸模様を形
成することにより、精度の高い凹凸模様が形成でき、意
匠性に優れた転写箔を作製することができる。

【００１４】以下にロール凹版を用いた電離放射線硬化
性樹脂で基材シートに凹凸模様を形成する方法（以下ド
ラムプリンティング法という）について説明する。ドラ
ムプリンティング法は、図５に示すように、電離放射線
硬化性樹脂液２３をノズル式塗工装置２４で、所望の凹
凸模様を彫刻したロール凹版２１にコートして、ニップ
ロール２５にて電離放射線硬化性樹脂液２３をロール凹
版の凹部２２に完全に充填する。それと同時に基材フィ
ルム１１をロール凹版表面に該電離放射線硬化性樹脂液
２３を介して密着させ、フィルムの上から電離放射線照
射装置２７を利用して電離放射線を照射し、ロール凹版
の凹部２２に充填された樹脂液を硬化させると共に、基
材フィルム１１に硬化した電離放射線硬化性樹脂２３ａ
を接着させた後、ロール凹版２１から剥離ロール２６に
よって基材フィルム１１を剥離し、基材フィルム１１に
硬化した電離放射線硬化性樹脂からなる凹凸模様１２を
形成させるものである。

【００１５】ロール凹版に形成される凹凸模様として
は、万線状の溝状直線群からなる凹凸形状が主に使用さ
れる。万線状の凹凸形状は、同一方向に走る一定周期万
線の他に、平曲線領域の中に平行な直線群又は曲線群を
形成する凹凸乃至溝を含んだ凹凸形状の集合体であっ
て、任意の２領域の境界を介して隣接する直線群又は曲
線群の方向のなす角度がすべて異なる形状のものもあ
る。

【００１６】また、凹凸模様を形成する線群には、連続
するウェーブ状の曲線群からなり、全円周の１／４の弧
を隣接する弧の凸方向が交互に逆向きになるように連結
して曲線を平行移動して配列した平行曲線群もある。上
記の平行曲線群としては、正弦波曲線、サイクロイド曲
線、楕円関数曲線、ベッセル関数曲線、円弧等の曲線単
位を連結したものを複数本互いに平行移動して配列した
ものがある。

【００１７】基材フィルムに凹凸形状を形成するには、
上記ドラムプリンティング法以外にも種々の方法が使用
できる。例えば、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂等を用い
たインキを使用して、グラビア印刷やスクリーン印刷方
式で盛り上げ印刷して凹凸形状を形成することもでき
る。インキ組成としては、これらの樹脂の他に凹凸形状
の目的に応じて、染料、顔料等の着色剤、充填剤、可塑
剤、安定剤等を適宜添加したものが使用される。また、
インキの樹脂として紫外線硬化性樹脂や電子線硬化型樹
脂を使用することもできる。或いは、基材シート自体に
直接、プレス加工、サンドブラスト加工等の手法により
凹凸形状を形成することもできる。更に、前記凹凸形状
の耐溶剤性、耐薬品性、耐磨耗性等の物性を向上させる
ために、目的に適合した樹脂でトップコート層を設ける
場合もある。

【００１８】基材シートに凹凸模様を形成する電離放射
線硬化性樹脂としては、通常、紫外線硬化性樹脂や電子
線硬化性樹脂が使用されるが、具体的には以下に示すと
おりである。電離放射線硬化性樹脂としては、分子中に
（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ
基（（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル又はメタ
アクリロイルの意味で用い、以下（メタ）は同様の意味
とする）等の重合性不飽和結合、又はエポキシ基を有す
るプレポリマー、オリゴマー、及び／又は単量体を適宜
混合した組成物が用いられる。これらのプレポリマー、
オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）
アクリレート等のアクリレート、シロキサン等の珪素樹
脂、不飽和ポリエステル、エポキシ等が挙げられる。

