JPH078948A - 電気式脱イオン水製造装置を組込んだサブシステム - Google Patents
電気式脱イオン水製造装置を組込んだサブシステムInfo
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- JPH078948A JPH078948A JP14928893A JP14928893A JPH078948A JP H078948 A JPH078948 A JP H078948A JP 14928893 A JP14928893 A JP 14928893A JP 14928893 A JP14928893 A JP 14928893A JP H078948 A JPH078948 A JP H078948A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 超純水製造用サブシステムのカートリッジポ
リッシャや、限外濾過膜装置等の膜装置の膜のライフ延
長、更にはこれらの削除を図る。 【構成】 １次純水製造装置２から供給される純水を、
少なくとも電気式脱イオン水製造装置１０を組み込んだ
サブシステムで処理してユースポイント１４に超純水を
供給する。
リッシャや、限外濾過膜装置等の膜装置の膜のライフ延
長、更にはこれらの削除を図る。 【構成】 １次純水製造装置２から供給される純水を、
少なくとも電気式脱イオン水製造装置１０を組み込んだ
サブシステムで処理してユースポイント１４に超純水を
供給する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエレクトロニクス産業、
特に半導体や液晶を製造する際に用いる洗浄用超純水の
製造用サブシステムに関する。
特に半導体や液晶を製造する際に用いる洗浄用超純水の
製造用サブシステムに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、超純水を製造する場合、原水を凝
集沈殿装置、砂濾過器、活性炭濾過器、２床３塔式純水
製造装置、逆浸透膜装置、紫外線照射装置、混床式ポリ
シャー等を組み合わせた１次純水製造装置で可能な限り
高純度の純水を製造し、そして半導体ウエハーを洗浄す
る直前で当該純水を更に限外濾過膜（ＵＦ膜）装置を有
するサブシステム（２次純水製造装置）で処理し、いわ
ゆる超純水を得、洗浄水として使用に供している。
集沈殿装置、砂濾過器、活性炭濾過器、２床３塔式純水
製造装置、逆浸透膜装置、紫外線照射装置、混床式ポリ
シャー等を組み合わせた１次純水製造装置で可能な限り
高純度の純水を製造し、そして半導体ウエハーを洗浄す
る直前で当該純水を更に限外濾過膜（ＵＦ膜）装置を有
するサブシステム（２次純水製造装置）で処理し、いわ
ゆる超純水を得、洗浄水として使用に供している。
【０００３】１次純水製造装置で製造した純水を用い
て、これを更に精製処理してユースポイントへ供給する
サブシステムとしては、従来紫外線照射装置と、イオン
交換装置と、メンブレンフィルター等との組合わせより
成るものや、紫外線照射装置と、混床式ポリッシャー
と、限外濾過装置（ＵＦ装置）とを組合わせたものや、
あるいはＵＦ装置の代りに精密濾過膜装置（ＭＦ装置）
を用いたものがある。また、紫外線酸化装置（ＵＶOX装
置）と、アニオンポリッシャ（ＡＰ）と、混床式ポリッ
シャと、ＵＦ装置とを組合わせたものや、あるいはＵＦ
装置の代りにＭＦ装置を用いたものもある。
て、これを更に精製処理してユースポイントへ供給する
サブシステムとしては、従来紫外線照射装置と、イオン
交換装置と、メンブレンフィルター等との組合わせより
成るものや、紫外線照射装置と、混床式ポリッシャー
と、限外濾過装置（ＵＦ装置）とを組合わせたものや、
あるいはＵＦ装置の代りに精密濾過膜装置（ＭＦ装置）
を用いたものがある。また、紫外線酸化装置（ＵＶOX装
置）と、アニオンポリッシャ（ＡＰ）と、混床式ポリッ
シャと、ＵＦ装置とを組合わせたものや、あるいはＵＦ
装置の代りにＭＦ装置を用いたものもある。
【０００４】更には、これらに逆浸透膜装置（ＲＯ装
置）を組み込む場合もある。
置）を組み込む場合もある。
【０００５】そして、これらのサブシステムは機能的に
見れば、殺菌、微量イオンの除去、微粒子の除去、有機
物の分解、有機物の除去等の働きを有する装置の組合わ
せで成立している。
見れば、殺菌、微量イオンの除去、微粒子の除去、有機
物の分解、有機物の除去等の働きを有する装置の組合わ
せで成立している。
【０００６】これらサブシステムは１次純水製造装置で
製造された１次純水を、ユースポイントへ供給する前
