JPH0780274B2 - 高反射率のAg反射フイルム - Google Patents
高反射率のAg反射フイルムInfo
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- JPH0780274B2 JPH0780274B2 JP2020219A JP2021990A JPH0780274B2 JP H0780274 B2 JPH0780274 B2 JP H0780274B2 JP 2020219 A JP2020219 A JP 2020219A JP 2021990 A JP2021990 A JP 2021990A JP H0780274 B2 JPH0780274 B2 JP H0780274B2
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Description
【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、蛍光管を使用した液晶テレビのバックライ
トや、蛍光管を使用した看板、蛍光灯等の反射板などに
使用すれば特に有益な、高反射率のAg反射フイルムに関
するものである。
トや、蛍光管を使用した看板、蛍光灯等の反射板などに
使用すれば特に有益な、高反射率のAg反射フイルムに関
するものである。
(従来の技術) 蛍光管を使用した液晶テレビのバックライトや、蛍光管
を使用した看板、蛍光灯等の反射板などに使用される反
射フイルムとして従来、比較的高反射率であるAg層を、
真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の
真空薄膜生成技術によりプラスチックフイルム上に形成
した、Ag反射フイルムが知られている。
を使用した看板、蛍光灯等の反射板などに使用される反
射フイルムとして従来、比較的高反射率であるAg層を、
真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の
真空薄膜生成技術によりプラスチックフイルム上に形成
した、Ag反射フイルムが知られている。
そして、従来のAg反射フイルムは、Ag層のプラスチック
フイルム側、すなわちAg層のプラスチックフイルムと接
している面を反射面として利用している。何故ならば、
Ag層のプラスチックフイルムと接している面は、反応膜
が形成されていないから、反射光のばらつきが生じない
が、Ag層のプラスチックフイルム側でない側、すなわち
Ag層のプラスチックフイルムと接していない面は、反応
膜が形成されているので反射光のばらつきが生じるから
である。
フイルム側、すなわちAg層のプラスチックフイルムと接
している面を反射面として利用している。何故ならば、
Ag層のプラスチックフイルムと接している面は、反応膜
が形成されていないから、反射光のばらつきが生じない
が、Ag層のプラスチックフイルム側でない側、すなわち
Ag層のプラスチックフイルムと接していない面は、反応
膜が形成されているので反射光のばらつきが生じるから
である。
また、例えば、Ag層と塩化ビニルフイルム又は塩化ビニ
ル樹脂層を、直接又は接着剤を介して接するように構成
する場合は、Ag層中のAgと塩化ビニルフイルム又は塩化
ビニル樹脂層中のClとが容易に反応してAg層が非常に変
色し易い。このように、Ag層はもともと非常に腐食性の
ものであるから、塩化ビニルフイルムのようにAg層を容
易に腐食し、Ag層に容易に悪影響を与えるフイルムなど
は実際上は使用されていなく、プラスチックフイルムと
しては、ポリエステルフイルムが一般に使用されてい
る。
ル樹脂層を、直接又は接着剤を介して接するように構成
する場合は、Ag層中のAgと塩化ビニルフイルム又は塩化
ビニル樹脂層中のClとが容易に反応してAg層が非常に変
色し易い。このように、Ag層はもともと非常に腐食性の
ものであるから、塩化ビニルフイルムのようにAg層を容
易に腐食し、Ag層に容易に悪影響を与えるフイルムなど
は実際上は使用されていなく、プラスチックフイルムと
しては、ポリエステルフイルムが一般に使用されてい
る。
(発明が解決しようとする課題) 従来のAg反射フイルムのAg層は、真空中でプラスチック
フイルム上にAg原子が直接付着して形成された非常に清
潔なものであるから、プラスチックフイルム上に形成さ
れたAg層の表面は反応性に富み非常に不安定であり保護
としてAg層の表面にトップコート層を形成する場合も、
該トップコート層を形成する前にはAg層の表面が一度大
