JPH08106625A - 二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 繰り返し単位にエチレンテレフタレートを８
５モル％以上含有するポリエステルからなるフイルムで
あって、フイルム全厚みが３〜８μｍであり、幅方向の
弾性率Ａが３００ｋｇ／ｍｍ² 以上で、長手方向の弾性
率Ｂとの差Ｂ−Ａが２００ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、フ
イルムの少なくとも片面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜
５ｎｍであり、塗布層厚みの総和が２μｍ以下であるデ
ジタルビデオ用の塗布型磁気記録媒体の支持体として用
いられることを特徴とする二軸配向ポリエチレンテレフ
タレートフイルム。 【効果】 製造工程、ＶＴＲ中での耐切断性が高く、安
価で、しかも電磁変化特性、裁断特性の良好な、デジタ
ルビデオ用磁気テープのベースフイルムとして最適なフ
イルムを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向ポリエチレン
テレフタレートフイルムに関し、とくに、デジタルビデ
オ用の塗布型磁気記録媒体の支持体（ベースフイルム）
として用いられる二軸配向ポリエチレンテレフタレート
フイルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＶＴＲ用磁気記録媒体（磁気テー
プ）の分野では、アナログ記録から、ダビング時等の記
録の劣化が少ないデジタル記録の実用化が進んでいる。
デジタルビデオ用の磁気記録媒体では、より高密度記録
化が要求されるとともに、記録速度向上のための磁性層
の改良および磁気記録媒体の走行速度（搬送速度）の向
上が求められている。また、一般に、ＶＴＲの小型化に
伴い、磁気記録媒体あるいはそのベースフイルムの一層
の薄手化が要求されている。

【０００３】また、ＶＴＲ内での高速搬送化に伴う磁気
ヘッドや磁気テープの磨耗を抑えるために、ヘッドとテ
ープの接触面積の増大化がはかられつつある。しかしこ
の接触面積の増大は、一方で接触の不均一性を増大させ
ることになり、それによって出力の劣化や出力変動の増
大を招いている。接触の均一性を確保するためには、磁
気テープの主として幅方向のスティフネスの増大が要求
され、そのためにベースフイルムの幅方向の弾性率（ヤ
ング率）の向上が求められている。

【０００４】このような要求、つまり、走行速度向上、
薄手化、幅方向の弾性率向上を満たす、デジタルビデオ
用の塗布型磁気記録媒体のベースフイルムとして、従来
は、高弾性率特性をもっているポリエチレンナフタレー
ト（以下、ＰＥＮということもある）フイルムが最適と
されてきた（たとえば特開平６−１５０２９０号公
報）。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、ＰＥＮをベ
ースフイルムとする磁気記録媒体においては、ベースフ
イルムに磁性層等を塗布、乾燥する工程、裁断工程、さ
らにはＶＴＲ内での走行中に切断しやすいという問題が
ある。これは、ＰＥＮは薄手で高弾性率のフイルムに成
形可能であるものの、引裂伝幡抵抗がそれ程高くないた
め、一旦起点が生じると、走行中に切断しやすくなるた
めであると考えられる。また、ＰＥＮは、一般に高価で
あり、それをベースフイルムとする磁気記録媒体のコス
トも高くなるという問題もある。

【０００６】また、上記裁断工程において、たとえばマ
イクロスリッタ等でフイルムを所定幅（たとえば磁気テ
ープ幅）に裁断する場合、裁断されたフイルムの幅方向
端部（エッジ部）に、切断に起因してエッジ部が盛り上
がるように変形することがある（以下、ハイエッジとも
言う）。この状態で切断フイルムを、たとえばパンケー
キとして巻き上げると、上記盛り上がり部分が重なり合
い、巻き上げられたパンケーキのエッジ部にも盛り上が
りが発生する。このパンケーキにおけるハイエッジで
は、各巻層のエッジ盛り上がり部分が積層されているた
め、盛り上がり変形量が拡大され、パンケーキを巻きほ
ぐしてみると、フイルムのエッジ部が波形状に変形して
いる場合がある。したがって、ハイエッジの防止は磁気
テープの品質向上、維持の観点から極めて重要である。

【０００７】そこで本発明者らは、ＰＥＮに代わるベー
スフイルムを鋭意検討した結果、近年の生産、製膜技術
の進歩に伴ない、ポリエチレンテレフタレート（以下、
ＰＥＴということもある）を主体とするフイルムでも、
十分な薄手化とともに所定方向の弾性率向上が可能で、
かつ、弾性率を特定の範囲にコントロールすることによ
り、フイルムのスリット特性を向上してハイエッジを抑
えることが可能で、しかも、表面の超平滑化により高速
走行が可能なフイルムを作製できることを見出し、本発
明に到達した。

