JPH0786470B2 - ディスク表面検査方法及び装置 - Google Patents
ディスク表面検査方法及び装置Info
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- JPH0786470B2 JPH0786470B2 JP63145356A JP14535688A JPH0786470B2 JP H0786470 B2 JPH0786470 B2 JP H0786470B2 JP 63145356 A JP63145356 A JP 63145356A JP 14535688 A JP14535688 A JP 14535688A JP H0786470 B2 JPH0786470 B2 JP H0786470B2
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/002—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier
- G11B7/0037—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs
- G11B7/00375—Recording, reproducing or erasing systems characterised by the shape or form of the carrier with discs arrangements for detection of physical defects, e.g. of recording layer
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
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- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
- G01N21/9506—Optical discs
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- G—PHYSICS
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ディスクの表面に存在する傷やピンホール等
の欠陥を光学的に検査するディスク表面検査方法及び装
置に関するものである。
の欠陥を光学的に検査するディスク表面検査方法及び装
置に関するものである。
〔従来の技術〕 従来、レーザービジュアルディスク（以下、LVDとい
う）やコンパクトディスク（CD）の表面検査は、作業員
が目視によって行っていた。しかし、目視による検査に
はバラツキがあり作業効率も悪いため、これを自動化す
る試みがなされている。
う）やコンパクトディスク（CD）の表面検査は、作業員
が目視によって行っていた。しかし、目視による検査に
はバラツキがあり作業効率も悪いため、これを自動化す
る試みがなされている。
例えば、連続帯状物（ウェブ）等の表面検査を自動化す
るためには、ウェブを一定方向に移送しながらウェブの
幅方向にフライイングスポット方式で光ビームを照射
し、正常面からの正常反射光あるいは欠陥個所からの散
乱反射光を受光器に入射させ、その光電出力に基づいて
検査表面の評価を行う方法が知られている（例えば特開
昭55−87907号公報）。この手法による表面検査は検査
表面に無接触で行われるため、基本的にはLVD等のディ
スク表面の検査にも応用することが可能である。
るためには、ウェブを一定方向に移送しながらウェブの
幅方向にフライイングスポット方式で光ビームを照射
し、正常面からの正常反射光あるいは欠陥個所からの散
乱反射光を受光器に入射させ、その光電出力に基づいて
検査表面の評価を行う方法が知られている（例えば特開
昭55−87907号公報）。この手法による表面検査は検査
表面に無接触で行われるため、基本的にはLVD等のディ
スク表面の検査にも応用することが可能である。
LVD等の光学ディスクには、表面の透明層の下に多数の
ピットが形成された信号記録面が設けられている。これ
らのピットは、信号記録面に同心円状に所定ピッチで配
列され、信号読み出し時にはこのピットからの回折反射
光が信号光として検出される。このようなピットの形状
や配列形態は、LVDの駆動方式によって２種に大別され
る。すなわち、信号を読み出す際にトランク位置に応じ
てLVDの回転速度を調節し、読み出し位置での線速度を
一定にするCLVタイプ（Constant Linear Velocity typ
