JPH08114885A - 光像形成材料 - Google Patents
光像形成材料Info
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- JPH08114885A JPH08114885A JP6249112A JP24911294A JPH08114885A JP H08114885 A JPH08114885 A JP H08114885A JP 6249112 A JP6249112 A JP 6249112A JP 24911294 A JP24911294 A JP 24911294A JP H08114885 A JPH08114885 A JP H08114885A
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/002—Photosensitive materials containing microcapsules
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
- G03C1/732—Leuco dyes
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対
応する染料にラジカル酸化発色する方法を用いた、定着
可能な光像形成材料において、定着後、暗所保存時に地
肌部が発色しない(かぶらない)光像形成材料を提供す
る。 【構成】 少なくとも、酸化発色可能なロイコ染料と
光酸化剤を内包したマイクロカプセル、及び還元剤と
定着促進剤を含有する塗布層を支持体上に形成した光像
形成材料において、還元剤が2位及び5位にアルキル基
が置換されたハイドロキノン誘導体で、かつ、定着促進
剤が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
である。
応する染料にラジカル酸化発色する方法を用いた、定着
可能な光像形成材料において、定着後、暗所保存時に地
肌部が発色しない(かぶらない)光像形成材料を提供す
る。 【構成】 少なくとも、酸化発色可能なロイコ染料と
光酸化剤を内包したマイクロカプセル、及び還元剤と
定着促進剤を含有する塗布層を支持体上に形成した光像
形成材料において、還元剤が2位及び5位にアルキル基
が置換されたハイドロキノン誘導体で、かつ、定着促進
剤が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン
である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプルーフ紙、プリントア
ウト紙、オーバーレイフイルム等に用いることのできる
光像形成材料に関するものであり、特に熱定着可能なロ
イコ染料系光像形成材料に関するものである。更に詳し
くは、定着後、暗所保存時に地肌部が発色しない(かぶ
らない)光像形成材料に関する。
ウト紙、オーバーレイフイルム等に用いることのできる
光像形成材料に関するものであり、特に熱定着可能なロ
イコ染料系光像形成材料に関するものである。更に詳し
くは、定着後、暗所保存時に地肌部が発色しない(かぶ
らない)光像形成材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プルーフ紙、プリントアウト紙、
オーバーレイフイルム等の用途に用いることのできる光
像形成材料は、画像露光することで感光部分が可視化さ
れるいわゆるフリ−ラジカル写真として、多くの写真的
応用がなされてきている。これに関して特に有効なもの
は、光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対応する
染料にラジカル酸化発色する方法である。これらは光に
対して感受性であるが故に露光により染料画像を形成さ
せた後においても通常の室内光線、太陽光又は白色光に
曝された場合に色形成がおこる。そこで画像露光後定着
を行うという方法がいくつか提案されている。その中
で、ロイコ染料と光酸化剤とが一緒にマイクロカプセル
中に内包されており、かつ該マイクロカプセルの外側に
還元剤を存在させて露光後に加熱処理を行う事により定
着を行う光像形成材料が見出されている(特開平2−4
4号)。この光像形成材料の定着後の記録材料の保存安
定性を向上させるためにハイドロキノン系の還元剤(特
開平3−191341)を用いることが知られている。
しかしながら、これらのハイドロキノン系の還元剤は定
着後、暗所保存時に地肌部が発色する(かぶる)という
問題があり画像と地肌(白色部)のコントラストが低下
するための品質劣化により満足のいく性能のものは得ら
れていなかった。
オーバーレイフイルム等の用途に用いることのできる光
像形成材料は、画像露光することで感光部分が可視化さ
れるいわゆるフリ−ラジカル写真として、多くの写真的
応用がなされてきている。これに関して特に有効なもの
は、光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対応する
染料にラジカル酸化発色する方法である。これらは光に
対して感受性であるが故に露光により染料画像を形成さ
せた後においても通常の室内光線、太陽光又は白色光に
曝された場合に色形成がおこる。そこで画像露光後定着
を行うという方法がいくつか提案されている。その中
で、ロイコ染料と光酸化剤とが一緒にマイクロカプセル
中に内包されており、かつ該マイクロカプセルの外側に
還元剤を存在させて露光後に加熱処理を行う事により定
着を行う光像形成材料が見出されている(特開平2−4
4号)。この光像形成材料の定着後の記録材料の保存安
定性を向上させるためにハイドロキノン系の還元剤(特
開平3−191341)を用いることが知られている。
しかしながら、これらのハイドロキノン系の還元剤は定
着後、暗所保存時に地肌部が発色する(かぶる)という
問題があり画像と地肌(白色部)のコントラストが低下
するための品質劣化により満足のいく性能のものは得ら
れていなかった。
【0003】一方、定着温度の低温化、定着時間の短縮
化のために還元剤と還元剤の融点を降下させる化合物を
併用する、低温定着型の光像形成材料が提案されている
(特開平1−234842、同1−252953)。し
かしながら、このような化合物を併用した系においても
定着後、暗所保存時の地肌部の発色(かぶり)を防止で
きなかった。
化のために還元剤と還元剤の融点を降下させる化合物を
併用する、低温定着型の光像形成材料が提案されている
(特開平1−234842、同1−252953)。し
かしながら、このような化合物を併用した系においても
定着後、暗所保存時の地肌部の発色(かぶり)を防止で
きなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対応する
染料にラジカル酸化発色する方法を用いた、定着可能な
光像形成材料において、定着後、暗所保存時に地肌部が
発色しない(かぶらない)光像形成材料を提供すること
にある。
は、光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対応する
染料にラジカル酸化発色する方法を用いた、定着可能な
光像形成材料において、定着後、暗所保存時に地肌部が
発色しない(かぶらない)光像形成材料を提供すること
にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、少なく
とも、酸化発色可能なロイコ染料と光酸化剤を内包し
たマイクロカプセル、及び還元剤と定着促進剤を含有
する塗布層を支持体上に形成した光像形成材料におい
て、還元剤が2位及び5位にアルキル基が置換されたハ
イドロキノン誘導体で、かつ、定着促進剤が2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンであることを特
徴とする光像形成材料によって達成された。
とも、酸化発色可能なロイコ染料と光酸化剤を内包し
たマイクロカプセル、及び還元剤と定着促進剤を含有
する塗布層を支持体上に形成した光像形成材料におい
て、還元剤が2位及び5位にアルキル基が置換されたハ
イドロキノン誘導体で、かつ、定着促進剤が2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンであることを特
徴とする光像形成材料によって達成された。
【0006】本発明に係るハイドロキノン誘導体は、下
記一般式(1)で表される。 一般式(1)
記一般式(1)で表される。 一般式(1)
【0007】
【化1】
【0008】一般式(1)において、R1、R2はアルキ
ル基を表し、炭素原子数1〜16のアルキル基が好まし
い。特には、炭素原子数1〜10のアルキル基が好まし
い。具体的には、メチル基、エチル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、iso−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−
ヘキシル基、tert−ヘキシル基、n−オクチル基、
tert−オクチル基等を挙げることができる。
ル基を表し、炭素原子数1〜16のアルキル基が好まし
い。特には、炭素原子数1〜10のアルキル基が好まし
い。具体的には、メチル基、エチル基、n−ブチル基、
sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、iso−ペンチル基、tert−ペンチル基、n−
ヘキシル基、tert−ヘキシル基、n−オクチル基、
tert−オクチル基等を挙げることができる。
【0009】更に、一般式(1)において、R1、R2の
少なくとも一方が3級アルキル基であるハイドロキノン
誘導体がより好ましい。3級アルキル基とは所謂ter
t−アルキル基のことであり、ハイドロキノンのベンゼ
ン炭素から数えて1つめの炭素原子が全て炭素原子と結
合しているアルキル基のことを表す。R1、R2の少なく
とも一方が3級アルキル基を表す場合、炭素原子数4〜
20の3級アルキル基が好ましい。特には、炭素原子数
4〜12の3級アルキル基が好ましい。具体的には、t
ert−ブチル基、tert−ペンチル基、tert−
ヘキシル基、tert−オクチル基(1,1,3,3−
テトラメチルブチル基)等を挙げることができる。中で
も、tert−ペンチル基、tert−ヘキシル基、t
ert−オクチル基が好ましい。
少なくとも一方が3級アルキル基であるハイドロキノン
誘導体がより好ましい。3級アルキル基とは所謂ter
t−アルキル基のことであり、ハイドロキノンのベンゼ
ン炭素から数えて1つめの炭素原子が全て炭素原子と結
合しているアルキル基のことを表す。R1、R2の少なく
とも一方が3級アルキル基を表す場合、炭素原子数4〜
20の3級アルキル基が好ましい。特には、炭素原子数
4〜12の3級アルキル基が好ましい。具体的には、t
ert−ブチル基、tert−ペンチル基、tert−
ヘキシル基、tert−オクチル基(1,1,3,3−
テトラメチルブチル基)等を挙げることができる。中で
も、tert−ペンチル基、tert−ヘキシル基、t
ert−オクチル基が好ましい。
【0010】以下に本発明に使用できる一般式(1)で
表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定され
るものではない。2,5−ジ−tert−ブチルハイド
ロキノン、2,5−ジ−tert−ペンチルハイドロキ
ノン、2,5−ジ−tert−ヘキシルハイドロキノ
ン、2,5−ジ−tert−オクチルハイドロキノン、
2,5−ジ−tert−ノニルハイドロキノン、2−メ
チル−5−tert−ブチルハイドロキノン、2−n−
ヘキシル−5−tert−ブチルハイドロキノン、2−
メチル−5−tert−ペンチルハイドロキノン、2−
メチル−5−tert−ヘキシルハイドロキノン、2−
メチル−5−tert−オクチルハイドロキノンなどが
挙げられる。
表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定され
るものではない。2,5−ジ−tert−ブチルハイド
ロキノン、2,5−ジ−tert−ペンチルハイドロキ
ノン、2,5−ジ−tert−ヘキシルハイドロキノ
ン、2,5−ジ−tert−オクチルハイドロキノン、
2,5−ジ−tert−ノニルハイドロキノン、2−メ
チル−5−tert−ブチルハイドロキノン、2−n−
ヘキシル−5−tert−ブチルハイドロキノン、2−
メチル−5−tert−ペンチルハイドロキノン、2−
メチル−5−tert−ヘキシルハイドロキノン、2−
メチル−5−tert−オクチルハイドロキノンなどが
挙げられる。
【0011】本発明の光像形成材料の定着後、暗所保存
時の地肌部の発色(かぶり)は、上記の特定の還元剤で
ある2位及び5位にアルキル基が置換されたハイドロキ
ノン誘導体と特定の定着促進剤である2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパンを組み合わせることに
より抑えることができる。
時の地肌部の発色(かぶり)は、上記の特定の還元剤で
ある2位及び5位にアルキル基が置換されたハイドロキ
ノン誘導体と特定の定着促進剤である2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパンを組み合わせることに
より抑えることができる。
【0012】本発明に係るロイコ染料としては、例えば
