JPH078948A - Subsystem incorporated with apparatus for producing electrically deionized water - Google Patents
Subsystem incorporated with apparatus for producing electrically deionized waterInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はエレクトロニクス産業、
特に半導体や液晶を製造する際に用いる洗浄用超純水の
製造用サブシステムに関する。The present invention relates to the electronics industry,
In particular, it relates to a subsystem for producing ultrapure water for cleaning used when producing semiconductors and liquid crystals.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、超純水を製造する場合、原水を凝
集沈殿装置、砂濾過器、活性炭濾過器、２床３塔式純水
製造装置、逆浸透膜装置、紫外線照射装置、混床式ポリ
シャー等を組み合わせた１次純水製造装置で可能な限り
高純度の純水を製造し、そして半導体ウエハーを洗浄す
る直前で当該純水を更に限外濾過膜（ＵＦ膜）装置を有
するサブシステム（２次純水製造装置）で処理し、いわ
ゆる超純水を得、洗浄水として使用に供している。2. Description of the Related Art Conventionally, in the case of producing ultrapure water, raw water is coagulated and settled, a sand filter, an activated carbon filter, a 2-bed 3-tower pure water production system, a reverse osmosis membrane system, an ultraviolet irradiation system, and a mixed bed The primary pure water producing apparatus combined with the formula polisher produces pure water with the highest possible purity, and immediately before cleaning the semiconductor wafer, the pure water is further provided with an ultrafiltration membrane (UF membrane) device. It is processed by a system (secondary pure water production device) to obtain so-called ultrapure water, which is used as cleaning water.
【０００３】１次純水製造装置で製造した純水を用い
て、これを更に精製処理してユースポイントへ供給する
サブシステムとしては、従来紫外線照射装置と、イオン
交換装置と、メンブレンフィルター等との組合わせより
成るものや、紫外線照射装置と、混床式ポリッシャー
と、限外濾過装置（ＵＦ装置）とを組合わせたものや、
あるいはＵＦ装置の代りに精密濾過膜装置（ＭＦ装置）
を用いたものがある。また、紫外線酸化装置（ＵＶOX装
置）と、アニオンポリッシャ（ＡＰ）と、混床式ポリッ
シャと、ＵＦ装置とを組合わせたものや、あるいはＵＦ
装置の代りにＭＦ装置を用いたものもある。As subsystems that use pure water produced by the primary pure water producing apparatus and further purify it and supply it to the point of use, there are a conventional ultraviolet irradiation apparatus, an ion exchange apparatus, a membrane filter and the like. Or a combination of an ultraviolet irradiation device, a mixed bed polisher, and an ultrafiltration device (UF device),
Or microfiltration membrane device (MF device) instead of UF device
There is one using. Further, a combination of an ultraviolet oxidation device (UV OX device), an anion polisher (AP), a mixed bed polisher, and a UF device, or a UF device
There is also one using an MF device instead of the device.
【０００４】更には、これらに逆浸透膜装置（ＲＯ装
置）を組み込む場合もある。Further, a reverse osmosis membrane device (RO device) may be incorporated therein.
【０００５】そして、これらのサブシステムは機能的に
見れば、殺菌、微量イオンの除去、微粒子の除去、有機
物の分解、有機物の除去等の働きを有する装置の組合わ
せで成立している。From a functional viewpoint, these subsystems are made up of a combination of devices having functions such as sterilization, removal of trace ions, removal of fine particles, decomposition of organic substances, removal of organic substances.
【０００６】これらサブシステムは１次純水製造装置で
製造された１次純水を、ユースポイントへ供給する前
に、更に精製する目的で設置されるもので、サブシステ
ムを出た超純水はユースポイントへ送水されてその一部
は使用に供され、残部はリサイクルしてサブシステムの
入口側に設置される超純水タンクに戻る。これらのサブ
システムの一例を図３に示す。[0006] These subsystems are installed for the purpose of further refining the primary pure water produced by the primary pure water producing apparatus before it is supplied to the point of use. Is sent to the point of use, some of it is used, and the rest is recycled and returned to the ultrapure water tank installed at the inlet side of the subsystem. An example of these subsystems is shown in FIG.