【００１９】単量体の例としては、スチレン、αーメチ
ルスチレン等のスチレン系単量体、（メタ）アクリル酸
メチル、（メタ）アクリル酸ー２ーエチルヘキシル、ジ
ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ト
リメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び
／又は、分子中に２個以上のチオール基を有するポリオ
ール化合物、例えば、トリメチロールプロパントリチオ
グリコレート、トリメチロールプロパントリチオプロピ
レート、ペンタエリスリトールテトラチオグリコール等
がある。以上の化合物を必要に応じ、１種もしくは２種
以上混合して用いるが、樹脂組成物に通常の塗工適性を
付与するために、前記プレポリマー又はオリゴマーを５
重量％以上、前記単量体及び／又はポリチオールを９５
重量％以下とすることが好ましい。

【００２０】単量体の選定に際して、硬化物の可撓性が
要求される場合は、塗工適性上支障のない範囲で、単量
体の量を少なめにしたり、１官能又は２官能アクリレー
ト単量体を用い比較的低架橋密度の構造とする。また、
硬化物の耐熱性、硬度、耐溶剤性等を要求される場合に
は、塗工適性上支障のない範囲で単量体の量を多めにし
たり、３官能以上のアクリレート系単量体を用い高架橋
密度の構造とするのが好ましい。１、２官能単量体と３
官能以上の単量体を混合し、塗工適性と硬化物の物性と
を調整することもできる。

【００２１】以上のような１官能アクリレート系単量体
としては、２ーヒドロキシアクリレート、２ーヘキシル
アクリレート、フェノキシエチルアクリレート等が挙げ
られる。２官能アクリレート系単量体としては、エチレ
ングリコールジアクリレート、１，６ーヘキサンジオー
ルジアクリレート等、３官能以上のアクリレート系単量
体としては、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。

【００２２】また、硬化物の可撓性、表面硬度等の物性
を調整するために、前記プレポリマー、オリゴマー、単
量体の少なくとも１種に対して、以下のような電離放射
線非硬化性樹脂を１〜７０重量％、好ましくは５〜５０
重量％混合して用いることができる。電離放射線非硬化
性樹脂としては、ウレタン系、繊維素系、ポリエステル
系、アクリル系、ブチラール系、ポリ塩化ビニル、ポリ
酢酸ビニル等の熱可塑性樹脂を用いることができ、特に
可撓性の点から繊維素系、ウレタン系、ブチラール系が
好ましい。

【００２３】電離放射線硬化性樹脂を紫外線で硬化させ
る場合は、透明な樹脂を使用する必要がある。また、前
記電離放射線硬化性樹脂組成物に光重合開始剤として、
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾ
イルベンゾエート、αーアミロキシムエステル、テトラ
メチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類、
及び／又は光増感剤として、ｎーブチルアミン、トリエ
チルアミン、トリーｎーブチルホスフィン等を混合して
用いることもできる。また、離型性を考慮して、シリコ
ーン樹脂、ワックス、フッ素樹脂、メラニン樹脂、界面
活性剤等を混合することが望ましい。

【００２４】本発明においては、電離放射線硬化性樹脂
を含む樹脂組成物により、透明基材シートに形成された
凹凸模様を完全に硬化させる方法として、電離放射線を
使用する。電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のう
ち分子を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するもの
を意味し、通常、紫外線、電子線が用いられるが、可視
光線、γ線、Ｘ線も使用可能である。

【００２５】電離放射線照射装置としては、通常、紫外
線照射装置や電子線照射装置が使用される。例えば、
紫外線照射装置としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、
低圧水銀灯、カーボンアーク、ブラックライト、メタル
ハライドランプ等の光源が使用される。電子線源として
は、コックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧
器型、絶縁コア変圧器型或いは直線型、ダイナミトロン
型、高周波型等の各種電子線加速器を用い、１００〜１
０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネ
ルギーを持つ電子を照射する。照射線量としては、通
常、５〜３００ＫＧｙ（キログレイ）程度である。