気に触れるために酸化、吸湿反応によってAg層の表面に
は反応膜が形成される。従って、プラスチックフイルム
上に形成されたAg層の表面をAg反射フイルムの反射面と
して利用すると、該Ag層の表面には前記した通り反応膜
があるため可視光の吸収が変化して反射光のばらつきが
生じる。このため、プラスチックフイルム上に形成され
たAg層の表面をAg反射フイルムの反射面として利用する
ことはできなかった。
フイルム上にAg原子が直接付着して形成された非常に清
潔なものであるから、プラスチックフイルム上に形成さ
れたAg層の表面は反応性に富み非常に不安定であり保護
としてAg層の表面にトップコート層を形成する場合も、
該トップコート層を形成する前にはAg層の表面が一度大
気に触れるために酸化、吸湿反応によってAg層の表面に
は反応膜が形成される。従って、プラスチックフイルム
上に形成されたAg層の表面をAg反射フイルムの反射面と
して利用すると、該Ag層の表面には前記した通り反応膜
があるため可視光の吸収が変化して反射光のばらつきが
生じる。このため、プラスチックフイルム上に形成され
たAg層の表面をAg反射フイルムの反射面として利用する
ことはできなかった。
そこで、従来のAg反射フイルムは、プラスチックフイル
ム上に形成されたAg層の表面ではなく、Ag層のプラスチ
ックフイルムと接している面を反射面として利用してい
る。Ag層のプラスチックフイルムと接している面は、Ag
層が真空中でプラスチックフイルム上にAg原子が直接付
着して形成された非常に清潔なものであるから、反応膜
が形成されていなく、従って、反射光のばらつきが生じ
ないからである。
ム上に形成されたAg層の表面ではなく、Ag層のプラスチ
ックフイルムと接している面を反射面として利用してい
る。Ag層のプラスチックフイルムと接している面は、Ag
層が真空中でプラスチックフイルム上にAg原子が直接付
着して形成された非常に清潔なものであるから、反応膜
が形成されていなく、従って、反射光のばらつきが生じ
ないからである。
しかしながら、真空蒸着等によりAg層を形成するには、
プラスチックフイルムの厚さは実際上は少なくとも9〜
12μm程度は必要で、この比較的厚いプラスチックフイ
ルムが存在するので、Ag層自体が本来有している98%と
いう高い反射率は低下して、Ag層のプラスチックフイル
ムと接している面の反射率は88〜92%程度となり、これ
以上反射率を高めることはできなかった。
プラスチックフイルムの厚さは実際上は少なくとも9〜
12μm程度は必要で、この比較的厚いプラスチックフイ
ルムが存在するので、Ag層自体が本来有している98%と
いう高い反射率は低下して、Ag層のプラスチックフイル
ムと接している面の反射率は88〜92%程度となり、これ
以上反射率を高めることはできなかった。
また、今日の各種部品のミクロ化、超精密化等に伴い、
よりシビアな反射率の管理が切望されていて、繰り返し
反射による光減衰も反射率管理上大きな問題となってい
るが、繰り返し反射の場合、初期の反射率の差が光減衰
に大きな差となって現れる。従って、少しでも初期の反
射率が高いものが切望されている。
よりシビアな反射率の管理が切望されていて、繰り返し
反射による光減衰も反射率管理上大きな問題となってい
るが、繰り返し反射の場合、初期の反射率の差が光減衰
に大きな差となって現れる。従って、少しでも初期の反
射率が高いものが切望されている。
例えば、初期の反射率すなわち1回目の反射率が95.0
%、90.0%、85.0%である場合、それぞれ繰り返し反射
すると、2回目(繰り返し)の反射率は、それぞれ90.3
%、81.0%、72.3%となり、3回目(繰り返し)の反射
率は、それぞれ85.7%、72.9%、61.4%となり、繰り返
しすればする程初期の反射率の差に比べて反射率の差は
大きくなる。従って初期の反射率は出来るだけ高くする
必要があるのである。
%、90.0%、85.0%である場合、それぞれ繰り返し反射
すると、2回目(繰り返し)の反射率は、それぞれ90.3
%、81.0%、72.3%となり、3回目(繰り返し)の反射
率は、それぞれ85.7%、72.9%、61.4%となり、繰り返
しすればする程初期の反射率の差に比べて反射率の差は
大きくなる。従って初期の反射率は出来るだけ高くする
必要があるのである。
この発明は上記の欠点を除去するもので、非常に高反射
率で光減衰も少ないAg反射フイルムを提供するものであ
る。
率で光減衰も少ないAg反射フイルムを提供するものであ
る。