【０００８】すなわち本発明の目的は、磁性層等の塗
布、乾燥工程でのフイルム切断を防止でき、ＶＴＲ内走
行中のテープ切断も防止でき、かつ、製造コストダウン
が可能で、しかも、電磁変換特性やスリット特性も良好
な、デジタルビデオ用塗布型磁気記録媒体の支持体とし
て好適な、二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイル
ムを提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この目的に沿う本発明の
二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルムは、繰り
返し単位にエチレンテレフタレートを８５モル％以上含
有するポリエステルからなるフイルムであって、フイル
ム全厚みが３〜８μｍであり、幅方向の弾性率Ａが３０
０ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、長手方向の弾性率Ｂとの差
Ｂ−Ａが２００ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、フイルムの少
なくとも片面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜５ｎｍであ
り、塗布層厚みの総和が２μｍ以下であるデジタルビデ
オ用の塗布型磁気記録媒体の支持体として用いられるこ
とを特徴とするものからなる。

【００１０】上記において、塗布層とは、磁性層のみに
限らず、その下層、バックコート層を含むものを言い、
それらの厚みの総和が２μｍ以下である。

【００１１】本発明フイルムは、繰り返し単位にエチレ
ンテレフタレートを８５モル％以上含有するポリエステ
ルからなる。このようなＰＥＴフイルムとすることによ
り、薄手のフイルムを効率よく製膜でき、かつ、後述の
如く製膜条件の適切な設定により、目標とする長手方
向、幅方向の弾性率を得ることが可能となる。但し、上
記エチレンテレフタレート含有量の条件を満たす限り、
本発明の目的を阻害しない範囲内で、２種以上のポリエ
ステルを混合してもよいし、共重合ポリマを用いてもよ
い。

【００１２】本発明フイルムの全厚みは、３〜８μｍで
ある。この範囲の厚みとすることにより、上記２μｍ以
下の塗布層厚みを加えても、磁気記録媒体として十分に
薄手化の要求に応えることができ、しかも、ＰＥＴが本
来有する高い機械的強度を発揮して、十分に高い耐切断
性を発揮することができる。３μｍ未満では、ベースフ
イルムとしての強度が不足するおそれがあり、８μｍを
越えると、磁気記録媒体全体として薄手化（小型化）の
要求を十分に満足できなくなる。

【００１３】本発明フイルムは特定範囲の弾性率（ヤン
グ率）を有する。すなわち、幅方向の弾性率Ａが３００
ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、かつ、長手方向の弾性率Ｂと
の差Ｂ−Ａが２００ｋｇ／ｍｍ² 以上、好ましくは３０
０ｋｇ／ｍｍ² 以上である。幅方向の弾性率Ａを３００
ｋｇ／ｍｍ² 以上とすることにより、ベースフイルム、
ひいては磁気テープが、幅方向に十分に高いスティフネ
スをもつようになるので、ヘッドとテープとの接触の均
一性を確保でき、出力の劣化や出力変動の増大を防止で
きる。つまり、ヘッドタッチが良好で極めて優れた電磁
変換特性を達成できる。また、狭幅のテープやフイルム
であっても、十分に高い耐切断強度をもつことができ
る。この弾性率Ａの上限は、特に限定されるものではな
いが、７００ｋｇ／ｍｍ² を越えると、長手方向弾性率
との間で、目標とするバランス、つまりＢ−Ａが２００
ｋｇ／ｍｍ² 以上の条件を達成しにくくなる。

【００１４】また、長手方向の弾性率Ｂとの差Ｂ−Ａを
２００ｋｇ／ｍｍ² 以上とすることにより、上記の如く
フイルム幅方向に十分に高い弾性率をもたせつつ、長手
方向には一段と高い弾性率をもたせることになる。この
ように、長手方向にさらに高い弾性率をもたせることに
より、磁気記録媒体ベースフイルムとして十分に高い引
張強度を付与できる。

【００１５】さらに、長手方向の弾性率Ｂとの差Ｂ−Ａ
を２００ｋｇ／ｍｍ² 以上として長手方向の弾性率Ｂを
一段と高い弾性率にするということは、フイルムを長手
方向により高く配向させることであり、フイルムを所定
幅に切断する場合、言い換えればフイルムを長手方向に
切断していく場合、切断刃が上記の如く高く配向されて
いる長手方向に沿って進行することになり、この方向の
スリット性が大幅に向上される。その結果、切断端部に
おける盛り上がり変形が抑えられ、ハイエッジが抑制さ
れる。

