JPH08134440A - 薄膜エレクトロルミネッセンス素子 - Google Patents

薄膜エレクトロルミネッセンス素子

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JPH08134440A
JPH08134440A JP6302725A JP30272594A JPH08134440A JP H08134440 A JPH08134440 A JP H08134440A JP 6302725 A JP6302725 A JP 6302725A JP 30272594 A JP30272594 A JP 30272594A JP H08134440 A JPH08134440 A JP H08134440A
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thin
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baal
film electroluminescent
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Akiko Sugioka
晶子 杉岡
Noriyuki Takahashi
憲之 高橋
Isamu Yashima
勇 八島
Makoto Higuchi
誠 樋口
Akiyoshi Mikami
明義 三上
Kosuke Terada
幸祐 寺田
Katsuhiro Okada
勝博 岡田
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Sharp Corp
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Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Sharp Corp
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    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 色座標の点で優れ、工業的に容易に製造可能
なエレクトロルミネッセンス用青色発光体が得られる薄
膜エレクトロルミネッセンス材料および該材料を発光層
とする薄膜エレクトロルミネッセンス素子を提供する。 【構成】 組成式が次式: (MS)x(Al23y:RE [但し、MはCa、SrまたはBaを示し、Reはラン
タノイド系元素を示し、xとyは整数であり、同一でも
異なっていてもよい]で表わされるアルカリ土類チオア
ルミネートからなることを特徴とする薄膜エレクトロル
ミネッセンス材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電界の印加によって発光
するエレクトロルミネッセンス素子(EL素子)に関す
るものであり、特にその薄膜発光層に用いられる薄膜E
L材料および該材料を用いた薄膜EL素子に関する。
【0002】
【従来の技術】薄膜ELパネルのフルカラー化のために
赤色、緑色、青色を呈するEL発光材料の研究が進めら
れている。しかし現在のところ輝度が高く、色純度に優
れた青色発光材料に良いものがない。青色発光材料とし
て最も進んだものの一つにSrS:Ceがあり、近年の
開発により輝度、色純度共に著しく向上している。しか
し、SrS自体に潮解性があることや、完全な合成のた
めには1400℃以上の加熱が必要等の特徴があり、工
業的な製造工程の中での障害となっている。
【0003】最近MGa24:Ce(M;アルカリ土類
元素)を用いた薄膜ELが開発され、高輝度でより短い
波長で発光する点から注目を集めている(特開平5−6
5478号公報)。またLeThiらはEu2+を添加し
たアルカリ土類チオアルミネートが主として緑色領域で
発光することを報告している(Mat.Sci,En
g.B14(1992)393 )。SrSに比べてこ
れらのチオガレート、チオアルミネートは一般に合成温
度が1100℃程度でよい等の利点を持ち工業的に優れ
ている。チオアルミネートはチオガレートのGaをAl
で置換した形の化合物であり、一般的にランタノイド系
元素の置換サイト(アルカリ土類金属サイト)がチオガ
レートより大きい傾向がある。従って、特にEu、Ce
を置換した場合には発光スペクトルが短波長シフトする
ため、より純粋な青色発光を呈すると考えられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色座
標の点で優れ、工業的に容易に製造可能なEL用青色発
光体が得られる薄膜EL材料および該材料を発光層とす
る薄膜EL素子を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は次に
示す薄膜EL材料によって達成される。
【0006】すなわち、本発明は、組成式が次式 (MS)x(Al23y:RE [但し、MはCa、SrまたはBaを示し、REはラン
タノイド系元素をそれぞれ示し、xとyは整数であり、
同一でも異なっていてもよい]で表わされるアルカリ土
類チオアルミネートからなることを特徴とする薄膜EL
材料である。
【0007】上記したように、上式中、Mはカルシウム
(Ca)、ストロンチウム(Sr)またはバリウム(B
a)を示す。またREはランタン(La)、セリウム
(Ce)、プラセオジウム(Pr)、ネオジム(N
d)、ユウロピウム(Eu)等のランタノイド系元素を
示すが、その中でもセリウムまたはユウロピウムが好ま
しく用いられる。このセリウムは安価であり、経済的な
点からも優れている。
【0008】本発明ではこのように上記したアルカリ土
類チオアルミネートを母材料とし、セリウム等のランタ