米国特許3445234号明細書に記載されているもの
が好ましく、ここに参照として記載する。 (A) アミノトリアリ−ルメタン、アミノキサンテ
ン、アミノチオキサンテン、アミノ−9,10−ジヒド
ロアクリジン、アミノフェノキサジン、アミノフェノチ
アジン、アミノジヒドロフェナジン、アミノジフェニル
メタン、ロイコインダミン、(B) アミノヒドロ桂皮
酸(シアノエタン)、ヒドラジン、ロイコインジゴイド
染料、アミノ−2,3−ジヒドロアントラキノン、テト
ラハロ−p,p,−ビフェノ−ル、2−(p−ヒドロキ
シフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾ−ル、フェ
ネチルアニリン。これらのロイコ形の中で(A)は1個
の水素原子を失うことにより、(B)は2個の水素原子
を失うことにより母体染料を生成する。
米国特許3445234号明細書に記載されているもの
が好ましく、ここに参照として記載する。 (A) アミノトリアリ−ルメタン、アミノキサンテ
ン、アミノチオキサンテン、アミノ−9,10−ジヒド
ロアクリジン、アミノフェノキサジン、アミノフェノチ
アジン、アミノジヒドロフェナジン、アミノジフェニル
メタン、ロイコインダミン、(B) アミノヒドロ桂皮
酸(シアノエタン)、ヒドラジン、ロイコインジゴイド
染料、アミノ−2,3−ジヒドロアントラキノン、テト
ラハロ−p,p,−ビフェノ−ル、2−(p−ヒドロキ
シフェニル)−4,5−ジフェニルイミダゾ−ル、フェ
ネチルアニリン。これらのロイコ形の中で(A)は1個
の水素原子を失うことにより、(B)は2個の水素原子
を失うことにより母体染料を生成する。
【0013】具体的には、トリス(4−ジメチルアミノ
フエニル)メタン、トリス(4−ジエチルアミノフエニ
ル)メタン、トリス(4−ジエチルアミノ−2−メチル
フエニル)メタン、ビス(4−ジエチルアミノフエニ
ル)−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニル)メ
タン、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニ
ル)−(4−ジエチルアミノフエニル)メタン、ビス
(1−エチル−2−メチルインド−ル−3−イル)−フ
エニルメタン、2−N−(3−トリフルオロメチルフェ
ニル)−N−エチルアミノ−6−ジエチルアミノ−9−
(2−メトキシカルボニルフェニル)キサンテン、2−
(2−クロロフェニル)アミノ−6−ジブチルアミノ−
9−(2−メトキシカルボニルフェニル)キサンテン、
2−ジベンジルアミノ−6−ジエチルアミノ−9−(2
−メトキシカルボニルフェニル)キサンテン、ベンゾ
〔a〕−6−N,N−ジエチルアミノ−9−(2−メト
キシカルボニルフェニル)キサンテン、2−(2−クロ
ロフェニル)−アミノ−6−ジブチルアミノ−9−(2
−メチルフェニルカルボキサミドフェニル)キサンテ
ン、3,6−ジメトキシ−9−(2−メトキシカルボニ
ル)−フェニルキサンテン、ベンゾイルロイコメチレン
ブル−、3,7−ビス−ジエチルアミノフェノキサジン
等を挙げることができる。
フエニル)メタン、トリス(4−ジエチルアミノフエニ
ル)メタン、トリス(4−ジエチルアミノ−2−メチル
フエニル)メタン、ビス(4−ジエチルアミノフエニ
ル)−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニル)メ
タン、ビス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフエニ
ル)−(4−ジエチルアミノフエニル)メタン、ビス
(1−エチル−2−メチルインド−ル−3−イル)−フ
エニルメタン、2−N−(3−トリフルオロメチルフェ
ニル)−N−エチルアミノ−6−ジエチルアミノ−9−
(2−メトキシカルボニルフェニル)キサンテン、2−
(2−クロロフェニル)アミノ−6−ジブチルアミノ−
9−(2−メトキシカルボニルフェニル)キサンテン、
2−ジベンジルアミノ−6−ジエチルアミノ−9−(2
−メトキシカルボニルフェニル)キサンテン、ベンゾ
〔a〕−6−N,N−ジエチルアミノ−9−(2−メト
キシカルボニルフェニル)キサンテン、2−(2−クロ
ロフェニル)−アミノ−6−ジブチルアミノ−9−(2
−メチルフェニルカルボキサミドフェニル)キサンテ
ン、3,6−ジメトキシ−9−(2−メトキシカルボニ
ル)−フェニルキサンテン、ベンゾイルロイコメチレン
ブル−、3,7−ビス−ジエチルアミノフェノキサジン
等を挙げることができる。
【0014】本発明の光像形成材料に使用できる好まし
い光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫外線、
赤外線、X線のような活性輻射線に露光されると、ロイ
コ染料をその発色型に酸化する化学種を生ずるものであ
る。代表的な光酸化剤としては、特公昭62−3972
8号、特公昭63−2099号記載の2,2’−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフ
ルオロメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフ
ルオロメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
キス(4−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(3,4−メチレンジオキ
シフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニ
トロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(3−メトキシ
フェニル)ビイミダゾール、2,2’5−トリス(o−
クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)−4’,5’−ジフェニルビイミダゾールの如きロ
フィンダイマ−化合物、米国特許3282693号記載
の2−アジドベンゾオキサゾ−ル、ベンゾイルアジド、
2−アジドベンズイミダゾ−ルの如きアジド化合物、米
国特許3615568号記載の3’−エチル−1−メト
キシ−2−ピリドチアシアニンパ−クロレ−ト、1−メ
トキシ−2−メチルピリジニウム−p−トルエンスルホ
ネ−ト等のピリジニウム化合物、N−ブロモサクシンイ
ミド、トリブロモメチルフェニルスルホン、2−トリク
ロロメチル−5−(p−ブトキシスチリル)−1,3,
4−オキサジアゾ−ル、2,6−ジトリクロロメチル−
4−(p−メトキシフェニル)−トリアジン等の有機ハ