【００１６】また、本発明フイルムにおいては、少なく
とも片面の表面粗さ（Ｒａ）が０．１〜５ｎｍとされ、
好ましくは０．１〜３ｎｍ、より好ましくは０．１〜２
ｎｍとされる。このように０．１〜５ｎｍと超平滑な表
面に形成されることにより、高いレベルの電磁変換特性
が達成でき、しかも良好なハンドリング性も確保でき
る。Ｒａが５ｎｍを超えると、高速走行の要求を十分に
満足させられなくなるおそれが生じ、また、高速走行に
おける磨耗粉が増大するおそれがある。０．１ｎｍ未満
では、表面突起が殆どなく鏡面に近くなるので、フイル
ムとガイドローラ等の接触物との間の摩擦係数が大きく
なりすぎるおそれがある。

【００１７】上記のような表面粗さ（Ｒａ）は、フイル
ム中に、とくに表面層中に、非常に高度に分散された
（平均凝集度が２未満の）、好ましくは平均粒径が５〜
５００ｎｍ、より好ましくは１０〜３００ｎｍの不活性
超微粒子を、好ましくは０．００５〜２重量％、より好
ましくは０．０３〜１．５重量％、さらに好ましくは
０．１〜１．０重量％含有させることにより達成可能で
ある。

【００１８】含有される不活性超微粒子の種類として
は、特に限定されず、炭酸カルシウム、α型、γ型、δ
型、θ型アルミナ、ジルコニア、シリカ、チタン粒子等
の無機粒子、あるいは、架橋ポリスチレン、ジビニルベ
ンゼン、シリコーン粒子等の有機粒子から選ぶことがで
きる。なお、この不活性超微粒子の他に、酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。

【００１９】本発明フイルムは、単層のフイルムとして
も構成できるが、全厚みを所定範囲内に納め、各方向の
弾性率を特定範囲内に納め、かつ、少なくとも片面の表
面粗さ（Ｒａ）を前記のような範囲内に効率よく納める
ためには、２層あるいは３層、さらにはそれ以上の積層
構成とすることが好ましい。積層構成とすることによ
り、たとえば表面粗さ（Ｒａ）を、主として表面層のみ
で効率よく前述のような範囲内にコントロールできるよ
うになる。積層の方法は特に限定されず、２台以上の押
出機を用いてポリマー管やポリマーをシート上に吐出す
る口金で積層する共押出による方法が好ましいが、製膜
中や製膜後にコーティングする方法も適用可能である。

【００２０】積層構成としても特に限定されず、たとえ
ば、Ａ層とＢ層を有する少なくとも２層構造からなり、
Ａ層厚みが０．０３〜２μｍである二軸配向ポリエチレ
ンテレフタレートフイルムに構成できる。また、両外層
に同一組成のポリマ層を有する少なくとも３層構造から
なり、最外層を構成する層の少なくとも１層の厚みが
０．０３〜２μｍである二軸配向ポリエチレンテレフタ
レートフイルムとしてもよい。さらに、Ａ層／Ｂ層／Ｃ
層の少なくとも３層構造からなり、Ａ層厚みが０．０３
〜２μｍ、Ｃ層厚みが０．０１〜０．５μｍである二軸
配向ポリエチレンテレフタレートフイルムとしてもよ
い。中でも、最外層を構成する層の少なくとも１層の厚
みｔと該層に含有される粒子の平均粒径ｄとの比ｄ／ｔ
が、好ましくは０．１〜１０、より好ましくは０．１〜
７の範囲にあるのがＲａを本発明範囲内に納める上で望
ましい。

【００２１】次に本発明フイルムの製造方法について説
明するが、これに限定されるものではない。まず、ＰＥ
Ｔを主要構成成分とする所定のポリエステルに粒子を含
有せしめる方法としては、例えばジオール成分であるエ
チレングリコールにスラリーの形で分散せしめ、このエ
チレングリコールを所定のジカルボン酸成分と重合せし
める方法が好ましい。粒子を添加する際には、例えば、
粒子を合成時に得られる水ゾルやアルコールゾルを一旦
乾燥させることなく添加すると粒子の分散性が非常によ
く、所望の微細表面突起を均一に形成することができ
る。また粒子の水スラリーを直接所定のポリエステルペ
レットと混合し、ベント方式の２軸混練押出機に供給し
ポリエステルに練り込む方法も本発明の効果をより一層
良好とするのに非常に有効である。粒子の含有量を調節
する方法としては、上記方法で高濃度の粒子マスターを
作っておき、それを製膜時に粒子を実質的に含有しない
ポリエステルで希釈して粒子の含有量を調節する方法が
有効である。

