JPH0758192A - 基板収納ケース - Google Patents

基板収納ケース

Info

Publication number
JPH0758192A
JPH0758192A JP20080893A JP20080893A JPH0758192A JP H0758192 A JPH0758192 A JP H0758192A JP 20080893 A JP20080893 A JP 20080893A JP 20080893 A JP20080893 A JP 20080893A JP H0758192 A JPH0758192 A JP H0758192A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
reticle
storage case
lid
side member
conductive
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20080893A
Other languages
English (en)
Inventor
Kanefumi Nakahara
兼文 中原
Tsuneaki Origasa
恒明 折笠
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nikon Corp
Sendai Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
Sendai Nikon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp, Sendai Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP20080893A priority Critical patent/JPH0758192A/ja
Priority to KR1019940019873A priority patent/KR100339768B1/ko
Publication of JPH0758192A publication Critical patent/JPH0758192A/ja
Priority to US08/605,835 priority patent/US5743409A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67353Closed carriers specially adapted for a single substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67386Closed carriers characterised by the construction of the closed carrier
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67396Closed carriers characterised by the presence of antistatic elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Closures For Containers (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本来の機能である防塵性を損なうことなく、
且つ新たな発塵の要因を作ることなく、収納ケースの一
部又は全部に帯電防止効果を持たせる。 【構成】 金属性の底板1上にコの字型の側面部材2を
取り付け、側面部材2に対してヒンジ3を介して開閉自
在に上蓋4を取り付け、上蓋4にヒンジ5を介して回動
自在に前蓋6を取り付ける。側面部材2上にレチクルを
載置した状態で、上蓋4を側面部材2上に閉じて前蓋6
を閉じることにより、レチクルを収納する。側面部材2
を、変性PPE中に導電性のある共重合体を形成した材
料より構成し、上蓋4を透明で且つ導電性のある材料よ
り構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、LSI等の半導体素子
又は液晶表示素子等を製造する際に使用されるフォトマ
スク若しくはレチクル、又はウエハ若しくはガラスプレ
ートの如き基板を収納するための基板収納ケースに関す
る。
【0002】
【従来の技術】LSI等の半導体素子又は液晶表示素子
等を製造する際に、原版として使用されるフォトマスク
又はレチクル(以下、「レチクル」と総称する)は、極
めて高いレベルで塵等の異物の付着を防止する必要があ
るため、専用の収納ケースに入れて保管される。同様
に、回路パターン等が転写されるウエハ又はガラスプレ
ート等も、防塵のため専用の収納ケースに入れて保管さ
れる。以下ではレチクル用の収納ケースを例に取って説
明する。
【0003】従来この種の収納ケースは、特公平1−3
6255号公報、又は特公昭63−18734号公報で
開示されているように、一端が開放された箱状のケース
に開閉自在に前蓋を取り付け、その前蓋を開けてその箱
状のケース内にレチクルを収納するようになっていた。
そして、従来の収納ケースの材質としては、合成樹脂及
び表面処理をした金属が使用されていたが、特に静電気
による帯電を防ぐための考慮はなされていない場合が多
かった。また、帯電防止を考慮している場合でも、合成
樹脂中に界面活性剤を練り込み、合成樹脂の表層に帯電
防止の連続層を形成したり、炭素繊維や炭素の粉(粒
子)などの導電性物質などを混入することにより、収納
ケースに帯電防止効果を持たせるか、又は、収納ケース
の表面に帯電防止効果をもつ物質を塗布(コーティン
グ)する程度であった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、収納ケースを構成する材質が帯電防止材料
となっていなかった。そのため、特にLSI等を製造す
