JPH0764068A - 液晶表示用対向基板 - Google Patents
液晶表示用対向基板Info
- Publication number
- JPH0764068A JPH0764068A JP21450193A JP21450193A JPH0764068A JP H0764068 A JPH0764068 A JP H0764068A JP 21450193 A JP21450193 A JP 21450193A JP 21450193 A JP21450193 A JP 21450193A JP H0764068 A JPH0764068 A JP H0764068A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- color
- liquid crystal
- pattern
- counter substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造プロセスの単純化を図り、カラーフィル
タの段差によるＩＴＯの段切れを防止する。 【構成】 金属パターンによる遮光パターン１２と同時
形成の金属パターンによるエッチングモニタを無機カラ
ーフィルタ１５，１６，１７下部に設けたので、従来の
ように無機カラーフィルタ形成時に新たにエッチング終
点検出のための金属パターンを設ける必要はなく、製造
プロセスは単純なものとなり、また、従来のように、遮
光パターン１２の段差によるＩＴＯの段切れもない。
タの段差によるＩＴＯの段切れを防止する。 【構成】 金属パターンによる遮光パターン１２と同時
形成の金属パターンによるエッチングモニタを無機カラ
ーフィルタ１５，１６，１７下部に設けたので、従来の
ように無機カラーフィルタ形成時に新たにエッチング終
点検出のための金属パターンを設ける必要はなく、製造
プロセスは単純なものとなり、また、従来のように、遮
光パターン１２の段差によるＩＴＯの段切れもない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶ディスプレイ（以
下ＬＣＤという）に用いられカラー表示用のカラーフィ
ルタを有する液晶表示用対向基板に関する。
下ＬＣＤという）に用いられカラー表示用のカラーフィ
ルタを有する液晶表示用対向基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、ＬＣＤなどのマルチカラー化
の手段としてカラーフィルタが用いられている。これに
は、樹脂などを用いた有機物によるカラーフィルタと誘
電体の多層干渉膜による無機カラーフィルタが実用化さ
れている。この無機カラーフィルタは、耐光性および耐
熱性に優れているので、特に小型高精細の液晶パネルを
液晶プロジェクションに使用した場合には、強力なラン
プ光がパネルに照射されるため無機カラーフィルタが用
いられている。無機カラーフィルタは、ＲＧＢの３色を
形成する場合、通常はリフトオフを用いて形成していた
が、カラーフィルタを小型高精細のＬＣＤパネルなどに
用いる場合には、微細パターンの形成が要求されるの
で、最近ではドライエッチング法が用いられている。
の手段としてカラーフィルタが用いられている。これに
は、樹脂などを用いた有機物によるカラーフィルタと誘
電体の多層干渉膜による無機カラーフィルタが実用化さ
れている。この無機カラーフィルタは、耐光性および耐
熱性に優れているので、特に小型高精細の液晶パネルを
液晶プロジェクションに使用した場合には、強力なラン
プ光がパネルに照射されるため無機カラーフィルタが用
いられている。無機カラーフィルタは、ＲＧＢの３色を
形成する場合、通常はリフトオフを用いて形成していた
が、カラーフィルタを小型高精細のＬＣＤパネルなどに
用いる場合には、微細パターンの形成が要求されるの
で、最近ではドライエッチング法が用いられている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】無機カラーフィルタ
は、通常ＴｉＯ2とＳｉＯ2を交互に２０層程度積層する
ことにより形成され、これをＬＣＤに用いた場合、カラ
ーフィルタは、ガラスまたは石英上に形成される。これ
らは透明であるので、パターン形成を行うときにエッチ
ングの終点ポイントを検知することができない。
は、通常ＴｉＯ2とＳｉＯ2を交互に２０層程度積層する
ことにより形成され、これをＬＣＤに用いた場合、カラ
ーフィルタは、ガラスまたは石英上に形成される。これ
らは透明であるので、パターン形成を行うときにエッチ
ングの終点ポイントを検知することができない。
【０００４】したがって、無機カラーフィルタを有する
上記従来の液晶表示用対向基板は、パターンを形成しな
い部分にアルミニウム（以下Ａｌという）などの金属パ
ターンを形成し、それを除去した時点を検知してエッチ
ングをストップするなどの方法が取られていた。しか
し、この方法においては新たにエッチング終点検出のた
めの金属パターンを設ける必要があり、工程数が増えて
しまう。また、別の方法においては、図１０に示すよう
に、透明基板１上に形成された無機カラーフィルタ２，
３，４上に遮光用のブラックストライプの遮光パターン
５を形成していた。その上部に対向電極となる透明導電
膜６のパターンを形成しなければならないので、遮光パ
ターン５の段差が大きいと対向電極の透明導電膜６を構
成するインジュウムスズ酸化物（以下ＩＴＯという）の
段切れが起こり、結果として対向電極に電圧がかからな
いという状況が起こっていた。
上記従来の液晶表示用対向基板は、パターンを形成しな
い部分にアルミニウム（以下Ａｌという）などの金属パ
ターンを形成し、それを除去した時点を検知してエッチ