(課題を解決するための手段) 以下、この発明を図面を参照して説明する。
第1図及び第2図はいずれも、この発明を得る際の概略
を示す一部拡大断面図である。
を示す一部拡大断面図である。
この発明は、第1図を参照しつつ説明すると、0.5〜4
μmの厚さの保護樹脂層10、該保護樹脂層10上にAg原子
が直接付着して形成され保護樹脂層10との界面で反応膜
が形成されていないAg層20、該Ag層20上に形成された接
着剤層30、及び該接着剤層30上に形成された9μm以上
の厚さのポリエステルフイルム40からなり、Ag層20の保
護樹脂層10と接していて保護樹脂層10との界面で反応膜
が形成されていない面を反射面としたことを特徴とする
高反射率のAg反射フイルムである。
μmの厚さの保護樹脂層10、該保護樹脂層10上にAg原子
が直接付着して形成され保護樹脂層10との界面で反応膜
が形成されていないAg層20、該Ag層20上に形成された接
着剤層30、及び該接着剤層30上に形成された9μm以上
の厚さのポリエステルフイルム40からなり、Ag層20の保
護樹脂層10と接していて保護樹脂層10との界面で反応膜
が形成されていない面を反射面としたことを特徴とする
高反射率のAg反射フイルムである。
この発明は、第2図に示す如く、Ag層20と接着剤層30と
の間にトップコート層50があってもよい。
の間にトップコート層50があってもよい。
この発明は、Ag層20の両面のうち、反射フイルムの、9
μm以上という比較的厚いポリエステルフイルム40と接
している面の反射を利用せずに、0.5〜4μmという比
較的薄い保護樹脂層10と接している面の反射を利用する
ものである。
μm以上という比較的厚いポリエステルフイルム40と接
している面の反射を利用せずに、0.5〜4μmという比
較的薄い保護樹脂層10と接している面の反射を利用する
ものである。
しかもこの発明では、Ag層20は、保護樹脂層10上にAg原
子が直接付着して形成されたAg層20であるから、Ag層20
の保護樹脂層10と接している面は、最初から大気に触れ
ることがないので安定で酸化、吸湿反応が生じることが
なく、反応膜は形成されず、従って、Ag層20の保護樹脂
層10と接している面の反射では可視光の吸収変化の伴う
反射光のばらつきを生じることがないものである。
子が直接付着して形成されたAg層20であるから、Ag層20
の保護樹脂層10と接している面は、最初から大気に触れ
ることがないので安定で酸化、吸湿反応が生じることが
なく、反応膜は形成されず、従って、Ag層20の保護樹脂
層10と接している面の反射では可視光の吸収変化の伴う
反射光のばらつきを生じることがないものである。
すなわち、この発明では、真空中で原子状態から形成さ
れたままで反応膜が形成されていないAg層20の表面の反
射が利用でき、しかも反射は薄い保護樹脂層10を通して
の反射となるから、Ag層20自体が本来有している98%と
いう高反射率に近い反射率を得ることが出来るものであ
る。
れたままで反応膜が形成されていないAg層20の表面の反
射が利用でき、しかも反射は薄い保護樹脂層10を通して
の反射となるから、Ag層20自体が本来有している98%と
いう高反射率に近い反射率を得ることが出来るものであ
る。
0.5〜4μmの厚さの保護樹脂層10上にAg原子が直接付
着して形成され保護樹脂層10との界面で反応膜が形成さ
れていないAg層20の、保護樹脂層10と接していて保護樹
脂層10との界面で反応膜が生成されていない面の反射を
利用するこの発明は、例えば、次のようにして得ること
ができる。
着して形成され保護樹脂層10との界面で反応膜が形成さ
れていないAg層20の、保護樹脂層10と接していて保護樹
脂層10との界面で反応膜が生成されていない面の反射を
利用するこの発明は、例えば、次のようにして得ること
ができる。
すなわち、基材60、離型層70、0.5〜4μmの厚さの保
護樹脂層10、該保護樹脂層10上にAg原子が直接付着して
形成され保護樹脂層10との界面で反応膜が形成されてい
ないAg層20を順次積層した積層体を、Ag層20を内側とし
て接着剤層30により9μm以上の厚さのポリエステルフ
イルム40と貼り合わせ、その後、基材60と離型層70を剥
離することにより得ることができる。
護樹脂層10、該保護樹脂層10上にAg原子が直接付着して
形成され保護樹脂層10との界面で反応膜が形成されてい
ないAg層20を順次積層した積層体を、Ag層20を内側とし
て接着剤層30により9μm以上の厚さのポリエステルフ
イルム40と貼り合わせ、その後、基材60と離型層70を剥