るためのクリーンルーム等の低湿度の環境下で、収納ケ
ースの運搬又は洗浄等を行うためにその収納ケースを取
扱う際に、帯電防止を考慮していない布や手袋でこすっ
た場合にその摩擦で収納ケースが帯電する虞があった。
また、収納ケースを収納する保管棚が帯電していた場
合、保管棚との摩擦等で収納ケースが帯電する場合も考
えられる。その他、様々な原因により収納ケースが帯電
することが考えられる。
【0005】このように収納ケースが帯電すると、収納
ケース内に収納されているレチクルの表面にも静電気が
生じるため、レチクル上に塵、ほこり等が付着し易くな
るという不都合がある。更に、静電気の量によっては、
レチクル上に描画してある微細パターンが静電破壊する
虞があるという不都合もあった。また、収納ケースに帯
電防止の効果を持たせた従来例の内で、収納ケースを構
成している合成樹脂中に例えば界面活性剤を練り込んで
いた場合には、界面活性剤が持つ親水基により、水洗等
で帯電防止機能が低下するという不都合があった。更
に、炭素繊維や、炭素の粉(粒子)などの導電性物質を
混入させて練り込んだ場合には、その導電性物質が脱落
する可能性があり、発塵の要因が増加するという不都合
があった。即ち、収納ケース内でレチクル支持部材とレ
チクルとの接触や、収納ケース内の可動部同士のこすれ
(摩擦)等により、その混入された導電性物質が樹脂か
ら脱落して塵となり、この塵が収納ケース内のレチクル
に付着する虞があった。
【0006】また、合成樹脂中に単に前記の炭素系ある
いは金属系の導電性物質を混ぜると、合成樹脂を透明に
することができなくなり、レチクルを収納ケースに入れ
た状態でそのレチクルを見ることができないという不都
合が生じる。これに関して、収納ケースでは通常、前蓋
の他に上蓋を開けられるようになっているが、収納ケー
スが不透明である場合には、レチクル上の文字等を確認
する際に、その上蓋を開けて確認する作業が必要とな
り、作業効率が悪いと共に、レチクルに塵等が付着し易
くなるという不都合があった。
【0007】本発明は斯かる点に鑑み、レチクル又はウ
エハ等を収納するための収納ケースにおいて、本来の機
能である防塵性を損なうことなく、且つ新たな発塵の要
因を作ることなく、収納ケースの一部又は全部に帯電防
止効果を持たせることを目的とする。更に、本発明は、
防塵性を損なうことなく、収納ケースの外側から内部の
レチクル又はウエハ等の状態を確認できるようにするこ
とをも目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明による基板収納ケ
ースは、例えば図1に示すように、前面が抜けた箱状の
ケース(1,2,4)と、その前面に開閉自在に取り付
けられた前蓋(6)とよりなり、前蓋(6)を開閉して
その箱状のケース内に所定の基板が収納される基板収納
ケースにおいて、箱状のケース(1,2,4)及び前蓋
(6)の内の所定の部分(例えば側面部材2)を、合成
樹脂中に導電性のある共重合体を形成した材料より構成
したものである。
【0009】この場合、箱状のケース(1,2,4)の
上面(4)を導電性のある透明な材料より形成すること
が望ましい。また、その合成樹脂中に導電性のある共重
合体を形成した材料に、更にフッ素を混入することが望
ましい。
【0010】
【作用】斯かる本発明によれば、箱状のケース(1,
2,4)又は前蓋(6)の内の所定の部分のベースとな
る合成樹脂に、従来のような低分子タイプで合成樹脂と
の相容性の良くない界面活性剤や、あるいは導電性の繊
維や粉末ではなく、高分子タイプでその合成樹脂と相容
性の良い導電性のある共重合体を形成して、その合成樹
脂自体に帯電防止効果を持たせている。従って、その合
成樹脂に混入された導電性物質の脱落による発塵が生じ
ることなく、帯電防止を行うことができる。
【0011】また、その箱状のケースの上面(4)を導
電性のある透明な材料から形成した場合には、上面
(4)にも導電性を持たせた上で、且つ上面(4)を通
して内部のレチクル又はウエハ等の状態を目視等で容易
に確認できる。また、その合成樹脂中に導電性のある共
重合体を形成した材料に、更にフッ素を混入した場合に
は、耐摩耗性が向上するため、その材料にレチクル等が
接触しても、更にその材料の部材同士がこすれあっても
発塵が少なくなる。
【0012】
【実施例】以下、本発明による基板収納ケースの一実施
例につき図面を参照して説明する。本例はレチクル用の
収納ケース(所謂カセット)に本発明を適用したもので
ある。図1は、本実施例の収納ケースの上蓋を開けた状
態を示し、この図1において、金属性の底板1上にコの
字型の側面部材2を取り付け、側面部材2の背面部にヒ
ンジ3を介して開閉自在に上蓋4を軸支し、上蓋4の先
端面にヒンジ5を介して回動自在に前蓋6を軸支する。
金属性の底板1と側面部材2との固定方法としては、導
電性の接着材を介しての接着、又はねじを介しての固定
等が使用される。
【0013】側面部材2は、背面部2cと、これを端部
で挟むように対向する1対のレチクル支持部2a及び2
bとを一体成形して形成し、図1に向かって左側のレチ
クル支持部2a上の内側には深い溝部2dを形成し、溝
部2dの中央に凸部2fを形成し、溝部2dを囲むよう
に上蓋4が密着する浅い段差部2hを形成する。また、
凸部2fの内側の溝部2dの上に、1対の長いピン状の
ストッパー9A及び12Aを一体的に植設し、それらス
トッパー9A及び12Aの内側にレチクルを支持するた
めの1対の短いレチクル支持ピン10A及び11Aを一
体的に植設する。
【0014】右側のレチクル支持部2bにおいても、左
側のレチクル支持部2aと対称に、深い溝部2e、凸部
2g、上蓋4が密着する浅い段差部2iを形成し、凸部
2gの内側の溝部2eの上に、ストッパー9B及び12
Bと、レチクル支持ピン10B及び11Bとを一体的に
植設する。但し、図1ではストッパー9Bのみが現れて
いる。
【0015】また、レチクル支持部2a及び2bの外面
にそれぞれ一体的にガイド部7A及び7Bを設け、上蓋
