JPH0751549B2 - 保護されたアミノ酸及びその製造方法 - Google Patents

保護されたアミノ酸及びその製造方法

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JPH0751549B2
JPH0751549B2 JP2099477A JP9947790A JPH0751549B2 JP H0751549 B2 JPH0751549 B2 JP H0751549B2 JP 2099477 A JP2099477 A JP 2099477A JP 9947790 A JP9947790 A JP 9947790A JP H0751549 B2 JPH0751549 B2 JP H0751549B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Ｎ−トリチル−カルバモイル基を含有するア
ミノ酸誘導体、その製造方法、及びペプチド合成のため
のその使用に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕
アミノ酸であるアスパラギン及びグルタミンのアミド基
はペプチド合成においてしばしば不所望の副反応、例え
ばニトリルへの脱水、イミドへの分子内環化、及びグル
タミンの場合にはピロリドンの形成、を導く。さらに、
グルタミンを用いる固相合成においては、カップリング
収率の低下をもたらす水素結合の分子間形成のため、ペ
プチド樹脂がもはや膨潤しないことがしばしば観察され
る。
これらの欠点はアスパラギン及びグルタミンのカルバモ
イル基を保護することにより回避することができる。一
般に、保護基として、4,4′−ジメトキシ−ジフェニル
−メチル（ジ−〔４−メトキシ−フェニル〕−メチル、
4,4′−ジメトキシ−ベンズヒドリル;Mbhと略す）、又
は2,4,6−トリメトキシ−ベンジル（Tmobと略す）が使
用される。
しかしながら、本発明者らがここに見出したところによ
ればある場合においては今まで知られていたカルバモイ
ル保護基自体が、それが除去される場合に不所望の副反
応を惹起する。これは、酸分解的除去において形成され
るカルボカチオンが非常に容易にしかも不可逆的にトリ
プトファンと反応するためである。
この知見から出発して、本発明の１つの目的は、前記の
副反応が起こらないカルバモイル保護基を見出し、そし
て対応して保持されたアミノ酸誘導体製造することであ
る。
〔発明が解決しようとする課題〕
本発明は、次の式（Ｉ）： （式中、ｎは１又は２であり、R1は水素又はアミノ保護
基であり、R2は水素又はカルボキシ保護基であり、そし
てR3はトリフェニルメチル、４−モノメトキシ−トリチ
ル又は4,4′−ジメトキシ−トリチルである） で表わされる化合物、R2が水素である該化合物の塩、並
びにR2が水素であり、そしてR1がアミノ保護基である式
（Ｉ）の前記化合物の反応性カルボン酸誘導体に関す
る。不斉HC原子におけるコンフィグレーションは（D,
L），（Ｄ）、又は好ましくは（Ｌ）である。
〔具体的な記載〕
ペプチド合成において、式（Ｉ）の化合物はトリプトフ
ァンのインドール側鎖に対するアルキル化作用を有しな
い。さらに、これらは、R3が2,4,6−トリメトキシ−ベ
ンジル（Tmob）又はジー（４−メトキシ−フェニル）−
メチル（Mbh）である類似の化合物の場合に比べて、有
機溶剤に一層溶解しやすく、そしてそれらの保護基はト
リフルオロ酢酸によって一層容易に除去される。例え
ば、トリフルオロ酢酸/1,2−ジクロロエタン（1:1）中2
2℃での開裂におけるFmoc−Gln（Trt）−OH,Fmoc−Gln
（Tmob）−OH及びFmoc−Gln（Mbh）−OHの半減期はそれ
ぞれ2,9及び27分間である。
式（Ｉ）の化合物の反応性カルボン酸誘導体は、カップ
リング条件下で、すなわち１−ヒドロキシ−1H−ベンゾ