【０００７】図３において、１次純水製造装置５０から
超純水タンク５２へ供給される純水は、まず紫外線殺菌
装置（ＵＶST）５４で殺菌処理がなされ、次いで混床式
ポリッシャ（Ｃ／Ｐ）５６で微量イオンが除去され、Ｕ
Ｆ装置５８で微粒子が除去された後、ユースポイント６
０に供給され、その一部が使用に供されると共に、残部
はリサイクルして超純水タンク５２に返送される。In FIG. 3, the pure water supplied from the primary pure water producing apparatus 50 to the ultrapure water tank 52 is first sterilized by an ultraviolet sterilizer (UV ST ) 54, and then a mixed bed polisher (C). / P) 56 removes trace ions,
Use point 6 after fine particles are removed by F device 58
0, a part of it is used, and the rest is recycled and returned to the ultrapure water tank 52.
【０００８】これらの従来のサブシステムにおいては、
単機能の装置が直列に配列されて超純水を製造している
ため、一定の広さの場所を必要とし、さらには、それぞ
れサブシステムで使用している装置に応じて、例えば混
床式ポリッシャを使用している場合にはポリッシャ内部
のイオン交換体の交換、ＵＦ装置を使用している場合に
はＵＦ膜の交換、紫外線照射装置を使用している場合に
は紫外線照射装置に内蔵されているＵＶランプ等の交換
が必要であり、これらは繁雑なものである。In these conventional subsystems,
Since the single-function devices are arranged in series to produce ultrapure water, a space of a certain size is required. Furthermore, depending on the devices used in each subsystem, for example, mixed bed type If you are using a polisher, replace the ion exchanger inside the polisher, if you are using a UF device, replace the UF membrane, and if you are using an ultraviolet irradiation device, install it in the ultraviolet irradiation device. It is necessary to replace existing UV lamps, etc., which are complicated.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記問題
を解決するために種々検討した結果、生菌や微粒子等も
陽イオンや陰イオンと同様にして電気式脱イオン水製造
装置（ＥＤＩ）によって除去される事を発見して本発明
を完成するに至った。As a result of various studies to solve the above problems, the inventor of the present invention has found that an electro-deionized water producing apparatus (EDI) for live bacteria, fine particles and the like in the same manner as cations and anions. ), It came to complete the present invention.
【００１０】これは水中に存在する固体粒子が表面電位
を有している事によって生ずるゼータ電位や、あるいは
又、電気泳動装置によって蛋白質等の分子量分画が出来
る事から考えると、固体粒子もその表面電位によってイ
オンと同様に動き、一般には固体粒子はマイナスに荷電
しているので陰イオンと同様な挙動で除去されるものと
考えられる。Considering this is due to the zeta potential generated by the solid particles existing in water having a surface potential, or from the fact that the molecular weight fractionation of proteins etc. can be carried out by an electrophoretic device, the solid particles also have It moves like an ion due to the surface potential, and since solid particles are generally negatively charged, they are considered to be removed in the same manner as anion.