ロゲン化合物、日本写真学会1968年春季研究発表会
講演要旨55ペ−ジ記載のアジドポリマ−等を挙げるこ
とができる。これらのうちロフィンダイマ−化合物及び
有機ハロゲン化合物が好適で、更に両者の併用が高感度
化を実現できるので最適である。本発明の光像形成材料
の製造にあたっては、ロイコ染料と光酸化剤とをモル比
で10:1〜1:10の割合で混合するとよく、更に好
ましい混合比は2:1〜1:2である。
い光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫外線、
赤外線、X線のような活性輻射線に露光されると、ロイ
コ染料をその発色型に酸化する化学種を生ずるものであ
る。代表的な光酸化剤としては、特公昭62−3972
8号、特公昭63−2099号記載の2,2’−ビス
(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフ
ルオロメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
フェニルビイミダゾール、2,2’−ビス(o−トリフ
ルオロメチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ
キス(4−メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−トリフルオロメチルフェニル)−4,
4’,5,5’−テトラキス(3,4−メチレンジオキ
シフェニル)ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−ニ
トロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル
ビイミダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフ
ェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミ
ダゾール、2,2’−ビス(2,3−ジクロロフェニ
ル)−4,4’,5,5’−テトラキス(3−メトキシ
フェニル)ビイミダゾール、2,2’5−トリス(o−
クロロフェニル)−4−(3,4−ジメトキシフェニ
ル)−4’,5’−ジフェニルビイミダゾールの如きロ
フィンダイマ−化合物、米国特許3282693号記載
の2−アジドベンゾオキサゾ−ル、ベンゾイルアジド、
2−アジドベンズイミダゾ−ルの如きアジド化合物、米
国特許3615568号記載の3’−エチル−1−メト
キシ−2−ピリドチアシアニンパ−クロレ−ト、1−メ
トキシ−2−メチルピリジニウム−p−トルエンスルホ
ネ−ト等のピリジニウム化合物、N−ブロモサクシンイ
ミド、トリブロモメチルフェニルスルホン、2−トリク
ロロメチル−5−(p−ブトキシスチリル)−1,3,
4−オキサジアゾ−ル、2,6−ジトリクロロメチル−
4−(p−メトキシフェニル)−トリアジン等の有機ハ
ロゲン化合物、日本写真学会1968年春季研究発表会
講演要旨55ペ−ジ記載のアジドポリマ−等を挙げるこ
とができる。これらのうちロフィンダイマ−化合物及び
有機ハロゲン化合物が好適で、更に両者の併用が高感度
化を実現できるので最適である。本発明の光像形成材料
の製造にあたっては、ロイコ染料と光酸化剤とをモル比
で10:1〜1:10の割合で混合するとよく、更に好
ましい混合比は2:1〜1:2である。
【0015】本発明において好ましいカプセルは、常温
ではマイクロカプセル壁の物質隔離作用によりカプセル
内外の物質の接触を妨げ、ある温度以上に加熱された時
のみ物質の透過性が上がるものである。この現象は、カ
プセル壁材、カプセル芯物質、添加剤を適宜選ぶことに
より、その透過開始温度を自由にコントロ−ルすること
ができる。この場合の透過開始温度は、カプセル壁のガ
ラス転移温度に相当するものである。カプセル壁固有の
ガラス転移温度を制御するには、カプセル壁形成剤の種
類を変えることが必要である。本発明において使用し得
る壁材料としては、ポリウレタン、ポリウレア、ポリア
ミド、ポリエステル、ポリカ−ボネ−ト等が挙げられ、
この中で特にポリウレタン及びポリウレアが好ましい。
本発明で使用するマイクロカプセルは、ロイコ染料及び
光酸化剤等の光像形成物質を含有した芯物質を乳化した
後、その乳化油滴の周囲に高分子物質の壁を形成して作
られる。この場合壁を形成するリアクタントを油滴の内
部及び/又は油滴の外部に添加する。
ではマイクロカプセル壁の物質隔離作用によりカプセル
内外の物質の接触を妨げ、ある温度以上に加熱された時
のみ物質の透過性が上がるものである。この現象は、カ
プセル壁材、カプセル芯物質、添加剤を適宜選ぶことに
より、その透過開始温度を自由にコントロ−ルすること
ができる。この場合の透過開始温度は、カプセル壁のガ
ラス転移温度に相当するものである。カプセル壁固有の
ガラス転移温度を制御するには、カプセル壁形成剤の種
類を変えることが必要である。本発明において使用し得
る壁材料としては、ポリウレタン、ポリウレア、ポリア
ミド、ポリエステル、ポリカ−ボネ−ト等が挙げられ、
この中で特にポリウレタン及びポリウレアが好ましい。
本発明で使用するマイクロカプセルは、ロイコ染料及び
光酸化剤等の光像形成物質を含有した芯物質を乳化した
後、その乳化油滴の周囲に高分子物質の壁を形成して作
られる。この場合壁を形成するリアクタントを油滴の内
部及び/又は油滴の外部に添加する。
【0016】上記の光像形成物質を溶解する有機溶剤と
しては高沸点オイルが用いられ、具体的にはリン酸エス
テル、フタル酸エステル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、その他のカルボン酸エステル、脂肪酸
アミド、アルキル化ビフェニル、アルキル化タ−フェニ
ル、アルキル化ナフタレン、ジアリ−ルエタン、塩素化
パラフィン等が挙げられる。本発明においては、上記の
有機溶剤に低沸点の補助溶剤を加えることもできる。補
助溶剤の具体例としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、シクロヘキサノ
ン等が挙げられる。乳化油滴を安定に作るために、水相
に保護コロイドや界面活性剤を添加することができる。
保護コロイドとしては、一般的に水溶性高分子が使用可
能である。
しては高沸点オイルが用いられ、具体的にはリン酸エス
テル、フタル酸エステル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、その他のカルボン酸エステル、脂肪酸
アミド、アルキル化ビフェニル、アルキル化タ−フェニ
ル、アルキル化ナフタレン、ジアリ−ルエタン、塩素化
パラフィン等が挙げられる。本発明においては、上記の