に、更に精製する目的で設置されるもので、サブシステ
ムを出た超純水はユースポイントへ送水されてその一部
は使用に供され、残部はリサイクルしてサブシステムの
入口側に設置される超純水タンクに戻る。これらのサブ
システムの一例を図３に示す。
製造された１次純水を、ユースポイントへ供給する前
に、更に精製する目的で設置されるもので、サブシステ
ムを出た超純水はユースポイントへ送水されてその一部
は使用に供され、残部はリサイクルしてサブシステムの
入口側に設置される超純水タンクに戻る。これらのサブ
システムの一例を図３に示す。
【０００７】図３において、１次純水製造装置５０から
超純水タンク５２へ供給される純水は、まず紫外線殺菌
装置（ＵＶST）５４で殺菌処理がなされ、次いで混床式
ポリッシャ（Ｃ／Ｐ）５６で微量イオンが除去され、Ｕ
Ｆ装置５８で微粒子が除去された後、ユースポイント６
０に供給され、その一部が使用に供されると共に、残部
はリサイクルして超純水タンク５２に返送される。
超純水タンク５２へ供給される純水は、まず紫外線殺菌
装置（ＵＶST）５４で殺菌処理がなされ、次いで混床式
ポリッシャ（Ｃ／Ｐ）５６で微量イオンが除去され、Ｕ
Ｆ装置５８で微粒子が除去された後、ユースポイント６
０に供給され、その一部が使用に供されると共に、残部
はリサイクルして超純水タンク５２に返送される。
【０００８】これらの従来のサブシステムにおいては、
単機能の装置が直列に配列されて超純水を製造している
ため、一定の広さの場所を必要とし、さらには、それぞ
れサブシステムで使用している装置に応じて、例えば混
床式ポリッシャを使用している場合にはポリッシャ内部
のイオン交換体の交換、ＵＦ装置を使用している場合に
はＵＦ膜の交換、紫外線照射装置を使用している場合に
は紫外線照射装置に内蔵されているＵＶランプ等の交換
が必要であり、これらは繁雑なものである。
単機能の装置が直列に配列されて超純水を製造している
ため、一定の広さの場所を必要とし、さらには、それぞ
れサブシステムで使用している装置に応じて、例えば混
床式ポリッシャを使用している場合にはポリッシャ内部
のイオン交換体の交換、ＵＦ装置を使用している場合に
はＵＦ膜の交換、紫外線照射装置を使用している場合に
は紫外線照射装置に内蔵されているＵＶランプ等の交換
が必要であり、これらは繁雑なものである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記問題
を解決するために種々検討した結果、生菌や微粒子等も
陽イオンや陰イオンと同様にして電気式脱イオン水製造
装置（ＥＤＩ）によって除去される事を発見して本発明
を完成するに至った。
を解決するために種々検討した結果、生菌や微粒子等も
陽イオンや陰イオンと同様にして電気式脱イオン水製造
装置（ＥＤＩ）によって除去される事を発見して本発明
を完成するに至った。
【００１０】これは水中に存在する固体粒子が表面電位
を有している事によって生ずるゼータ電位や、あるいは
又、電気泳動装置によって蛋白質等の分子量分画が出来
る事から考えると、固体粒子もその表面電位によってイ
オンと同様に動き、一般には固体粒子はマイナスに荷電
しているので陰イオンと同様な挙動で除去されるものと
考えられる。
を有している事によって生ずるゼータ電位や、あるいは
又、電気泳動装置によって蛋白質等の分子量分画が出来
る事から考えると、固体粒子もその表面電位によってイ
オンと同様に動き、一般には固体粒子はマイナスに荷電
しているので陰イオンと同様な挙動で除去されるものと
考えられる。
【００１１】従って、本発明の目的とするところは、混
床式ポリッシャやＵＦ装置等の使用期間（ライフ）の延
長、場合によってはこれらを削除することのできるサブ
システムを提供することである。
床式ポリッシャやＵＦ装置等の使用期間（ライフ）の延
長、場合によってはこれらを削除することのできるサブ
システムを提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明においては、１次純水製造装置から供給される
純水を更に精製処理してユースポイントへ供給するサブ
システムが少なくとも電気式脱イオン水製造装置を組込
んでなるように構成したもので、前記サブシステムが電
気式脱イオン水製造装置単独で構成され純水を更に処理
するものであること、前記サブシステムが電気式脱イオ
ン水製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置と
を組込んでなるものであること、前記サブシステムが紫
