JPH0778799A - 基板処理装置用排液装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 設置スペース及び配管スペースを小さくす
る。 【構成】 洗浄液排出部１３は、複数の薬液により基板
を処理する基板洗浄槽１２を複数有する基板洗浄装置に
おいて、基板洗浄槽１２から薬液をその種別毎に排出す
る装置である。この装置は、排液切り換え弁１７と３つ
の排出管３１〜３３とを備えている。排液切り換え弁１
２は、基板洗浄装置内において各基板洗浄槽１２に対応
して設けられており、基板洗浄槽１２からの排液動作を
薬液の種別に応じて切り替え得る。３つの排出管３１〜
３３は、基板洗浄装置１内において薬液の種別に対応し
て設けられており、排液切り換え弁１２からの排液を種
別において一括して排液する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、排液装置、特に、複数
種の処理液により基板を処理する基板処理槽を複数有す
る基板処理装置において、基板処理槽から処理液をその
種別毎に排出する基板処理装置用排液装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体基板や液晶用のガラス基板等の薄
板状の被処理基板（以下、単に基板と記す）を表面処理
する場合には、基板を処理槽内に浸漬して処理する浸漬
型の基板処理装置が一般に用いられる。この種の基板処
理装置は、基板の表面処理を行うための複数の基板処理
槽及び複数の処理液を基板処理槽に供給する処理液供給
部を含む装置本体と、装置本体とは別の場所に設けら
れ、基板処理槽から排出された排液を処理液の種別毎に
分別して排出するための排液排出ユニットとを備えてい
る。装置本体と排液排出ユニットとを結ぶ排液配管に
は、排液量を考慮して通常は、４０Ａ〜６５Ａ程度の大
口径の配管が用いられる。

【０００３】この種の基板処理装置では、例えば塩酸や
フッ酸等の酸系の処理液で基板に処理を施したり、水酸
化アンモニウム等のアルカリ系の処理液で基板に対して
処理を施すことが行われる。また洗浄後には、純水によ
る洗浄が行われる。このように基板処理装置では、酸系
の処理液やアルカリ系の処理液や純水が用途に応じて用
いられている。これらの処理液を混合して排出すると化
学反応等を引き起こすおそれがあるので、酸やアルカリ
や水等の種別に応じて排液排出ユニットにより分別し排
出している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】前記従来の構成では、
装置本体内の処理槽と排液排出ユニットとを結ぶ排液配
管を処理槽の数に応じた本数配置する必要がある。しか
も、これらの配管は大口径であるために、それに要する
配管スペースが大きくなる。また、装置本体とは別に排
液排出ユニットが必要であり、装置の全体設置スペース
が大きくなる。

【０００５】本発明の目的は、全体設置スペース及び配
管スペースを小さくすることにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明に係る排液装置
は、複数の処理液により基板を処理する基板処理槽を複
数有する基板処理装置において、基板処理槽から処理液
をその種別毎に排出する装置である。この装置は、排液
切り換え弁と一括排液部とを備えている。排液切り換え
弁は、基板処理槽内において各基板処理槽に対応して設
けられており、基板処理槽からの排液動作を処理液の種
別に応じて切り換え得るものである。一括排液部は、基
板処理槽内において処理液の種別に対応して設けられて
おり、排液切り換え弁からの排液を種別において一括し
て排液するためのものである。

【０００７】

【作用】本発明に係る排液装置では、基板処理槽に対応
して設けられた排液切り換え弁により、各基板処理槽か
らの排液が処理液の種別に応じて切り換えられる。排液
切り換え弁からの排液は、一括排液部により、種別に応
じて一括して排出される。

【０００８】ここでは、排液切り換え弁及び一括排液部
が、基板処理装置内に設けられているので、別置の排液
排出ユニット及び従来の装置本体と排液排出ユニットと
を結ぶ配管が不要となり、設置スペース及び配管スペー
スが小さくなる。また、排液が種別に応じて一括して排
出されるので、装置外の配管は排液の種別に応じた個数
だけ設ければよい。

【０００９】

【実施例】図１及び図２において、本発明の一実施例を
採用した浸漬型基板洗浄装置１は、多数の基板を収容し
たキャリアＣの搬入・搬出部２と、キャリアＣからの基
板Ｗの取り出し又はキャリアＣへの基板Ｗの装填を行う
基板移載部３と、キャリアＣを洗浄するためのキャリア
洗浄器３ａと、搬入・搬出部２と基板移載部３とキャリ
ア洗浄器３ａとの間でキャリアＣを移載するキャリア移
載ロボット４と、複数の基板を一括して洗浄する浸漬型
基板洗浄処理部５と、基板の液切り及び乾燥を行うため
の基板搬送部６と、基板移載部３でキャリアＣから取り
出した複数の基板を一括保持して基板洗浄処理部５及び
基板乾燥部６に搬送する基板搬送ロボット７とから構成
されている。