e）のものでは、ピットの形状やディスクの円周方向に
おけるピットの配列ピッチがトラック位置に係わらず一
定しているのに対し、LVDを常に一定速度で回転させるC
AVタイプ（Constant Angular Verocity type）のもので
は、トラック位置が内側に近づく程ピットの長さが短
く、配列ピッチも詰まっている。
ピットが形成された信号記録面が設けられている。これ
らのピットは、信号記録面に同心円状に所定ピッチで配
列され、信号読み出し時にはこのピットからの回折反射
光が信号光として検出される。このようなピットの形状
や配列形態は、LVDの駆動方式によって２種に大別され
る。すなわち、信号を読み出す際にトランク位置に応じ
てLVDの回転速度を調節し、読み出し位置での線速度を
一定にするCLVタイプ（Constant Linear Velocity typ
e）のものでは、ピットの形状やディスクの円周方向に
おけるピットの配列ピッチがトラック位置に係わらず一
定しているのに対し、LVDを常に一定速度で回転させるC
AVタイプ（Constant Angular Verocity type）のもので
は、トラック位置が内側に近づく程ピットの長さが短
く、配列ピッチも詰まっている。
LVDの表面を上記のフライイングスポット方式で検査す
る場合には、第５図に示したように、スキャナ２からの
光ビーム３によりLVD4の透明層８の表面に走査線５を形
成し、その正反射光3aを受光器７に入射させる。受光器
７は入射光量に応じた光電信号を出力するから、この光
電信号に基づいてLVD4の表面状態を評価することができ
る。LVD4の表面反射率は、検査範囲では均一であるた
め、走査線５をLVD4の回転中心軸６を通る直線上に一致
させ、LVD4を回転させながら検査を行うことによって、
ほぼ安定した表面検査が行われる。なお、表面の透明層
８を通ってピットで回折，散乱される拡散光は、正反射
光3aとは指向方向が大きく異なるため受光器７で誤検出
されることもない。
る場合には、第５図に示したように、スキャナ２からの
光ビーム３によりLVD4の透明層８の表面に走査線５を形
成し、その正反射光3aを受光器７に入射させる。受光器
７は入射光量に応じた光電信号を出力するから、この光
電信号に基づいてLVD4の表面状態を評価することができ
る。LVD4の表面反射率は、検査範囲では均一であるた
め、走査線５をLVD4の回転中心軸６を通る直線上に一致
させ、LVD4を回転させながら検査を行うことによって、
ほぼ安定した表面検査が行われる。なお、表面の透明層
８を通ってピットで回折，散乱される拡散光は、正反射
光3aとは指向方向が大きく異なるため受光器７で誤検出
されることもない。
しかしながら、第６図に示したように、LVD4の表面に存
在する欠陥部Ｓからの散乱反射光3bを受光器７で受ける
ようにした場合には、透明層８を透過した後、信号記録
面10に形成されたピット10aにより破線で示したように
回折，散乱された散乱光11も受光器７に入射する。この
ような散乱光11は、目的とする表面検査に不要な光であ
るが、その指向方向は、受光器７で受けようとする散乱
反射光3bとほぼ同じ方向となってしまう。
在する欠陥部Ｓからの散乱反射光3bを受光器７で受ける
ようにした場合には、透明層８を透過した後、信号記録
面10に形成されたピット10aにより破線で示したように
回折，散乱された散乱光11も受光器７に入射する。この
ような散乱光11は、目的とする表面検査に不要な光であ
るが、その指向方向は、受光器７で受けようとする散乱
反射光3bとほぼ同じ方向となってしまう。
このようにして生じる散乱光11の光量は、CLVタイプのL
VDでは走査位置と無関係にほぼ一定レベルであるため、
受光器７からの光電信号中からこれを除去することは比
較的容易であるが、CAVタイプのLVDを検査対象とした場
合には、前述したようにディスクの内周側と外周側とで
ピットの大きさや配列ピッチが異なるため、例え表面に
欠陥部Ｓが存在しない場合でも散乱光11の指向する高さ
が走査位置ごとに変化する。すなわち、LVD4からの正反
射光3aの指向する高さは、光ビーム３の走査位置と無関
係に一定であるのに対し、ピットによって回折された散
乱光11の指向する高さ位置は光ビーム３の走査位置が内
側に寄るほど低くなる。そして、第７図に示したよう
に、一定の受光幅Ｄをもった受光器７を破線の位置に設
置した場合、ピット形状により円弧状パターンとなった
散乱光11が、受光器７に部分的に入射されない状態とな
る。
VDでは走査位置と無関係にほぼ一定レベルであるため、