【００２２】上記の方法にて得られたポリエステルのペ
レットを所定の割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶
融押出機に供給し、スリット状のダイからシート状に押
出し、キャスティングロール上で冷却固化せしめて未延
伸フイルムを作る。積層フイルムとする場合には、２台
以上の押出機、２層以上のマニホールドまたは合流ブロ
ック（例えば角型合流部を有する合流ブロック）を用い
て積層し、口金から２層以上のシートを押し出し、キャ
スティングロールで冷却して積層未延伸フイルムを作
る。この場合、ポリマ流路にスタティックミキサー、ギ
ヤポンプを設置する方法は有効である。また、最表層積
層部側のポリマーを押出す押出機の溶融温度を基層部側
より５〜１０℃低くすることが有効である。

【００２３】次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、まず、長手方向の延伸を３段階以上に分け
て、縦延伸温度８０〜１５０℃、総縦延伸倍率３．０〜
５．５倍、縦延伸速度５，０００〜５０，０００％／分
の範囲で行うのが好ましい。次いで、幅方向の延伸を行
い、延伸方法としてはテンターを用いる方法が好まし
く、延伸温度８０〜１６０℃、幅方向延伸倍率は３．０
〜６．０倍、幅方向の延伸速度５００〜２０，０００％
／分の範囲が好ましい。この後、さらに長手方向に再延
伸を行い、長手方向のヤング率を高める。この再延伸の
条件としては、延伸温度１００〜１６０℃、延伸倍率
１．２〜２．５倍、延伸速度５００〜５０，０００％／
分の範囲で行うのが好ましい。

【００２４】長手方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）のヤン
グ率を本発明において有効な値の範囲に設定するには、
とくに上記長手方向の再延伸条件が重要となる。長手方
向に再延伸した後、次にこの延伸フイルムを熱処理す
る。この場合の熱処理温度は１７０〜２２０℃、特に１
７０〜２１０℃で時間は０．５〜６０秒の範囲が好適で
ある。

【００２５】［物性の測定方法ならびに効果の評価方
法］本発明の特性値の測定方法ならびに効果の評価方法
は次の通りである。 （１）粒子の平均粒径 フイルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用い、１
０万倍以上の倍率で観察する。ＴＥＭの切片厚さは約１
００ｎｍとし、場所を変えて１００視野以上測定する。
粒子の平均径は重量平均径から求める。また凝集粒子の
一次粒径は、凝集粒子の分割できない粒子最小単位につ
いての数平均径、凝集二次粒径は凝集体についての数平
均径である（それぞれ等価円相当径）。

【００２６】（２）粒子の含有量 ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

【００２７】（３）フイルム積層厚み ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、表層か
ら深さ５０００ｎｍの範囲のフイルム中の粒子のうち最
も高濃度の粒子に起因する元素とポリマの炭素元素の濃
度比（Ｍ⁺ ／Ｃ⁺ ）を粒子濃度とし、表層から深さ５０
００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面とい
う界面のために粒子濃度は低く表面から遠ざかるにつれ
て粒子濃度は高くなる。本発明フイルムの場合は、一旦
極大値となった粒子濃度がまた減少し始める。この濃度
分布曲線をもとに表層粒子濃度が最大値の１／２となる
深さ（この深さは極大となる深さよりも深い）を求め、
これを積層厚さとした。条件は次の通り。 測定装置 ２次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ） ***、ＡＴＯＭＩＫＡ社製 Ａ−ＤＩＤＡ３０００ 測定条件 １次イオン種 ： Ｏ₂ ⁺ １次イオン加速電圧 ： １．２ｋＶ １次イオン電流 ： ２００ｎＡ ラスター領域 ： ４００μｍ 分析領域 ： ゲート３０％ 測定真空度 ： ６．０×１０^-9Ｔｏｒｒ Ｅ−ＧＵＮ ： ０．５ｋＶ−３．０Ａ なお、表層から深さ５０００ｎｍの範囲に最も多く含有
する粒子が有機高分子の場合は、ＳＩＭＳでは測定が難
しいので、表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線光
電子分光法）、ＩＲ（赤外分光法）などで上記同様のデ
プスプロファイルを測定し積層厚さを求めても良いし、
また電子顕微鏡等による断面観察で粒子濃度の変化状態
やポリマの違いによるコントラストの差から界面を認識
し積層厚さを求めることもできる。さらには積層ポリマ
剥離後、薄膜段差測定機を用いて求めることもできる。