外線殺菌装置と、電気式脱イオン水製造装置と、限外濾
過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなるものであ
ること、前記サブシステムが紫外線酸化装置と、アニオ
ンポリッシャと、電気式脱イオン水製造装置と、限外濾
過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなるものであ
ること、前記サブシステムが逆浸透膜装置と、紫外線酸
化装置と、アニオンポリッシャと、電気式脱イオン水製
造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込
んでなるものであることを含む。
に本発明においては、１次純水製造装置から供給される
純水を更に精製処理してユースポイントへ供給するサブ
システムが少なくとも電気式脱イオン水製造装置を組込
んでなるように構成したもので、前記サブシステムが電
気式脱イオン水製造装置単独で構成され純水を更に処理
するものであること、前記サブシステムが電気式脱イオ
ン水製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置と
を組込んでなるものであること、前記サブシステムが紫
外線殺菌装置と、電気式脱イオン水製造装置と、限外濾
過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなるものであ
ること、前記サブシステムが紫外線酸化装置と、アニオ
ンポリッシャと、電気式脱イオン水製造装置と、限外濾
過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなるものであ
ること、前記サブシステムが逆浸透膜装置と、紫外線酸
化装置と、アニオンポリッシャと、電気式脱イオン水製
造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込
んでなるものであることを含む。
【００１３】
【作用】本発明は１次純水製造装置により製造された純
水を更に精製処理する役割のサブシステムに関するもの
であり、電気式脱イオン水製造装置をサブシステムに組
み込む事によって、電気式脱イオン水製造装置が有する
脱イオン能力、殺菌能力、微粒子除去能力等を活用しよ
うとするものである。
水を更に精製処理する役割のサブシステムに関するもの
であり、電気式脱イオン水製造装置をサブシステムに組
み込む事によって、電気式脱イオン水製造装置が有する
脱イオン能力、殺菌能力、微粒子除去能力等を活用しよ
うとするものである。
【００１４】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。
する。
【００１５】図１は本発明のサブシステムの一実施態様
を示すフロー図で、同図中２は１次純水製造装置であ
る。この１次純水製造装置２は、例えば図３を用いて先
に説明した、公知の純水製造装置でよい。前記１次純水
製造装置２から超純水タンク４に供給される純水はポン
プ６によってまず紫外線殺菌装置８に送られ、ここで紫
外線が純水に照射され、殺菌が行なわれる。この紫外線
殺菌装置８は公知のものが使用できる。
を示すフロー図で、同図中２は１次純水製造装置であ
る。この１次純水製造装置２は、例えば図３を用いて先
に説明した、公知の純水製造装置でよい。前記１次純水
製造装置２から超純水タンク４に供給される純水はポン
プ６によってまず紫外線殺菌装置８に送られ、ここで紫
外線が純水に照射され、殺菌が行なわれる。この紫外線
殺菌装置８は公知のものが使用できる。
【００１６】殺菌された純水は、次いで電気式脱イオン
水製造装置１０に送られ、ここで陰及び陽電荷を持つイ
オン、生菌、微粒子等が除去される。
水製造装置１０に送られ、ここで陰及び陽電荷を持つイ
オン、生菌、微粒子等が除去される。
【００１７】本発明において使用する電気式脱イオン水
製造装置は、陰電極と陽電極、イオン交換膜、イオン交
換体、及びそれらを包含する枠体等より構成されてい
る。具体的には、前記電気式脱イオン水製造装置は、陰
イオン交換膜と陽イオン交換膜とで形成される隙間に、
陽イオン交換体と陰イオン交換体（これらは強型でも弱
型でも良い）とを充填して脱塩室とし、当該脱塩室内に
被処理水を通過させるとともに、前記両イオン交換膜を
介して被処理水の流れに対して直角方向に直流電流を作
用させ、両イオン交換膜の外側に流れている濃縮水中に
被処理水中のイオンを電気的に排除しながら脱イオン水
を製造するもので、脱塩室内にイオン交換樹脂等のイオ
ン交換体を充填しているにもかかわらず、酸、アルカリ