受光器７からの光電信号中からこれを除去することは比
較的容易であるが、CAVタイプのLVDを検査対象とした場
合には、前述したようにディスクの内周側と外周側とで
ピットの大きさや配列ピッチが異なるため、例え表面に
欠陥部Ｓが存在しない場合でも散乱光11の指向する高さ
が走査位置ごとに変化する。すなわち、LVD4からの正反
射光3aの指向する高さは、光ビーム３の走査位置と無関
係に一定であるのに対し、ピットによって回折された散
乱光11の指向する高さ位置は光ビーム３の走査位置が内
側に寄るほど低くなる。そして、第７図に示したよう
に、一定の受光幅Ｄをもった受光器７を破線の位置に設
置した場合、ピット形状により円弧状パターンとなった
散乱光11が、受光器７に部分的に入射されない状態とな
る。
このため、内側の走査位置では光電信号出力が大きく低
下し、第８図に示したような変動が生じる。この光電信
号出力の変動は、例えばLVD4に表面欠陥があった場合の
出力変化と比較して非常に大きく、これを電気的に補正
することは極めて困難で、LVD4の表面検査を良好に行う
ことはできない。
下し、第８図に示したような変動が生じる。この光電信
号出力の変動は、例えばLVD4に表面欠陥があった場合の
出力変化と比較して非常に大きく、これを電気的に補正
することは極めて困難で、LVD4の表面検査を良好に行う
ことはできない。
本発明はこのような問題点を解決するためになされたも
ので、ディスク表面からの散乱反射光に基づいてディス
ク表面の検査を行うにあたり、ディスク表面の下側に設
けられている信号記録面からの散乱光によって検査精度
が劣化することがないようにしたディスク表面検査方法
及び装置を提供することを目的とする。
ので、ディスク表面からの散乱反射光に基づいてディス
ク表面の検査を行うにあたり、ディスク表面の下側に設
けられている信号記録面からの散乱光によって検査精度
が劣化することがないようにしたディスク表面検査方法
及び装置を提供することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するために、光ビームの走査に
よりディスク表面に形成される走査線を、ディスクの回
転中心を通る直線上からずらすようにしたものである。
この検査方法は、透明層の下にピットを整列させて信号
記録面としたLVDに特に有効で、この場合走査線のずら
し量としては、ピットの大きさや配列ピッチから10mm以
上に設定する。
よりディスク表面に形成される走査線を、ディスクの回
転中心を通る直線上からずらすようにしたものである。
この検査方法は、透明層の下にピットを整列させて信号
記録面としたLVDに特に有効で、この場合走査線のずら
し量としては、ピットの大きさや配列ピッチから10mm以
上に設定する。
さらに、上記検査方法を実施するためには、ディスクの
回転中心からずれた位置に光ビームによって直線状の走
査線を描くスキャナと、ディスク表面からの散乱光を受
光して光電出力を出す受光手段とを用いる他、この受光
手段からの光電出力がもつ低周波の出力変動に対応して
検査レベルを設定する設定手段と、受光手段からの光電
出力を前記検査レベルに基づいて評価して光電出力中に
含まれる異常信号を検出する検出手段が利用される。
回転中心からずれた位置に光ビームによって直線状の走
査線を描くスキャナと、ディスク表面からの散乱光を受
光して光電出力を出す受光手段とを用いる他、この受光
手段からの光電出力がもつ低周波の出力変動に対応して
検査レベルを設定する設定手段と、受光手段からの光電
出力を前記検査レベルに基づいて評価して光電出力中に
含まれる異常信号を検出する検出手段が利用される。
走査線の位置をディスクの回転中心を通る直線上からず
らしたことによって、ピットの回折作用によって生じる
散乱光の指向方向は、光ビームの照射光軸を中心にして
傾くが、この傾き量は走査位置が内側になる程大きくな
る。これにより、各走査位置での散乱光をほぼ均等に受
光器に入射させることができるようになる。
らしたことによって、ピットの回折作用によって生じる
散乱光の指向方向は、光ビームの照射光軸を中心にして
傾くが、この傾き量は走査位置が内側になる程大きくな
る。これにより、各走査位置での散乱光をほぼ均等に受
光器に入射させることができるようになる。
また、受光器からの光電出力自体に含まれている低周波
のレベル変動を、検査レベル設定手段によって除去する
ことによって、ディスク表面の欠陥部からの散乱反射光
によって生じる異常信号を的確に識別することができ
る。
のレベル変動を、検査レベル設定手段によって除去する