ノイド系元素を付活剤(発光中心)とするものである。
このような具体的な薄膜EL材料としてはSrAl
24、CaAl24、Ca2Al25、BaAl24
BaAl47、Ba4Al27、Ba5Al28、Sr2
Al25、Ba2Al25等が挙げられる。
【0009】このような薄膜EL材料を得るのは例えば
以下の方法で行われる。すなわち、CaCO3、SrC
3、BaCO3等を適当な条件下で硫化し、CaS、S
rSあるいはBaSとした後、Al23と適当なモル比
で混合し、付活剤としてCeCl3またはEu23を加
えた混合物を、900〜1000℃の温度でH2S中に
おいて焼成して得られる。もちろんこれらの材料に代え
て出発原料としてAl23、CeO2、CeF3、Ce2
3、EuF3等を用いることも可能であり、またアルカ
リ土類化合物とアルミニウム化合物を混合した後、一度
に硫化しても良い。またCeを付活剤として使用する場
合には、電荷補償剤としてK、Na等の適当なイオン半
径を持つ1価の陽イオンまたは3価の陰イオンを共添加
すると発光強度が増大する。
【0010】本発明の薄膜EL素子は、上記した薄膜E
L材料を発光層として用いるものである。このような薄
膜EL素子の構成を示す一例を図1に示す。同図におい
て、1はAl等の上部電極(背面電極)、2は上部絶縁
層、3はバッファ層、4は発光層、5は下部絶縁層、6
はITO等の下部電極(透明電極)、7はガラス基板で
ある。
【0011】この図1に示したのは発光層を上下絶縁層
(膜)で挟む二重絶縁膜型薄膜EL素子で、ガラス基板
上に下部電極(透明電極)、下部絶縁層、発光層、バッ
ファ層、上部絶縁層、上部電極(背面電極)を順次積層
した構造のものである。透明電極にはITOを用い、E
B蒸着法あるいは高周波スパッタ法により20nm程度
の膜圧で形成される。下部絶縁層は高周波スパッタ法に
よりSiO2を成長後、Si34を積層成長して形成さ
れる。発光層の形成法としてはEB蒸着法、高周波スパ
ッタ法等の方法が可能であるが、後述する実施例では基
板温度150℃、硫化水素を8%含むArガス中でスパ
ッタにより形成した。上部絶縁層としてSi34層とS
iO2層を高周波スパッタにより形成した後、630〜
700℃に設定された真空中において1時間程度の熱処
理を施し、さらに例えばAlからなる上部電極を真空蒸
着法により形成する。
【0012】また、上部絶縁層2はSiO2層21、S
34層22からなり、下部絶縁層5はSi34層5
1、SiO2層52からなる。これら各層の厚みは、例
えばSiO2層21:0.005μm、Si34層2
2:0.12μm、バッファ層3:0.1μm、発光層
4:0.6μm、Si34層51:0.2μm、SiO
2層52:0.05μmである。
【0013】
【実施例】以下、実施例に従って本発明の詳細を述べ
る。
【0014】実施例1 BaCO3を出発原料とし、H2S中で500℃で2時
間、600℃で2時間、900℃で4時間加熱した。こ
れをふるいにかけて粒度を揃えた後、H2S中1000
℃で4時間加熱し、再びふるいにかけて粒度を揃えてB
aSを得た。こうして得られたBaSをAl23、Ce
Cl2、KCl、Eu23と共に表1に示す割合で混合
し、さらにH2S中1000℃で5時間加熱した。
【0015】
【表1】
【0016】得られた化合物(BaAl24:Ce,
K、BaAl47:Ce,K、Ba2Al25:Ce,
K、BaAl24:Eu、BaAl47:Eu、Ba2
Al25:Eu、Ba4Al27:Eu、Ba5Al
28:Eu)の280nm〜350nmの間の適当な波
長で励起した時の発光スペクトルを図2〜3に示す。こ
の図2〜3から主として青色領域に発光ピークがあるこ
とが判る。またEuによる発光スペクトルの半値全幅は
Ceのそれよりも小さく、約半分になることが判る。
【0017】これらの材料のうちBaAl24:Euを
用いて表2に示す条件下、薄膜からなる発光層および絶
縁層を形成し、さらに図1に示されるような薄膜EL素
子を作成した。
【0018】
【表2】
【0019】この薄膜EL素子は青色のエレクトロルミ
ネッセンスを呈した。この薄膜EL素子の発光スペクト
ルを図4に示す。この時の色座標はX=0.283、Y
=0.515であり、輝度は1KHz駆動時に約1cd
/m2であった。
【0020】実施例2 SrSとAl23、CeCl2、KCl、Eu23を表
3の割合で混合し、H2S中1000℃で5時間加熱し
て得られた化合物(SrAl24:Ce,K、Sr2
25:Ce,K、SrAl24:Eu、Sr2Al2
5:Eu)の280nm〜350nmの間の適当な波長
で励起した時の発光スペクトルを図5〜6に示す。
【0021】
【表3】
【0022】また、これらの材料のうちSrAl24
Euを用いて表2に示す条件下、薄膜からなる発光層お
よび絶縁層を形成し、さらに図1に示されるような薄膜
EL素子を作成した。この薄膜EL素子は青色のエレク
トロルミネッセンスを呈した。この薄膜EL素子の発光
スペクトルを図7に示す。この時の色座標はX=0.1
3、Y=0.377であり、輝度は1KHz駆動時に約
1cd/m2であった。
【0023】実施例3 CaSとAl23、CeCl2、KCl、Eu23を表
4の割合で混合し、H2S中1000℃で5時間加熱し
て得られた化合物(CaAl24:Ce,K、CaAl
24:Eu、Ca2Al25:Eu)の280nm〜3
50nmの間の適当な波長で励起した時の発光スペクト
ルを図8〜9に示す。
【0024】
【表4】
【0025】
【発明の効果】本発明において、例えばBaAl24
Ce,K、BaAl47:Ce,K、Ba2Al25
Ce,Kでは発光ピークが430nm付近であることが
確認された。これはSrS:Ce発光ピーク波長の48
0nmやMGa24:Ce(M:アルカリ土類元素)の