【００２８】（４）ヤング率 ＪＩＳ−Ｚ−１７０２に規定された方法にしたがって、
インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２５
℃、６５％ＲＨにて測定した。

【００２９】（５）表面粗さＲａ（中心線平均表面粗
さ） 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ＥＴ−１０を用い
て測定した。条件は下記のとおりであり、２０回の測定
の平均値をもって値とした。 ・触針先端半径 ： ０．５μｍ ・触針荷重 ： ５ｍｇ ・測定長 ： １ｍｍ ・カットオフ値 ： ０．０８ｍｍもしくは０．００８
ｍｍ なお、Ｒａの定義は例えば、奈良治郎著「表面粗さの測
定・評価法」（総合技術センター、１９８３）に示され
ているものである。

【００３０】（６）工程でのフイルム切断発生率 小型のテストスリッター（切断方式：シェアーカッタ
ー）で２００ｍｍ幅のフイルム原反を１／４インチ幅に
裁断する際に、切断トラブルの発生回数を記録し、裁断
長さ１０万ｍについての発生回数をフイルム切断発生率
と定義し、この値が０．１未満のものを優（○）、０．
１以上１未満のものを良（△）、１以上のものを不良
（×）とした。優および良が実用可能範囲である。

【００３１】（７）出力特性（Ｃ／Ｎ）（電磁変換特
性） 本発明のフイルムの表面に、下記組成の磁性塗料および
非磁性塗料をエクストルージョンコーターにより重層塗
布（上層は磁性塗料で塗布厚０．１μｍ、非磁性下層の
厚みは適宜変化させた）し、磁気配向させ、乾燥させ
る。次いで反対面に下記組成のバックコート層を公知の
手段で形成させた後、小型テストカレンダー装置（スチ
ール／スチールロール、５段）で、温度：８５℃、線
圧：２００ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後、６０
℃、４８時間キュアリングする。上記テープ原反を８ｍ
ｍ幅にスリットし、パンケーキを作成した。次いで、こ
のパンケーキから長さ２００ｍ分を、カセットに組み込
みカセットテープとした。このテープに、市販のＨｉ８
用ＶＴＲ（ＳＯＮＹ社製 ＥＶ−ＢＳ３０００）を用い
て、７ＭＨｚ＋１ＭＨｚのＣ／Ｎの測定を行った。

【００３２】 （磁性塗料の組成） ・強磁性金属粉末 ： １００重量部 ・スルホン酸Ｎａ変成塩化ビニル共重合体 ： １０重量部 ・スルホン酸Ｎａ変成ポリウレタン ： １０重量部 ・ポリイソシアネート ： ５重量部 ・ステアリン酸 ： １．５重量部 ・オレイン酸 ： １重量部 ・カーボンブラック ： １重量部 ・アルミナ ： １０重量部 ・メチルエチルケトン ： ７５重量部 ・シクロヘキサノン ： ７５重量部 ・トルエン ： ７５重量部

【００３３】 （非磁性下層塗料の組成） ・酸化チタン ： １００重量部 ・カーボンブラック ： １０重量部 ・スルホン酸Ｎａ変成塩化ビニル共重合体 ： １０重量部 ・スルホン酸Ｎａ変成ポリウレタン ： １０重量部 ・メチルエチルケトン ： ３０重量部 ・メチルイソブチルケトン ： ３０重量部 ・トルエン ： ３０重量部

【００３４】 （バックコートの組成） ・カーボンブラック（平均粒径２０ｎｍ） ： ９５重量部 ・カーボンブラック（平均粒径２８０ｎｍ）： ５重量部 ・αアルミナ ： ０．１重量部 ・酸化亜鉛 ： ０．３重量部 ・スルホン酸Ｎａ変成ポリウレタン ： ２０重量部 ・スルホン酸Ｎａ変成塩化ビニル共重合体 ： ３０重量部 ・シクロヘキサノン ： ２００重量部 ・メチルエチルケトン ： ３００重量部 ・トルエン ： １００重量部

【００３５】（８）デッキ内部での切断発生率 上記のように作成されたＨｉ８カセットテープをＶＴＲ
にかけ、ローディング→早送り→巻き戻し→イジェクト
のプロセスをカセット１巻につき最大１００回繰り返す
（テープが切断トラブルを起こしたらそこで中止）。こ
のテストを一つのフイルムの水準につき１００巻以上行
い、切断トラブルを起こしたカセットの巻数のテストし
た全カセットの巻数に対する百分率を切断発生率と定義
した。

