JPH0788350B2 - N−フルオロスルホンアミドの製造方法 - Google Patents

N−フルオロスルホンアミドの製造方法

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JPH0788350B2
JPH0788350B2 JP62159907A JP15990787A JPH0788350B2 JP H0788350 B2 JPH0788350 B2 JP H0788350B2 JP 62159907 A JP62159907 A JP 62159907A JP 15990787 A JP15990787 A JP 15990787A JP H0788350 B2 JPH0788350 B2 JP H0788350B2
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、N−フルオロスルホンアミドの製造方法に関
する。
従来の技術 N−フルオロスルホンアミドを、スルホンアミドから溶
剤中でフツ素化剤と反応させることにより製造すること
は自体公知である。しかしこれらの方法は、一方ではた
とえば次亜フツ素酸塩のような高価なフツ素化剤を使用
することにより不経済であり;フツ素化剤としてフツ素
を使用する場合には、フツ素の非選択的反応のために、
極めて低い温度で著しく希釈されたフツ素を用いて作業
しなければならず、この場合でもフルオロスルホンアミ
ドの収量は十分ではない。このように、たとえば“ジャ
ーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエテイ
(JACS)"1984年第452頁以降には、N−フルオロ−N−
アルキルスルホンアミドの製造について報告されてい
る。そこでは、反応を窒素中1〜5%のフツ素を用い溶
剤としてCFCl3/CHCl3中で、−78℃で行ない、その際11
〜71%の範囲内の収率が得られる。
発明が解決しようとする問題点 本発明の課題は、公知の方法の欠点を除去し、N−フル
オロスルホンアミドを製造する新規の改善された方法を
提供することである。
発明を達成するための手段 本発明によるN−フルオロスルホンアミドの製造方法
は、スルホンアミドをフツ素と溶剤中で反応させる種類
の方法から出発し、かつ一般式I: R1−SO2−NH−R2 (I) 〔式中、R1は1〜10個のC原子、好ましくは1〜8個の
C原子を有する、場合によつて1個または数個のF原子
により置換されているアルキル基、または場合により1
〜5個のF原子および/または1〜2個のCF3基またはC
H3基により置換されたフエニルまたはナフチルのような
アリール基を表わし、R2は1〜6個のC原子を有するア
ルキル基を表わす〕で示されるスルホンアミドを、元素
状フツ素と、ハロゲン化炭化水素とニトリルからなる溶
剤混合物中で反応させかつ生じたN−フルオロスルホン
アミドを反応混合物から単離することを特徴とする。
置換基R1としては有利に、 a)アルキル基の場合には置換アルキル基は、たとえば
ペルフルオロオクチル、ペンタフルオロエチル、トリフ
ルオロメチル、特にトリフルオロメチルのようなペルフ
ルオロアルキル基が挙げられ、 b)アリール基の場合にはトリル、トリフルオロメチル
フエニル、フルオロフエニル、ペルフルオロフエニルを
表わす。
置換基R2としては、直鎖または分枝鎖アルキルが挙げら
れる。
この場合、非分枝アルキルは殊にメチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ペンチル、ヘキシルである。
分枝鎖アルキルは、殊にイソプロピル、イソブチル、s
−ブチル、t−ブチル、1−、2−、または3−メチル
−ブチル、2−または3−エチルプロピル、1,1−、2,2
−、3,3−ジメチルプロパンである。特に好ましい分枝
鎖アルキルは、イソプロピル、イソブチル、s−ブチ
ル、ネオペンチル(2,2−ジメチルプロピル)である。
特に好ましい分枝鎖アルキルは、その分枝鎖が、窒素と
結合したC原子から出発しないことを条件とするもので
ある。このような分枝鎖アルキルはたとえばi−ブチ
ル、s−ブチル、ネオペンチルである。
溶剤混合物の成分としては、好ましくは1〜3個のC原
子を有する塩素化炭化水素および/またはフツ素塩素化
炭化水素の群からなるハロゲン化炭化水素が選択され
る。特にハロゲン化炭化水素として有利であると立証さ
れているのは、ジクロルメタン、クロロホルム、四塩化
炭素、フルオロトリクロルメタン、トリフルオロ−トリ
クロルエタン、テトラフルオロ−ジクロルエタンであ
る。異性体を形成する、2〜3個のC原子を有するハロ
ゲン化炭化水素の場合には、すべての公知異性体を使用
することができ、その際非対称に置換された異性体が有
利である。それで、たとえば溶剤成分としてのトリフル
オロトリクロルエタンとしては1,1,1−トリフルオロト