発光ピーク波長の460nmに比較して50〜30nm
も短波長である。また発光イオンとしてCeのかわりに
Euを使用すると発光スペクトルの半値全幅が約半分の
値となり、色純度が向上することが確認された。
【0026】以上のような本発明により、色座標、色純
度の良い薄膜EL材料および該材料を発光層とする薄膜
EL素子が得られた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 薄膜EL素子の構成を示す概略図。
【図2】 M=Baであるチオアルミネートの発光スペ
クトル(Ce,K添加)。
【図3】 M=Baであるチオアルミネートの発光スペ
クトル(Eu添加)。
【図4】 BaAl24:Euを発光層とした薄膜EL
素子の発光スペクトル。
【図5】 M=Srであるチオアルミネートの発光スペ
クトル(Ce,K添加)。
【図6】 M=Srであるチオアルミネートの発光スペ
クトル(Eu添加)。
【図7】 SrAl24:Euを発光層とした薄膜EL
素子の発光スペクトル。
【図8】 M=Caであるチオアルミネートの発光スペ
クトル(Ce,K添加)。
【図9】 M=Caであるチオアルミネートの発光スペ
クトル(Eu添加)。
【符号の説明】
1:上部電極(背面電極)、2(21,22):上部絶
縁層、3:バッファ層、4:発光層、5(51,5
2):下部絶縁層、6:下部電極(透明電極)、7:ガ
ラス基板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 八島 勇 埼玉県上尾市大字原市1333番地の2三井金 属鉱業株式会社総合研究所内 (72)発明者 樋口 誠 岐阜県吉城郡神岡町大字鹿間1−1神岡鉱 業株式会社内 (72)発明者 三上 明義 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャ ープ株式会社内 (72)発明者 寺田 幸祐 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャ ープ株式会社内 (72)発明者 岡田 勝博 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャ ープ株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 組成式が次式: (MS)x(Al23y:RE [但し、MはCa、SrまたはBaを示し、Reはラン
    タノイド系元素を示し、xとyは整数であり、同一でも
    異なっていてもよい]で表わされるアルカリ土類チオア
    ルミネートからなることを特徴とする薄膜エレクトロル
    ミネッセンス材料。
  2. 【請求項2】 前記組成式がSrAl24:Ce、Ca
    Al24:Ce、BaAl24:Ce、BaAl47
    Ce、Sr2Al25:Ce、Ba2Al25:Ce、S
    rAl24:Eu、BaAl24:Eu、BaAl
    47:Eu、Sr2Al25:Eu、Ba2Al25:E
    u、CaAl24:Eu、Ca2Al25:Eu、Ba2
    Al25:Eu、Ba5Al28:Euから選択される
    請求項1に記載の薄膜エレクトロルミネッセンス材料。
  3. 【請求項3】 請求項1〜2に記載の薄膜エレクトロル
    ミネッセンス材料を発光層に用いた薄膜エレクトロルミ
    ネッセンス素子。
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Cited By (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1251158A2 (en) * 2001-04-19 2002-10-23 TDK Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US6597108B2 (en) 2001-07-27 2003-07-22 Tdk Corporation Multi-color el panel comprising phosphor thin films with europium as luminescent center
US6614173B2 (en) 2000-07-07 2003-09-02 Tdk Corporation Fluorescent thin film, preparation method, and EL panel
US6627251B2 (en) 2001-04-19 2003-09-30 Tdk Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US6699596B2 (en) 2000-09-21 2004-03-02 Tdk Corp Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
KR100430565B1 (ko) * 2001-05-31 2004-05-10 한국전자통신연구원 알루미늄설파이드를 포함하는 형광체 및 그 제조방법
US6734469B2 (en) 2000-11-17 2004-05-11 Tdk Corporation EL phosphor laminate thin film and EL device
US6761835B2 (en) 2000-07-07 2004-07-13 Tdk Corporation Phosphor multilayer and EL panel
JP2004524378A (ja) * 2000-09-14 2004-08-12 アイファイアー テクノロジー インコーポレーテッド マグネシウムバリウムチオアルミネート及び同類の発光体物質
US6781304B2 (en) 2002-01-21 2004-08-24 Tdk Corporation EL panel