等の再生薬品を一切使用せずに脱イオン水を製造するこ
とができるものである。
製造装置は、陰電極と陽電極、イオン交換膜、イオン交
換体、及びそれらを包含する枠体等より構成されてい
る。具体的には、前記電気式脱イオン水製造装置は、陰
イオン交換膜と陽イオン交換膜とで形成される隙間に、
陽イオン交換体と陰イオン交換体（これらは強型でも弱
型でも良い）とを充填して脱塩室とし、当該脱塩室内に
被処理水を通過させるとともに、前記両イオン交換膜を
介して被処理水の流れに対して直角方向に直流電流を作
用させ、両イオン交換膜の外側に流れている濃縮水中に
被処理水中のイオンを電気的に排除しながら脱イオン水
を製造するもので、脱塩室内にイオン交換樹脂等のイオ
ン交換体を充填しているにもかかわらず、酸、アルカリ
等の再生薬品を一切使用せずに脱イオン水を製造するこ
とができるものである。
【００１８】イオン交換体としては、粒状のイオン交換
樹脂、イオン交換繊維（マット状したもの）等いずれの
ものでも使用できる。
樹脂、イオン交換繊維（マット状したもの）等いずれの
ものでも使用できる。
【００１９】上述した電気式脱イオン水製造装置におい
ては、両イオン交換膜の間にイオン交換体を充填するこ
とにより、脱イオン速度（濃縮速度）が加速される。
ては、両イオン交換膜の間にイオン交換体を充填するこ
とにより、脱イオン速度（濃縮速度）が加速される。
【００２０】当該電気式脱イオン水製造装置としては、
公知（例えば、特開平４−７１６２４，特開平４−１６
６２１５号）のものがそのまま使用できる。操作条件等
も公知のものである。
公知（例えば、特開平４−７１６２４，特開平４−１６
６２１５号）のものがそのまま使用できる。操作条件等
も公知のものである。
【００２１】上記のようにしてイオン、生菌、微粒子等
が除去された後、更に限外濾過膜装置１２で処理され、
超純水としてユースポイント１４に供給され、その一部
が使用に供されると共に、残部は返送パイプ１６を介し
て超純水タンク４へ送られるものである。
が除去された後、更に限外濾過膜装置１２で処理され、
超純水としてユースポイント１４に供給され、その一部
が使用に供されると共に、残部は返送パイプ１６を介し
て超純水タンク４へ送られるものである。
【００２２】この実施態様の構成は、従来の構成である
ＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦ（又はＭＦ）に構成上対応するも
のであるが、本態様で用いるＥＤＩは従来の構成で用い
るＣ／Ｐよりも殺菌及び微粒子の除去の面で優れている
ので、本構成のほうが処理水水質が向上する。なお、本
態様においては、サブシステムを上記のように構成した
が、これに限らず、以下のように構成することもできる
ものである。
ＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦ（又はＭＦ）に構成上対応するも
のであるが、本態様で用いるＥＤＩは従来の構成で用い
るＣ／Ｐよりも殺菌及び微粒子の除去の面で優れている
ので、本構成のほうが処理水水質が向上する。なお、本
態様においては、サブシステムを上記のように構成した
が、これに限らず、以下のように構成することもできる
ものである。
【００２３】（１）ＥＤＩだけでサブシステムを構成す
る 電気式脱イオン水製造装置単独でサブシステムを構成す
れば、従来のＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦ（又はＭＦ）で構成
されているサブシステムと比し、はるかにコンパクトに
なり、かつ水質的にも優れたものが得られるので、イニ
シャルコスト／ランニングコストの減少につながる。特
にＵＶSTのランプの交換、Ｃ／Ｐのイオン交換体の交
換、ＵＦ装置のＵＦ膜の交換等のランニングコストが低
減できる。
る 電気式脱イオン水製造装置単独でサブシステムを構成す
れば、従来のＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦ（又はＭＦ）で構成
されているサブシステムと比し、はるかにコンパクトに
なり、かつ水質的にも優れたものが得られるので、イニ
シャルコスト／ランニングコストの減少につながる。特
にＵＶSTのランプの交換、Ｃ／Ｐのイオン交換体の交
換、ＵＦ装置のＵＦ膜の交換等のランニングコストが低
減できる。
【００２４】（２）ＥＤＩ−ＵＦ（又はＭＦ）でサブシ
ステムを構成する 上記（１）のサブシステムに膜装置を組込んだものであ
る。ＥＤＩ＋ＵＦ（又はＭＦ）のフロー構成になるの