トリアゾール（HOBt）のごときカップリング触媒の存在
下で、そしてペプチド合成におけるカップリング反応の
ために一般に使用される溶剤、例えばジメチルアセタミ
ド（DMA）及び1,2−ジクロロ−エタン（DIEA）の存在下
で、R3が水素である類似の化合物よりも明らかに安定で
ある。例えば、DMA＋１当量のHOBt＋1.7当量のDIEA中の
Fmoc−Asn−Ｏ−Tcp及びFmoc−Asn−Ｏ−Pfp（Fmoc＝９
−フルオレニル−メトキシ−カルボニル、Pfp＝ペンタ
フルオロ−フェニル、Tcp＝2,4,5−トリクロロ−フェニ
ル）の分解半減期はそれぞれわずか２分間、及びわずか
１分間未満でさえあり、他方R3がトリチル基である類似
の化合物は同じ条件下で完全に安定である。
驚くべきことに、スペース−フィリング（space−filli
ng）トリチル保護基はカップリング反応を遅延させず、
それどころかこれらはカップリングの速度に影響を与え
ない。
保護基、その導入及び除去は、例えば「Protec−tive G
roups in Organic Chemistry」,Plenum Press、ロンド
ン、ニューヨーク、1973;及び「Methoden in organisch
em Chemie」（Methods of Organic Chemistry）,Houben
−Weyl、四版、Vol 15/1,Georg−Thieme−Verlay、スタ
ットガルト1974;及びTheodora W.Greene,「Protective
Groups in Organic Synthesis」,John Wiley ＆ Sons、
ニューヨーク、1981に記載されている。
保護されたアミノ基R1-NHは、例えば、容易に開裂され
得るアシルアミノ、アリールメチルアミノ、エーテル化
メルカプトアミノ、２−アシル−低級−アルク−１−エ
ニル−アミノ又はシリル−アミノ基である。
対応するアシルアミノ基中のアシルは、例えば、18個以
下の炭素原子を有する有機カルボン酸のアシル基、特に
場合によっては例えばハロゲンもしくはアリールにより
置換されているアルカンカルボン酸、又は場合によって
は例えばハロゲン、低級アルコキシもしくはニトロによ
り置換されている安息香酸、又は炭酸のモノエステルの
アシル基である。この様なアシル基の例は、低級アルカ
ノイル、例えばホルミル、アセチルもしくはプロピオニ
ル、ハロゲノ−低級アルカノイル、例えば２−ハロゲノ
アセチル、特に２−クロロ−、２−ブロモ、２−イオド
−、2,2,2−トリフルオロ−もしくは2,2,2−トリクロロ
−アセチル、場合によっては例えばハロゲン、低級アル
コキシもしくはニトロにより置換されているベンゾイ
ル、例えばベンゾイル、４−クロロベンゾイル、４−メ
トキシベンゾイルもしくは−４−ニトロベンゾイル、又
は低級アルキルの１位において分岐しているかもしくは
１位もしくは２位において適切に置換されている低級ア
ルコキシカルボニル、特にtert−低級アルコキシカルボ
ニル、例えばtert−ブチルオキシカルボニル、アリール
メトキシカルボニル（１個又は２個のアリール基を有
し、これは好ましくはフェニルであって、場合によって
は例えば低級アルキル、特にtert−低級アルキル、例え
ばtert−ブチル、低級アルコキシ、例えばメトキシ、ヒ
ドロキシ、ハロゲン、例えば塩素及び／又はニトロによ
りモノー又はポリー置換されている）、例えば場合によ
っては置換されているベンジルオキシカルボニル、例え
ば４−ニトロベンジルオキシカルボニル、又は置換され
たジフェニルメトキシカルボニル、例えばベンズヒドリ
ルオキシカルボニルもしくはジ−（４−メトキシフェニ
ル）−メトキシカルボニル、アロイルメトキシカルボニ
ル（アロイル基は好ましくはベンゾイルであって場合に
よっては例えばハロゲン、例えば臭素により置換されて
いる、）例えばフェナシルオキシカルボニル、２−ハロ