リクロルエタンのほかに好ましくは1,1,2−トリフルオ
ロトリクロルエタンが挙げられる。
溶剤の他の必須成分としては、ニトリルが使用され、そ
の際アセトニトリルおよび/またはプロピオニトリル、
特にアセトニトリルが有利である。
ハロゲン化炭化水素とニトリルとの間の混合比は、極め
て広い割合で変えることができる。ハロゲン化炭化水素
対ニトリルの容量による混合比は10:1〜1:10、有利には
2:1〜1:2の範囲が有利であると立証された。
フツ素化剤のフツ素は、好ましくは窒素、SF6、CF4のよ
うな不活性ガスまたはヘリウム、ネオン、アルゴン、ク
リプトンのような貴ガスと混合して使用される。有利な
不活性ガスは窒素である。フツ素化のために、30容量%
までフツ素を含有するフツ素/不活性ガス混合物を使用
することができる。極めて良好な結果は、10〜25容量%
のフツ素で得られる。
反応が実施される温度は広範囲に変えることができ、特
に+10〜−80℃の範囲内にある。温度の選択は、個々の
場合にフツ素濃度、溶剤混合物の組成等のような反応条
件に依存する。
本発明のもう1つの有利な実施態様は、反応混合物を反
応の間および/またはその後フツ化水素用の吸着剤と接
触させ、こうして反応の経過中に生じたフツ化水素を除
去することを配慮する。フツ化水素用の吸着剤として
は、反応を妨げないかないしは生成したN−フルオロス
ルホンアミドと反応しない全ての自体公知の吸着剤が挙
げられる。特に好適な吸着剤としては、フツ化アルカ
リ、炭酸水素アルカリ、炭酸アルカリ、特にフツ化ナト
リウムが有利であると立証された。反応混合物の後処理
は、自体公知の方法でクロマトグラフ法、たとえばカラ
ムクロマトグラフイーによつて行なうことができる。し
かし、反応混合物を蒸留により後処理することも可能で
ある。この方法はなかんずく、残留反応混合物からフツ
化水素を注意深く除去する際に有効に適用できる。
本発明は、特別な実施態様における連続的製造方法: a)サーモスタツト制御の反応器中へ連続的に、ハロゲ
ン化炭化水素とニトリルからなる溶剤混合物中の式Iに
相応するスルホンアミドの溶液ならびにガス状フツ素を
配量し、 b)反応混合物を循環路でフツ化水素用の吸着剤を介し
て導びき、 c)工程b)による反応器および/または循環路から連
続的にかつ反応成分への添加に相応して反応混合物を取
り出し、 d)取り出された反応混合物から場合によりなお含有さ
れているフツ化水素を、吸着剤を用いて除去しかつ e)好ましくはクロマトグラフ法または蒸留により、N
−フルオロスルホンアミドを得ることを要旨とする。
本発明による方法は、公知の方法に比して顕著な利点に
よりすぐれている。こうして、反応生成物を著しく改善
された収率で得ることが可能である。さらに、実際に副
生成物は検出できなかつた。つまり反応は本発明による
方法実施の場合極めて高い選択性で進行する。
本発明による方法により製造された化合物の一部は新規
である。これは殊に式(II): R3−SO2−NF−R2 (II) 〔式中R3は、フエニル、トリルまたは1〜10個のC原
子、好ましくは1〜8個のC原子を有するアルキルの群
からの、1個または数個のF原子を含有する基を表わ
し、R2は1〜6個のC原子を有するアルキル基を表わ
す〕で示されるN−フルオロスルホンアミドである。
これらの新規化合物のうち、特に、置換基R3およびR2
それぞれ第1表に記載の意味を有するようなものが挙げ
られる。
実施例 次の例は本発明を詳説するが、本発明の範囲を制限する
ものではない。例1および例3は本発明による実施例で
あり例2は比較例である。
例1 p−トルオール−N−ネオペンチルスルホンアミド50g
(207ミリモル)を、CH3CNおよびCCl3Fからなる(容
量)比1:1の混合物300ml中に溶かしかつ温度調節可能な
反応器中で−30℃に冷却する。
良好な混合のために、反応溶液を、フツ化水素およびフ
ツ素耐性ポンプを用いて循環させる。次いで、フツ素・
窒素のガス混合物(F215容量%、N285容量%)を溶液中
へ導入する。約95%の変換率に到達した後(薄層クロマ
トグラフイーによる制御)、フツ素供給を中断し、溶液
をフツ素がなくなるまで洗浄する。HFを除去するため
に、反応溶液をNaF−ペレットを通して濾過する。引続
く後処理は真空中で溶剤を留去しかつ油状の粗生成物を
カラムクロマトグラフイーで精製(SiO2、SH2Cl2)する
ことにより行なう。未反応の出発物質は返送する。
選択率98〜99% 純度:>97% 驚くべきことに、58℃で融解する生成物は、高度真空中
で分解せずに蒸留することができる。
沸点:135℃/3・10-3トル δ19F−NMR:−38ppm J319F−1H):46Hz 例2 p−トルオール−N−ネオペンチルスルホンアミドのフ
ツ素化を、例1によるが、しかしCH2Cl2とCCl3Fとから
なる1:1の混合物中で実施した。例1におけると同じ反