で、微粒子リークに対するバックアップとしてのフィル
ターがＥＤＩの後についている分、（１）のサブシステ
ムより安心な装置となる。イニシャルコスト，ランニン
グコストの考え方については（１）のサブシステムと同
じであるが、膜装置を付加している分だけ、その効果が
減殺される。
ステムを構成する 上記（１）のサブシステムに膜装置を組込んだものであ
る。ＥＤＩ＋ＵＦ（又はＭＦ）のフロー構成になるの
で、微粒子リークに対するバックアップとしてのフィル
ターがＥＤＩの後についている分、（１）のサブシステ
ムより安心な装置となる。イニシャルコスト，ランニン
グコストの考え方については（１）のサブシステムと同
じであるが、膜装置を付加している分だけ、その効果が
減殺される。
【００２５】（３）ＵＶOX−ＡＰ−ＥＤＩ−ＵＦ（又は
ＭＦ）でサブシステムを構成する 但し、ＵＶOXは紫外線酸化装置で、ＡＰは塔内にＯＨ形
の陰イオン交換樹脂を充填してなるアニオンポリッシャ
を示す。
ＭＦ）でサブシステムを構成する 但し、ＵＶOXは紫外線酸化装置で、ＡＰは塔内にＯＨ形
の陰イオン交換樹脂を充填してなるアニオンポリッシャ
を示す。
【００２６】本フロー構成はＴＯＣの除去に注力したも
ので、ＴＯＣはまずＵＶOX（ＵＶ酸化装置）で酸化分解
され、ついで分解生成物はＣＯ2 又は有機酸の形でアニ
オンポリッシャによって除去される。
ので、ＴＯＣはまずＵＶOX（ＵＶ酸化装置）で酸化分解
され、ついで分解生成物はＣＯ2 又は有機酸の形でアニ
オンポリッシャによって除去される。
【００２７】従来技術であるＵＶOX＋ＡＰ＋Ｃ／Ｐ＋Ｕ
Ｆ（又はＭＦ）のフロー構成と比し、Ｃ／ＰにＥＤＩが
代った分、微粒子、生菌の除去の面でより精製された処
理水が得られる。
Ｆ（又はＭＦ）のフロー構成と比し、Ｃ／ＰにＥＤＩが
代った分、微粒子、生菌の除去の面でより精製された処
理水が得られる。
【００２８】（４）ＲＯ−ＵＶOX−ＡＰ−ＥＤＩ−ＵＦ
（又はＭＦ）でサブシステムを構成する 本フロー構成はＴＯＣの除去に最も力点をおいたもの
で、ＲＯとＵＶOX＋ＡＰによりＴＯＣを最大限除去する
事を期するものである。又、従来技術であるＲＯ＋ＵＶ
OX＋ＡＰ＋Ｃ／Ｐ＋ＵＦ（又はＭＦ）の構成においてＣ
／Ｐの代りにＥＤＩを用いているので、微粒子、生菌の
除去の面で有利であり、ＴＯＣ、微粒子、生菌等の面で
最高の水質を得る事が出来る。
（又はＭＦ）でサブシステムを構成する 本フロー構成はＴＯＣの除去に最も力点をおいたもの
で、ＲＯとＵＶOX＋ＡＰによりＴＯＣを最大限除去する
事を期するものである。又、従来技術であるＲＯ＋ＵＶ
OX＋ＡＰ＋Ｃ／Ｐ＋ＵＦ（又はＭＦ）の構成においてＣ
／Ｐの代りにＥＤＩを用いているので、微粒子、生菌の
除去の面で有利であり、ＴＯＣ、微粒子、生菌等の面で
最高の水質を得る事が出来る。
【００２９】なお、上記各態様に示すように、サブシス
テムの最終段（ユースポイントの直前）に膜装置を設置
することが望ましいが、この場合には膜装置はＵＦ，Ｍ
Ｆに限られず、ＲＯも使用できるものである。
テムの最終段（ユースポイントの直前）に膜装置を設置
することが望ましいが、この場合には膜装置はＵＦ，Ｍ
Ｆに限られず、ＲＯも使用できるものである。
【００３０】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００３１】（実施例１，２）図２に示すように、１次
純水製造装置２２で市水を精製処理して得た純水を超純
水タンク２４に送り、この純水をポンプ２６で図２中、
Ａ，Ｂ，Ｃで示される３種の異なるサブシステムに供給
した。
純水製造装置２２で市水を精製処理して得た純水を超純
水タンク２４に送り、この純水をポンプ２６で図２中、
Ａ，Ｂ，Ｃで示される３種の異なるサブシステムに供給
した。
【００３２】サブシステムＡ（比較例１） ＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦの構成である サブシステムＢ（実施例１） ＵＶST−ＥＤＩ−ＵＦの構成である サブシステムＣ（実施例２） ＥＤＩ−ＵＦの構成である。
【００３３】図２に示した、ポイント（１）及び各サブ
システムＡ，Ｂ，Ｃ中のポイント（２）〜（７）におけ
る水質の測定結果を表１に示した。
システムＡ，Ｂ，Ｃ中のポイント（２）〜（７）におけ
る水質の測定結果を表１に示した。
【００３４】なお、１次純水製造装置の構成は、２床３
塔式純水製造装置−ＲＯ装置−真空脱気装置−混床式ポ
リッシャの順に配置した一般的なものであった。
塔式純水製造装置−ＲＯ装置−真空脱気装置−混床式ポ
リッシャの順に配置した一般的なものであった。