ングをストップするなどの方法が取られていた。しか
し、この方法においては新たにエッチング終点検出のた
めの金属パターンを設ける必要があり、工程数が増えて
しまう。また、別の方法においては、図１０に示すよう
に、透明基板１上に形成された無機カラーフィルタ２，
３，４上に遮光用のブラックストライプの遮光パターン
５を形成していた。その上部に対向電極となる透明導電
膜６のパターンを形成しなければならないので、遮光パ
ターン５の段差が大きいと対向電極の透明導電膜６を構
成するインジュウムスズ酸化物（以下ＩＴＯという）の
段切れが起こり、結果として対向電極に電圧がかからな
いという状況が起こっていた。
【０００５】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、製造プロセスの単純化を図り、遮光パターンの段
差によるＩＴＯの段切れを防止することができる液晶表
示用対向基板を提供することを目的とする。
ので、製造プロセスの単純化を図り、遮光パターンの段
差によるＩＴＯの段切れを防止することができる液晶表
示用対向基板を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示用対向
基板は、光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表
示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設
けられ光を遮光する遮光パターンとを有する液晶表示用
対向基板において、該カラーフィルタ下部に金属パター
ンによる同時形成の該遮光パターンおよび、該カラーフ
ィルタのエッチング終点検出用のエッチングモニタを設
けたものであり、そのことにより上記目的が達成され
る。
基板は、光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表
示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設
けられ光を遮光する遮光パターンとを有する液晶表示用
対向基板において、該カラーフィルタ下部に金属パター
ンによる同時形成の該遮光パターンおよび、該カラーフ
ィルタのエッチング終点検出用のエッチングモニタを設
けたものであり、そのことにより上記目的が達成され
る。
【０００７】また、本発明の液晶表示用対向基板は、光
を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各カ
ラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光を
遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板に
おいて、金属パターンによる遮光パターンおよび、該カ
ラーフィルタのエッチング終点検出用のエッチングモニ
タと同時形成の、該カラーフィルタ成形時の位置合わせ
用のアライメントマークをカラーフィルタ下部に設けた
ものであり、そのことにより上記目的が達成される。
を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各カ
ラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光を
遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板に
おいて、金属パターンによる遮光パターンおよび、該カ
ラーフィルタのエッチング終点検出用のエッチングモニ
タと同時形成の、該カラーフィルタ成形時の位置合わせ
用のアライメントマークをカラーフィルタ下部に設けた
ものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【０００８】さらに、本発明の液晶表示用対向基板は、
光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各
カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光
を遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板
において、該カラーフィルタ下部に金属パターンによる
少なくとも遮光パターンを設け、該金属パターン上にエ
ッチングモニタ用の窒化シリコン層またはリン添加アモ
ルファスシリコンを形成したものであり、そのことによ
り上記目的が達成される。
光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各
カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光
を遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板
において、該カラーフィルタ下部に金属パターンによる
少なくとも遮光パターンを設け、該金属パターン上にエ
ッチングモニタ用の窒化シリコン層またはリン添加アモ
ルファスシリコンを形成したものであり、そのことによ
り上記目的が達成される。
【０００９】さらに、本発明の液晶表示用対向基板は、
光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各
カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光
を遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板
において、該カラーフィルタ下部に、金属パターンによ