【００２６】本発明において、基材シートの凹凸模様の
上に半透明な薄膜層を形成するが、該薄膜層としては、
金属又は金属化合物の真空蒸着やスパッタリング等によ
る薄膜層が主に形成される。半透明な金属薄膜層として
は、Ａｌ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｃｒ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｎ
ｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属単体或いは
これらの合金が用いられる。Ａｌ薄膜層の厚さは１０〜
２０００Åの範囲で使用され、好ましくは７０〜３００
Åである。そして、金属薄膜層の光透過率は１０〜９０
％の範囲にする必要があり、好ましくは３０〜８０％の
範囲である。

【００２７】光輝性樹脂に使用される樹脂としては、ア
クリルもしくはメタアクリルモノマーの単独重合体或い
はこれらのモノマーを含む共重合体が挙げられる。これ
らの樹脂としては、スチレン系樹脂及びスチレン系共重
合体、セルロース誘導体、ロジンエステル樹脂、ポリ酢
酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルー酢酸
ビニル共重合体、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、
ブチラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、セラック、アラビアゴム、アカロイド、マスチック
等の１種もしくは２種以上を使用することができる。上
記樹脂に光輝性顔料として、二酸化チタン被覆雲母、天
然真珠箔、無機鉛系トエパル、金属粉末等を添加して光
輝性樹脂として使用する。

【００２８】接着剤層は転写層を被転写体に転写する際
に必要なものであり、その材質は通常の転写箔に使用さ
れている接着剤が用いられる。例えば、アクリル樹脂、
スチレン樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、ブチ
ラール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エ
ポキシ樹脂等が挙げられる。

【００２９】転写箔の絵柄は印刷インキを用いて種々の
印刷法により形成することができる。印刷インキバイン
ダーとしては、一般に熱可塑性樹脂が用いられ、塩化ビ
ニルー酢酸ビニル共重合体、ポリアミド、ポリエステ
ル、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、ポリウ
レタン、ポリビニルアセテート、ポリエステルウレタ
ン、塩化ゴム、塩化ポリエチレン、塩化ポリプロピレ
ン、スチレン系樹脂及びスチレン系共重合体セルロース
誘導体、ロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポ
リ塩化ビニル樹脂、塩化ビニルー酢酸ビニル共重合体、
クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、ブチラール樹脂、
セラック、アラビアゴム、アカロイド、マスチック、等
の１種もしくは２種以上の混合物を使用することができ
る。絵柄層を強化するためには、一部熱硬化性樹脂を用
いて、二液硬化型の電離放射線硬化性樹脂を併用しても
よい。

【００３０】以下に、具体的な実施例を挙げて更に詳し
く説明する。（実施例１）厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレート（以下
ＰＥＴとする）フィルム（帝人（株）製「ＨＰ−７」）
を基材として、ドラムプリンティング法にて、下記の条
件で凹凸模様を有するフィルムを作製した。・ロール凹版；ダイレクトエッチング法により、深さ２
０μｍ、間隔１００μｍの万線状の凹凸模様を形成し
た。・紫外線硬化型樹脂；大日精化工業（株）製ウレタン系
樹脂「セイカビームＥＸ−８８０９２６Ｂ」にシリコー
ン樹脂３％添加したもの。・紫外線照射装置；オゾン有りの高圧水銀灯（出力１２
０Ｗ／ｃｍ）を使用。

【００３１】図５に示すように、紫外線硬化性樹脂液２
３をノズル式塗工装置２４で、凹凸模様を形成したロー
ル凹版２１にコートして、ニップロール２５にて紫外線
硬化性樹脂液２３をロール凹版の凹部２２に充填する。
それと同時に基材フィルム１１をロール凹版２１の表面
に密着させ、フィルムの上から紫外線照射装置２７から
紫外線を２秒照射して、ロール凹版の凹部２２に充填さ
れた樹脂液を硬化させると共に、基材フィルム１１に硬
化した紫外線硬化性樹脂２３ａを接着させた後、ロール
凹版２１から剥離ロール２６によって基材フィルム１１
を剥離し、基材フィルム１１に硬化した紫外線硬化性樹
脂からなる凹凸模様１２を形成した。