【００３６】（９）ハイエッジ マイクロスリッター（シェアカッティング）を用いて２
００ｍｍ幅のフイルムを１／４インチ幅にスリットし、
３インチ径のナブハブに下記条件で巻き取る。 ・スリット速度 ： ５０ｍ／分 ・スリット長 ： ２０００ｍ この時、巻き上がった全てのパンケーキの外観を目視で
判定し、エッジの部分に盛り上がりの見られないものを
優（○）、若干の盛り上がりは見られるが、フイルムを
巻きほぐして見ると変形がほとんどなく、実用上問題の
ないものを良（△）、盛り上がりが大きくフイルムを巻
きほぐして見るとエッジ部分が波状に変形しているもの
を不良（×）とした。

【００３７】

【実施例】以下、実施例に基づいて説明する。まず、以
下の方法により、所定の粒子を含有するＰＥＴ原料を作
成した。 原料１〜５ 所定の平均粒径を有する、コロイダルシリカに起因する
シリカ粒子、または炭酸カルシウム粒子を所定量含有す
る（もしくは含有しない）エチレングリコールスラリー
を調製し、テレフタル酸ジメチルと交換反応させ、重縮
合を行った（重合触媒：酢酸マグネシウム０．１０重量
％、三酸化アンチモン０．０３重量％、リン酸トリメチ
ル０．０２６重量％）。粒子処方をそれぞれ変更するこ
とにより以下のように作成した。 原料１：無粒子（固有粘度：０．６５） 原料２：平均粒径０．２μｍのシリカ粒子を０．２５％
含有するもの 原料３：平均粒径０．０４μｍのシリカ粒子を０．９％
含有するもの 原料４：平均粒径０．３μｍのシリカ粒子を３．５％含
有するもの 原料５：平均粒径０．４５μｍの炭酸カルシウム粒子を
１．０％含有するもの

【００３８】原料６ 原料１の無粒子ＰＥＴのペレットに、粒子中の組成がジ
ビニルベンゼン８１％である平均粒径０．１μｍのジビ
ニルベンゼン粒子を１％含有する水スラリーを添加し、
水分をベントで系外に押し出しながら該粒子を練り込
み、粒子含有ペレットを作成した。

【００３９】原料７ 原料１の無粒子ＰＥＴを２００℃で１５時間、真空下で
固相重合することにより、固有粘度を０．７８にまで高
めたペレットを作成した。

【００４０】原料８ 重合触媒を二酸化ゲルマニウム０．０１５重量％および
リン酸トリメチル０．０１３重量％として、原料１と同
様にして無粒子ＰＥＴを作成した（固有粘度：０．６
５）。

【００４１】原料９ 常法により得られたポリエチレン−２，６−ナフタレン
ジカルボキシレート（ＰＥＮ）のペレットに、粒子中の
組成がジビニルベンゼン８１％である平均粒径０．１μ
ｍにジビニルベンゼン粒子を０．７％含有する水スラリ
ーを添加し、水分をベントで系外に押し出しながら該粒
子を練り込み、粒子含有ペレットを作成した。

【００４２】実施例１（単層） 原料２を１８０℃で６時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）した
後、公知の押出機に供給し、２８０℃で溶融し、静電印
加キャスト法を用いて表面温度２５℃の表面平坦なキャ
スティングドラムに巻き付けて冷却、固化し、未延伸フ
イルムを作成した。フイルムの厚みは、押出機もしくは
ポリマ流路内に設けられたギアポンプの回転数を制御す
ることによって調整した。

【００４３】この未延伸フイルムを延伸温度９５℃にて
長手方向に３．４倍延伸した。延伸は２組ずつのロール
の周速差で、４段階で行った。得られた一軸延伸フイル
ムをステンタＡを用いて、延伸速度２０００％／分で９
５℃で幅方向に３．６倍延伸し、引き続き再度長手方向
に、延伸温度１４０℃で１．８倍延伸し、さらに２１０
℃で５秒間熱固定処理を行い、厚さ６μｍの二軸配向フ
イルムを得た。