4を側面部材2の段差部2h及び2iに密着させた状態
で、それらガイド部7A及び7Bに押えばね8A及び8
Bを差し込み、押えばね8A及び8Bで上蓋4を側面部
材2側に付勢して、上蓋4を側面部材2に固定する。図
2は、押えばね8A及び8Bで上蓋4を側面部材2上に
押し付けた状態の平面図であり、この図2に示すよう
に、押えばね8A及び8Bの円弧部で上蓋4が押さえら
れている。逆に、上蓋4をヒンジ3を軸として回転させ
て開く場合には、それら押えばね8A及び8Bをガイド
部7A及び7Bから取り外すだけでよい。ガイド部7A
及び7Bは、その収納ケースを保管棚等に搬入する際、
又は保管棚等から搬出する際にガイドとして使用される
ものである。そして、押えばね8A及び8Bは、ピアノ
線の如き針金を屈曲させて形成される。
【0016】図1に戻り、上蓋4の底面の向かって左側
の中央部に軸受け部13A及び14Aを一体的に植設
し、軸受け部13A及び14Aの間に回動自在にレチク
ル押え15Aを取り付ける。レチクル押え15Aは、長
い押え部15Aaと小さいばね係合部15Abとを90
°ねじれるように一体的に成形したものであり、上蓋4
の底面の奥側に植設されたばね掛け部17Aとばね係合
部15Abとを引っ張りコイルばね16Aで連結し、前
蓋6の内側に一体的に植設さればね掛け部19Aとばね
係合部15Abとを引っ張りコイルばね18Aで連結す
る。
【0017】上蓋4の底面の向かって右側でも、左側と
対称的に、軸受け部13B及び14Bを一体的に植設
し、軸受け部13A及び14Aの間に回動自在にレチク
ル押え15Bを取り付ける。そして、上蓋4の底面のば
ね掛け部17Bとレチクル押え15Bのばね係合部とを
引っ張りコイルばね16Bで連結し、前蓋6の内側のば
ね掛け部19Bとそのばね係合部とを引っ張りコイルば
ね18Bで連結する。この場合、前蓋6がヒンジ5を軸
としてθ2方向に回転して開くと、引っ張りコイルばね
16A,16B及び18A,18Bの作用でレチクル押
え15A及び15Bが回転して、押え部15Aa及び1
5Baが上蓋4にほぼ平行になる。一方、前蓋6がヒン
ジ5を軸としてθ2方向に回転して閉じると、レチクル
押え15A,15Bの押え部15Aa,15Baが上蓋
4に垂直になる方向に回転する。従って、これら押え部
15Aa,15Baにより内部のレチクルを固定するこ
とができる。
【0018】次に、本実施例では図1の収納ケースに帯
電防止効果を持たせるために、以下のような材料を使用
する。先ず、金属性の底板1としては、アルミニウムに
亜鉛置換を施した基板の上に、ニッケルメッキを施し
て、表面の硬度を上げると共に導電性を持たせた材料を
使用している。底板1を金属性としたのは、薄くした上
で収納ケース全体の強度を高めるためである。また、特
に重量が制限されない場合には、底板1の材料としてス
テンレススチールを表面処理無しで使用してもよい。更
に、厚さの制限がない場合には、底板1を側面部材2と
一体的に合成樹脂で成形しても良い。
【0019】また、側面部材2、及びレチクル押え15
A,15Bとしては、スチレン変性の変性PPE(ポリ
フェニレンエーテル)中に、ポリエーテルとポリアミド
とのブロック共重合体を形成して、帯電防止効果を持た
せた樹脂を用いる。ベースとなる合成樹脂としては、そ
の変性PPEの代わりに、ポリカーボネイト等を使用す
ることができる。このブロック共重合体は導電性のある
高分子ポリマーであり、合成樹脂との相容性が良好であ
ると共に、界面活性剤等の低分子ポリマーと比べて耐溶
剤性が高い。従って、本例の側面部材2は軽量で或る程
度の導電性があるため、帯電防止効果がある。更に、合
成樹脂中に導電性の共重合体が形成されているため、側
面部材2とレチクルとが接触しても、また側面部材2と
レチクル押え15A,15Bとがこすれあっても、導電
性の共重合体単体が脱落して発塵することがない。
【0020】一般に、動的状態で帯電防止が可能である
材料の表面固有抵抗値[Ω]の上限値は、1010〜10
12Ω程度であると言われている。そして、IC、LSI
等を包装するために帯電防止効果を持たせた包装材料の
表面固有抵抗値は108 〜109 Ω程度である。これに
関して、本例の変性PPEにポリエーテルとポリアミド
とのブロック共重合体を形成した材料よりなる側面部材
2の表面固有抵抗値は109 Ω程度であり、十分な帯電
防止効果がある。また、実験的にその側面部材2を雰囲
気の温度が23°で湿度が35%の極めて乾燥した環境
に設置した場合でも、表面抵抗値は1010Ω程度を達成
し、十分な帯電防止効果があった。ところが、従来例の
ように合成樹脂の中に、低分子ポリマーの界面活性剤を
混入した材料では、湿度が35%になると表面固有抵抗
値が極めて高くなり、ほとんど帯電防止効果がなくなる
ことが知られている。即ち、本例の側面部材2の材料を
使用することにより、極めて乾燥した環境下でも十分な
帯電防止効果が得られる。
【0021】更に、側面部材2、及びレチクル押え15
A,15Bの耐摩耗性を高めるため、且つ摺動性を高め
るために、その変性PPE等のベースとなる合成樹脂に
フッ素を混入するようにしても良い。また、上蓋4の材
料としては、帯電防止効果と透過性とを実現するため
に、PMMA(メタクリル樹脂)を主成分として、その
内部構造を一部ゴム状構造にして内部に水分を取り込ん
で保持できるような樹脂を用いる。このようにして内部
に取り込まれた水分により、透明であっても導電性が生
ずるものである。具体的にその材料からなる上蓋4の表
面固有抵抗値は1011〜1012Ω程度であり、十分な帯
電防止効果がある。
【0022】更に、前蓋6の材料としては、上述の上蓋
4の材料であるPMMAを主成分として内部をゴム状構
造とした樹脂か、又は上述の側面部材2の材料である変
性PPE中に導電性のある共重合体を形成した樹脂のど
ちらでもよい。但し、正面からもこの収納ケース内のレ
チクル及びペリクル(後述)の状態を目視可能としたい
ならば、上蓋4用の透明な樹脂を用いればよい。また、