【００１０】基板移載部３はキャリアＣを載置する回転
可能な２つのテーブル８を有している。テーブル８の中
心には、矩形の開口が形成されており、この開口の下方
には、キャリアＣから基板Ｗを一括して取り出すととも
に、キャリアＣに基板Ｗを一括して装填するための昇降
可能な基板受け部８ａが配置されている。キャリア移載
ロボット４は、昇降及び回転自在でありかつ図１の矢印
Ａ方向に移動可能に構成されている。このキャリア移載
ロボット４は、搬入・搬出部２に搬入されてきたキャリ
アＣをテーブル８上に移載し、基板洗浄中においてキャ
リア洗浄器３ａとテーブル８との間でキャリアＣを出し
入れし、また洗浄済みの基板Ｗを収容したキャリアＣを
テーブル８から搬入・搬出部２へ移載する。

【００１１】基板搬送ロボット７は、移動部１０内を図
１の矢印Ｂ方向に移動可能であり、基板移載部３の基板
受け部８ａから受け取った複数の基板Ｗを挟持する基板
挟持アーム９を有している。このロボット７は、基板挟
持アーム９で挟持した複数の基板Ｗを移動部１０に沿っ
て基板洗浄処理部５及び基板乾燥部６へ順次搬送する。

【００１２】基板洗浄処理部５は、オーバーフロー型の
ものであり、並設された３つの洗浄槽１２と、洗浄槽１
２に昇降自在に設けられた基板保持具１１と、各基板洗
浄槽１２へ下方より複数種の洗浄液を供給する洗浄液供
給部１３（図５）と、各基板洗浄槽１２よりオーバーフ
ローした洗浄液を排出する洗浄液排出部１４（図３）と
を備えている。各洗浄槽１２には、基板搬送ロボット７
から受け取った複数の基板が基板保持具１１で保持され
浸漬される。

【００１３】基板洗浄槽１２は基板Ｗを表面処理するた
めのものであり、石英ガラス製で、側面視略Ｖ字状、平
面視略矩形状に形成されている。また基板洗浄槽１２
は、オーバーフロー液回収槽１５内に配置されており、
洗浄液を複数種の洗浄処理工程毎に置換し得るオーバー
フロー槽として構成されている。なお、基板洗浄槽１２
は石英ガラス製に限られず、例えば、洗浄液として石英
ガラスを腐食させてしまうフッ酸等を用いる場合には、
４フッ化エチレン樹脂等の樹脂製材料で形成したもので
も良い。

【００１４】洗浄液排出部１４は、図２及び図３に示す
ように、各回収槽１５の下方に配置されている。洗浄液
排出部１４は、回収槽１５に接続された排液管１６と、
排液管１６に接続された排液切り換え弁１７とを有して
いる。排液切り換え弁１７は、各洗浄槽１２に対応して
配置されている。排液切り換え弁１７は、洗浄槽１２か
ら回収槽１５及び排液管１６を介して排出された処理液
を酸，アルカリ，純水の３系統に分別して排出するため
のものである。

【００１５】排液切り換え弁１７は、図４に示すよう
に、酸系の排液を排出するための酸系排液バルブ３４
と、アルカリ系の排液を排出するためのアルカリ系排液
バルブ３５と、純水系の排液を排出するための純水系排
液バルブ３６とこれらの３つのバルブ３４〜３６を並設
配置した排液連結管３７とから構成されている。排液連
結管３７には、図４の左右方向に排液通路３８が形成さ
れている。排液通路３８の一端には、排液管１６に接続
された排液口３９が設けられている。また他端はプラグ
により封止されている。排液通路３８の各バルブ３４〜
３６に対向する下端には、排液連結管３７の下面に開口
する各排液の排出口４０〜４２が形成されている。これ
らの排出口４０〜４２は、各排液バルブ３４〜３６によ
り個別に開閉される。

【００１６】排液切り換え弁１７の下方には、図２及び
図３に示すように、酸，アルカリ，純水の各系統の排液
を排出するための酸系排出管３１、アルカリ系排出管３
２及び純水系排出管３３が並べて配置されている。これ
らの排出管３１〜３３は、洗浄槽１２の並設方向に長い
ダクト状であり、洗浄槽１２に対応して配置された３つ
の排液切り換え弁１７の処理液の種別に応じた各排出口
４０〜４２に接続されている。この結果、排出管３１〜
３３は、排液切り換え弁１７からの排液を種別毎に一括
して排出できる。

【００１７】洗浄液供給部１３は、図５に示すように、
各基板洗浄槽１２の下部にそれぞれ連結された純水供給
管１８を備えている。純水供給管１８には、基板洗浄槽
１２より上流側へ順に導入弁連結管１９、流量計２６及
び純水を定圧で微量及び定量供給可能な制御弁２７が配
置されている。純水供給管１８には、常温または所定温
度に加熱された純水Ｄ_W が供給される。