【００４４】実施例２（Ａ層／Ｂ層） 原料１／原料４を１：１の重量比で混合したペレット
（Ａ層）および、原料１／原料３を１：１の重量比で混
合したペレット（Ｂ層）を２台の押出機にそれぞれ供給
し、２８０℃で溶融した。これら２種類のポリマを合流
ブロック（フィードブロック）を用いて合流積層し、実
施例１と同様に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作
成した。各層の厚みは、押出機もしくはポリマ流路内に
設けられたギアポンプの回転数を制御することによって
調整した。この未延伸フイルムに実施例１と同様に延伸
プロセスを施すことにより、総厚５．８μｍ、Ａ層厚み
０．２μｍの二軸配向積層フイルムを得た。

【００４５】実施例３（Ａ層／Ｂ層／Ｃ層） 原料１／原料６を１：２の重量比で混合したペレット
（Ａ層）および、原料１のみ（Ｂ層）、および原料３の
み（Ｃ層）を３台の押出機にそれぞれ供給し、２８０℃
で溶融した。これら３種類のポリマを合流ブロック（フ
ィードブロック）を用いて合流積層し、実施例１と同様
に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作成した。各層
の厚みは、押出機もしくはポリマ流路内に設けられたギ
アポンプの回転数を制御することによって調整した。こ
の未延伸フイルムに実施例１と同様に延伸プロセスを施
すことにより、総厚５．５μｍ、Ａ層厚み１μｍ、Ｃ層
厚み０．０３μｍの二軸配向積層フイルムを得た。

【００４６】実施例４（Ａ層／Ｂ層／Ｃ層） 実施例３において、Ｂ層原料として原料７を用いたこと
以外は、実施例３と同様のプロセスで二軸配向積層フイ
ルムを得た。ただし、磁性層をＡ面側に設けた。長手方
向のヤング率が特に高い結果が得られた。

【００４７】実施例５（Ａ層／Ｂ層／Ｃ層） 実施例３において、Ｂ層原料として原料８を用いたこと
以外は、実施例３と同様のプロセスで二軸配向積層フイ
ルムを得た。Ｃ／Ｎが特に良好な結果となった。

【００４８】実施例６（Ａ層／Ｂ層／Ｃ層） 実施例４において、Ｃ層原料として原料４のみを用いる
こと以外は、実施例４と同様のプロセスで二軸配向積層
フイルムを得た。

【００４９】実施例７（Ａ層／Ｂ層／Ｃ層） 実施例６において、Ａ層原料として原料５のみを用いる
こと以外は、実施例６と同様のプロセスで二軸配向積層
フイルムを得た。

【００５０】実施例８（Ａ層／Ｂ層／Ｃ層） 原料１／原料６を１：１の重量比で混合したペレット
（Ａ層）および原料１のみ（Ｂ層）を用いて実施例２と
同様のプロセスにてＡ層／Ｂ層の２層積層未延伸フイル
ムを得た。この未延伸フイルムを延伸温度１００℃で長
手方向に３．４倍延伸した後、Ｂ層側の表面に、公知の
方法により下記処方からなるコーティング層を設けた。
テレフタル酸／スルホイソフタル酸／エチレングリコー
ル／ジエチレングリコール（モル比：８５／１５／９５
／５）からなる水溶性ポリエステルの溶液中に、平均粒
径４５ｎｍのコロイダルシリカ２重量％分散液を、５重
量％添加したものを用いた。なお、塗布量はウェットの
状態で約１．６ｇ／ｍ² とした。

【００５１】この後、得られた一軸延伸フイルムをステ
ンタＡを用いて、延伸速度２０００％／分で９５℃で幅
方向に３．５倍延伸し、引き続き再度長手方向に、延伸
温度１４５℃で１．６倍延伸し、さらに２２０℃で５秒
間熱固定処理を行い、厚さ５．５μｍの積層二軸配向フ
イルムを得た。

【００５２】実施例９（Ａ層／Ｂ層／Ａ層） 原料１／原料６を１：２の重量比で混合したペレット
（Ａ層）および、原料１のみ（Ｂ層）を２台の押出機に
それぞれ供給し、２８０℃で溶融した。これら２種類の
ポリマを３層（Ａ層／Ｂ層／Ａ層）用の合流ブロック
（フィードブロック）を用いて合流積層し、実施例１と
同様に冷却固化して、積層未延伸フイルムを作成した。
以下実施例７と同様のプロセスにて、総厚さ６．１μ
ｍ、両面側のＡ層厚さがそれぞれ０．５μｍの積層二軸
配向フイルムを得た。

【００５３】実施例１０（Ａ層／Ｂ層／Ａ′層） 実施例９において、表裏のＡ層の積層厚みを、それぞれ
のポリマの供給量をコントロールすることによって変更
すること以外は、実施例９と同様のプロセスで、総厚さ
５．８μｍ、Ａ層厚さが１．１μｍ、Ａ′層厚さが０．
２μｍの積層二軸配向フイルムを得た。