ことによって、ディスク表面の欠陥部からの散乱反射光
によって生じる異常信号を的確に識別することができ
る。
以下、図面にしたがって本発明の一実施例について説明
する。
する。
第１図は本発明に用いられる表面検査装置の一例を示
し、第４図あるいは第５図に示した従来のものと同様の
作用を行う部材については共通の符号を付してある。
し、第４図あるいは第５図に示した従来のものと同様の
作用を行う部材については共通の符号を付してある。
レーザー発振器や回転多面鏡を内蔵したスキャナ２は、
光ビーム３を走査しながら照射し、CAVタイプのLVD4の
表面に走査線５を形成する。この走査線５の位置は、LV
D4の回転中心軸６を通る直線15を手前側に距離ｌだけ平
行移動した位置となっている。この距離ｌの値は、10mm
以上になっている。
光ビーム３を走査しながら照射し、CAVタイプのLVD4の
表面に走査線５を形成する。この走査線５の位置は、LV
D4の回転中心軸６を通る直線15を手前側に距離ｌだけ平
行移動した位置となっている。この距離ｌの値は、10mm
以上になっている。
受光器７は、走査線５にしたがってLVD4の表面から散乱
されてくる散乱光11を受光する。この散乱光11は、LVD4
の表面に存在する欠陥部Ｓで散乱反射された光の他、透
明層８を透過してピットで回折，散乱されてきた光も含
まれている。なお、LVD4の表面に欠陥部Ｓが存在してい
ないときには、光ビーム３は正反射光3aとして一定方向
に反射され、受光器７には入射しない。したがって、こ
の場合にはピットからの散乱光だけが受光器７に入射す
るようになる。また、全周にわたって検査するために、
LVD4はディスク回転装置17によって回転される。
されてくる散乱光11を受光する。この散乱光11は、LVD4
の表面に存在する欠陥部Ｓで散乱反射された光の他、透
明層８を透過してピットで回折，散乱されてきた光も含
まれている。なお、LVD4の表面に欠陥部Ｓが存在してい
ないときには、光ビーム３は正反射光3aとして一定方向
に反射され、受光器７には入射しない。したがって、こ
の場合にはピットからの散乱光だけが受光器７に入射す
るようになる。また、全周にわたって検査するために、
LVD4はディスク回転装置17によって回転される。
受光器７は入射光量に対応したレベルの光電信号を欠陥
検出回路18に出力する。欠陥検出回路18は、光電信号を
所定のサンプリング周期をもとに波形成形するサンプル
ホールド回路19と、欠陥部Ｓが存在したときの光電信号
の変化を抽出するためのバンドパスフィルタ20と、２値
化回路21、さらに波形成形後の光電信号から低周波成分
を抽出するローパスフィルタ22及びアンプ23とから構成
されている。２値化回路21はアンプ23からの閾値信号を
基準として、バンドパスフィルタ20からの出力を２値化
する。
検出回路18に出力する。欠陥検出回路18は、光電信号を
所定のサンプリング周期をもとに波形成形するサンプル
ホールド回路19と、欠陥部Ｓが存在したときの光電信号
の変化を抽出するためのバンドパスフィルタ20と、２値
化回路21、さらに波形成形後の光電信号から低周波成分
を抽出するローパスフィルタ22及びアンプ23とから構成
されている。２値化回路21はアンプ23からの閾値信号を
基準として、バンドパスフィルタ20からの出力を２値化
する。
上記装置によるLVD4の表面検査は、以下のようにして行
われる。なお、LVD4の全周にわたって検査するために、
LVD4はディスク回転装置17により低速で回転されるが、
光ビーム３の走査速度はLVD4の回転速度と比較して非常
に高速となっている。
われる。なお、LVD4の全周にわたって検査するために、
LVD4はディスク回転装置17により低速で回転されるが、
光ビーム３の走査速度はLVD4の回転速度と比較して非常
に高速となっている。
スキャナ２によってLVD4の表面に光ビーム３を照射する
と、その一部は正反射光3aとして受光器７に入射するこ
となく光吸収体（図示省略）で吸収される。また、透明
層８を透過して信号記録面に達し、ピットにより回折，
散乱された散乱光11はLVD4の表面から射出する。この散
乱光11はピット形状に対応した円弧状のパターンとなる
が、走査線５の位置がLVD4の回転中心軸６を通る直線を
距離ｌだけ平行移動させた位置であるため、走査位置が
内側に近づくほど散乱光11の円弧状パターンが傾けられ
る。これにより、第２図に示したように、走査位置が内
側であっても受光幅Ｄの受光器７に散乱光11のほとんど
が入射されるようになる。したがって、１走査期間中に
欠陥部がなかった場合、受光器７からの光電信号出力