ゲノ−低級アルコキシカルボニル、例えば2,2,2−トリ
クロロエトキシカルボニル、２−ブロモエトキシカルボ
ニルもしくは２−イオドエトキシカルボニル、又は２−
（トリー置換シリル）−エトキシカルボニル〔置換基は
相互に独立に、場合によっては置換されている（例え
ば、低級アルキル、低級アルコキシ、アリール、ハロゲ
ン又はニトロにより置換されている）脂肪族、芳香−脂
肪族、脂環族もしくは芳香族炭化水素基であって炭素原
子数15個までのもの、例えば対応する場合によっては置
換されているアルキル、フェニル低級アルキル、シクロ
アルキル、又はフェニルである）、例えば２−トリ−低
級−アルキルシリルエトキシカルボニル、例えば２−ト
リメチルシリルエトキシカルボニルもしくは２−（ジ−
ｎ−ブチル−メチル−シリル）−エトキシカルボニル、
又は２−トリアリールシリルエトキシカルボニル、例え
ば２−トリフェニルシリルエトキシカルボニルである。
アミノ保護基R1として適当な他のアシル基はさらに、有
機リン酸、ホスホン酸もしくはホスフィン酸の対応する
基、例えばジー低級アルキルホスホリル、例えばジメチ
ルホスホリル、ジエチルホスホリル、ジ−ｎ−プロピル
ホスホリルもしくはジイソプロピルホスホリル、ジシク
ロアルキルホスホリル、例えばジシクロヘキシルホスホ
リル、場合によっては置換されているジフェニルホスホ
リル、例えば、場合によっては例えばニトロにより置換
されたジフェニルホスホリル、ジ−（フェニル−低級ア
ルキル）−ホスホリル、例えばジベンジルホスホリルも
しくはジ−（４−ニトロベンジル）−ホスホリル、場合
によっては置換されているフェニルオキシフエニルホス
ホニル、例えばフェニルオキシフェニル−ホスホニル、
ジ−低級−アルキルホスフィニル、例えばジエチルホス
フィニル、又は場合によっては置換されているジフェニ
ルホスフィニル、例えばジフェニルホスフィニルであ
る。
モノ−、ジ−又は特にトリ−アリールメチルアミノ基で
あるアリールメチルアミノ基中のアリール基は特に、場
合によっては置換されているフェニル基である。この様
な基は、例えばベンジル−、ジフェニルメチル−及び特
にトリチルアミノである。
このタイプの基より保護されたアミノ基中のエーテル化
メルカプト基は特に、アリールチオ又はアリール−低級
アルキルチオであり、ここでアリールは特にフェニルで
あり、これは場合によっては例えば低級アルキル、例え
ばメチルもしくはtert−ブチル、低級アルコキシ、例え
ばメトキシ、ハロゲン、例えば塩素及び／又はニトロに
より置換されている。適当なアミノ保護基の例は２−ニ
トロフェニルチオである。
アミノ保護基として使用し得る２−アシル−低級アルク
−１−エン−１−イル基中のアシルは、例えば、低級ア
ルカンカルボン酸、場合によっては例えば低級アルキ
ル、例えばメチルもしくはtert−ブチル、低級アルコキ
シ、例えばメトキシ、ハロゲン、例えば塩素及び／又は
ニトロにより置換されている安息香酸、又は特に炭酸の
モノエステル、例えば炭酸のモノ−低級アルキルエステ
ルの対応するアシル基である。対応する保護基は特に、
１−低級アルカノイル−プロプ−１−エン−２−イル、
例えば１−アセチル−プロプ−１−エン−２−イル、又
は１−低級アルコキシカルボニル−プロプ−１−エン−
２−イル、例えば１−エトキシカルボニル−プロプ−１
−エン−２−イルである。
好ましいアミノ保護基は炭酸のモノエステルのアシル
基、特にtert−ブトキシカルボニル、場合によっては例
えば前記のように置換されているベンジルオキシカルボ
ニル、例えば４−ニトロ−ベンジルオキシカルボニルも
しくはフェニルメトキシカルボニル、又は２−ハロゲノ
−低級−アルコキシカルボニル、例えば2,2,2−トリク
ロロエトキシカルボニル、又はアリルオキシカルボニル
及び後者に関連する保護基、又は特に９−フルオレニル
−メトキシカルボニルである。
カルボキシル保護基R2は一般にエステル化基、特に１位