【００３５】また、各サブシステムで使用した装置は以
下のものであった （イ）ＵＶST（紫外線殺菌装置） 製造者 千代田工販（株） 型 式 ＳＸ−１／２ 消費電力 ０．０５ｋＷ （ロ）Ｃ／Ｐ（カートリッジポリシャ） 使用イオン交換樹脂 アンバーライト ＩＲ−１２４（Ｈ形） １０（ｌ） アンバーライト ＩＲＡ−４０２ＢＬ（ＯＨ形） １０
（ｌ） （ハ）ＵＦ（限外濾過膜装置） 製造者 旭化成（株） 型 式 ＯＬＴ−３０２６（外圧型中空系膜モジュー
ル） 分画分子量 １０，０００ （ニ）ＥＤＩ（電気式脱イオン水製造装置） 型 式 ＥＤＩ−１０ 製造者 オルガノ（株） 処理量 １ｍ3 ／Ｈ
下のものであった （イ）ＵＶST（紫外線殺菌装置） 製造者 千代田工販（株） 型 式 ＳＸ−１／２ 消費電力 ０．０５ｋＷ （ロ）Ｃ／Ｐ（カートリッジポリシャ） 使用イオン交換樹脂 アンバーライト ＩＲ−１２４（Ｈ形） １０（ｌ） アンバーライト ＩＲＡ−４０２ＢＬ（ＯＨ形） １０
（ｌ） （ハ）ＵＦ（限外濾過膜装置） 製造者 旭化成（株） 型 式 ＯＬＴ−３０２６（外圧型中空系膜モジュー
ル） 分画分子量 １０，０００ （ニ）ＥＤＩ（電気式脱イオン水製造装置） 型 式 ＥＤＩ−１０ 製造者 オルガノ（株） 処理量 １ｍ3 ／Ｈ
【００３６】
【表１】 表１から、ＥＤＩが有効にイオン、生菌、微粒子を除去
していることがわかる。
していることがわかる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、電気式脱イオン水
製造装置はイオン除去のみならず、生菌除去、微粒子除
去等の能力も有するので、電気式脱イオン水製造装置を
サブシステムに用いる事によってＵＶ殺菌装置や、ＵＦ
装置等の膜装置の超純水精製に対する寄与割合の軽減等
を図る事が出来る。又混床式ポリッシャに比してイオン
交換体の交換量も軽減（原則的には交換は不要）を図る
事が出来る。更に、水質によっては電気式脱イオン水製
造装置単独でサブシステムを構成する事も可能で、この
場合には装置の簡略化が図れる。
製造装置はイオン除去のみならず、生菌除去、微粒子除
去等の能力も有するので、電気式脱イオン水製造装置を
サブシステムに用いる事によってＵＶ殺菌装置や、ＵＦ
装置等の膜装置の超純水精製に対する寄与割合の軽減等
を図る事が出来る。又混床式ポリッシャに比してイオン
交換体の交換量も軽減（原則的には交換は不要）を図る
事が出来る。更に、水質によっては電気式脱イオン水製
造装置単独でサブシステムを構成する事も可能で、この
場合には装置の簡略化が図れる。
【図１】本発明の一実施態様を示すフロー図である。
【図２】本発明の実施例（Ｂ，Ｃ）及び比較例（Ａ）の
構成を示すフロー図である。
構成を示すフロー図である。
【図３】従来のサブシステムの一構成例を示すフロー図
である。
である。
２ １次純水製造装置 ４ 超純水タンク ６ ポンプ ８ 紫外線殺菌装置 １０ 電気式脱イオン水製造装置 １２ 限外濾過膜装置 １４ ユースポイント １６ 返送パイプ
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/72 １０１ 9045−4Ｄ 9/00 Ｚ 7446−4Ｄ
Claims (6)
- 【請求項１】 １次純水製造装置から供給される純水を
更に精製処理してユースポイントへ供給するサブシステ
ムが少なくとも電気式脱イオン水製造装置を組込んでな
ることを特徴とする電気式脱イオン水製造装置を組込ん
だサブシステム。 - 【請求項２】 サブシステムが電気式脱イオン水製造装
置単独で構成され純水を更に処理するものである請求項
１に記載のサブシステム。 - 【請求項３】 サブシステムが電気式脱イオン水製造装
置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んで
なる請求項１に記載のサブシステム。 - 【請求項４】 サブシステムが紫外線殺菌装置と、電気
式脱イオン水製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過
膜装置とを組込んでなる請求項１に記載のサブシステ
ム。 - 【請求項５】 サブシステムが紫外線酸化装置と、アニ
オンポリッシャと、電気式脱イオン水製造装置と、限外
濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなる請求項
１に記載のサブシステム。 - 【請求項６】 サブシステムが逆浸透膜装置と、紫外線
酸化装置と、アニオンポリッシャと、電気式脱イオン水