有機溶剤に低沸点の補助溶剤を加えることもできる。補
助溶剤の具体例としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、シクロヘキサノ
ン等が挙げられる。乳化油滴を安定に作るために、水相
に保護コロイドや界面活性剤を添加することができる。
保護コロイドとしては、一般的に水溶性高分子が使用可
能である。
【0017】本発明においては、マイクロカプセルのサ
イズは、特に画像の解像度向上及び取り扱い性の点から
体積平均で20μm以下が好ましく、更に好ましくは4
μm以下である。下限としては、0.1μm以上、好ま
しくは0.3μm以上である。
イズは、特に画像の解像度向上及び取り扱い性の点から
体積平均で20μm以下が好ましく、更に好ましくは4
μm以下である。下限としては、0.1μm以上、好ま
しくは0.3μm以上である。
【0018】本発明の光像形成材料において、使用前の
安定性を更に付与するために酸化防止剤をマイクロカプ
セル中に含有させることができる。酸化防止剤としては
フエノ−ル系化合物、ハイドロキノン系化合物、カテコ
−ル系化合物、アニリン系化合物などがこのましい。具
体的には、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノ
−ル、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノ−ル、
2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,3−ジ−
t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−オクチル
ハイドロキノン、2,5−ジ−t−アミルハイドロキノ
ン、3,6−ジ−t−ブチルカテコ−ル、N,N−ジオ
クチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン、
N,N−ジブチル−m−トルイジン、N,N−ジエチル
−m−フエネチジン、N,N−ジエチルアミノ−m−オ
クチルオキシベンゼン、6−エトキシ−1,2,3,4
−テトラヒドロ−2,2,4−トリメチルキノリン、
1,2−ビス(m−ジメチルアミノフエノキシ)エタ
ン、1,2−ビス(m−ジエチルアミノフエノキシ)エ
タン、1,3−ビス(m−ジエチルアミノフエノキシ)
プロパンなどが挙げられる。本発明の光像形成材料の製
造にあたり、光酸化剤と酸化防止剤とをモル比で10:
0.001〜10:2の割合で混合するとよく、更に好
ましい混合比は10:0.01〜10:1である。
安定性を更に付与するために酸化防止剤をマイクロカプ
セル中に含有させることができる。酸化防止剤としては
フエノ−ル系化合物、ハイドロキノン系化合物、カテコ
−ル系化合物、アニリン系化合物などがこのましい。具
体的には、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフエノ
−ル、2,4,6−トリ−t−ブチルフェノ−ル、
2,5−ジ−t−ブチルハイドロキノン、2,3−ジ−
t−ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−t−オクチル
ハイドロキノン、2,5−ジ−t−アミルハイドロキノ
ン、3,6−ジ−t−ブチルカテコ−ル、N,N−ジオ
クチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン、
N,N−ジブチル−m−トルイジン、N,N−ジエチル
−m−フエネチジン、N,N−ジエチルアミノ−m−オ
クチルオキシベンゼン、6−エトキシ−1,2,3,4
−テトラヒドロ−2,2,4−トリメチルキノリン、
1,2−ビス(m−ジメチルアミノフエノキシ)エタ
ン、1,2−ビス(m−ジエチルアミノフエノキシ)エ
タン、1,3−ビス(m−ジエチルアミノフエノキシ)
プロパンなどが挙げられる。本発明の光像形成材料の製
造にあたり、光酸化剤と酸化防止剤とをモル比で10:
0.001〜10:2の割合で混合するとよく、更に好
ましい混合比は10:0.01〜10:1である。
【0019】本発明において、ハイドロキノン誘導体と
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンはサ
ンドミル等により固体分散するか、もしくはオイルに溶
解して乳化分散するかして用いるのがよい。固体分散又
は乳化分散する時に保護コロイドを使用することが好ま
しい。
2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパンはサ
ンドミル等により固体分散するか、もしくはオイルに溶
解して乳化分散するかして用いるのがよい。固体分散又
は乳化分散する時に保護コロイドを使用することが好ま
しい。
【0020】本発明においてハイドロキノン誘導体の使
用量は光酸化剤成分のモル基準で1〜100倍モル量で
あり、更に好ましくは2〜20倍モル量である。
用量は光酸化剤成分のモル基準で1〜100倍モル量で
あり、更に好ましくは2〜20倍モル量である。
【0021】本発明において2,2−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)プロパンの使用量は本発明のハイドロキ
ノン誘導体のモル基準で0.5〜20倍モル量であり、
更に好ましくは1〜10倍モル量である。
キシフェニル)プロパンの使用量は本発明のハイドロキ
ノン誘導体のモル基準で0.5〜20倍モル量であり、
更に好ましくは1〜10倍モル量である。
【0022】本発明における画像の定着は、以上述べた
ように加熱によりカプセル壁を通して光酸化剤と還元剤
の接触で有効に達成しうるが、加熱と加圧を同時に行う
ことで相乗的な効果を期待することもできる。
ように加熱によりカプセル壁を通して光酸化剤と還元剤
の接触で有効に達成しうるが、加熱と加圧を同時に行う
ことで相乗的な効果を期待することもできる。
【0023】本発明における光像形成材料は、このよう
なロイコ染料と光酸化剤を内包したマイクロカプセル及
び還元剤の分散物として支持体上に塗布して作ることが
できる。上記のロイコ染料と光酸化剤を内包したマイク
ロカプセル及び還元剤の分散物にバインダー、顔料、ワ
ックス類、金属石鹸、融点降下剤あるいは界面活性剤を
加えてもよく、本発明における光像形成層の塗布量とし
ては固形分換算で2〜30g/m2、特に3〜20g/
m2が好ましい。
なロイコ染料と光酸化剤を内包したマイクロカプセル及
び還元剤の分散物として支持体上に塗布して作ることが
できる。上記のロイコ染料と光酸化剤を内包したマイク
ロカプセル及び還元剤の分散物にバインダー、顔料、ワ