は、第３図に示したように多少のレベル変動はあるもの
の、その変動幅はかなり小さいものになる。
と、その一部は正反射光3aとして受光器７に入射するこ
となく光吸収体（図示省略）で吸収される。また、透明
層８を透過して信号記録面に達し、ピットにより回折，
散乱された散乱光11はLVD4の表面から射出する。この散
乱光11はピット形状に対応した円弧状のパターンとなる
が、走査線５の位置がLVD4の回転中心軸６を通る直線を
距離ｌだけ平行移動させた位置であるため、走査位置が
内側に近づくほど散乱光11の円弧状パターンが傾けられ
る。これにより、第２図に示したように、走査位置が内
側であっても受光幅Ｄの受光器７に散乱光11のほとんど
が入射されるようになる。したがって、１走査期間中に
欠陥部がなかった場合、受光器７からの光電信号出力
は、第３図に示したように多少のレベル変動はあるもの
の、その変動幅はかなり小さいものになる。
ディスク回転装置17の作動によりLVD4が回転し、その表
面に存在する欠陥部Ｓが光ビーム３の照射域、すなわち
走査線５の上に移動してくると、光ビーム３はその走査
の過程で欠陥部Ｓによって散乱されるようになる。この
結果、受光器７からの光電信号出力は、第３図に示した
光電信号出力に欠陥部Ｓからの散乱反射光が加わったも
のになる。
面に存在する欠陥部Ｓが光ビーム３の照射域、すなわち
走査線５の上に移動してくると、光ビーム３はその走査
の過程で欠陥部Ｓによって散乱されるようになる。この
結果、受光器７からの光電信号出力は、第３図に示した
光電信号出力に欠陥部Ｓからの散乱反射光が加わったも
のになる。
第４図は、光ビーム３の一走査期間中に２個の欠陥部Ｓ
があったときに、第１図の信号ライン（Ａ），（Ｂ），
（Ｃ），（Ｄ）に現われる信号波形を示したものであ
る。受光器７からの光電信号出力は、同図（Ａ）に示し
たように、欠陥部Ｓからの散乱反射光によりリップル成
分ａを含んでいる。受光器７からの光電信号出力は、サ
ンプルホールド回路19,バンドパスフィルタ20によっ
て、同図（Ｂ）のように波形整形される。また、ローパ
スフィルタ22は、受光器７からの光電信号出力中に含ま
れる低周波、すなわち「うねり」成分を抽出する。
があったときに、第１図の信号ライン（Ａ），（Ｂ），
（Ｃ），（Ｄ）に現われる信号波形を示したものであ
る。受光器７からの光電信号出力は、同図（Ａ）に示し
たように、欠陥部Ｓからの散乱反射光によりリップル成
分ａを含んでいる。受光器７からの光電信号出力は、サ
ンプルホールド回路19,バンドパスフィルタ20によっ
て、同図（Ｂ）のように波形整形される。また、ローパ
スフィルタ22は、受光器７からの光電信号出力中に含ま
れる低周波、すなわち「うねり」成分を抽出する。
受光器７からの光電信号出力から抽出された「うねり」
成分はアンプ23によって第４図（Ｃ）の波形となり、こ
れが２値化回路21の閾値信号として利用される。すなわ
ち、２値化回路21は、第４図（Ｂ）の信号出力が同図
（Ｃ）の閾値信号を越えたときに「欠陥あり」を表す２
値化信号「１」を出力するようになり、同図（Ｄ）に示
したような検査出力を得ることができる。したがって、
光ビーム３の走査位置がLVD4の内側に近い場合でも、欠
陥部Ｓからの散乱反射光を良好に検出することができる
ようになる。
成分はアンプ23によって第４図（Ｃ）の波形となり、こ
れが２値化回路21の閾値信号として利用される。すなわ
ち、２値化回路21は、第４図（Ｂ）の信号出力が同図
（Ｃ）の閾値信号を越えたときに「欠陥あり」を表す２
値化信号「１」を出力するようになり、同図（Ｄ）に示
したような検査出力を得ることができる。したがって、
光ビーム３の走査位置がLVD4の内側に近い場合でも、欠
陥部Ｓからの散乱反射光を良好に検出することができる
ようになる。
なお、走査線５の位置をLVD4の回転中心軸６を通らない
位置に設定しているため、第３図に示したように、ピッ
トからの回折散乱光に起因する光電信号出力の変動が小
さく抑えられる。したがって、前記ローパスフィルタ22
を省略して一定レベルの閾値信号に基づいて信号出力
（Ｂ）を評価しても実用的な検査は可能であるが、上記
実施例のように、光電信号出力の「うねり」成分により
閾値信号を変えてやることによって、さらに高感度の表
面検査が達成される。
位置に設定しているため、第３図に示したように、ピッ
トからの回折散乱光に起因する光電信号出力の変動が小
さく抑えられる。したがって、前記ローパスフィルタ22
を省略して一定レベルの閾値信号に基づいて信号出力
（Ｂ）を評価しても実用的な検査は可能であるが、上記