る遮光パターンと、該遮光パターンを内抱して該遮光パ
ターンの平坦化を行った窒化シリコン層を形成したもの
であり、そのことにより上記目的が達成される。
光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各
カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光
を遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板
において、該カラーフィルタ下部に、金属パターンによ
る遮光パターンと、該遮光パターンを内抱して該遮光パ
ターンの平坦化を行った窒化シリコン層を形成したもの
であり、そのことにより上記目的が達成される。
【００１０】さらに、本発明の液晶表示用対向基板は、
光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各
カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光
を遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板
において、該カラーフィルタ下部に、金属パターンによ
る少なくとも遮光パターンと、該金属パターン上に形成
されたレジストパターンとを設けたものであり、そのこ
とにより上記目的が達成される。
光を透過させて各色光をそれぞれ得るカラー表示用の各
カラーフィルタと、該各カラーフィルタ間に設けられ光
を遮光する遮光フィルタとを有する液晶表示用対向基板
において、該カラーフィルタ下部に、金属パターンによ
る少なくとも遮光パターンと、該金属パターン上に形成
されたレジストパターンとを設けたものであり、そのこ
とにより上記目的が達成される。
【００１１】さらに、本発明の液晶表示用対向基板にお
ける金属パターンはカラーフィルタ下部に設けられアル
ミニウムとインジュウムスズ酸化物との２層構造である
ものであり、そのことにより上記目的が達成される。
ける金属パターンはカラーフィルタ下部に設けられアル
ミニウムとインジュウムスズ酸化物との２層構造である
ものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００１２】
【作用】上記構成により、金属パターンによる遮光パタ
ーンと同時形成の金属パターンによるエッチングモニタ
をカラーフィルタ下部に設けたので、従来のようにカラ
ーフィルタ形成時に新たにエッチング終点検出のための
金属パターンを設ける必要はなく、製造プロセスは単純
なものとなり、また、従来のように、遮光パターンの段
差によるＩＴＯの段切れもない。
ーンと同時形成の金属パターンによるエッチングモニタ
をカラーフィルタ下部に設けたので、従来のようにカラ
ーフィルタ形成時に新たにエッチング終点検出のための
金属パターンを設ける必要はなく、製造プロセスは単純
なものとなり、また、従来のように、遮光パターンの段
差によるＩＴＯの段切れもない。
【００１３】また、金属パターンによるパターンおよび
エッチングモニタと同時形成のアライメントマークをカ
ラーフィルタ下部に設けることで、工程数を増加させる
ことなくカラーフィルタ成形時の位置合わせが可能とな
る。
エッチングモニタと同時形成のアライメントマークをカ
ラーフィルタ下部に設けることで、工程数を増加させる
ことなくカラーフィルタ成形時の位置合わせが可能とな
る。
【００１４】さらに、カラーフィルタ下部に金属パター
ンによる少なくとも遮光パターンを設け、この金属パタ
ーン上にエッチングモニタ用の窒化シリコン層またはリ
ン添加アモルファスシリコンを形成したので、カラーフ
ィルタのドライエッチング時に、窒化シリコン層の窒素
を検出することで、またはリン添加アモルファスシリコ
ンのリンを検出することでエッチングの終点検出がなさ
れて、従来のようにオーバーエッチングになる恐れはな
い。
ンによる少なくとも遮光パターンを設け、この金属パタ
ーン上にエッチングモニタ用の窒化シリコン層またはリ
ン添加アモルファスシリコンを形成したので、カラーフ
ィルタのドライエッチング時に、窒化シリコン層の窒素
を検出することで、またはリン添加アモルファスシリコ
ンのリンを検出することでエッチングの終点検出がなさ
れて、従来のようにオーバーエッチングになる恐れはな
い。
【００１５】さらに、カラーフィルタ下部に、遮光パタ
ーンを窒化シリコン層で内抱して遮光パターンの平坦化
を行ったので、カラーフィルタ段差による色ずれがなく
クリヤな色光が得られる。
ーンを窒化シリコン層で内抱して遮光パターンの平坦化
を行ったので、カラーフィルタ段差による色ずれがなく
クリヤな色光が得られる。
【００１６】さらに、金属パターン上にレジストパター
ンを形成したので、各カラーフィルタ形成用の耐エッチ
ングマスクを剥離する時に金属パターンの損傷が防止さ
れる。
ンを形成したので、各カラーフィルタ形成用の耐エッチ
ングマスクを剥離する時に金属パターンの損傷が防止さ
れる。
【００１７】
【実施例】本発明の実施例について以下に説明する。
【００１８】本発明の液晶表示用対向基板は、図１の
ａ，ｂに示すように、ガラスまたは石英などの透明基板
１１上にＡｌなどの金属による遮光パターン１２が、複
数縦横等間隔に窓の開いた状態で形成され、この遮光パ
ターン１２と同時形成の、後述する無機カラーフィルタ
成形時の位置合わせ用のアライメントマーク１３、後述
する無機カラーフィルタのエッチング終点検出用のエッ
チングモニタ１４を形成する。これら透明基板１１およ
び遮光パターン１２上に、グリーン層１５、レッド層１
６、ブルー層１７の各無機カラーフィルタが各無機カラ
ーフィルタ間を遮光パターン１２で遮光されるように形