【００１８】導入弁連結管１９には、複数の薬液導入弁
２０_A 〜２０_D と、排液管１６に接続された洗浄槽排液
弁２２と、純水供給弁２３とが連結されている。各薬液
導入弁２０_A 〜２０_D には、薬液Ｑ_A 〜Ｑ_D を供給する
ための図示しない薬液圧送部が連結されている。ここで
は、たとえば薬液Ｑ_A は塩酸、薬液Ｑ_B は水酸化アンモ
ニウム、薬液Ｑ_C は過酸化水素水、薬液Ｑ_D はフッ酸で
ある。この４種類の薬液のうち、水酸化アンモニウムの
薬液Ｑ_B を除く薬液Ｑ_A ，Ｑ_C ，Ｑ_D は全て酸性であ
る。薬液導入弁２０_A 〜２０_D は、選択的に開閉制御さ
れ、薬液圧送部から純水供給管１８に所定の薬液を導入
する。なお、薬液圧送部は、１種類の薬液を貯溜するた
めの薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D （図１）を有してい
る。この薬液貯溜容器２２_A 〜２２_D に前述した薬液Ｑ
_A 〜Ｑ_D が貯溜されている。

【００１９】次に上述の実施例の動作について説明す
る。基板が収納されたキャリアＣが搬入・搬出部Ｄに載
置されると、キャリア移載ロボット４がそれを受け取
り、基板移載部３に載置する。キャリアＣが基板移載部
３に移載されると、基板受け部８ａがキャリアＣから基
板Ｗを取り出し、基板搬送ロボット７に基板Ｗを渡す。
基板搬送ロボット７は、基板洗浄槽１２のいずれか１つ
に基板Ｗを搬送する。洗浄処理が終了すると、浸漬され
ていた基板は基板搬送ロボット７により次の基板洗浄槽
１２または基板乾燥部６に運ばれる。

【００２０】この洗浄処理中において、酸系の薬液が投
入されオーバーフローする際には、排液切り換え弁１７
の酸系排液バルブ３５が開かれる。そして酸系排出管３
２にオーバーフローした排液は排出される。洗浄が終了
すると、薬液導入弁２０_A 〜２０_D をいずれも閉じ、洗
浄槽１２に純水のみを投入する。そして徐々に薬液と置
換しながら基板及び洗浄槽１２を水洗する。この処理中
においても同様に酸系排液バルブ３５のみが開かれる。

【００２１】続いて同じ洗浄槽１２でアルカリ系（例え
ば水酸化アンモニウム）の薬液を投入しオーバーフロー
しながら洗浄処理する場合には、アルカリ系排液バルブ
３４を開き、オーバーフロー液回収槽１５に貯溜した排
液をアルカリ系排液配管３１に排出する。アルカリ系薬
液による洗浄が終了すると薬液導入弁２０_A 〜２０_Dを
いずれも閉じて純水のみを洗浄槽に投入し、薬液を純水
とを置換しながら水洗処理を行う。このときには、アル
カリ系排液バルブ３４を開いている。所定時間が経過し
て薬液が完全に純水と置換されると、純水を洗浄槽１２
に満たした状態で次処理まで待機する。このときには、
純水系排液バルブ３６を開く。なおこのときには死水対
策として、制御弁２７により微量の純水を洗浄槽１２に
投入する。

【００２２】ここでは、各洗浄槽からの排液を排液切り
換え弁１７により種別に応じて切り換え、各洗浄槽１２
からの処理液を種別に応じて各排出管３１〜３３に一括
して排液しているとともに、それらを基板洗浄装置１内
に設けたので、配管スペースが小さくなるとともに設置
スペースが小さくなる。また、各系統の排液バルブ３４
〜３６を排液連結管３７により一体化しているので、さ
らに配管スペースが小さくなる。

【００２３】〔他の実施例〕 （ａ） 前記実施例では、排液管１６を介して排液切り
換え弁１７を取り付けたが、回収槽１５の下部に排液切
り換え弁１７を直接取り付けてもよい。 （ｂ） 前記実施例では、各系統の排出管３１〜３３を
矩形ダクト状に並設配置した構成としたが、排出管３１
〜３３の構成はこれに限定されるものではなく、排液切
り換え弁１７から個別に配管により排出する構成でもよ
い。

【００２４】

【発明の効果】本発明に係る排液装置では、排液切り換
え弁及び一括排液部が、基板処理装置内に設けられてい
るので、設置スペースが小さくなる。また、排液が種別
に応じて一括して排出されるので、装置内における配管
スペースが小さくなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を採用した基板洗浄装置の斜
視概略図。

【図２】その縦断面概略図。

【図３】その横断面部分図。

【図４】排液弁の側面一部切欠き図。

【図５】基板洗浄装置の配管回路図。

【符号の説明】

１ 基板洗浄装置 １２ 基板洗浄槽 １７ 排液切り換え弁 ３１，３２，３３ 排出管 ３４，３５，３６ 排液バルブ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】複数種の処理液により基板を処理する基板
   処理槽を複数有する基板処理装置において、前記基板処
   理槽から前記処理液をその種別毎に排出する基板処理装
   置用排液装置であって、 前記基板処理装置内において各基板処理槽に対応して設
   けられた、前記基板処理槽からの排液動作を前記処理液
   の種別に応じて切り換え得る複数の排液切り換え弁と、 前記基板処理装置内において前記処理液の種別に対応し
   て設けられた、前記排液切り換え弁からの排液を前記種
   別に応じて一括して排出するための一括排液部と、を備
   えた基板処理装置用排液装置。