離することにより得ることができる。
第1図は、この発明を得る際の、基材60と離型層70を一
部剥離した状態の概略を示す一部拡大断面図である。ま
た、第2図は、Ag層20と接着材層30との間にトップコー
ト層50がある積層体を利用してこの発明を得る際の、基
材60と離型層70を一部剥離した状態の概略を示す一部拡
大断面図である。
部剥離した状態の概略を示す一部拡大断面図である。ま
た、第2図は、Ag層20と接着材層30との間にトップコー
ト層50がある積層体を利用してこの発明を得る際の、基
材60と離型層70を一部剥離した状態の概略を示す一部拡
大断面図である。
積層体の基材60としては、ポリエステルフイルム等の各
種のプラスチックフイルム等が使用できる。
種のプラスチックフイルム等が使用できる。
離型層70は、ワックスや適宜の樹脂を使用し、グラビア
コーティング等により基材60上に形成できる。
コーティング等により基材60上に形成できる。
0.5〜4μmの厚さの保護樹脂層10は、アクリル−ウレ
タン樹脂等の適宜の樹脂を使用してグラビアケーティン
グ等により離型層70上に形成できる。
タン樹脂等の適宜の樹脂を使用してグラビアケーティン
グ等により離型層70上に形成できる。
Ag層20は、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーテ
ィング等により保護樹脂層10上に形成できる。
ィング等により保護樹脂層10上に形成できる。
トップコート層50は、アクリル−メラミン樹脂等の適宜
の樹脂を使用してグラビアコーティング等によりAg層20
上に形成できる。
の樹脂を使用してグラビアコーティング等によりAg層20
上に形成できる。
トップコート層50を形成した場合は、後にポリエステル
フイルム40側からのAg層20の腐食防止をより万全にする
ことができる。
フイルム40側からのAg層20の腐食防止をより万全にする
ことができる。
積層体と9μm以上の厚さのポリエステルフイルム40と
の接着剤30による貼り合わせは、ドライラミネート等の
適宜の手段で行うことができる。
の接着剤30による貼り合わせは、ドライラミネート等の
適宜の手段で行うことができる。
9μm以上の厚さのポリエステルフイルム40は、従来Ag
反射フイルムに使用されているポリエステルフイルムが
そのまま使用できる。ポリエステルフイルムにかえて、
塩化ビニルフイルム又は塩化ビニル樹脂層を使用した場
合は、Ag層中のAgと塩化ビニルフイルム又は塩化ビニル
樹脂中のClとが容易に反応してAg層が容易に変色するの
で、塩化ビニルフイルム又は塩化ビニル樹脂層は、積層
体を貼り合わせるフイルムとしては使用できない。
反射フイルムに使用されているポリエステルフイルムが
そのまま使用できる。ポリエステルフイルムにかえて、
塩化ビニルフイルム又は塩化ビニル樹脂層を使用した場
合は、Ag層中のAgと塩化ビニルフイルム又は塩化ビニル
樹脂中のClとが容易に反応してAg層が容易に変色するの
で、塩化ビニルフイルム又は塩化ビニル樹脂層は、積層
体を貼り合わせるフイルムとしては使用できない。
なお、積層体の離型層70が、基材60を剥離したときに一
部又は全部保護樹脂層10の上に残存する場合には、その
残存した離型層70は保護樹脂層10の一部となる。
部又は全部保護樹脂層10の上に残存する場合には、その
残存した離型層70は保護樹脂層10の一部となる。
(実施例) 実施例 基材として厚さ12μmのポリエステルフイルムを使用し
その片面に、ワックスを使用してグラビアコーティング
により厚さ1μmの離型層を形成し、該離型層上にアク
リル−ウレタン樹脂を使用してグラビアコーティングに
より厚さ2μmの保護樹脂層を形成し、該保護樹脂層上
に厚さ1000ÅのAg層を真空蒸着により形成した。この場
合、Ag層は保護樹脂層上にAg原子が直接付着して形成さ
れており保護樹脂層との界面で反応膜が形成されていな
いAg層となっている。さらに該Ag層上にアクリル−メラ
ミン樹脂を使用してグラビアコーティングにより厚さ1
μmのトップコート層を形成して、積層体を得た。
その片面に、ワックスを使用してグラビアコーティング
により厚さ1μmの離型層を形成し、該離型層上にアク
リル−ウレタン樹脂を使用してグラビアコーティングに
より厚さ2μmの保護樹脂層を形成し、該保護樹脂層上
に厚さ1000ÅのAg層を真空蒸着により形成した。この場
合、Ag層は保護樹脂層上にAg原子が直接付着して形成さ
れており保護樹脂層との界面で反応膜が形成されていな