前蓋6の表側に、従来の帯電防止効果の考慮をしていな
い収納ケースと区別するための、凹部又は凸部よりなる
マーク24(図2参照)を成形時に入れておいても良
い。
【0023】なお、収納ケース全体(底板1、側面部材
2、上蓋4、及び前蓋6)を変性PPE中に導電性のあ
る共重合体を形成した樹脂で構成してもよく、更に内部
に収納されたレチクルを目視観察するための透明窓部を
ケースの一部(例えば上蓋4の一部等)に形成するよう
にしても良い。その透明窓部としては、PPMAを主成
分として内部をゴム状構造とした樹脂等を使用できる。
また、収納ケースの保管棚と摺動する部分のみ、例えば
側面部材2に設けられたガイド部7A及び7B等のみ
を、変性PPE中に導電性のある共重合体を形成した樹
脂で構成しても良い。更に、オペレータ、又は専用の保
持装置によって保持される部分も、同様に変性PPE中
に導電性のある共重合体を形成した樹脂で構成するよう
にしても良い。
【0024】次に、本例の収納ケースにレチクルを収納
する場合の動作の一例につき説明する。この場合、収納
ケースの前面に図3に示すように、レチクル搬送用のア
ーム23に載置されたレチクルRが搬送されて来る。そ
のレチクルRのガラス基板の上面には直接塵等の異物が
付着するのを防止するための極めて薄い防塵膜(以下、
「ペリクル」という)21が矩形の枠20を介して張設
されている。更に、そのレチクルRのガラス基板の下面
(パターン形成面)にも、ペリクル(不図示)が矩形の
枠22を介して張設されている。本例の収納ケースで
は、通常のレチクルの他に、そのようにペリクルが両面
に張設されたレチクルRをも収納することができる。
【0025】図4は側面部材2のAA線に沿う断面図で
あり、先ず図4(a)に示すように前蓋6を開いた状態
で、収納ケースの前面からペリクル付きのレチクルRを
差し込む。この際に、前蓋6に連結された引っ張りコイ
ルばね18A、及び上蓋4に連結された引っ張りコイル
ばね16Aによってレチクル押え15Aが回転し、押え
部15Aaが上蓋4にほぼ平行になっており、レチクル
Rは、底板1、側面部材2及び上蓋4により囲まれた空
間内に入ることができる。
【0026】その後、図4(b)に示すように、レチク
ルRのガラス基板の下面を2個のレチクル支持ピン10
A及び11Aの上に載置する。図4(b)の手前側の2
個のレチクル支持ピン10B及び11B(図1参照)の
上にもレチクルRのガラス基板は載置されている。この
状態で前蓋6を閉じることにより、レチクル押え15A
の押え部15Aa及び手前側のレチクル押え15B(図
1参照)の押え部がレチクルRのガラス基板の上面に付
勢され、レチクルRは側面部材2上に安定に保持され
る。また、レチクル支持ピン10A,11Aの両側には
ストッパー9A及び11Aが植設されていると共に、図
1に示すように、レチクル支持ピン10A,11A等の
外側には凸部2f及び2gがあるため、レチクルRをそ
の収納ケースに収めて搬送する途中で、レチクルRが大
きく移動することが無い。従って、レチクルRに張設さ
れたペリクル、及びこのペリクルを支持するための矩形
の枠等が損傷されることが無い。
【0027】また、図4(b)に示すように、前蓋6
は、引っ張りコイルばね18Aにより底板1の端面、及
び側面部材2の端面に付勢されているため、その収納ケ
ースの密閉性は良好であり、搬送途中で内部に収納され
たレチクルRに塵等の異物が付着することは無い。な
お、上述実施例はレチクルの収納ケースに本発明を適用
したものであるが、本発明はレチクルのパターンが転写
されるウエハやガラスプレート等の収納ケースにも同様
に適用できるものである。このように、本発明は上述実
施例に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種
々の構成を取り得る。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、収納ケースの所定部分
の材料として、導電性の繊維や粒子を混入することな
く、高分子で合成樹脂との相容性の良好な導電性のある
共重合体を形成した合成樹脂を使用している。従って、
本来の機能である防塵性を損なうことなく、且つ混入物
の脱落等に起因する発塵を生じることなく、収納ケース
の一部又は全部に帯電防止効果を持たせることができる
利点がある。それにより、内部に収納されるレチクル又
はウエハ等への帯電が防止され、その帯電による塵等の
付着、及びパターンの静電破壊によるLSIの欠陥の発
生等が防止される。更に、極めて乾燥した環境下でも帯
電防止効果がほとんど低下しない利点がある。
【0029】また、箱状のケースの上面を導電性のある
透明な材料から形成した場合には、防塵性を損なうこと
なく、収納ケースの外側から内部のレチクル又はウエハ
等の状態を確認できる。従って、前蓋等を開けなくてと
も、内部の状態が確認できるため、収納ケース外の環境
からの塵等の異物が収納ケース内に入ることがない。ま
た、帯電防止効果を持たせた合成樹脂にフッ素を混入す
ることにより、耐摩耗性及び摺動性が向上し、収納ケー
スとレチクル等とが接触しても発塵が少ない利点があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による基板収納ケースの一実施例の上蓋
4を開けた状態を示す斜視図である。
【図2】図1の収納ケースの上蓋4を閉じた状態を示す
平面図である。
【図3】実施例の収納ケースに収納されるペリクル付き
のレチクルを搬送する状態を示す一部を切り欠いた斜視
図である。
【図4】図2のAA線に沿う断面図であり、(a)は前
蓋6を開けた状態を示す断面図、(b)は内部にレチク
ルを収納して前蓋6を閉じた状態を示す断面図である。
【符号の説明】
1 底板 2 側面部材 3,5 ヒンジ 4 上蓋 6 前蓋 7A,7B ガイド部 8A,8B 押えばね 9A,9B ストッパー 10A,11A レチクル支持ピン 15A,15B レチクル押え