成されている。さらに、これら遮光パターン１２および
各無機カラーフィルタ上に、段差の違うグリーン層１
５、レッド層１６、ブルー層１７の各無機カラーフィル
タを平坦化するパシベーション膜１８が形成され、この
絶縁膜１８上に透明導電膜１９が形成される。ここで、
金属パターンにＡｌなどの金属を用いるのは、反射率が
比較的大きく熱を持たないためである。
ａ，ｂに示すように、ガラスまたは石英などの透明基板
１１上にＡｌなどの金属による遮光パターン１２が、複
数縦横等間隔に窓の開いた状態で形成され、この遮光パ
ターン１２と同時形成の、後述する無機カラーフィルタ
成形時の位置合わせ用のアライメントマーク１３、後述
する無機カラーフィルタのエッチング終点検出用のエッ
チングモニタ１４を形成する。これら透明基板１１およ
び遮光パターン１２上に、グリーン層１５、レッド層１
６、ブルー層１７の各無機カラーフィルタが各無機カラ
ーフィルタ間を遮光パターン１２で遮光されるように形
成されている。さらに、これら遮光パターン１２および
各無機カラーフィルタ上に、段差の違うグリーン層１
５、レッド層１６、ブルー層１７の各無機カラーフィル
タを平坦化するパシベーション膜１８が形成され、この
絶縁膜１８上に透明導電膜１９が形成される。ここで、
金属パターンにＡｌなどの金属を用いるのは、反射率が
比較的大きく熱を持たないためである。
【００１９】この液晶表示用対向基板の製造プロセス
は、図２のａに示すように、まず、ガラスまたは石英な
どの透明基板１１上にＡｌなどの金属を２０００〜４０
００オングストロームの膜厚でデポし、その後フォトレ
ジストによりパターン形成してエッチングすることによ
り遮光パターン１２を形成する。また、これと同時に、
図２のｂに示すように、遮光パターン１２の形成と同時
にＡｌなどの金属パターン１２ａとして、後に無機カラ
ーフィルタの形成時に位置合わせを行うためのアライメ
ントマークのパターン１３、ＴＦＴ側のガラス基板と正
確に貼合わせるための貼合わせマークのパターン（図示
せず）、および、エッチングをモニタするためのパター
ン１４を表示部以外の領域に形成する。
は、図２のａに示すように、まず、ガラスまたは石英な
どの透明基板１１上にＡｌなどの金属を２０００〜４０
００オングストロームの膜厚でデポし、その後フォトレ
ジストによりパターン形成してエッチングすることによ
り遮光パターン１２を形成する。また、これと同時に、
図２のｂに示すように、遮光パターン１２の形成と同時
にＡｌなどの金属パターン１２ａとして、後に無機カラ
ーフィルタの形成時に位置合わせを行うためのアライメ
ントマークのパターン１３、ＴＦＴ側のガラス基板と正
確に貼合わせるための貼合わせマークのパターン（図示
せず）、および、エッチングをモニタするためのパター
ン１４を表示部以外の領域に形成する。
【００２０】その後、図３のａに示すように、真空蒸着
装置によりＴｉＯ2とＳｉＯ2を交互に積層して、無機カ
ラーフィルタを構成する厚さ１．６μｍのグリーン層１
５を蒸着する。また、図３のｂに示すように、表示部以
外の領域にも同様にグリーン層１５を蒸着する。そし
て、スパッタ法によりＡｌ層を２０００〜４０００オン
グストローム堆積させ、図３のｃに示すように、フォト
リソにより、グリーン層１５の残すべき部分と同じパタ
ーンのＡｌパターン２０を形成する。このＡｌパターン
２０は、グリーン層１５をのちにエッチングするときの
耐エッチングマスクとなる。
装置によりＴｉＯ2とＳｉＯ2を交互に積層して、無機カ
ラーフィルタを構成する厚さ１．６μｍのグリーン層１
５を蒸着する。また、図３のｂに示すように、表示部以
外の領域にも同様にグリーン層１５を蒸着する。そし
て、スパッタ法によりＡｌ層を２０００〜４０００オン
グストローム堆積させ、図３のｃに示すように、フォト
リソにより、グリーン層１５の残すべき部分と同じパタ
ーンのＡｌパターン２０を形成する。このＡｌパターン
２０は、グリーン層１５をのちにエッチングするときの
耐エッチングマスクとなる。
【００２１】次に、図４のａに示すように、ＣＦ4，Ｃ2
Ｆ6，ＣＨＣｌＦ2，ＣＨＦ3＋Ｃｌ2などのガスを用いて
グリーン層１５のドライエッチングを行った。このと
き、図４のｂに示すように、表示部以外の領域に設けた
エッチングモニタパターン１４によりエッチングの終点
検出を行った。図４のｂはグリーン層１５のＡｌパター
ン２０がエッチングされた直後の状態であるが、この終
点検出には、エッチングモニタパターン１４にレーザ光
２１を当てて、センサ２２により、その反射光２３との
干渉を測定することで厚みの差を測定して終点検出す
る。
Ｆ6，ＣＨＣｌＦ2，ＣＨＦ3＋Ｃｌ2などのガスを用いて
グリーン層１５のドライエッチングを行った。このと
き、図４のｂに示すように、表示部以外の領域に設けた
エッチングモニタパターン１４によりエッチングの終点
検出を行った。図４のｂはグリーン層１５のＡｌパター
ン２０がエッチングされた直後の状態であるが、この終
点検出には、エッチングモニタパターン１４にレーザ光
２１を当てて、センサ２２により、その反射光２３との
干渉を測定することで厚みの差を測定して終点検出す
る。
【００２２】さらに、グリーン層１５と同様に、図５の
ａに示すように、無機カラーフィルタを構成する厚さ
１．３μｍのレッド層１６を蒸着した。このとき、耐エ
ッチングマスクのＡｌパターン２０は残したままであ
る。再びＡｌ層をデポし、図５のｂに示すように、フォ
トリソによりレッド用の耐エッチングマスクのＡｌパタ
ーン２４を形成し、レッド層１６のドライエッチングに
よるパターン形成を行い、エッチングモニタ１４により
エッチングの終点検出を行った。
ａに示すように、無機カラーフィルタを構成する厚さ