US6793962B2 (en) 2000-11-17 2004-09-21 Tdk Corporation EL phosphor multilayer thin film and EL device
US6821647B2 (en) 2001-04-19 2004-11-23 Tdk Corporation Phosphor thin film preparation method, and EL panel
US6863996B2 (en) 2000-04-17 2005-03-08 The Westaim Corporation Fluorescent thin film, its fabrication process, and EL panel
JP2005063813A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Tdk Corp El素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、el素子製造用スパッタリングターゲット、el素子及びel素子の製造方法
JP2005063812A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Tdk Corp El素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、el素子製造用スパッタリングターゲット、el素子及びel素子の製造方法
US7005198B2 (en) 2001-04-19 2006-02-28 The Westaim Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US7011896B2 (en) 2002-02-06 2006-03-14 The Westaim Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
WO2006120961A1 (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Mitsubishi Materials Corporation エレクトロルミネッセンス素子における蛍光体膜形成用高強度スパッタリングターゲット
JP2008069252A (ja) * 2006-09-13 2008-03-27 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 無機el用蛍光体の製造方法
CN100453618C (zh) * 2001-04-19 2009-01-21 伊菲雷知识产权公司 荧光体薄膜、其制造方法以及el面板
US7540976B2 (en) 2003-03-06 2009-06-02 Ifire Ip Corporation Sputtering target for forming thin phosphor film
JP2009221264A (ja) * 2008-03-13 2009-10-01 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 無機el用蛍光体の製造方法
JP2013189570A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Eu賦活アルカリ土類金属チオアルミネート蛍光体及びその製造方法
US9257662B2 (en) 2011-10-03 2016-02-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Quantum dot light-emitting device
US9263630B2 (en) 2012-03-27 2016-02-16 Sumitomo Chemical Company, Limited Inorganic layer light-emitting device
US9693424B2 (en) 2011-03-31 2017-06-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly
US9693423B2 (en) 2011-03-31 2017-06-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly
US9696462B2 (en) 2011-03-31 2017-07-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10028266A1 (de) 2000-06-09 2001-12-13 Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh Hocheffizienter Leuchtstoff
US6610352B2 (en) * 2000-12-22 2003-08-26 Ifire Technology, Inc. Multiple source deposition process
DE20108873U1 (de) * 2001-05-29 2001-12-06 Osram Opto Semiconductors Gmbh Hocheffizienter Leuchtstoff
US6793782B2 (en) 2001-12-21 2004-09-21 Ifire Technology Inc. Sputter deposition process for electroluminescent phosphors
JP4190258B2 (ja) 2002-11-08 2008-12-03 星和電機株式会社 蛍光体の製造方法