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 前面が抜けた箱状のケースと、前記前面
    に開閉自在に取り付けられた前蓋とよりなり、前記前蓋
    を開閉して前記箱状のケース内に所定の基板が収納され
    る基板収納ケースにおいて、 前記箱状のケース及び前記前蓋の内の所定の部分を、合
    成樹脂中に導電性のある共重合体を形成した材料より構
    成したことを特徴とする基板収納ケース。
  2. 【請求項2】 前記箱状のケースの上面を導電性のある
    透明な材料より形成したことを特徴とする請求項1記載
    の基板収納ケース。
  3. 【請求項3】 前記合成樹脂中に導電性のある共重合体
    を形成した材料に、更にフッ素を混入したことを特徴と
    する請求項1又は2記載の基板収納ケース。
JP20080893A 1993-08-12 1993-08-12 基板収納ケース Pending JPH0758192A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20080893A JPH0758192A (ja) 1993-08-12 1993-08-12 基板収納ケース
KR1019940019873A KR100339768B1 (ko) 1993-08-12 1994-08-12 디바이스를제조할때원판으로서사용되는레티클을수납하는레티클수납케이스및이를사용하는디바이스제조방법
US08/605,835 US5743409A (en) 1993-08-12 1996-02-22 Case for housing a substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20080893A JPH0758192A (ja) 1993-08-12 1993-08-12 基板収納ケース