【００１１】従って、本発明の目的とするところは、混
床式ポリッシャやＵＦ装置等の使用期間（ライフ）の延
長、場合によってはこれらを削除することのできるサブ
システムを提供することである。Accordingly, it is an object of the present invention to provide a subsystem capable of extending the usage period (life) of a mixed-bed polisher, a UF device or the like, and in some cases deleting them.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明においては、１次純水製造装置から供給される
純水を更に精製処理してユースポイントへ供給するサブ
システムが少なくとも電気式脱イオン水製造装置を組込
んでなるように構成したもので、前記サブシステムが電
気式脱イオン水製造装置単独で構成され純水を更に処理
するものであること、前記サブシステムが電気式脱イオ
ン水製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置と
を組込んでなるものであること、前記サブシステムが紫
外線殺菌装置と、電気式脱イオン水製造装置と、限外濾
過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなるものであ
ること、前記サブシステムが紫外線酸化装置と、アニオ
ンポリッシャと、電気式脱イオン水製造装置と、限外濾
過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなるものであ
ること、前記サブシステムが逆浸透膜装置と、紫外線酸
化装置と、アニオンポリッシャと、電気式脱イオン水製
造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込
んでなるものであることを含む。In order to achieve the above-mentioned object, in the present invention, at least an electric system is a subsystem that further purifies pure water supplied from a primary pure water producing apparatus and supplies it to a use point. A deionized water production apparatus is incorporated, and the subsystem is composed of an electric deionized water production apparatus alone to further process pure water, and the subsystem is an electric deionized water production apparatus. An ion water production apparatus and an ultrafiltration membrane apparatus or a microfiltration membrane apparatus are incorporated, and the subsystem is an ultraviolet sterilization apparatus, an electric deionized water production apparatus, and an ultrafiltration membrane apparatus. Or a microfiltration membrane device, wherein the subsystem is an ultraviolet oxidation device, an anion polisher, an electric deionized water producing device, an ultrafiltration membrane device or a microfiltration device. A sub-membrane device, wherein the subsystem is a reverse osmosis membrane device, an ultraviolet oxidation device, an anion polisher, an electric deionized water producing device, an ultrafiltration membrane device or a microfiltration device. Incorporating a membrane device.
【００１３】[0013]
【作用】本発明は１次純水製造装置により製造された純
水を更に精製処理する役割のサブシステムに関するもの
であり、電気式脱イオン水製造装置をサブシステムに組
み込む事によって、電気式脱イオン水製造装置が有する
脱イオン能力、殺菌能力、微粒子除去能力等を活用しよ
うとするものである。The present invention relates to a subsystem having a role of further purifying pure water produced by the primary deionized water producing apparatus. By incorporating the electric deionized water producing apparatus in the subsystem, the electric deionized water is produced. The deionization ability, the sterilization ability, the fine particle removal ability, and the like of the ionized water production device will be utilized.
【００１４】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
【００１５】図１は本発明のサブシステムの一実施態様
を示すフロー図で、同図中２は１次純水製造装置であ
る。この１次純水製造装置２は、例えば図３を用いて先
に説明した、公知の純水製造装置でよい。前記１次純水
製造装置２から超純水タンク４に供給される純水はポン
プ６によってまず紫外線殺菌装置８に送られ、ここで紫
外線が純水に照射され、殺菌が行なわれる。この紫外線
殺菌装置８は公知のものが使用できる。FIG. 1 is a flow chart showing an embodiment of the subsystem of the present invention. In FIG. 1, 2 is a primary pure water producing apparatus. The primary pure water producing apparatus 2 may be the known pure water producing apparatus described above with reference to FIG. 3, for example. The pure water supplied from the primary pure water producing apparatus 2 to the ultrapure water tank 4 is first sent to the ultraviolet sterilizer 8 by the pump 6, where the pure water is irradiated with ultraviolet rays to sterilize it. A known device can be used as the ultraviolet sterilizer 8.
【００１６】殺菌された純水は、次いで電気式脱イオン
水製造装置１０に送られ、ここで陰及び陽電荷を持つイ
オン、生菌、微粒子等が除去される。The sterilized pure water is then sent to the electric deionized water producing apparatus 10 where ions, viable bacteria, fine particles and the like having negative and positive charges are removed.