１．３μｍのレッド層１６を蒸着した。このとき、耐エ
ッチングマスクのＡｌパターン２０は残したままであ
る。再びＡｌ層をデポし、図５のｂに示すように、フォ
トリソによりレッド用の耐エッチングマスクのＡｌパタ
ーン２４を形成し、レッド層１６のドライエッチングに
よるパターン形成を行い、エッチングモニタ１４により
エッチングの終点検出を行った。
【００２３】さらに、グリーン層１５およびレッド層１
６の２層と同様に、無機カラーフィルタを構成する厚さ
０．９μｍのブルー層１７を蒸着し、このとき、耐エッ
チングマスクのＡｌパターン２０，２４は残したまま再
びＡｌ層をデポし、図６のａに示すように、フォトリソ
によりブルー用の耐エッチングマスクのＡｌパターン２
５を形成して、ブルー層１７のドライエッチングによる
パターン形成を行い、エッチングモニタ１４によりエッ
チングの終点検出を行った。
６の２層と同様に、無機カラーフィルタを構成する厚さ
０．９μｍのブルー層１７を蒸着し、このとき、耐エッ
チングマスクのＡｌパターン２０，２４は残したまま再
びＡｌ層をデポし、図６のａに示すように、フォトリソ
によりブルー用の耐エッチングマスクのＡｌパターン２
５を形成して、ブルー層１７のドライエッチングによる
パターン形成を行い、エッチングモニタ１４によりエッ
チングの終点検出を行った。
【００２４】ここで、３つの層の耐エッチングマスクで
あるＡｌパターン２０，２４，２５の剥離を行うが、こ
のとき、各無機カラーフィルタのパターン間には隙間が
開いているので、そのまま剥離を行うと、隙間の底部に
露出した遮光パターン１２がダメージを受けてしまう。
したがって、図６のｂに示すように、遮光パターン１２
の上部にレジスト２６を形成したのちに、ＣＣｌ4など
のガスを用いて耐エッチングマスクであるＡｌパターン
２０，２４，２５の剥離を行えば、遮光パターン１２の
ダメージは起こらない。
あるＡｌパターン２０，２４，２５の剥離を行うが、こ
のとき、各無機カラーフィルタのパターン間には隙間が
開いているので、そのまま剥離を行うと、隙間の底部に
露出した遮光パターン１２がダメージを受けてしまう。
したがって、図６のｂに示すように、遮光パターン１２
の上部にレジスト２６を形成したのちに、ＣＣｌ4など
のガスを用いて耐エッチングマスクであるＡｌパターン
２０，２４，２５の剥離を行えば、遮光パターン１２の
ダメージは起こらない。
【００２５】さらに、図７に示すように、透明なパシベ
ーション膜１８をＳｉＯ2などにより形成したのち、研
磨することにより各無機カラーフィルタの平坦化を行っ
た。最後に、図１のｂに示すように、対向基板２７の電
極となる透明導電膜１９をＩＴＯによりパシベーション
膜１８上に形成した。以上により本発明の対向基板２７
が製造される。
ーション膜１８をＳｉＯ2などにより形成したのち、研
磨することにより各無機カラーフィルタの平坦化を行っ
た。最後に、図１のｂに示すように、対向基板２７の電
極となる透明導電膜１９をＩＴＯによりパシベーション
膜１８上に形成した。以上により本発明の対向基板２７
が製造される。
【００２６】なお、本実施例においてはＡｌパターン２
０，２４，２５を耐エッチングマスクとして各無機カラ
ーフィルタのエッチングを行ったが、感光性樹脂による
レジストパターンをマスクにして各無機カラーフィルタ
のエッチングが可能であれば、必ずしもＡｌパターンを
耐エッチングマスクとする必要はない。
０，２４，２５を耐エッチングマスクとして各無機カラ
ーフィルタのエッチングを行ったが、感光性樹脂による
レジストパターンをマスクにして各無機カラーフィルタ
のエッチングが可能であれば、必ずしもＡｌパターンを
耐エッチングマスクとする必要はない。
【００２７】また、本実施例における各無機カラーフィ
ルタのエッチングの終点検出では、エッチングモニタ１
４にレーザ光２１を当てて、センサ２２により、その反
射光２３との干渉を測定することで厚みの差を測定した
が、プラズマからの発光を分析することにより、エッチ
ングされている物質を知る方法などもある。したがっ
て、図８のａに示すように、Ａｌなどんの金属による遮
光パターン１２，１２ａ上に窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）
などのエッチング終点検出用平坦化膜２８を積層してＡ
ｌパターン１２ａの平坦化を行った後に、各無機カラー
フィルタの形成を行い、エッチング時にＳｉ3Ｎ4中に含
まれるＮ2をエッチングの終点検出の手段とすることが
できる。この平坦化はＳｉ3Ｎ4をデポした後に研磨など
の手段を用いてもよく、この方法によれば、無機カラー
フィルタ形成時に遮光パターン１２の段差が問題となる
ことは無くなる。Ａｌパターン１２ａを内抱したＳｉ3
Ｎ4により遮光パターン１２の平坦化を行った場合には
最終的に図８のｂに示す対向基板２７ａの構造となる。
また、エッチング終点検出用平坦化膜２８としてリンを
添加したアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｐ）を遮光
パターン１２のＡｌなどの金属パターン上にデポし、各
無機カラーフィルタのエッチング時にａ−Ｓｉ：Ｐ中に
含まれるＰを検出してエッチングモニタに使用すること
も可能である。
ルタのエッチングの終点検出では、エッチングモニタ１
４にレーザ光２１を当てて、センサ２２により、その反
射光２３との干渉を測定することで厚みの差を測定した
が、プラズマからの発光を分析することにより、エッチ
ングされている物質を知る方法などもある。したがっ
て、図８のａに示すように、Ａｌなどんの金属による遮
光パターン１２，１２ａ上に窒化シリコン（Ｓｉ3Ｎ4）
などのエッチング終点検出用平坦化膜２８を積層してＡ