製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組
込んでなる請求項１に記載のサブシステム。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14928893A JP3429808B2 (ja) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | 電気式脱イオン水製造装置を組込んだサブシステム |
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|---|---|---|---|
| JP14928893A JP3429808B2 (ja) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | 電気式脱イオン水製造装置を組込んだサブシステム |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH078948A true JPH078948A (ja) | 1995-01-13 |
| JP3429808B2 JP3429808B2 (ja) | 2003-07-28 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14928893A Expired - Fee Related JP3429808B2 (ja) | 1993-06-21 | 1993-06-21 | 電気式脱イオン水製造装置を組込んだサブシステム |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3429808B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001314867A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Japan Organo Co Ltd | 二次純水製造装置 |
| JP2004057935A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造システム |
| JP2011045824A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2011088070A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂精製装置用の超純水製造方法及び製造装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6634918B2 (ja) | 2016-03-25 | 2020-01-22 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システム |
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1993
- 1993-06-21 JP JP14928893A patent/JP3429808B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001314867A (ja) * | 2000-05-12 | 2001-11-13 | Japan Organo Co Ltd | 二次純水製造装置 |
| JP4497387B2 (ja) * | 2000-05-12 | 2010-07-07 | オルガノ株式会社 | 二次純水製造装置 |
| JP2004057935A (ja) * | 2002-07-29 | 2004-02-26 | Kurita Water Ind Ltd | 超純水製造システム |
| JP2011045824A (ja) * | 2009-08-26 | 2011-03-10 | Kurita Water Ind Ltd | 純水製造装置 |
| JP2011088070A (ja) * | 2009-10-22 | 2011-05-06 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂精製装置用の超純水製造方法及び製造装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3429808B2 (ja) | 2003-07-28 |
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