ックス類、金属石鹸、融点降下剤あるいは界面活性剤を
加えてもよく、本発明における光像形成層の塗布量とし
ては固形分換算で2〜30g/m2、特に3〜20g/
m2が好ましい。
【0024】支持体に適する材料は、ティッシュペ−パ
−から厚手のボ−ル紙にいたるまでの紙類、再生セルロ
−ス、酢酸セルロ−ス、硝酸セルロ−ス、ポリエチレン
テレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリビニルアセテ−
ト、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリビニルクロライド
等が挙げられる。支持体に塗布する方法としては、エア
−ナイフコ−ト法、カ−テンコ−ト法、スライドコ−ト
法、ロ−ラ−コ−ト法、ディップコ−ト法、ワイヤ−バ
−コ−ト法、ブレ−ドコ−ト法、グラビアコ−ト法、ス
ピンコ−ト法あるいはエクストル−ジョンコ−ト法等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、
必要により支持体上に下塗り層を設けたり、或いは光像
形成層上に被覆層を設けたりしてもよい。下塗り層や被
覆層は主成分としてバインダー及び/又は顔料を含んで
いる。
−から厚手のボ−ル紙にいたるまでの紙類、再生セルロ
−ス、酢酸セルロ−ス、硝酸セルロ−ス、ポリエチレン
テレフタレ−ト、ポリエチレン、ポリビニルアセテ−
ト、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリビニルクロライド
等が挙げられる。支持体に塗布する方法としては、エア
−ナイフコ−ト法、カ−テンコ−ト法、スライドコ−ト
法、ロ−ラ−コ−ト法、ディップコ−ト法、ワイヤ−バ
−コ−ト法、ブレ−ドコ−ト法、グラビアコ−ト法、ス
ピンコ−ト法あるいはエクストル−ジョンコ−ト法等が
挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、
必要により支持体上に下塗り層を設けたり、或いは光像
形成層上に被覆層を設けたりしてもよい。下塗り層や被
覆層は主成分としてバインダー及び/又は顔料を含んで
いる。
【0025】本発明においてはいかなる便利な光源も光
酸化剤の活性化及びロイコ染料の像の形成のために使用
することができる。慣用の光源は蛍光ランプ、水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングス
テンランプ等を包含する。以下に実施例を示すが、本発
明はこれに限定されるものではない。尚添加量を示す
「部」は「重量部」を示す。
酸化剤の活性化及びロイコ染料の像の形成のために使用
することができる。慣用の光源は蛍光ランプ、水銀ラン
プ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングス
テンランプ等を包含する。以下に実施例を示すが、本発
明はこれに限定されるものではない。尚添加量を示す
「部」は「重量部」を示す。
【0026】
実施例1 トリス(4−ジメチルアミノフエニル)メタン1部、ト
リス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)メタ
ン2.4部、2,2’−ビス−(o−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ−ル
6.6部、トリブロモメチルフェニルスルホン1.3部
及びキシリレンジイソシアナ−ト/トリメチロ−ルプロ
パン付加物の75重量%酢酸エチル溶液33部を酢酸エ
チル53部とトリキシレニルホスフェート33部の混合
溶媒に添加し、溶解した。この溶液を、カルボキシ変性
ポリビニルアルコ−ル5重量%水溶液213部の中に添
加し、20℃で乳化分散し、平均粒径1μmの乳化液を
得た。得られた乳化液に水88部を加え、50℃にて3
時間撹拌しつづけた。その後室温にもどし、濾過してカ
プセル分散液を得た。この分散液の固形分濃度を測定し
たところ25.0%であった。
リス(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)メタ
ン2.4部、2,2’−ビス−(o−クロロフェニル)
−4,4’,5,5’−テトラフェニルビイミダゾ−ル
6.6部、トリブロモメチルフェニルスルホン1.3部
及びキシリレンジイソシアナ−ト/トリメチロ−ルプロ
パン付加物の75重量%酢酸エチル溶液33部を酢酸エ
チル53部とトリキシレニルホスフェート33部の混合
溶媒に添加し、溶解した。この溶液を、カルボキシ変性
ポリビニルアルコ−ル5重量%水溶液213部の中に添
加し、20℃で乳化分散し、平均粒径1μmの乳化液を
得た。得られた乳化液に水88部を加え、50℃にて3
時間撹拌しつづけた。その後室温にもどし、濾過してカ
プセル分散液を得た。この分散液の固形分濃度を測定し
たところ25.0%であった。
【0027】次に、2,5−ジ−tert−オクチルハ
イドロキノン10部及び2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン16部をカルボキシ変性ポリビニル
アルコ−ル6重量%水溶液65部に加えて横型サンドミ
ルにて分散して、平均粒径1μmの還元剤含有分散液を
得た。次に下記の組成の塗布液を調製した。 ・上記カプセル分散液(25%) 100部 ・上記ハイドロキノン及びビスフェノール分散液 75部 ・20%シリカ(サイロイド404、富士デビソン化学(株)製)分散液 10部 ・30%エポキシ化ポリアミド樹脂(FL−71、東邦化学(株)製) 5部 ・10%スルホコハク酸4ーメチルペンチルエステル水溶液 5部 この塗布液を上質紙(坪量76g/m2 )にコ−ティン
グロッドで固形塗布量6g/m2 になるように塗布し、
50℃で乾燥して光像形成材料を得た。
イドロキノン10部及び2,2−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)プロパン16部をカルボキシ変性ポリビニル
アルコ−ル6重量%水溶液65部に加えて横型サンドミ
ルにて分散して、平均粒径1μmの還元剤含有分散液を
得た。次に下記の組成の塗布液を調製した。 ・上記カプセル分散液(25%) 100部 ・上記ハイドロキノン及びビスフェノール分散液 75部 ・20%シリカ(サイロイド404、富士デビソン化学(株)製)分散液 10部 ・30%エポキシ化ポリアミド樹脂(FL−71、東邦化学(株)製) 5部 ・10%スルホコハク酸4ーメチルペンチルエステル水溶液 5部 この塗布液を上質紙(坪量76g/m2 )にコ−ティン
グロッドで固形塗布量6g/m2 になるように塗布し、
50℃で乾燥して光像形成材料を得た。