において分岐しているか又は１位もしくは２位において
適当に置換されている低級アルキル基である。エステル
化された形の好ましいカルボキシル基は特に、tert−低
級アルコキシカルボニル、例えばtert−ブトキシカルボ
ニル基、アリールメトキシカルボニル基（１個又は２個
のアリール基を有し、これはフェニル基であり、これは
場合によっては例えば低級アルキル、例えばtert−低級
アルキル、例えばtert−ブチル、低級アルコキシ、例え
ばメトキシ、ヒドロキシ、ハロゲン、例えば塩素、及び
／又はニトロにより置換されている）、例えば、場合に
よっては例えば前記のように置換されているベンジルオ
キシカルボニル、例えば４−メトキシベンジルオキシカ
ルボニルもしくは４−ニトロベンジルオキシカルボニ
ル、又は場合によっては例えば、前記のように置換され
ているジフェニル−メトキシカルボニル、例えばジフェ
ニルメトキシカルボニルもしくはジ−（４−メトキシフ
ェニル）−メトキシカルボニル、１−低級アルコキシ−
低級アルコキシカルボニル、例えばメトキシメトキシカ
ルボニル、１−メトキシエトキシカルボニルもしくは１
−エトキシメトキシカルボニル、１−低級アルキルチオ
−低級アルコキシカルボニル、例えば１−メチルチオメ
トキシカルボニルもしくは１−エチルチオエトキシカル
ボニル、アロイルメトキシカルボニル（アロイル基はベ
ンゾイルであり、このベンゾイルは場合によっては例え
ばハロゲン、例えば臭素により置換されている）、例え
ばフェナシルオキシカルボニル、２−ハロゲノ−低級−
アルコキシカルボニル、例えば2,2,2−トリクロロエト
キシカルボニル、２−ブロモエトキシカルボニルもしく
は２−イオドエトキシカルボニル、又は２−（置換シリ
ル）−エトキシカルボニル〔置換基は相互に独立に、場
合によっては置換されている（例えば、低級アルキル、
低級アルコキシ、アリール、ハロゲン及び／又はニトロ
により置換されている）脂肪族、芳香−脂肪族、脂環族
又は芳香族炭化水素基、例えば対応する場合によっては
置換されている低級アルキル、フェニル−低級アルキ
ル、シクロアルキル、又はフェニルである〕、例えば２
−トリ−低級アルキルシリル−エトキシカルボニル、２
−トリ−メチルシリルエトキシカルボニルもしくは２−
（ジ−ｎ−ブチル−メチルシリル）−エトキシカルボニ
ル、又は２−トリアリールシリルエトキシカルボニル、
例えば２−トリフェニルシリルエトキシカルボニルであ
る。
好ましい保護されたカルボキシル基は、tert−低級アル
コキシカルボニル、例えばtert−ブトキシカルボニル、
そして特に場合によっては例えば前記のように置換され
ているベンジルオキシカルボニル、例えば４−ニトロベ
ンジルオキシカルボニル又はジフェニルメトキシカルボ
ニル、そして特に２−（トリメチルシリル）−エトキシ
カルボニルである。
式（Ｉ）の化合物中の塩形成基は、例えば、遊離アミノ
基（R1＝Ｈ）又は遊離カルボキシル基（R2＝Ｈ）であ
る。R1が水素である式（Ｉ）の化合物は、例えば無機
酸、例えば塩酸、硫酸もしくはリン酸、又は適当な有機
カルボン酸もしくはスルホン酸、例えばトリフルオロ酢
酸と共に酸付加塩を形成することができる。R2が水素で
ある式（Ｉ）の化合物は、金属塩又はアンモニウム塩、
例えばアルカリ金属塩もしくはアルカリ土類金属塩、例
えばナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩もしく
はカルシウム塩、又はアンモニアもしくは適当な有機ア
ミンとの塩を形成することができ、塩の形成のために特
に適当なものは、脂肪族、脂環族、脂環−脂肪族又は芳
香脂肪族の第一級、二級又は三級モノ−、ジー又はポリ
−アミン、並びに複素環塩基、例えば低級アルキルアミ
ン、例えばトリエチルアミン、ヒドロキシ−低級アルキ
ルアミン、例えば２−ヒドロキシエチルアミン、ビス−
（２−ヒドロキシエチル）−アミン、２−ヒドロキシ−