【００１７】本発明において使用する電気式脱イオン水
製造装置は、陰電極と陽電極、イオン交換膜、イオン交
換体、及びそれらを包含する枠体等より構成されてい
る。具体的には、前記電気式脱イオン水製造装置は、陰
イオン交換膜と陽イオン交換膜とで形成される隙間に、
陽イオン交換体と陰イオン交換体（これらは強型でも弱
型でも良い）とを充填して脱塩室とし、当該脱塩室内に
被処理水を通過させるとともに、前記両イオン交換膜を
介して被処理水の流れに対して直角方向に直流電流を作
用させ、両イオン交換膜の外側に流れている濃縮水中に
被処理水中のイオンを電気的に排除しながら脱イオン水
を製造するもので、脱塩室内にイオン交換樹脂等のイオ
ン交換体を充填しているにもかかわらず、酸、アルカリ
等の再生薬品を一切使用せずに脱イオン水を製造するこ
とができるものである。The electric deionized water producing apparatus used in the present invention comprises a negative electrode, a positive electrode, an ion exchange membrane, an ion exchanger, and a frame containing them. Specifically, the electric deionized water production apparatus, in the gap formed by the anion exchange membrane and the cation exchange membrane,
A cation exchanger and an anion exchanger (these may be strong type or weak type) may be filled to form a desalting chamber, and the water to be treated may be passed through the desalting chamber and through the both ion exchange membranes. A deionized water is produced by applying a direct current in the direction perpendicular to the flow of the water to be treated to electrically remove the ions in the water to be treated from the concentrated water flowing outside both ion exchange membranes. Even though the deionization chamber is filled with an ion exchanger such as an ion exchange resin, deionized water can be produced without using any regenerating chemical such as acid or alkali.
【００１８】イオン交換体としては、粒状のイオン交換
樹脂、イオン交換繊維（マット状したもの）等いずれの
ものでも使用できる。As the ion exchanger, any of granular ion-exchange resin, ion-exchange fiber (mat-shaped) and the like can be used.
【００１９】上述した電気式脱イオン水製造装置におい
ては、両イオン交換膜の間にイオン交換体を充填するこ
とにより、脱イオン速度（濃縮速度）が加速される。In the above-mentioned electric deionized water producing apparatus, the deionization rate (concentration rate) is accelerated by filling the space between both ion exchange membranes with an ion exchanger.
【００２０】当該電気式脱イオン水製造装置としては、
公知（例えば、特開平４−７１６２４，特開平４−１６
６２１５号）のものがそのまま使用できる。操作条件等
も公知のものである。As the electric deionized water producing apparatus,
Known (for example, JP-A-4-71624, JP-A-4-16)
No. 6215) can be used as it is. Operating conditions and the like are also known.
【００２１】上記のようにしてイオン、生菌、微粒子等
が除去された後、更に限外濾過膜装置１２で処理され、
超純水としてユースポイント１４に供給され、その一部
が使用に供されると共に、残部は返送パイプ１６を介し
て超純水タンク４へ送られるものである。After the ions, viable bacteria, fine particles and the like have been removed as described above, they are further processed by the ultrafiltration membrane device 12,
It is supplied as ultrapure water to the use point 14, a part of it is used, and the rest is sent to the ultrapure water tank 4 through the return pipe 16.
【００２２】この実施態様の構成は、従来の構成である
ＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦ（又はＭＦ）に構成上対応するも
のであるが、本態様で用いるＥＤＩは従来の構成で用い
るＣ／Ｐよりも殺菌及び微粒子の除去の面で優れている
ので、本構成のほうが処理水水質が向上する。なお、本
態様においては、サブシステムを上記のように構成した
が、これに限らず、以下のように構成することもできる
ものである。The configuration of this embodiment corresponds to the conventional configuration of UV ST- C / P-UF (or MF), but the EDI used in this aspect is C / C used in the conventional configuration. Since P is superior to P in terms of sterilization and removal of fine particles, this configuration improves the quality of treated water. In addition, in this aspect, the subsystem is configured as described above, but the present invention is not limited to this, and may be configured as follows.
【００２３】（１）ＥＤＩだけでサブシステムを構成す
る 電気式脱イオン水製造装置単独でサブシステムを構成す
れば、従来のＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦ（又はＭＦ）で構成
されているサブシステムと比し、はるかにコンパクトに
なり、かつ水質的にも優れたものが得られるので、イニ
シャルコスト／ランニングコストの減少につながる。特
にＵＶSTのランプの交換、Ｃ／Ｐのイオン交換体の交
換、ＵＦ装置のＵＦ膜の交換等のランニングコストが低
減できる。(1) Subsystem composed only of EDI If the subsystem is composed solely of the electric deionized water producing apparatus, the sub-system composed of conventional UV ST- C / P-UF (or MF) is used. Compared with the system, it is much more compact and has excellent water quality, leading to a reduction in initial cost / running cost. In particular, running costs such as UV ST lamp replacement, C / P ion exchanger replacement, and UF membrane replacement of the UF device can be reduced.