【0028】実施例2 実施例1における2,5−ジ−tert−オクチルハイ
ドロキノン10部の代わりに2,5−ジ−tert−ヘ
キシルハイドロキノン10部を用いた以外は実施例1と
全く同様に行い、光像形成材料を得た。
ドロキノン10部の代わりに2,5−ジ−tert−ヘ
キシルハイドロキノン10部を用いた以外は実施例1と
全く同様に行い、光像形成材料を得た。
【0029】実施例3 実施例1における2,5−ジ−tert−オクチルハイ
ドロキノン10部の代わりに2,5−ジ−tert−ペ
ンチルハイドロキノン10部を用いた以外は実施例1と
全く同様に行い、光像形成材料を得た。
ドロキノン10部の代わりに2,5−ジ−tert−ペ
ンチルハイドロキノン10部を用いた以外は実施例1と
全く同様に行い、光像形成材料を得た。
【0030】比較例1 実施例1における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン16部を添加しないで還元剤含有分散液を
調製した以外は実施例1と全く同様に行い、光像形成材
料を得た。
ル)プロパン16部を添加しないで還元剤含有分散液を
調製した以外は実施例1と全く同様に行い、光像形成材
料を得た。
【0031】比較例2 実施例1における2,5−ジ−tert−オクチルハイ
ドロキノン10部の代わりにハイドロキノン10部を用
い、さらに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン16部を添加しないで還元剤含有分散液を調製し
た以外は実施例1と全く同様に行い、光像形成材料を得
た。
ドロキノン10部の代わりにハイドロキノン10部を用
い、さらに2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プ
ロパン16部を添加しないで還元剤含有分散液を調製し
た以外は実施例1と全く同様に行い、光像形成材料を得
た。
【0032】比較例3 実施例1における2,5−ジ−tert−オクチルハイ
ドロキノン10部の代わりに2−tert−オクチルハ
イドロキノン10部を用いた以外は実施例1と全く同様
に行い、光像形成材料を得た。
ドロキノン10部の代わりに2−tert−オクチルハ
イドロキノン10部を用いた以外は実施例1と全く同様
に行い、光像形成材料を得た。
【0033】比較例4 実施例1における2,5−ジ−tert−オクチルハイ
ドロキノン10部の代わりにハイドロキノン10部を用
いた以外は実施例1と全く同様に行い、光像形成材料を
得た。
ドロキノン10部の代わりにハイドロキノン10部を用
いた以外は実施例1と全く同様に行い、光像形成材料を
得た。
【0034】比較例5 実施例1における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン16部の代わりにp−キシリレンジオール
16部を用いた以外は実施例1と全く同様に行い、光像
形成材料を得た。
ル)プロパン16部の代わりにp−キシリレンジオール
16部を用いた以外は実施例1と全く同様に行い、光像
形成材料を得た。
【0035】比較例6 実施例1における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン16部の代わりにp−トルエンスルホンア
ミド16部を用いた以外は実施例1と全く同様に行い、
光像形成材料を得た。
ル)プロパン16部の代わりにp−トルエンスルホンア
ミド16部を用いた以外は実施例1と全く同様に行い、
光像形成材料を得た。
【0036】比較例7 実施例1における2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパン16部の代わりにp−ベンジルオキシフェ
ノール16部を用いた以外は実施例1と全く同様に行
い、光像形成材料を得た。
ル)プロパン16部の代わりにp−ベンジルオキシフェ
ノール16部を用いた以外は実施例1と全く同様に行
い、光像形成材料を得た。
【0037】実施例1〜3及び比較例1〜7で得た光像
形成材料の試験を以下の様に行った。結果を表1、2に
示す。 (1)画像濃度、定着直後の地肌濃度 フレッシュなサンプルに対して、線画の原稿を介してジ
ェットライト(超高圧水銀灯、オーク(株)製)により
光照射し、青色の画像を得た。ついで120℃の加熱ロ
ーラーに450mm/分の速度で通し未露光部を定着
し、露光部の画像濃度と未露光部の地肌濃度をマクベス
反射濃度計で測定した。 (2)定着性 上記(1)の方法で作成したサンプルを800ルックス
の室内8時間放置の後、未露光部の地肌濃度をマクベス
反射濃度計で測定した。(1)の地肌濃度に比べ、
(2)の地肌濃度が大きい場合、未露光部が定着不良で
あることを示す。 (3)生保存後の画像濃度(感材の生保存性) フレッシュなサンプルを45°C、30%の条件下、暗
所にて1週間保存し、露光部の発色濃度をマクベス反射
濃度計で測定した。発色濃度が低い場合、感材の生保存
性が低いことを示す。 (4)地肌部の暗所保存安定性 上記(1)の方法で作成したサンプルを30℃の暗所に
1か月、及び3か月保存後地肌部の濃度をマクベス反射
濃度計で測定し、定着直後の地肌濃度と比較した。定着
直後の地肌濃度に比べ、暗所保存後の地肌濃度が大きい
場合は地肌部の暗所保存安定性が不良であることを示
す。
形成材料の試験を以下の様に行った。結果を表1、2に
示す。 (1)画像濃度、定着直後の地肌濃度 フレッシュなサンプルに対して、線画の原稿を介してジ
ェットライト(超高圧水銀灯、オーク(株)製)により
光照射し、青色の画像を得た。ついで120℃の加熱ロ
ーラーに450mm/分の速度で通し未露光部を定着
し、露光部の画像濃度と未露光部の地肌濃度をマクベス
反射濃度計で測定した。 (2)定着性 上記(1)の方法で作成したサンプルを800ルックス
の室内8時間放置の後、未露光部の地肌濃度をマクベス
反射濃度計で測定した。(1)の地肌濃度に比べ、
(2)の地肌濃度が大きい場合、未露光部が定着不良で
あることを示す。 (3)生保存後の画像濃度(感材の生保存性) フレッシュなサンプルを45°C、30%の条件下、暗
所にて1週間保存し、露光部の発色濃度をマクベス反射
濃度計で測定した。発色濃度が低い場合、感材の生保存
性が低いことを示す。 (4)地肌部の暗所保存安定性 上記(1)の方法で作成したサンプルを30℃の暗所に
1か月、及び3か月保存後地肌部の濃度をマクベス反射
濃度計で測定し、定着直後の地肌濃度と比較した。定着
直後の地肌濃度に比べ、暗所保存後の地肌濃度が大きい
場合は地肌部の暗所保存安定性が不良であることを示
す。
【0038】
【表1】
【0039】
【表2】
【0040】
【発明の効果】表1、2に示すように、還元剤として2