応時間の後に、フツ素供給を終了し、反応生成物を後処
理した。
次のものが単離された: 生成物2.4g フツ化トシル(副生成物)2.1g 未反応の抽出物14.0g 他の分解生成物は単離されなかつた。従つて、この反応
実施の際の変換率は30%、選択率は53.3%である。
例3 a)p−トルオール−N−メチルスルホンアミド のフツ素化を、温度調節可能な反応器中で−30℃で、15
容量%(窒素中)のフツ素濃度で行なつた。
溶剤としては、CCl3FとCH3CNとからなる2:1の混合物を
使用した。
例1による後処理後に、生成物4.3g(21.2ミリモル)を
単離することができた、収率78.5%。47℃で融解する固
形物を、90℃、3・10-2トルで蒸留した。
δ19F−NMR:−37ppm J319F−1H):32Hz 相応して、次表に記載した化合物が得られた: 標準:CCl3F、測定周波数75.26M/Hz
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 リユーデイガー・ザンダー ドイツ連邦共和国ゼーンデ1・アム・ラー デホルツ 2

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スルホンアミドを溶剤中でフツ素と反応さ
    せることによりN−フルオロスルホンアミドを製造する
    方法において、一般式I: R1−SO2−NH−R2 (I) 〔式中、R1は場合によつて1個ないし数個のF原子によ
    り置換された1〜10個のC原子を有するアルキル基、ま
    たは場合によつては1〜5個のF原子および/または1
    〜2個のCF3基またはCH3基により置換されたアリール基
    を表わし、R2は1〜6個のC原子を有するアルキル基を
    表わす〕で示されるスルホンアミドを元素状フツ素と、
    ハロゲン炭化水素とニトリルからなる溶剤混合物中で反
    応させ、かつ生じるN−フルオロスルホンアミドを反応
    混合物から単離することを特徴とするN−フルオロスル
    ホンアミドの製造方法。
  2. 【請求項2】R1が a)アルキル基の場合にはペルフルオロアルキル、特に
    トリフルオロメチルを表わし、 b)アリール基の場合にはトリル、トリフルオロメチル
    フエニル、フルオロフエニル、ペルフルオロフエニルを
    表わす特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. 【請求項3】溶剤成分として、1〜3個のC原子を有す
    る塩素化炭化水素および/またはフツ素塩素化炭化水素
    の群からのハロゲン化炭化水素を使用する特許請求の範
    囲第1項または第2項記載の方法。
  4. 【請求項4】ハロゲン化炭化水素として、ジクロルメタ
    ン、クロロホルム、四塩化炭素、フルオルトリクロロメ
    タン、トリフルオロ−トリクロルエタン、テトラフルオ
    ル−ジクロルエタンを使用する特許請求の範囲第3項記
    載の方法。
  5. 【請求項5】ニトリルとしてアセトニトリルおよび/ま
    たはプロピオニトリルを使用する特許請求の範囲第1項
    から第4項までのいずれか1項記載の方法。
  6. 【請求項6】ハロゲン化炭化水素とニトリルとを、10:1
    〜1:10の容量比で使用する特許請求の範囲第1項から第
    5項までのいずれか1項記載の方法。
  7. 【請求項7】フツ素を不活性ガスとの混合物で使用し、
    その際混合物は30容量%までフツ素を含有する特許請求
    の範囲第1項から第6項までのいずれか1項記載の方
    法。
  8. 【請求項8】反応混合物を、反応の間および/またはそ
    の後にフツ化水素の吸着剤と接触させる特許請求の範囲
    第1項から第7項までのいずれか1項記載の方法。
  9. 【請求項9】a)サーモスタツト制御の反応器中へ連続
    的に、ハロゲン化炭化水素とニトリルからなる溶剤混合
    物中の式Iによるスルホンアミドの溶液ならびにガス状
    のフツ素を配量し、 b)反応混合物を循環路でフツ化水素の吸着剤を介して
    導き、 c)工程b)による反応器および/または循環路から連
    続的にかつ反応成分への添加に相応して混合物を取り出
    し、 d)取り出された反応混合物から場合によりなお含有さ
    れているフツ化水素を吸着剤を用いて除去し、かつ e)後処理してN−フルオロスルホンアミドを得る、特
    許請求の範囲第1項から第8項までのいずれか1項記載
    の方法。
JP62159907A 1986-07-10 1987-06-29 N−フルオロスルホンアミドの製造方法 Expired - Lifetime JPH0788350B2 (ja)

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