【００２４】（２）ＥＤＩ−ＵＦ（又はＭＦ）でサブシ
ステムを構成する 上記（１）のサブシステムに膜装置を組込んだものであ
る。ＥＤＩ＋ＵＦ（又はＭＦ）のフロー構成になるの
で、微粒子リークに対するバックアップとしてのフィル
ターがＥＤＩの後についている分、（１）のサブシステ
ムより安心な装置となる。イニシャルコスト，ランニン
グコストの考え方については（１）のサブシステムと同
じであるが、膜装置を付加している分だけ、その効果が
減殺される。(2) Subsystem is composed of EDI-UF (or MF) The membrane device is incorporated in the subsystem of (1) above. Since the flow configuration is EDI + UF (or MF), the filter as a backup against the particle leak is attached after the EDI, which makes the device safer than the subsystem of (1). The concept of initial cost and running cost is the same as the subsystem of (1), but the effect is diminished by the addition of the membrane device.
【００２５】（３）ＵＶOX−ＡＰ−ＥＤＩ−ＵＦ（又は
ＭＦ）でサブシステムを構成する 但し、ＵＶOXは紫外線酸化装置で、ＡＰは塔内にＯＨ形
の陰イオン交換樹脂を充填してなるアニオンポリッシャ
を示す。(3) Subsystem is composed of UV OX -AP-EDI-UF (or MF) where UV OX is an ultraviolet oxidizer and AP is a column filled with an OH type anion exchange resin. Shows an anionic polisher.
【００２６】本フロー構成はＴＯＣの除去に注力したも
ので、ＴＯＣはまずＵＶOX（ＵＶ酸化装置）で酸化分解
され、ついで分解生成物はＣＯ2 又は有機酸の形でアニ
オンポリッシャによって除去される。The present flow configuration focuses on the removal of TOC, which is first oxidatively decomposed by UV OX (UV oxidizer), and then the decomposition products are removed by an anionic polisher in the form of CO 2 or organic acid. .
【００２７】従来技術であるＵＶOX＋ＡＰ＋Ｃ／Ｐ＋Ｕ
Ｆ（又はＭＦ）のフロー構成と比し、Ｃ／ＰにＥＤＩが
代った分、微粒子、生菌の除去の面でより精製された処
理水が得られる。Prior art UV OX + AP + C / P + U
Compared with the flow configuration of F (or MF), C / P is replaced by EDI, and thus purified water is obtained which is more purified in terms of removal of fine particles and viable bacteria.
【００２８】（４）ＲＯ−ＵＶOX−ＡＰ−ＥＤＩ−ＵＦ
（又はＭＦ）でサブシステムを構成する 本フロー構成はＴＯＣの除去に最も力点をおいたもの
で、ＲＯとＵＶOX＋ＡＰによりＴＯＣを最大限除去する
事を期するものである。又、従来技術であるＲＯ＋ＵＶ
OX＋ＡＰ＋Ｃ／Ｐ＋ＵＦ（又はＭＦ）の構成においてＣ
／Ｐの代りにＥＤＩを用いているので、微粒子、生菌の
除去の面で有利であり、ＴＯＣ、微粒子、生菌等の面で
最高の水質を得る事が出来る。(4) RO-UV OX -AP-EDI-UF
(Or MF) configures the subsystem. This flow configuration puts the most emphasis on the removal of TOC, and aims at maximally removing TOC by RO and UV OX + AP. In addition, RO + UV which is the conventional technology
C in the structure of OX + AP + C / P + UF (or MF)
Since EDI is used instead of / P, it is advantageous in terms of removing fine particles and viable bacteria, and the best water quality can be obtained in terms of TOC, fine particles, viable bacteria and the like.
【００２９】なお、上記各態様に示すように、サブシス
テムの最終段（ユースポイントの直前）に膜装置を設置
することが望ましいが、この場合には膜装置はＵＦ，Ｍ
Ｆに限られず、ＲＯも使用できるものである。As shown in each of the above aspects, it is desirable to install the membrane device at the final stage of the subsystem (immediately before the point of use). In this case, the membrane device is UF or M.