【００３２】次に、図６（ａ）に示すように、凹凸
模様を形成したＰＥＴフィルムに抵抗加熱真空蒸着法に
よって、厚さ約２００ÅのＡｌ蒸着膜１３ａを形成し
た。このときの蒸着ＰＥＴフィルムの光透過率は５０％
である。しかし、ＰＥＴフィルムの表面は凹凸形状を有
しているため、蒸着膜は表面全体には均一に形成され
ず、凹凸形状の凸部と側面は異なる厚さの蒸着膜が形成
される。即ち、凸形状の高さや側面の傾斜角度によっ
て、凸部と側面に形成される蒸着膜の厚さは異なったも
のとなる。以上のように、凹凸形状面に形成された蒸着
膜の厚さが相違していることが、被転写体に蒸着膜が転
写されたとき、それがかえって蒸着膜からの反射光を複
雑にして意匠効果を高めることになる。

【００３３】前記で得た凹凸形状を有するアルミ
ニウム蒸着フィルムに、光輝性インキ（昭和インキ工業
（株）製「ＧＥ−ＨＳ」）を用いて、グラビア印刷方式
で塗布し、凹凸模様の凹部に光輝性樹脂を充填し、、図
６（ｂ）に示すように、乾燥状態で厚さ３０μｍの光輝
性樹脂層１４を形成して転写箔１を作製した。光輝性イ
ンキはアクリル樹脂と塩化ビニルー酢酸ビニル系樹脂か
らなる樹脂をバインダーとして、パール顔料を１０重量
％添加して、固形物含有量３０重量％としたものであ
る。

【００３４】図７（ａ）に示すように、厚さ５ｍｍの透
明ガラス板１９の表面にアクリルースチレン系樹脂９
４．５重量％、シアンカップリング剤０．５重量％、ポ
リイソシアネート５重量％からなるガラスプライマーを
塗布し、その後１１０℃、８分間、熱硬化させて、厚さ
８μｍのプライマー層１８を形成した。次に、図７
（ｂ）に示すように、プライマー層１８を形成したガラ
ス板１９を６０℃に加熱し、プライマー面に上記転写箔
１の光輝性樹脂層１４を重ね合わせ、ロール温度２００
℃、スピード２ｍ／ｓの条件でロール転写し、その後、
図７（ｃ）に示すように、基材フィルムを剥離して転写
層をガラス板に転写した。

【００３５】更に、上記転写層の上に、前記ガラスプラ
イマーに酸化チタンを１０重量％添加したものを塗布
し、１６０℃２分間焼き付け処理して隠蔽層２０を形成
して図７（ｄ）のような装飾ガラス３を作製した。以上
のようにして得た装飾ガラスは立体感があり、半透明で
あるため、パーテーションとして使用できる。また、ガ
ラスカッターで簡単に切ることができるので、フィルム
合わせガラスより、施工性がよく、作業能率の向上が図
れる。

【００３６】（実施例２）実施例１と同様にしてＰＥＴフィルムに凹凸模様を
形成した。前記で得た凹凸模様形成フィルムに、図８（ａ）
に示すように、電子ビーム加熱真空蒸着法によって、厚
さ約５００ÅのＳｉＯ₂蒸着膜１３ｂを形成し、その上
に、真空蒸着法で厚さ約２００Åのアルミニウム蒸着膜
１３ａを形成した。このフィルムの光透過率は５０％で
あった。