エチル−ジエチルアミン又はトリ−（２−ヒドロキシエ
チル）−アミン、カルボン酸の塩基性脂肪族エステル、
例えば４−アミノ−安息香酸２−ジエチルアミノエチ
ル、低級アルキレンアミン、例えば１−エチルピペリジ
ン、シクロアルキルアミン、例えばジシクロヘキシルア
ミン、又はベンジルアミン、例えばN,N′−ジベンジル
エチレンジアミン、さらにピリジンタイプの塩基、例え
ばピリジン、コリジン又はキノリンである。
R1及びR2が水素である式（Ｉ）の化合物は内部塩を形成
することができる。
これらの塩は、特に、R1及び／又はR2が水素である式
（Ｉ）の化合物の単離又は精製のために使用することが
できる。
R2が水素でありそしてR1がアミノ保護基である式（Ｉ）
の化合物の反応性カルボン酸誘導体は特に、反応性活性
化エステル又は反応性無水物、さらには反応性環状アミ
ドである。
酸の活性化エステルは特に、エステル化基の連結炭素原
子において不飽和のエステル、例えばビニルエステル
形、例えば実際のビニルエステル（例えば、対応するエ
ステルと酢酸ビニルとのエステル交換により得られる；
活性化ビニルエステル法）、カルバモイルビニルエステ
ル（例えば、対応する酸をイソキサゾリウム試薬で処理
することにより得られる;1,2−オキサゾリウム法又はWo
odward法）、又は１−低級アルコキシビニルエステル
（例えば、対応する酸を低級アルコキシアセチレンで処
理することにより得られる；エトキシセチレン法）、又
はアミジノ型のエステル、例えばN,N′−ジ−置換アミ
ジノエステル（例えば、対応する酸を適当なN,N′−ジ
置換カルボジイミド、例えばN,N′−ジシクロヘキシル
カルボジイミドで処理することにより得られる；カルボ
ジイミド法）、又はN,N′−ジ置換アミジノエステル
（例えば、対応する酸をN,N−ジ−置換シアナミドで処
理することにより得られる；シアナミド法）、適当なア
リールエステル、特に、吸電子性置換基により適当に置
換されたフェニルエステル（例えば、対応する酸を適当
に置換されたフェノール、例えば４−ニトロフェノー
ル、４−メチルスルホニル−フェノール、2,4,5−トリ
クロロフェノール、2,3,4,5,6−ペンタクロロフェノー
ル、2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル又は４−フェ
ニルジアゾフェニルにより、縮合剤、例えばN,N′−ジ
シクロヘキシル−カルボジイミドの存在下で処理するこ
とにより得られる；活性化アルールエステル法）、シア
ノメチルエステル（例えば、対応する酸を塩基の存在下
でクロロアセトニトリルで処理することにより得られ
る；シアノメチル法）、チオエステル、特に、場合によ
っては例えばニトロにより置換されているフェニルチオ
エステル（例えば、対応する酸を場合によっては例えば
ニトロにより置換されているチオフェノールで処理する
ことにより、特に無水物法又はカルボジイミド法により
得られる：活性化チオエステル法）、アミノ又はアミド
エステル（例えば、対応する酸を、Ｎ−ヒドロキシ−ア
ミノ−又はＮ−ヒドロキシ−アミド−化合物、例えばＮ
−ヒドロキシ−サクシンイミド、Ｎ−ヒドロキシ−５−
ノルボルネン−2,3−ジカルボキシミド、Ｎ−ヒドロキ
シ−ピペリジン、Ｎ−ヒドロキシ−フタリミド、Ｎ−ヒ
ドロキシ−ベンゾトリアゾール又は3,4−ジヒドロー３
−ヒドロキシ−４−オキソ−1,2,3,−ベンゾトリアジン
で処理することにより、例えば無水物法又はカルボジイ
ミド法により得られる；活性化Ｎ−ヒドロキシエステル
法）、あるいはシリルエステル（例えば、対応する酸を
シリル化剤、例えばヘキサメチルジシラザンで処理する
ことにより得られ、そしてヒドロキシルとは反対するが
アミノ基とは反対しない）である。
酸の無水物は対称無水物であることができ、あるいは好
ましくはこれらの酸の混合無水物であることができ、そ