ｌパターン１２ａの平坦化を行った後に、各無機カラー
フィルタの形成を行い、エッチング時にＳｉ3Ｎ4中に含
まれるＮ2をエッチングの終点検出の手段とすることが
できる。この平坦化はＳｉ3Ｎ4をデポした後に研磨など
の手段を用いてもよく、この方法によれば、無機カラー
フィルタ形成時に遮光パターン１２の段差が問題となる
ことは無くなる。Ａｌパターン１２ａを内抱したＳｉ3
Ｎ4により遮光パターン１２の平坦化を行った場合には
最終的に図８のｂに示す対向基板２７ａの構造となる。
また、エッチング終点検出用平坦化膜２８としてリンを
添加したアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ：Ｐ）を遮光
パターン１２のＡｌなどの金属パターン上にデポし、各
無機カラーフィルタのエッチング時にａ−Ｓｉ：Ｐ中に
含まれるＰを検出してエッチングモニタに使用すること
も可能である。
【００２８】さらに、本実施例では、遮光パターン１２
の上部にレジスト２６を形成して、各無機カラーフィル
タの耐エッチングマスクの剥離を行うことによる遮光パ
ターン１２のダメージを防止したが、図９に示すよう
に、予め遮光パターン１２の上部にエッチストッパ２９
としてＩＴＯを形成してもよく、この場合にも各無機カ
ラーフィルタの耐エッチングマスクの剥離時に遮光パタ
ーン１２はダメージを受けることはない。
の上部にレジスト２６を形成して、各無機カラーフィル
タの耐エッチングマスクの剥離を行うことによる遮光パ
ターン１２のダメージを防止したが、図９に示すよう
に、予め遮光パターン１２の上部にエッチストッパ２９
としてＩＴＯを形成してもよく、この場合にも各無機カ
ラーフィルタの耐エッチングマスクの剥離時に遮光パタ
ーン１２はダメージを受けることはない。
【００２９】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、同時形成
の遮光パターンおよびエッチングモニタをカラーフィル
タ下部に設けたため、製造プロセスを単純にすることが
でき、遮光パターンの段差によるＩＴＯの段切れも無く
すことができる。また、カラーフィルタ成形時の位置合
わせ用のアライメントマークを工程数を増加させること
なく得ることができる。さらに、カラーフィルタのドラ
イエッチング時に、窒化シリコン層の窒素を検出するこ
とで、またはリン添加アモルファスシリコンのリンを検
出することでエッチングの終点検出を正確にすることが
でき、ドライエッチング時にオーバーエッチングになる
心配もない。さらに、遮光パターンの平坦化を行えば、
カラーフィルタ段差による色ずれがない。金属パターン
上にレジストパターンを形成するため、各カラーフィル
タ形成用の耐エッチングマスク剥離時に金属パターンの
損傷を防止することができる。
の遮光パターンおよびエッチングモニタをカラーフィル
タ下部に設けたため、製造プロセスを単純にすることが
でき、遮光パターンの段差によるＩＴＯの段切れも無く
すことができる。また、カラーフィルタ成形時の位置合
わせ用のアライメントマークを工程数を増加させること
なく得ることができる。さらに、カラーフィルタのドラ
イエッチング時に、窒化シリコン層の窒素を検出するこ
とで、またはリン添加アモルファスシリコンのリンを検
出することでエッチングの終点検出を正確にすることが
でき、ドライエッチング時にオーバーエッチングになる
心配もない。さらに、遮光パターンの平坦化を行えば、
カラーフィルタ段差による色ずれがない。金属パターン
上にレジストパターンを形成するため、各カラーフィル
タ形成用の耐エッチングマスク剥離時に金属パターンの
損傷を防止することができる。
【図１】ａは本発明の一実施例を示す液晶表示用対向基
板の上面図、ｂはａのＡＡ’断面図である。
板の上面図、ｂはａのＡＡ’断面図である。
【図２】図１の液晶表示用対向基板の各製造工程におけ
る断面図であり、ａは遮光パターン１２の形成工程を示
し、ｂはアライメントマーク１３およびエッチングモニ
タ１４の形成工程を示す。
る断面図であり、ａは遮光パターン１２の形成工程を示
し、ｂはアライメントマーク１３およびエッチングモニ
タ１４の形成工程を示す。
【図３】図１の液晶表示用対向基板の各製造工程におけ
る断面図であり、ａは表示部におけるグリーン層１５の
積層工程を示し、ｂは表示部以外におけるグリーン層１
５の積層工程を示し、ｃはグリーン層１５の耐エッチン
グマスク形成工程を示す。
る断面図であり、ａは表示部におけるグリーン層１５の
積層工程を示し、ｂは表示部以外におけるグリーン層１
５の積層工程を示し、ｃはグリーン層１５の耐エッチン
グマスク形成工程を示す。
【図４】図１の液晶表示装置用対向基板の各製造工程に
おける断面図であり、ａはグリーン層１５の形成工程を
示し、ｂはエッチングモニタ１４によるエッチングの終
点検出工程を示す。
おける断面図であり、ａはグリーン層１５の形成工程を
示し、ｂはエッチングモニタ１４によるエッチングの終
点検出工程を示す。
【図５】図１の液晶表示用対向基板の各製造工程におけ
る断面図であり、ａは表示部におけるレッド層１６の積
層工程を示し、ｂは表示部におけるレッド層１６の成形
工程を示す。
る断面図であり、ａは表示部におけるレッド層１６の積
層工程を示し、ｂは表示部におけるレッド層１６の成形
工程を示す。
【図６】図１の液晶表示用対向基板の各製造工程におけ
る断面図であり、ａは表示部におけるブルー層１７の成
形工程を示し、ｂは遮光パターン１２上へのレジスト２
６の形成工程を示す。
る断面図であり、ａは表示部におけるブルー層１７の成
形工程を示し、ｂは遮光パターン１２上へのレジスト２
６の形成工程を示す。
【図７】図１の液晶表示用対向基板の各製造工程におけ