【００３７】前記で得た蒸着膜を設けた凹凸模様
を有するＰＥＴフィルムに、実施例１と同様にして光輝
性インキにて、光輝性樹脂層１４を形成した。更に、図
８（ａ）に示すように、光輝性樹脂層１４の上に、アク
リル樹脂と塩化ビニルー酢酸ビニル系樹脂でガラス転移
温度（Ｔｇ）６０℃の樹脂からなるインキ（昭和インキ
工業（株）製「ＧＥ−ＩＮ」）用いて、版深１００μｍ
のグラビア版にてグラビア印刷し、絵柄１６及び接着剤
層１７を形成して、接着剤層を有する転写箔２を作製し
た。

【００３８】以上のようにして得た転写箔を用い
て、ＰＳ板に２００℃、転写スピード３ｍ／ｓの条件
で、実施例１と同様にして転写し、図８（ｂ）に示すよ
うな化粧板４を作製した。更にこのようにして得た化粧
板は成形加工性に優れていて、実施例１と同様、立体感
のある、意匠性に優れた成形品を得ることができた。

【００３９】（比較例１）実施例１と同様にしてＰＥＴフィルムに凹凸模様を
形成した。前記で得た凹凸模様を形成したＰＥＴフィルムの
凹凸模様面に、図９（ａ）に示すように、真空蒸着法で
厚さ約５００Åのアルミニウム蒸着膜１３ａを形成し
た。このフィルムの光透過率は６〜７％であった。前記で得た凹凸模様を有する蒸着ＰＥＴフィルム
に、光輝性インキ（昭和インキ工業（株）製「ＧＥ−Ｈ
Ｓ」）を用いて、実施例２と同様に、光輝性樹脂層１４
を形成し、更に、その上に、図９（ａ）に示すように、
絵柄１６及び接着剤層１７を形成して、接着剤層を有す
る転写箔２を作製した。前記で得た転写箔を用いて、ＰＳ板に２００℃、
転写スピード３ｍ／ｓの条件で、実施例１と同様にして
転写し、図９（ｂ）に示すような化粧板４を作製した。
以上のようにして得た化粧板は凹凸模様面に形成したア
ルミニウム蒸着膜が５００Åと厚いため、蒸着膜を通し
て絵柄を見ることができず、化粧板としては欠陥のある
ものとなった。

【００４０】（比較例２）実施例１と同様にしてＰＥＴフィルムに凹凸模様を
形成した。前記で得た凹凸模様形成フィルムの凹凸模様面
に、チタンキレート剤をキシレンで希釈して１０重量％
溶液としたものを塗布して、図１０（ａ）に示すよう
に、離型層３１を形成した。次に、上記フィルムに、図１０（ａ）に示すよう
に、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）を主体と
するインキを用いて、剥離層３２と絵柄１６を形成した
後、アクリルースチレン共重合体からなる樹脂を用いて
接着剤層１７を形成して転写箔２を作製した。前記で得た転写箔２を用いて、比較例１と同様に
ＰＳ板に転写し、図９（ｂ）に示すような化粧板４を作
製した。以上のようにして得た化粧板は凹凸模様面に半
透明なアルミニウム蒸着膜存在しないため、立体感に乏
しい化粧板となった。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、基材シートに凹凸模様
を形成し、その凹凸模様面にアルミニウム蒸着膜等の半
透明な薄膜層を形成し、その薄膜層の透過率を１０〜９
０％とし、その上に光輝性樹脂層を形成することによ
り、立体感があり、意匠効果に優れた転写箔となり、従
来の転写箔とは明確に差別化できる転写箔を得ることが
できる。また、本発明の転写箔を用いることにより、装
飾ガラス、化粧板、絵付け成形品等立体感があり、意匠
効果に優れた被転写体を得ることができる。従来の転写
箔では見られない、意匠性に優れ、立体感のある転写箔
が得られ、且つ転写層は半透明なため、パーテーション
等優れた装飾ガラスを作製することができる。更に、転
写層は薄くて柔軟性があり、加工適性に優れているた
め、被転写体は加工適性に優れたものとなり、作業能率
の向上が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による転写箔の一例を示す拡大断面図。