位及び5位にアルキル基が置換されたハイドロキノン誘
導体を使用し、かつ、定着促進剤として2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを使用することに
より、上記(1)〜(3)の様な光像形成材料が本来有
すべき性能を満足しつつ、(4)の定着後、暗所保存時
に地肌部が発色しない(かぶらない)性能を有する光像
形成材料を得ることができた。
位及び5位にアルキル基が置換されたハイドロキノン誘
導体を使用し、かつ、定着促進剤として2,2−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)プロパンを使用することに
より、上記(1)〜(3)の様な光像形成材料が本来有
すべき性能を満足しつつ、(4)の定着後、暗所保存時
に地肌部が発色しない(かぶらない)性能を有する光像
形成材料を得ることができた。
Claims (1)
- 【請求項1】 少なくとも、酸化発色可能なロイコ染
料と光酸化剤を内包したマイクロカプセル、及び還元
剤と定着促進剤を含有する塗布層を支持体上に形成した
光像形成材料において、還元剤が2位及び5位にアルキ
ル基が置換されたハイドロキノン誘導体で、かつ、定着
促進剤が2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロ
パンであることを特徴とする光像形成材料。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6249112A JPH08114885A (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 光像形成材料 |
US08/528,010 US5595853A (en) | 1994-10-14 | 1995-09-14 | Optical image forming material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6249112A JPH08114885A (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 光像形成材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08114885A true JPH08114885A (ja) | 1996-05-07 |
Family
ID=17188137
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6249112A Pending JPH08114885A (ja) | 1994-10-14 | 1994-10-14 | 光像形成材料 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5595853A (ja) |
JP (1) | JPH08114885A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002521249A (ja) * | 1998-07-25 | 2002-07-16 | バンティコ リミテッド | 変色組成物およびそれから作製される着色ポリマー物品 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104656372B (zh) | 2008-10-15 | 2016-08-24 | 国际纸业公司 | 成像颗粒组合物、纸张和方法以及使用双波长光对纸张成像的方法 |
PT2338088E (pt) * | 2008-10-15 | 2013-01-08 | Int Paper Co | Composição, processo de preparação e método de aplicação e de exposição para um papel de formação de imagens através de luz |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2194070B (en) * | 1986-07-09 | 1990-01-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | Sheet recording material containing dye-forming components |
CA1332116C (en) * | 1987-10-14 | 1994-09-27 | Shintaro Washizu | Image-forming material and method of recording images using the same |
US4929530A (en) * | 1988-03-16 | 1990-05-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Light image forming material and image-recording method using such |
JPH0832484B2 (ja) * | 1988-11-25 | 1996-03-29 | 富士写真フイルム株式会社 | 多色記録材料 |
JPH03191341A (ja) * | 1989-12-20 | 1991-08-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 画像形成材料 |
JP2753918B2 (ja) * | 1992-05-26 | 1998-05-20 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像形成材料 |
-
1994
- 1994-10-14 JP JP6249112A patent/JPH08114885A/ja active Pending
-
1995
- 1995-09-14 US US08/528,010 patent/US5595853A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002521249A (ja) * | 1998-07-25 | 2002-07-16 | バンティコ リミテッド | 変色組成物およびそれから作製される着色ポリマー物品 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US5595853A (en) | 1997-01-21 |
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