して例えば、無機酸との無水物、例えば酸ハロゲン化
物、特に酸塩化物（例えば、対応する酸を塩化チオニ
ル、五塩化リン又は塩化オキサリルで処理することによ
り得られる；酸塩化物法）、アジド（例えば、対応する
酸のエステルから対応するヒドラジドを介して、それを
硝酸で処理することにより得られる；アジド法）、炭酸
のモノ誘導体、例えば対応するエステル、例えば炭酸の
モノ−低級アルキルエステルとの無水物（例えば、対応
する酸を低級アルキルハロゲノ例えばクロロホルメート
により、又は１−低級アルコキシカルボニル−２−低級
アルコキシ−1,2−ジヒドロ−キノリン、例えば１−低
級アルコキシカルボニル−２−エトキシ−1,2−ジヒド
ロキノリンで処理することにより得られる；混合０−ア
ルキル炭酸無水物法）、又はジハロゲン化特にジ塩素化
リン酸との無水物（例えば、対応する酸をオキシ塩化リ
ンで処理することにより得られる；オキシ塩化リン
法）、有機酸との無水物、例えば有機カルボン酸との混
合無水物（例えば、対応する酸を、場合によっては置換
されている低級アルカン−又はフェニルアルカン−カル
ボニルハライド、例えばフェニルアセチル、ピバロイル
又はトリフルオロアセチルクロリドで処理することによ
り得られる；混合カルボン酸無水物法）、又は有機スル
ホン酸との無水物例えば、対応する酸の塩、例えばアル
カリ金属塩を適当な有機スルホニルハライド、例えば低
級アルカン−又はアリール、例えばメタン−又はｐ−ト
ルエンスルホニルクロリドで処理することにより得られ
る；混合スルホン酸無水物法）、あるいは対称無水物
（例えば、対応する酸をカルボジイミド又は１−ジエチ
ルアミノプロピンの存在下で縮合せしめることにより得
られる；対称無水物法）である。
適当な環状アミドは特に、芳香族性の５−員ジアザ環と
のアミド、例えばイミダゾール類、例えばイミダゾール
とのアミド（例えば、対応する酸をN,N′−カルボニル
ジイミダゾールで処理することにより得られる；イミダ
ゾリド法）、又はピラゾール、例えば3,5−ジメチル−
ピラゾールとのアミド（例えば、酸ヒドラジドを介し
て、アセチルアセトンで処理することにより得られる；
ピラゾリド法）である。
この明細書においてアミノ酸について用いられる略号は
一般に慣用されているものである。すなわち、Aspはア
スパラギン酸を、Asnはアスパラギンを、Glnはグルタミ
ンを、Serはセリンを、Leuはロイシンを、Glyはグリシ
ンを、Lysはリジンを、Hisはヒスチジンを、Proはプロ
リンを、Tyrはチロシンを、Trpはトリプトファンを、Ar
gはアルギニンを、Valはバリンを、そしてIleはイソロ
イシンをそれぞれ意味する。
国際的に認められた命名法に従い、本明細書におけるア
ミノ酸の略号、例えば上記の略号は有離酸を意味し、そ
して特にことわらない限りＬ体を意味する。α−アミノ
基は略号の左側に位置し、そしてカルボキシル基は右側
に位置する。α−アミノ基中の１個の水素原子の不存在
はアミノ酸略号の左側のダッシュにより表わし、そして
２個の水素原子の不存在は左側の２重ダッシュにより表
わす。カルボキシル基中のHO基の不存在は右側のダッシ
ュにより表わす。アミノ酸の側鎖の置換基は、アミノ酸
記号のすぐ後のカッコ内に示される。すなわち、例え
ば、Ｚ−Asn（Trt）−OHは次の式（Ia）： により表わされる化合物を意味する。
ペプチド合成において式（Ｉ）の化合物の使用により達
成される利点は実施例の部で説明する。すなわち、例え
ば、Gln残基が製造中にトリチルにより保護される場
合、Ｈ−Gln−Gln−Gln−Gln−Gln−Ser−Leu−Gly−OH
は92％の純度の粗生成物として得られる。Merrifield合
成の間にこの保護を用いなければ、粗生成物は上記のよ
うに92％ではなく、わずか30％の目的生成物を含有して
いる。
一方において、Asn及びGlnのカルバモイル基のトリチル