US8133554B2 (en) 2004-05-06 2012-03-13 Micron Technology, Inc. Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces
US7427367B2 (en) * 2004-08-06 2008-09-23 Ifire Technology Corp. Barium thioaluminate phosphor materials with novel crystal structures
CN103289687B (zh) * 2012-02-28 2015-10-28 海洋王照明科技股份有限公司 铈掺杂硫代铝酸盐发光薄膜、制备方法及其应用

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5361964A (en) * 1976-11-15 1978-06-02 Dainippon Toryo Kk Green color emission fluorescent substance and color braun tube
JPS63218194A (ja) * 1987-03-06 1988-09-12 シャープ株式会社 薄膜el素子
JP3005027B2 (ja) * 1990-09-11 2000-01-31 旭化成工業株式会社 エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
US5309070A (en) 1991-03-12 1994-05-03 Sun Sey Shing AC TFEL device having blue light emitting thiogallate phosphor
US5505986A (en) * 1994-02-14 1996-04-09 Planar Systems, Inc. Multi-source reactive deposition process for the preparation of blue light emitting phosphor layers for AC TFEL devices
JPH07242869A (ja) * 1994-03-04 1995-09-19 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 薄膜エレクトロルミネッセンス素子
JPH0883685A (ja) * 1994-09-14 1996-03-26 Sharp Corp 白色el素子

Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6863996B2 (en) 2000-04-17 2005-03-08 The Westaim Corporation Fluorescent thin film, its fabrication process, and EL panel
US6761835B2 (en) 2000-07-07 2004-07-13 Tdk Corporation Phosphor multilayer and EL panel
US6614173B2 (en) 2000-07-07 2003-09-02 Tdk Corporation Fluorescent thin film, preparation method, and EL panel
US6919682B2 (en) 2000-09-14 2005-07-19 Ifire Technology Inc. Magnesium barium thioaluminate and related phosphor materials
JP2004524378A (ja) * 2000-09-14 2004-08-12 アイファイアー テクノロジー インコーポレーテッド マグネシウムバリウムチオアルミネート及び同類の発光体物質
US6699596B2 (en) 2000-09-21 2004-03-02 Tdk Corp Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US6793962B2 (en) 2000-11-17 2004-09-21 Tdk Corporation EL phosphor multilayer thin film and EL device
US6734469B2 (en) 2000-11-17 2004-05-11 Tdk Corporation EL phosphor laminate thin film and EL device
US6821647B2 (en) 2001-04-19 2004-11-23 Tdk Corporation Phosphor thin film preparation method, and EL panel
US7005198B2 (en) 2001-04-19 2006-02-28 The Westaim Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US6627251B2 (en) 2001-04-19 2003-09-30 Tdk Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
EP1251158A3 (en) * 2001-04-19 2008-10-08 iFire IP Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US6656610B2 (en) 2001-04-19 2003-12-02 Tdk Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