いAg層となっている。さらに該Ag層上にアクリル−メラ
ミン樹脂を使用してグラビアコーティングにより厚さ1
μmのトップコート層を形成して、積層体を得た。
次にこのようにして得た積層体を、トップコート層を内
側とし基材を外側として、ポリエステル系ポリウレタン
接着剤層により、厚さ50μmのポリエステルフイルムと
貼り合わせてエイジング後、基材である厚さ12μmのポ
リエステルフイルム及び離型層を剥離して、厚さ2μm
の保護樹脂層/保護樹脂層上にAg原子が直接付着して形
成され保護樹脂層との界面で反応膜が形成されていない
Ag層/トップコート層/接着剤層/ポリエステルフイル
ム(50μm)が順次積層されたこの発明の高反射率のAg
反射フイルムを得た。
側とし基材を外側として、ポリエステル系ポリウレタン
接着剤層により、厚さ50μmのポリエステルフイルムと
貼り合わせてエイジング後、基材である厚さ12μmのポ
リエステルフイルム及び離型層を剥離して、厚さ2μm
の保護樹脂層/保護樹脂層上にAg原子が直接付着して形
成され保護樹脂層との界面で反応膜が形成されていない
Ag層/トップコート層/接着剤層/ポリエステルフイル
ム(50μm)が順次積層されたこの発明の高反射率のAg
反射フイルムを得た。
比較例1 厚さ12μmのポリエステルフイルムの片面に、厚さ1000
ÅのAg層を真空蒸着により形成し、該Ag層上に、酸化チ
タン練混みのアクリル−メラミン樹脂を使用してグラビ
アコーティングにより厚さ2μmのトップコート層を形
成した。
ÅのAg層を真空蒸着により形成し、該Ag層上に、酸化チ
タン練混みのアクリル−メラミン樹脂を使用してグラビ
アコーティングにより厚さ2μmのトップコート層を形
成した。
次に、このようにして得たものをトップコート層を内側
として、ポリエステル系ポリウレタン接着剤層により、
厚さ38μmのポリエステルフイルムと貼り合わせてポリ
エステルフイルム(12μm)/Ag層/トップコート層
(酸化チタン練混み)/接着剤層/ポリエステルフイル
ム(38μm)が順次積層されたAg反射フイルムを得た。
として、ポリエステル系ポリウレタン接着剤層により、
厚さ38μmのポリエステルフイルムと貼り合わせてポリ
エステルフイルム(12μm)/Ag層/トップコート層
(酸化チタン練混み)/接着剤層/ポリエステルフイル
ム(38μm)が順次積層されたAg反射フイルムを得た。
比較例2 厚さ50μmのポリエステルフイルムの片面に、厚さ1000
ÅのAg層を真空蒸着により形成し、該Ag層上に、アクリ
ル−メラミン樹脂を使用してグラビアコーテイグにより
厚さ2μmのトップコート層を形成して、ポリエステル
フイルム(50μm)/Ag層/トップコート層(2μm)
が順次積層されたAg反射フイルムを得た。
ÅのAg層を真空蒸着により形成し、該Ag層上に、アクリ
ル−メラミン樹脂を使用してグラビアコーテイグにより
厚さ2μmのトップコート層を形成して、ポリエステル
フイルム(50μm)/Ag層/トップコート層(2μm)
が順次積層されたAg反射フイルムを得た。
比較検討 上記の実施例、比較例1、及び比較例2で得たAg反射フ
イルムにつき、目視によるAg光沢状態、及び可視光(55
0nm)の反射率を比較した。
イルムにつき、目視によるAg光沢状態、及び可視光(55
0nm)の反射率を比較した。
結果は下記の表の通りであった。
なお、表中の「◎」は美麗な白色銀光沢を示し、「○」
は黄色銀光沢を示すものである。
は黄色銀光沢を示すものである。
また比較例2のAg層表面(Ag層のトップコート層と接し
ている面)は、酸化により白色気味であった。
ている面)は、酸化により白色気味であった。
(発明の効果) この発明は、Ag層のうちで反射面として利用する保護樹
脂層と接している面は、Ag層が真空中でAg原子が保護樹
脂層上に直接付着して形成されたものであるから、非常
に安定したもので酸化、吸湿反応の影響を受けることが
なく、反応膜が形成されていない。
脂層と接している面は、Ag層が真空中でAg原子が保護樹
脂層上に直接付着して形成されたものであるから、非常
に安定したもので酸化、吸湿反応の影響を受けることが
なく、反応膜が形成されていない。
従って、Ag層のうち保護樹脂層と接している面の反射
は、Ag層の表面に反応膜が形成されていないから、可視
光の吸収が変化して反射光のばらつきが生じることがな
い。
は、Ag層の表面に反応膜が形成されていないから、可視
光の吸収が変化して反射光のばらつきが生じることがな
い。
しかも、それと同時に、Ag層の表面の保護樹脂層が、0.