る断面図であり、各無機カラーフィルタの平坦化工程を
示している。
る断面図であり、各無機カラーフィルタの平坦化工程を
示している。
【図８】ａは本発明の他の実施例を示す液晶表示用対向
基板製造におけるＡｌパターン１２ａの平坦化工程の断
面図であり、ｂは平坦化された場合の対向基板２７ａの
断面図である。
基板製造におけるＡｌパターン１２ａの平坦化工程の断
面図であり、ｂは平坦化された場合の対向基板２７ａの
断面図である。
【図９】本発明のさらに他の実施例を示す液晶表示用対
向基板製造における遮光パターン上１２へのエッチスト
ッパ形成後のカラーフィルタ形成工程の断面図である。
向基板製造における遮光パターン上１２へのエッチスト
ッパ形成後のカラーフィルタ形成工程の断面図である。
【図１０】従来の液晶表示用対向基板の断面図である。
１２ 遮光パターン １２ａ 金属パターン １３ アライメントマーク １４ エッチングモニタ １５ グリーン層 １６ レッド層 １７ ブルー層 ２２ センサ ２６ レジスト ２７，２７ａ 対向基板 ２８ エッチング終点検出用平坦化膜 ２９ エッチストッパ
Claims (6)
- 【請求項１】 光を透過させて各色光をそれぞれ得るカ
ラー表示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ
間に設けられ光を遮光する遮光パターンとを有する液晶
表示用対向基板において、該カラーフィルタ下部に金属
パターンによる同時形成の該遮光パターンおよび、該カ
ラーフィルタのエッチング終点検出用のエッチングモニ
タを設けた液晶表示用対向基板。 - 【請求項２】 光を透過させて各色光をそれぞれ得るカ
ラー表示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ
間に設けられ光を遮光する遮光フィルタとを有する液晶
表示用対向基板において、金属パターンによる遮光パタ
ーンおよび、該カラーフィルタのエッチング終点検出用
のエッチングモニタと同時形成の、該カラーフィルタ成
形時の位置合わせ用のアライメントマークをカラーフィ
ルタ下部に設けた液晶表示用対向基板。 - 【請求項３】 光を透過させて各色光をそれぞれ得るカ
ラー表示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ
間に設けられ光を遮光する遮光フィルタとを有する液晶
表示用対向基板において、該カラーフィルタ下部に金属
パターンによる少なくとも遮光パターンを設け、該金属
パターン上にエッチングモニタ用の窒化シリコン層また
はリン添加アモルファスシリコンを形成した液晶表示用
対向基板。 - 【請求項４】 光を透過させて各色光をそれぞれ得るカ
ラー表示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ
間に設けられ光を遮光する遮光フィルタとを有する液晶
表示用対向基板において、該カラーフィルタ下部に、金
属パターンによる遮光パターンと、該遮光パターンを内
抱して該遮光パターンの平坦化を行った窒化シリコン層
を形成した液晶表示用対向基板。 - 【請求項５】 光を透過させて各色光をそれぞれ得るカ
ラー表示用の各カラーフィルタと、該各カラーフィルタ
間に設けられ光を遮光する遮光フィルタとを有する液晶
表示用対向基板において、該カラーフィルタ下部に、金
属パターンによる少なくとも遮光パターンと、該金属パ
ターン上に形成されたレジストパターンとを設けた液晶
表示用対向基板。 - 【請求項６】 前記カラーフィルタ下部に設けられた金
属パターンはアルミニウムとインジュウムスズ酸化物と
の２層構造である請求項１〜５のいずれかに記載の液晶
表示用対向基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21450193A JPH0764068A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 液晶表示用対向基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21450193A JPH0764068A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 液晶表示用対向基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0764068A true JPH0764068A (ja) | 1995-03-10 |
Family
ID=16656762
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21450193A Withdrawn JPH0764068A (ja) | 1993-08-30 | 1993-08-30 | 液晶表示用対向基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0764068A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20010060519A (ko) * | 1999-12-27 | 2001-07-07 | 윤종용 | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그의 제조 방법 |
| KR100382518B1 (ko) * | 1997-09-05 | 2003-12-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 칼라필터기판제조방법,이제조방법에의해제조한칼라필터기판,및이칼라필터기판을이용한액정소자 |