実施例のように、光電信号出力の「うねり」成分により
閾値信号を変えてやることによって、さらに高感度の表
面検査が達成される。
以上、図示した実施例をもとにして本発明について説明
してきたが、本発明はCLVタイプのLVDの表面検査にもそ
のまま適用することが可能であるとともに、CAVタイプ
が標準であるCD等、種々のオプティカルディスクの表面
検査にも用いることができる。
してきたが、本発明はCLVタイプのLVDの表面検査にもそ
のまま適用することが可能であるとともに、CAVタイプ
が標準であるCD等、種々のオプティカルディスクの表面
検査にも用いることができる。
上述したように、本発明方法によれば、ディスクの回転
中心を通る直線上から外した位置に走査線を設定したか
ら、検査対象となる透明層の下層に形成された凹凸信号
部からの回折散乱光の影響を低く抑えることができ、良
好な欠陥検査を行うことができる。また、走査線をディ
スクの回転中心を通る直線を10mm以上平行移動させた位
置に設定することによって、LVDを対象とする表面検査
を正確に行うことができるようになる。
中心を通る直線上から外した位置に走査線を設定したか
ら、検査対象となる透明層の下層に形成された凹凸信号
部からの回折散乱光の影響を低く抑えることができ、良
好な欠陥検査を行うことができる。また、走査線をディ
スクの回転中心を通る直線を10mm以上平行移動させた位
置に設定することによって、LVDを対象とする表面検査
を正確に行うことができるようになる。
さらに、上記のようにして受光器から得られた光電出力
に含まれる低周波の信号成分を抽出して検査レベル信号
に用いることによって、より精度の高い表面検査を行う
ことが可能となる。
に含まれる低周波の信号成分を抽出して検査レベル信号
に用いることによって、より精度の高い表面検査を行う
ことが可能となる。
第１図は本発明に用いる表面検査装置の構成を示す概略
図である。 第２図は本発明を用いた場合のピットからの回折散乱光
の様子を表す説明図である。 第３図は本発明を用いた場合において、LVDの表面に欠
陥がないときの受光器出力を示す波形図である。 第４図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）は、それぞれ第
１図に示した回路各部からの信号出力を示す波形図であ
る。 第５図は正反射光を検出する従来のLVD検査方法の説明
図である。 第６図は散乱反射光を検出する従来のLVD検査方法の説
明図である。 第７図は第６図の検査方法によるピットからの回折散乱
光の様子を表す説明図である。 第８図は第６図の検査方法を用いた場合において、LVD
の表面に欠陥がないときの受光器出力を示す波形図であ
る。 ２……スキャナ ３……光ビーム ４……LVD ５……走査線 ６……回転中心軸 ７……受光器 ８……透明層 10……信号記録面 10a……ピット。
図である。 第２図は本発明を用いた場合のピットからの回折散乱光
の様子を表す説明図である。 第３図は本発明を用いた場合において、LVDの表面に欠
陥がないときの受光器出力を示す波形図である。 第４図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ），（Ｄ）は、それぞれ第
１図に示した回路各部からの信号出力を示す波形図であ
る。 第５図は正反射光を検出する従来のLVD検査方法の説明
図である。 第６図は散乱反射光を検出する従来のLVD検査方法の説
明図である。 第７図は第６図の検査方法によるピットからの回折散乱
光の様子を表す説明図である。 第８図は第６図の検査方法を用いた場合において、LVD
の表面に欠陥がないときの受光器出力を示す波形図であ
る。 ２……スキャナ ３……光ビーム ４……LVD ５……走査線 ６……回転中心軸 ７……受光器 ８……透明層 10……信号記録面 10a……ピット。
Claims (3)
- 【請求項１】凹凸のある信号記録面を透明層で被覆した
ディスクの表面に光ビームを走査しながら照射し、ディ
スクの表面からの散乱反射光に基づいてディスク表面を
検査する検査方法において、 前記光ビームによってディスク表面に形成される走査線
の方向を、ディスクの中心を通る直線上から外したこと
を特徴とするディスク表面検査方法。 - 【請求項２】前記ディスクはレーザービジュアルディス
クであり、前記走査線の位置は、ディスクの回転中心を
通る直線を少なくとも10mm平行移動した位置に設定され
ていることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のデ