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0758192A true JPH0758192A (ja) 1995-03-03

Family

ID=16430544

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20080893A Pending JPH0758192A (ja) 1993-08-12 1993-08-12 基板収納ケース

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5743409A (ja)
JP (1) JPH0758192A (ja)
KR (1) KR100339768B1 (ja)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0917183A2 (en) * 1997-11-11 1999-05-19 Innotech Corporation Clean box
JP2006128188A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Nikon Corp 基板搬送装置、基板搬送方法および露光装置
JP2006153899A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Nikon Corp レチクル保護部材、レチクル搬送装置、露光装置、及びレチクルの搬送方法。
JP2007279766A (ja) * 1995-10-19 2007-10-25 Asml Us Inc レチクルボックスおよびコンテナ
JP4577603B2 (ja) * 2001-09-20 2010-11-10 株式会社安川電機 薄状物体の収納容器
JP2011054999A (ja) * 2010-11-30 2011-03-17 Nikon Corp 露光装置及び方法
JP2011082553A (ja) * 2003-11-16 2011-04-21 Entegris Inc ドア作動式ウェーハ制止部を備えるウェーハ容器
JP2011124591A (ja) * 2004-10-29 2011-06-23 Nikon Corp レチクル保護装置及び露光装置
KR20220044087A (ko) * 2020-09-30 2022-04-06 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 정전기 방지 기능이 있는 레티클 포드
KR20240035329A (ko) 2022-09-08 2024-03-15 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 기판 수납 용기
KR20240037148A (ko) 2022-09-14 2024-03-21 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 기판 수납 용기