保護を用いてのFmoc−Lys−Gln−His−Asn−Pro−Lys−
Tyr−Gln−Trp−Asn−OHの合成から得られた粗生成物
（粗生成物Ａ）、及び他方において2,4,6−トリメトキ
シ−ベンジル保護を用いて得られた対応する粗生成物
（粗生成物Ｂ）は、粗生成物Ａ中に95％の目的生成物を
有し、そして粗生成物Ｂ中にわずか約８％の目的生成物
を有していた。
式（Ｉ）の化合物は、グルタミン残基及び／又はアスパ
ラギン残基を含有する任意の目的ペプチドの合成におけ
る構成ブロックとして、又はこれらの構成ブロックを製
造するための中間体として用いることができる。R1がア
ミノ保護基、例えば特に９−フルオレニル−メトキシカ
ルボニル又はtert−ブトキシカルボニルであり、R2が水
素であり、そしてR3がトリフェニルメチル、４−モノメ
トキシ−トリチル又は4,4′−ジメトキシ−トリチルで
ある式（Ｉ）の化合物、及びその反応性カルボン酸誘導
体がMerrifieldペプチド合成のために使用される。
式（Ｉ）の好ましい化合物は、R1がベンジルオキシカル
ボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル、アリル
オキシカルボニル又はtert−ブトキシカルボニルであ
り、R2が水素であり、そしてR3がトリフェニルメチルで
ある化合物である。
式（Ｉ）の特に好ましい化合物は実施例に記載する化合
物である。
上に詳細に記載した反応性カルボン酸誘導体の内、特に
挙げるべきものは、2,4,5−トリクロロ−フェニルエス
テル、ペンタフルオロ−フェニルエステル、１−ヒドロ
キシベンゾトリアゾールとのエステル、3,4−ジヒドロ
−３−ヒドロキシ−４−オキソ−1,2,3−ベンゾトリア
ジンとのエステル、又はＮ−ヒドロキシ−５−ノルボル
ネン−2,3−ジカルボキシド、酸塩化物、及び対称無水
物、特に、前に好ましいものとして指摘した化合物の反
応性カルボン酸誘導体である。
驚くべきことに、本発明のアミド保護基は、アミノ保護
基としてのR3又はベンジルオキシカルボニル又はカルボ
キシル保護基としてのベンジルが容易に除去される条件
下で、触媒的水素化の間に安定である。保護基R3は、例
えば、トリフルオロ酢酸／水/1,2−エタンジチオール
（90:5:5）により、室温〜＋50℃の範囲の温度、例えば
＋30℃において除去することができる。
式（Ｉ）の化合物はそれ自体既知の方法で製造される。
本発明の製造方法は、 ａ）次の式（II）： （式中、R4は水素又は反対条件下で安定なアミノ保護基
であり、そしてｎ及びR2は前記の意味を有する） で表わされる化合物を、次の式（III）： R3−OH （III） （式中R3は前記の意味を有する） で表わされる化合物と反対せしめ、そして得られた化合
物から式（Ｉ）の目的最終生成物の部分を構成しない保
護基を除去し；あるいは ｂ）R1がアミノ保護基である式（Ｉ）の化合物を製造す
るために、次の式（IV）： （式中、R2及びR3は前記の意味を有する） で表わされる化合物にアミノ保護基を導入し；あるいは ｃ）次の式（Ｖ）： （式中、ｎは前記の意味を有し、R5は反対条件下で安定
なアミノ保護基であり、そしてR6は反応条件下で安定な
カルボキシ保護基である） で表わされる化合物を、次の式（VI）： R3−NH2 （式中，R3は前記の意味を有する） で表わされる化合物と反対せしめ、そして得られた化合
物から式（Ｉ）の目的最終生成物の部分を構成しない保
護基を除去し； そして所望により、方法ａ）,b）、又はｃ）のいずれか
を行った後、塩形成基を有する式（Ｉ）の得られる化合
物をその塩に転換し、又は得られる塩を遊離化合物に転
換し、又はR2が水素でありそしてR1がアミノ保護基であ
る式（Ｉ）の得られる化合物を反応性カルボン酸誘導体
に転換する； ことを特徴とする。
方法ａ） 方法ａ）は適当な有機溶剤中で、例えば酢酸中で、触媒