Not limited to F, RO can also be used.
【００３０】[0030]
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples.
【００３１】（実施例１，２）図２に示すように、１次
純水製造装置２２で市水を精製処理して得た純水を超純
水タンク２４に送り、この純水をポンプ２６で図２中、
Ａ，Ｂ，Ｃで示される３種の異なるサブシステムに供給
した。(Embodiments 1 and 2) As shown in FIG. 2, pure water obtained by refining city water in the primary pure water producing apparatus 22 is sent to the ultrapure water tank 24, and this pure water is pumped. 26 in FIG.
It was supplied to three different subsystems designated A, B and C.
【００３２】サブシステムＡ（比較例１） ＵＶST−Ｃ／Ｐ−ＵＦの構成である サブシステムＢ（実施例１） ＵＶST−ＥＤＩ−ＵＦの構成である サブシステムＣ（実施例２） ＥＤＩ−ＵＦの構成である。[0032] Subsystem A (Comparative Example 1) UV ST -C / P- UF is a configuration subsystem B (Example 1) Subsystem C (Example 2) is a UV ST -EDI-UF configuration EDI -It is a structure of UF.
【００３３】図２に示した、ポイント（１）及び各サブ
システムＡ，Ｂ，Ｃ中のポイント（２）〜（７）におけ
る水質の測定結果を表１に示した。Table 1 shows the results of water quality measurement at point (1) and points (2) to (7) in each of the subsystems A, B and C shown in FIG.
【００３４】なお、１次純水製造装置の構成は、２床３
塔式純水製造装置−ＲＯ装置−真空脱気装置−混床式ポ
リッシャの順に配置した一般的なものであった。The structure of the primary deionized water production system is 2 beds 3
The column type pure water producing apparatus-RO apparatus-vacuum degassing apparatus-mixed bed type polisher was arranged in this order and was a general one.
【００３５】また、各サブシステムで使用した装置は以
下のものであった （イ）ＵＶST（紫外線殺菌装置） 製造者 千代田工販（株） 型 式 ＳＸ−１／２ 消費電力 ０．０５ｋＷ （ロ）Ｃ／Ｐ（カートリッジポリシャ） 使用イオン交換樹脂 アンバーライト ＩＲ−１２４（Ｈ形） １０（ｌ） アンバーライト ＩＲＡ−４０２ＢＬ（ＯＨ形） １０
（ｌ） （ハ）ＵＦ（限外濾過膜装置） 製造者 旭化成（株） 型 式 ＯＬＴ−３０２６（外圧型中空系膜モジュー
ル） 分画分子量 １０，０００ （ニ）ＥＤＩ（電気式脱イオン水製造装置） 型 式 ＥＤＩ−１０ 製造者 オルガノ（株） 処理量 １ｍ3 ／ＨThe equipment used in each subsystem was as follows: (a) UV ST (UV sterilizer) Manufacturer Chiyoda Kousaku Co., Ltd. Model SX-1 / 2 Power consumption 0.05 kW ( (B) C / P (cartridge polisher) ion exchange resin Amberlite IR-124 (H type) 10 (l) Amberlite IRA-402BL (OH type) 10
(L) (c) UF (ultrafiltration membrane device) Manufacturer Asahi Kasei Co., Ltd. Model OLT-3026 (external pressure type hollow membrane module) Fractionation molecular weight 10,000 (d) EDI (electric deionized water production) Equipment) Model EDI-10 Manufacturer Organo Co., Ltd. Throughput 1 m 3 / H
【００３６】[0036]
【表１】 表１から、ＥＤＩが有効にイオン、生菌、微粒子を除去
していることがわかる。[Table 1] From Table 1, it can be seen that EDI effectively removes ions, viable bacteria and fine particles.