Families Citing this family (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3062113B2 (ja) * 1997-04-16 2000-07-10 九州日本電気株式会社 ウェハー保管ボックス帯電化によるごみ付着防止機構
US5938860A (en) 1997-08-28 1999-08-17 Micron Technology, Inc. Reticle cleaning without damaging pellicle
US6041937A (en) * 1998-05-29 2000-03-28 Industrial Technology Research Institute Wafer cassette retainer in a wafer container
US6196391B1 (en) * 2000-01-20 2001-03-06 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd Electrostatic discharge-free container for insulating articles
US6421113B1 (en) * 2000-02-14 2002-07-16 Advanced Micro Devices, Inc. Photolithography system including a SMIF pod and reticle library cassette designed for ESD protection
US6948619B2 (en) * 2002-07-05 2005-09-27 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Reticle pod and reticle with cut areas
US7258520B2 (en) * 2002-08-31 2007-08-21 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for using substrate carrier movement to actuate substrate carrier door opening/closing
TWI224719B (en) * 2003-05-28 2004-12-01 Gudeng Prec Ind Co Ltd Reinforced structure device of mask frame
JP2005123292A (ja) * 2003-10-15 2005-05-12 Canon Inc 収納装置、当該収納装置を用いた露光方法
US7316325B2 (en) * 2003-11-07 2008-01-08 Entegris, Inc. Substrate container
US7720558B2 (en) * 2004-09-04 2010-05-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for mapping carrier contents
TW200613202A (en) * 2004-10-28 2006-05-01 Power Geode Technology Co Ltd Wafer framework storage box
US20060254815A1 (en) * 2005-04-26 2006-11-16 Humphrey Thomas W Radiofrequency identification shielding
KR101442451B1 (ko) * 2005-09-27 2014-09-22 엔테그리스, 아이엔씨. 레티클 포드
KR101075512B1 (ko) * 2005-12-06 2011-10-21 후지쯔 세미컨덕터 가부시키가이샤 반도체 웨이퍼의 수납 케이스 및 반도체 웨이퍼의 수납방법
US20070227939A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-04 Inventec Corporation Storage structure for electronic device
SG151129A1 (en) * 2007-09-26 2009-04-30 E Sun Prec Ind Co Ltd Container for reticle
US10825714B2 (en) * 2016-04-02 2020-11-03 Intel Corporation Stretching retention plate for electronic assemblies
CN108107672B (zh) * 2016-11-25 2021-03-02 上海微电子装备(集团)股份有限公司 一种掩模版版盒
US10964569B2 (en) 2018-06-29 2021-03-30 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Semiconductor die carrier structure
CN109292280B (zh) * 2018-09-11 2021-01-26 京东方科技集团股份有限公司 用于装载薄膜的盒和装载薄膜的方法
CN113474267B (zh) * 2019-02-22 2022-09-20 村田机械株式会社 盖开闭装置
TWD211778S (zh) * 2020-09-22 2021-05-21 家登精密工業股份有限公司 光罩盒

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3615006A (en) * 1969-06-26 1971-10-26 Ibm Storage container
US3875012A (en) * 1974-01-30 1975-04-01 Wadley Res Inst & Blood Bank Apparatus and method for the detection of microbial pathogens
JPS5895812A (ja) * 1981-12-01 1983-06-07 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 基板の収納容器及び収納容器の装着装置
JPS6318734A (ja) * 1986-07-10 1988-01-26 Toshiba Corp 個人呼出装置
US4899521A (en) * 1986-10-14 1990-02-13 W. R. Grace & Co. - Conn. Antistatic thermoplastic/polyamide-polyether compositions and antistatic polymeric films made therefrom
JPS63178958A (ja) * 1986-12-27 1988-07-23 キヤノン株式会社 防塵容器
US4842136A (en) * 1987-02-13 1989-06-27 Canon Kabushiki Kaisha Dust-proof container having improved construction for holding a reticle therein
US5012926A (en) * 1987-04-08 1991-05-07 W. R. Grace & Co.-Conn. Electrically conductive container
JPS6436255A (en) * 1987-07-31 1989-02-07 Fujitsu Ltd Feeding circuit
US4848566A (en) * 1987-10-23 1989-07-18 W. R. Grace & Co. Antistatic/conductive container
US5205406A (en) * 1988-05-04 1993-04-27 Bradford Company Anti-static coated paperboard or similar rigid material
US5043195A (en) * 1988-10-28 1991-08-27 Minnesota Mining & Manufacturing Company Static shielding film
US5001214A (en) * 1989-06-23 1991-03-19 General Electric Company Low odor polyphenylene ether produced in the absence of odor causing amine, in presence of manganese chelate complex catalyst
JP2816864B2 (ja) * 1989-07-07 1998-10-27 大塚化学株式会社 搬送用ウエーハバスケット及び収納ケース
JP3089590B2 (ja) * 1991-07-12 2000-09-18 キヤノン株式会社 板状物収納容器およびその蓋開口装置
US5285895A (en) * 1991-10-31 1994-02-15 Bolt William S Container for integrated circuit board
US5310404A (en) * 1992-06-01 1994-05-10 Alza Corporation Iontophoretic delivery device and method of hydrating same
JP3200776B2 (ja) * 1992-08-06 2001-08-20 大日本印刷株式会社 基板保持用ケース
US5310076A (en) * 1992-10-19 1994-05-10 Arrow Electronics, Inc. Snap-on lid for computer chip tray
US5320225A (en) * 1993-04-23 1994-06-14 Hrc Products Apparatus and method for securely carrying a substrate
US5415906A (en) * 1994-05-18 1995-05-16 Denki Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Heat resistant electrically conductive plastic sheet and container