【図２】（ａ）図１の転写箔に接着剤層と絵柄を設け
た転写箔の拡大断面図。（ｂ）（ａ）図に更に離型層を設けた転写箔の拡大断
面図。

【図３】本発明の転写箔を用いてガラス板に転写したと
きの拡大断面図。

【図４】ガラス板に転写後、その表面に隠蔽層を形成し
た装飾ガラスの断面図。

【図５】基材シートに電離放射線硬化性樹脂を用いて凹
凸模様を形成するときの模式断面図。

【図６】実施例１により転写箔を作製するときの説明図
で、（ａ）基材シートに凹凸模様とＡｌ蒸着膜を形成した
図。（ｂ）（ａ）図に更に光輝性樹脂層を形成した図。

【図７】実施例１により装飾ガラスを作製するときの説
明図で、（ａ）ガラス板にプライマー層を形成した図。（ｂ）プライマー層を形成したガラス板に転写箔を重
ね合わせた図。（ｃ）ガラス板に転写層を転写後、基材シートを剥離
するときの図。（ｄ）ガラス板に転写層を転写後その上に隠蔽層を形
成した図。

【図８】実施例２による転写箔とそれを用いて化粧板を
作製するときの説明図で、（ａ）ＳｉＯ₂とＡｌの蒸着膜を形成した転写箔の断
面図。（ｂ）ＰＳ板に転写後更に隠蔽層を形成した化粧板の
断面図。

【図９】比較例１による転写箔とそれを用いて化粧板を
作製するときの説明図で、（ａ）Ａｌの蒸着膜を形成した転写箔の断面図。（ｂ）ＰＳ板に転写後更に隠蔽層を形成した化粧板の
断面図。

【図１０】比較例２による転写箔とそれを用いて化粧板
を作製するときの説明図で、（ａ）Ａｌの蒸着膜のない転写箔の断面図。（ｂ）ＰＳ板に転写して作製した化粧板の断面図。

【符号の説明】

１転写箔２接着剤層を有する転写箔３装飾ガラス板４化粧板１１基材シート１２凹凸模様１２ａ賦型凹凸模様１３半透明な薄膜層１３ａＡｌ蒸着膜１３ｂＳｉＯ₂蒸着膜１４光輝性樹脂層１５光輝性物質１６絵柄１７接着剤層１８プライマー層１９ガラス板１９ａＰＳ板２０隠蔽層２１ロール凹版２２ロール凹版の凹部２３電離放射線硬化性樹脂液（硬化前）２３ａ硬化した電離放射線硬化性樹脂２４ノズル塗工装置２５ニップロール２６剥離ロール２７電離放射線照射装置３１離型層３２剥離層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基材シートに、微細な凹凸面を有する樹
脂層、光透過率が１０〜９０％の薄膜層、光輝性物質を
含有する樹脂層を順次形成したことを特徴とする転写
箔。
【請求項２】前記光輝性物質を含有する樹脂層の上に
に更に絵柄層及び接着剤層を形成したことを特徴とする
請求項１に記載の転写箔。
【請求項３】前記微細な凹凸面を有する樹脂層が電離
放射線硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１及び
請求項２に記載の転写箔。
【請求項４】請求項１及び請求項３に記載の転写箔を
用いて、プライマー層を形成したガラス基板のプライマ
ー層の表面に、光輝性物質を含有する樹脂層の表面を接
するように転写した後に、転写された微細な樹脂層の表
面に隠蔽層を形成したことを特徴とする装飾ガラス。
【請求項５】請求項２に記載の転写箔を用いて、プラ
イマー層を形成したガラス基板のプライマー層の表面
に、接着剤層の表面を接するように転写した後に、転写
された微細な樹脂層の表面に隠蔽層を形成したことを特
徴とする装飾ガラス。