【００３７】[0037]
【発明の効果】以上説明したように、電気式脱イオン水
製造装置はイオン除去のみならず、生菌除去、微粒子除
去等の能力も有するので、電気式脱イオン水製造装置を
サブシステムに用いる事によってＵＶ殺菌装置や、ＵＦ
装置等の膜装置の超純水精製に対する寄与割合の軽減等
を図る事が出来る。又混床式ポリッシャに比してイオン
交換体の交換量も軽減（原則的には交換は不要）を図る
事が出来る。更に、水質によっては電気式脱イオン水製
造装置単独でサブシステムを構成する事も可能で、この
場合には装置の簡略化が図れる。As described above, since the electric deionized water producing apparatus has not only the ability to remove ions but also the ability to remove viable bacteria and fine particles, the electric deionized water producing apparatus is used as a subsystem. UV sterilizer and UF
It is possible to reduce the contribution of the membrane equipment such as the equipment to the purification of ultrapure water. In addition, the exchange amount of the ion exchanger can be reduced compared to the mixed bed polisher (in principle, exchange is unnecessary). Further, depending on the water quality, it is possible to configure the subsystem by the electric deionized water producing device alone, and in this case, the device can be simplified.
【図１】本発明の一実施態様を示すフロー図である。FIG. 1 is a flow chart showing an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例（Ｂ，Ｃ）及び比較例（Ａ）の
構成を示すフロー図である。FIG. 2 is a flow chart showing a configuration of an example (B, C) of the present invention and a comparative example (A).
【図３】従来のサブシステムの一構成例を示すフロー図
である。FIG. 3 is a flowchart showing a configuration example of a conventional subsystem.
２ １次純水製造装置 ４ 超純水タンク ６ ポンプ ８ 紫外線殺菌装置 １０ 電気式脱イオン水製造装置 １２ 限外濾過膜装置 １４ ユースポイント １６ 返送パイプ 2 Primary pure water production equipment 4 Ultra pure water tank 6 Pump 8 Ultraviolet sterilization equipment 10 Electric deionized water production equipment 12 Ultrafiltration membrane equipment 14 Use point 16 Return pipe
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０２Ｆ 1/72 １０１ 9045−4Ｄ 9/00 Ｚ 7446−4Ｄ Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI technical display location C02F 1/72 101 9045-4D 9/00 Z 7446-4D
Claims (6)
更に精製処理してユースポイントへ供給するサブシステ
ムが少なくとも電気式脱イオン水製造装置を組込んでな
ることを特徴とする電気式脱イオン水製造装置を組込ん
だサブシステム。1. An electrical system characterized in that a subsystem for further purifying pure water supplied from a primary pure water producing apparatus and supplying it to a use point incorporates at least an electric deionized water producing apparatus. Subsystem that incorporates a deionized water production system.
置単独で構成され純水を更に処理するものである請求項
１に記載のサブシステム。2. The subsystem according to claim 1, wherein the subsystem is constituted solely by an electric deionized water producing apparatus and further treats pure water.
置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んで
なる請求項１に記載のサブシステム。3. The subsystem according to claim 1, wherein the subsystem incorporates an electric deionized water producing apparatus and an ultrafiltration membrane apparatus or a microfiltration membrane apparatus.
式脱イオン水製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過
膜装置とを組込んでなる請求項１に記載のサブシステ
ム。4. The subsystem according to claim 1, wherein the subsystem incorporates an ultraviolet sterilizer, an electric deionized water producing device, and an ultrafiltration membrane device or a microfiltration membrane device.
オンポリッシャと、電気式脱イオン水製造装置と、限外
濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組込んでなる請求項
１に記載のサブシステム。5. The subsystem according to claim 1, wherein the subsystem incorporates an ultraviolet oxidation device, an anion polisher, an electric deionized water producing device, and an ultrafiltration membrane device or a microfiltration membrane device. .
酸化装置と、アニオンポリッシャと、電気式脱イオン水
製造装置と、限外濾過膜装置又は精密濾過膜装置とを組
込んでなる請求項１に記載のサブシステム。6. The subsystem comprises a reverse osmosis membrane device, an ultraviolet oxidation device, an anion polisher, an electric deionized water producing device, and an ultrafiltration membrane device or a microfiltration membrane device. The subsystem according to 1.
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