EP1251158A2 (en) * 2001-04-19 2002-10-23 TDK Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
CN100455637C (zh) * 2001-04-19 2009-01-28 伊菲雷知识产权公司 荧光体薄膜、其制造方法以及el面板
CN100453618C (zh) * 2001-04-19 2009-01-21 伊菲雷知识产权公司 荧光体薄膜、其制造方法以及el面板
KR100430565B1 (ko) * 2001-05-31 2004-05-10 한국전자통신연구원 알루미늄설파이드를 포함하는 형광체 및 그 제조방법
US6597108B2 (en) 2001-07-27 2003-07-22 Tdk Corporation Multi-color el panel comprising phosphor thin films with europium as luminescent center
US6781304B2 (en) 2002-01-21 2004-08-24 Tdk Corporation EL panel
US7011896B2 (en) 2002-02-06 2006-03-14 The Westaim Corporation Phosphor thin film, preparation method, and EL panel
US7540976B2 (en) 2003-03-06 2009-06-02 Ifire Ip Corporation Sputtering target for forming thin phosphor film
JP2005063813A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Tdk Corp El素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、el素子製造用スパッタリングターゲット、el素子及びel素子の製造方法
JP2005063812A (ja) * 2003-08-12 2005-03-10 Tdk Corp El素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法、el素子製造用スパッタリングターゲット、el素子及びel素子の製造方法
JP2006342420A (ja) * 2005-05-09 2006-12-21 Mitsubishi Materials Corp エレクトロルミネッセンス素子における蛍光体膜形成用高強度スパッタリングターゲット
WO2006120961A1 (ja) * 2005-05-09 2006-11-16 Mitsubishi Materials Corporation エレクトロルミネッセンス素子における蛍光体膜形成用高強度スパッタリングターゲット
US8105467B2 (en) 2005-05-09 2012-01-31 Mitsubishi Materials Corporation High strength sputtering target for forming phosphor film in electroluminescence element
JP2008069252A (ja) * 2006-09-13 2008-03-27 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 無機el用蛍光体の製造方法
JP2009221264A (ja) * 2008-03-13 2009-10-01 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 無機el用蛍光体の製造方法
US10379267B2 (en) 2011-03-31 2019-08-13 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly
US9693424B2 (en) 2011-03-31 2017-06-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly
US9696462B2 (en) 2011-03-31 2017-07-04 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly
US9693423B2 (en) 2011-03-31 2017-06-27 Sumitomo Chemical Company, Limited Metal-based particle assembly
US9257662B2 (en) 2011-10-03 2016-02-09 Sumitomo Chemical Company, Limited Quantum dot light-emitting device
JP2013189570A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Sumitomo Metal Mining Co Ltd Eu賦活アルカリ土類金属チオアルミネート蛍光体及びその製造方法
US9263630B2 (en) 2012-03-27 2016-02-16 Sumitomo Chemical Company, Limited Inorganic layer light-emitting device

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EP0740490B1 (en) 2001-06-06
DE69521198T2 (de) 2002-01-31
FI962833A0 (fi) 1996-07-12

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