ィスク表面欠陥検査方法。 - 【請求項３】凹凸のある信号記録面を透明層で被覆した
ディスクの表面を検査する検査装置において、 ディスクの表面に光ビームを走査しながら照射し、ディ
スクの回転中心を通らない方向の直線状の走査線を形成
するスキャナと、ディスク表面から散乱反射される前記
光ビームの散乱光を光電変換する受光手段と、この受光
手段からの光電出力がもつ低周波の変動に対応して検査
レベルを設定する設定手段と、受光手段からの光電出力
を前記検査レベルに基づいて評価して光電出力中に含ま
れる異常信号を検出する検出手段とからなることを特徴
とするディスク表面欠陥検査装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145356A JPH0786470B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | ディスク表面検査方法及び装置 |
| DE3919330A DE3919330A1 (de) | 1988-06-13 | 1989-06-13 | Verfahren und einrichtung zum pruefen der oberflaeche eines scheibenfoermigen aufzeichnungstraegers |
| US07/372,632 US4954723A (en) | 1988-06-13 | 1989-06-13 | Disk surface inspection method and apparatus therefor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63145356A JPH0786470B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | ディスク表面検査方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01313741A JPH01313741A (ja) | 1989-12-19 |
| JPH0786470B2 true JPH0786470B2 (ja) | 1995-09-20 |
Family
ID=15383300
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63145356A Expired - Lifetime JPH0786470B2 (ja) | 1988-06-13 | 1988-06-13 | ディスク表面検査方法及び装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4954723A (ja) |
| JP (1) | JPH0786470B2 (ja) |
| DE (1) | DE3919330A1 (ja) |
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| US4598997A (en) * | 1982-02-15 | 1986-07-08 | Rca Corporation | Apparatus and method for detecting defects and dust on a patterned surface |
| US4794264A (en) * | 1987-05-08 | 1988-12-27 | Qc Optics, Inc. | Surface defect detection and confirmation system and method |
-
1988
- 1988-06-13 JP JP63145356A patent/JPH0786470B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-06-13 US US07/372,632 patent/US4954723A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-13 DE DE3919330A patent/DE3919330A1/de not_active Withdrawn
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| JPH01313741A (ja) | 1989-12-19 |
| DE3919330A1 (de) | 1989-12-14 |
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