| US7560202B2 (en) | 2005-12-28 | 2009-07-14 | Dongbu Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing image sensor |
| CN103914171A (zh) * | 2013-03-01 | 2014-07-09 | 上海天马微电子有限公司 | 一种触控面板及触控显示装置 |
-
1993
- 1993-08-30 JP JP21450193A patent/JPH0764068A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100382518B1 (ko) * | 1997-09-05 | 2003-12-01 | 캐논 가부시끼가이샤 | 칼라필터기판제조방법,이제조방법에의해제조한칼라필터기판,및이칼라필터기판을이용한액정소자 |
| KR20010060519A (ko) * | 1999-12-27 | 2001-07-07 | 윤종용 | 액정 표시 장치용 박막 트랜지스터 기판 및 그의 제조 방법 |
| US7560202B2 (en) | 2005-12-28 | 2009-07-14 | Dongbu Electronics Co., Ltd. | Method for manufacturing image sensor |
| CN103914171A (zh) * | 2013-03-01 | 2014-07-09 | 上海天马微电子有限公司 | 一种触控面板及触控显示装置 |
| CN103914171B (zh) * | 2013-03-01 | 2016-12-28 | 上海天马微电子有限公司 | 一种触控面板及触控显示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100803177B1 (ko) | 액정표시장치용 박막 트랜지스터 및 그 제조방법 | |
| US6300152B1 (en) | Method for manufacturing a panel for a liquid crystal display with a plasma-treated organic insulating layer | |
| WO2017202256A1 (zh) | 阵列基板、显示装置及制备方法 | |
| JP4657587B2 (ja) | 薄膜トランジスタ表示板 | |
| CA2134995A1 (en) | Method for manufacturing a matrix of thin-film transistors with storage capacitances | |
| KR100266151B1 (ko) | 투과형 액정 표시 장치 및 그 제조 방법 | |
| US7675063B2 (en) | Liquid crystal display device and method of fabricating the same | |
| US7638800B2 (en) | Wire for a display device, a method for manufacturing the same, a thin film transistor array panel including the wire, and a method for manufacturing the same | |
| KR101833343B1 (ko) | 표시 기판 및 이의 제조 방법 | |
| JPH11121168A (ja) | 有機エレクトロルミネセンス素子及びその製造方法 | |
| US6982769B2 (en) | Substrate for liquid-crystal display device and fabrication method thereof | |
| KR20050002662A (ko) | 그레이 톤 마스크의 제조 방법 및 그레이 톤 마스크 | |
| KR100404225B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| JPH09230124A (ja) | カラーフィルタ | |
| JPH10189243A (ja) | Ｅｌ表示装置 | |
| JP2000122095A (ja) | 反射型液晶表示装置 | |
| JPH095786A (ja) | Ｔｆｔアレイ基板並びにこれを用いた液晶表示装置およびｔｆｔアレイ基板の製造方法 | |
| JPH0764068A (ja) | 液晶表示用対向基板 | |
| US7345727B2 (en) | Substrate for a liquid crystal display device and fabricating method thereof | |
| EP0989783A1 (en) | Organic electroluminescence element and manufacturing method therefor | |
| JPH09160004A (ja) | 液晶セル及びその空セル | |
| JPH09230371A (ja) | アクティブマトリクス基板およびその製造方法 | |
| KR100272556B1 (ko) | 액정표시장치 및 그 제조방법 | |
| JPH03107128A (ja) | アクティブマトリクス表示装置及びその製造方法 | |
| KR100433660B1 (ko) | 액정표시소자및그제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20001031 |