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007279766A (ja) * 1995-10-19 2007-10-25 Asml Us Inc レチクルボックスおよびコンテナ
EP0917183A3 (en) * 1997-11-11 2002-04-03 Innotech Corporation Clean box
EP0917183A2 (en) * 1997-11-11 1999-05-19 Innotech Corporation Clean box
JP4577603B2 (ja) * 2001-09-20 2010-11-10 株式会社安川電機 薄状物体の収納容器
JP2011082553A (ja) * 2003-11-16 2011-04-21 Entegris Inc ドア作動式ウェーハ制止部を備えるウェーハ容器
JP2006128188A (ja) * 2004-10-26 2006-05-18 Nikon Corp 基板搬送装置、基板搬送方法および露光装置
JP4710308B2 (ja) * 2004-10-29 2011-06-29 株式会社ニコン レチクル搬送装置、露光装置、及びレチクルの搬送方法
JP2011124591A (ja) * 2004-10-29 2011-06-23 Nikon Corp レチクル保護装置及び露光装置
JP2006153899A (ja) * 2004-10-29 2006-06-15 Nikon Corp レチクル保護部材、レチクル搬送装置、露光装置、及びレチクルの搬送方法。
JP2011054999A (ja) * 2010-11-30 2011-03-17 Nikon Corp 露光装置及び方法
KR20220044087A (ko) * 2020-09-30 2022-04-06 구뎅 프리시젼 인더스트리얼 코포레이션 리미티드 정전기 방지 기능이 있는 레티클 포드
JP2022058167A (ja) * 2020-09-30 2022-04-11 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 帯電防止性能を備えたレチクルポッド
CN114310828A (zh) * 2020-09-30 2022-04-12 家登精密工业股份有限公司 具备抗静电破坏的掩膜盒及其加工方法
KR20240035329A (ko) 2022-09-08 2024-03-15 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 기판 수납 용기
KR20240037148A (ko) 2022-09-14 2024-03-21 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 기판 수납 용기

Also Published As

Publication number Publication date
KR100339768B1 (ko) 2002-11-29
US5743409A (en) 1998-04-28
KR950007626A (ko) 1995-03-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH0758192A (ja) 基板収納ケース
CN104072976B (zh) 表面保护膜
US5780127A (en) Wafer carrier
JP5917454B2 (ja) ドア付きウェハーエンクロージャ
US6880718B2 (en) Wafer carrier door and spring biased latching mechanism
TWI293477B (en) Pellicle storage container
JPH0136255B2 (ja)
US5320225A (en) Apparatus and method for securely carrying a substrate
FR2771084A1 (fr) Une cassette de chargement pour substrat en verre
WO2011102318A1 (ja) 基板収納容器
JP2002287488A (ja) 現像装置、画像形成装置および現像装置の組み立て方法
US5296893A (en) Box for an optical stepper reticle
JP4329541B2 (ja) ドアにより機能化されるアース経路を有した前方開閉型ウエハーキャリア及びウエハーキャリアのドアを経由したアース経路を設ける方法
KR102031086B1 (ko) 이중 잠금 클램프 및 이를 갖는 제품 테스트 모듈
JPH05147680A (ja) 基板用カセツト
JPH09128780A (ja) レンズクリーニング用ディスク
JP7082696B2 (ja) 基板処理装置
JP2011138863A (ja) 基板収納容器
JP7231142B2 (ja) 基板収納容器
JP2671150B2 (ja) 情報記録再生装置
JPH10106946A (ja) レチクルカセット
JP2009224464A (ja) 基板収納容器
JPH06286812A (ja) カセット
JPH0890353A (ja) バルクケース
JPH04172454A (ja) 防塵ケース固定レチクルまたはフォトマスク

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20021008