【００５４】比較例１ 原料９を１８０℃で６時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）した
後、公知の押出機に供給し、２９５℃で溶融し、静電印
加キャスト法を用いて表面温度２５℃の表面平坦なキャ
スティングドラムに巻き付けて冷却、固化し、未延伸フ
イルムを作成した。フイルムの厚みは、押出機もしくは
ポリマ流路内に設けられたギアポンプの回転数を制御す
ることによって調整した。

【００５５】この未延伸フイルムを延伸温度１３５℃に
て長手方向に４．５倍延伸した。延伸は２組ずつのロー
ル周速差で、４段階で行った。得られた一軸延伸フイル
ムをステンタを用いて、延伸速度２５００％／分で１３
０℃で幅方向に６．０倍延伸し、さらに、引き続き再度
長手方向に、延伸温度１７５℃で１．４倍延伸し、さら
に２２０℃で５秒間熱固定処理を行い、厚さ５μｍの二
軸配向フイルムを得た。

【００５６】比較例２ 実施例１において、原料５のみを用いて、単層未延伸フ
イルムを作成した。この未延伸フイルムを延伸温度９５
℃にて長手方向に３．５倍延伸した。延伸は２組ずつの
ロールの周速差で、４段階で行った。得られた一軸延伸
フイルムをステンタＡを用いて、延伸速度２０００％／
分で９５℃で幅方向に３．４倍延伸し、引き続きステン
タＢを用いて、延伸速度７００％／分で２１０℃で幅方
向に１．４倍再延伸し、さらに２１０℃で５秒間熱固定
処理を行い、厚さ６μｍの二軸配向フイルムを得た。

【００５７】上記実施例１〜１０、比較例１、２におけ
るフイルム製造条件およびフイルムの各特性の測定、評
価結果を以下の表１〜表３に示す。

【００５８】

【表１】

【００５９】

【表２】

【００６０】

【表３】

【００６１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のデジタル
ビデオ用のベースフイルムと用いられる二軸配向ポリエ
チレンテレフタレートフイルムによるときは、磁性層等
の塗布、乾燥工程、裁断工程等の磁気テープ製造工程に
おけるフイルム切断を防止し、高速でも安定した製造を
行うことができる。また、ＶＴＲ内においても、高速走
行に対しテープ切断を防止することができる。

【００６２】また、ＰＥＴを主体とするフイルムである
から、従来のＰＥＮフイルムに比べ大幅な製造コストダ
ウンをはかることができる。

【００６３】さらに、ヘッドタッチが良好で電磁変換特
性が良く、裁断時の特性に優れ、従ってハイエッジが少
ない、デジタルビデオ用磁気テープのベースフイルムと
して最適なフイルムを得ることができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０４Ｎ 5/7826 // Ｂ２９Ｋ 67:00 Ｂ２９Ｌ 7:00

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 繰り返し単位にエチレンテレフタレート
   を８５モル％以上含有するポリエステルからなるフイル
   ムであって、フイルム全厚みが３〜８μｍであり、幅方
   向の弾性率Ａが３００ｋｇ／ｍｍ² 以上であり、長手方
   向の弾性率Ｂとの差Ｂ−Ａが２００ｋｇ／ｍｍ² 以上で
   あり、フイルムの少なくとも片面の表面粗さ（Ｒａ）が
   ０．１〜５ｎｍであり、塗布層厚みの総和が２μｍ以下
   であるデジタルビデオ用の塗布型磁気記録媒体の支持体
   として用いられることを特徴とする二軸配向ポリエチレ
   ンテレフタレートフイルム。
2. 【請求項２】 Ａ層とＢ層を有する少なくとも２層構造
   からなり、Ａ層厚みが０．０３〜２μｍである、請求項
   １記載の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイル
   ム。
3. 【請求項３】 両外層に同一組成のポリマ層を有する少
   なくとも３層構造からなり、最外層を構成する層の少な
   くとも１層の厚みが０．０３〜２μｍである、請求項１
   記載の二軸配向ポリエチレンテレフタレートフイルム。
4. 【請求項４】 Ａ層／Ｂ層／Ｃ層の少なくとも３層構造
   からなり、Ａ層厚みが０．０３〜２μｍ、Ｃ層厚みが
   ０．０１〜０．５μｍである、請求項１記載の二軸配向
   ポリエチレンテレフタレートフイルム。