5〜4μmと非常に薄いため、従来の9μm以上の厚さ
のプラスチックフイルムを使用したAg反射フイルムの反
射率は88〜92%程度であったのに対して、この発明のAg
反射フイルムは94〜98%という非常に高い反射率を得る
ことができる。
5〜4μmと非常に薄いため、従来の9μm以上の厚さ
のプラスチックフイルムを使用したAg反射フイルムの反
射率は88〜92%程度であったのに対して、この発明のAg
反射フイルムは94〜98%という非常に高い反射率を得る
ことができる。
そして、初期の反射率が非常に高いことから光減衰が少
ない。すなわち、従来のものでは例えば、1回目の反射
率が90%であれば、3回目(繰り返し)の反射率は72.9
%となるのに対して、この発明では例えば、1回目の反
射率が95%であれば、3回目(繰り返し)の反射率は8
5.7%となり、この両者は、初期のすなわち1回目の反
射率では5%の差しかないものが、3回目の反射率では
12.8%もの差となるのである。
ない。すなわち、従来のものでは例えば、1回目の反射
率が90%であれば、3回目(繰り返し)の反射率は72.9
%となるのに対して、この発明では例えば、1回目の反
射率が95%であれば、3回目(繰り返し)の反射率は8
5.7%となり、この両者は、初期のすなわち1回目の反
射率では5%の差しかないものが、3回目の反射率では
12.8%もの差となるのである。
この発明は、貼り合わせ技術を利用して得ることが出来
るから、刻印等を使用することにより、反射部分を必ず
しも全面的にではなく部分的に設けることもできる。
るから、刻印等を使用することにより、反射部分を必ず
しも全面的にではなく部分的に設けることもできる。
第1図及び第2図はいずれも、この発明を得る際の概略
を示す一部拡大断面図である。 10……保護樹脂層 20……Ag層 30……接着剤層 40……ポリエステルフイルム 50……トップコート層 60……基材 70……離型層
を示す一部拡大断面図である。 10……保護樹脂層 20……Ag層 30……接着剤層 40……ポリエステルフイルム 50……トップコート層 60……基材 70……離型層
Claims (1)
- 【請求項1】0.5〜4μmの厚さの保護樹脂層、該保護
樹脂層上にAg原子が直接付着して形成され保護樹脂層と
の界面で反応膜が形成されていないAg層、該Ag層上に形
成された接着剤層、及び該接着剤層上に形成された9μ
m以上の厚さのポリエステルフイルムからなり、Ag層の
保護樹脂層と接していて保護樹脂層との界面で反応膜が
形成されていない面を反射面としたことを特徴とする高
反射率のAg反射フイルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020219A JPH0780274B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 高反射率のAg反射フイルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020219A JPH0780274B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 高反射率のAg反射フイルム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03222742A JPH03222742A (ja) | 1991-10-01 |
JPH0780274B2 true JPH0780274B2 (ja) | 1995-08-30 |
Family
ID=12021055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020219A Expired - Fee Related JPH0780274B2 (ja) | 1990-01-30 | 1990-01-30 | 高反射率のAg反射フイルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0780274B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2020114626A (ja) * | 2017-05-10 | 2020-07-30 | コニカミノルタ株式会社 | 反射フィルム、反射光学素子、反射光学素子の成形方法及び反射フィルムの製造方法 |
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