量の無水強ルイス酸、例えば三化硼素、トリフルオロメ
タンスルホン酸又は好ましくは硫酸の存在下で、そして
脱水剤、例えば無水酢酸の存在下で、約０℃〜＋100℃
の範囲の温度において、好ましくは室温（約20℃）〜＋
70℃の間の温度において、例えば＋50℃において行われ
る。R4が水素である場合、R4がアミノ保護基である場合
よりも多くの、例えば1.1等量の無水硫酸を用いるのが
好都合であり、そして反応は特に式（II）の出発化合物
中のR4が水素でありそしてｎが１である場合に約＋60℃
において好適に行われる。
アミノ保護基R4は酸性条件下で安定なアミノ保護基、例
えばアリルオキシカルボニル、トリフルオロアセチル、
又は好ましくはベンゾイルカルボニルもしくは９−フル
オレニル−メトキシカルボニルである。
式（Ｉ）の目的最終生成物においてR1及び／又はR2が水
素である場合、保護基R4及び／又はR2を除去することが
必要である。
ほとんどのカルボキシ保護基R2が反応条件下ですでに除
去される。安定なカルボキシ保護基は例えばメチル、エ
チル又はアリルだけであり、これらは例えば塩基で触媒
される加水分解により除去することができる。
アミノ保護基R4としてのトリフルオロアセチル基は穏和
なアルカリ性加水分解により、例えばアンモニア水溶
液、水酸化ナトリウムもしくは水酸化バリウム、又は塩
基性イオン交換樹脂を用いて除去される。
アミノ保護基R4としてのベンジルオキシカルボニルは水
素化により、木炭上パラジウム触媒の存在下、水性メタ
ノール性塩酸溶液中室温にて、そして大気圧下で除去さ
れる。
アミノ保護基R4としての９−フルオレニル−メトキシカ
ルボニルは室温にてピペリジン／ジメチルアセタミド
（1:4）を用いて除去される。
方法ａ）における収率は理論値の約60〜95％である。
方法ｂ） 方法ｂ）は適当な、場合によっては水性の、有機溶剤又
は溶剤混合物中で、約０℃〜＋80℃の範囲の温度、好ま
しくは室温〜＋50℃の範囲の温度において行われ、これ
を懸濁状で行うことができる。すなわち、例えば、９−
フルオレニル−メトキシカルボニルは、アミノ保護基R1
として、式（IV）の出発化合物を有機溶剤、例えばテト
ラヒドロフラン又はジオキサン中で、水及び無機塩基、
例えば炭酸水素ナトリウム又は水酸化ナトリウムの存在
下で、そして所望により三級有機アミノ、例えばトリエ
チルアミンの存在下で、９−フルオニルメチルＮ−サク
シンイミジルカルボネートと反応せしめることにより導
入することができる。アミノ保護基R1としてのtert−ブ
トキシカルボニルは、例えば、90％濃度の水性テトラヒ
ドロフラン中で、トリエチルアミンの存在下で室温にて
当モル量のジ−tert−ブチルジカルボネートにより導入
することができる。
方法ｂ）の収率は理論量の約90〜99％である。
方法ａ）と対比して、方法ｂ）は任意の所望のアミノ保
護基R1を導入することを可能にする。
方法ｃ） 方法ｃ）は、適当な有機溶剤、例えば1,2−ジクロロエ
タン中で、−20℃〜＋70℃の範囲の温度において、例え
ば０℃において、そして好ましくは保護ガスのもとで、
例えばアルゴン雰囲気下で行われる。このために、例え
ば１−クロロ−N,N,2−トリメチル−プロプ−１−エニ
ルアミンによる式（Ｖ）の出発物質中の遊離カルボキシ
ル基のその場での活性化が必要である。
方法ｃ）における収率は理論量の約40〜70％である。
反応条件下で安定なアミノ保護基R5の例は９−フルオレ
ニル−メトキシカルボニルである。反応条件下で安定な
カルボキシ保護基R6の例はベンジルである。
式（Ｉ）の目的最終生成物の部分を構成しないカルボキ
シ保護基及び／又はアミノ保護基は、それ自体既知の方
法で、例えば加溶媒分解、特に加水分解、アルコール分
解又は酸分解により、あるいは還元により、例えば水素
化又は化学還元により行われ、適当であれば段階的に又
は同時に行われ、酸素的方法を用いることも可能であ
る。
特に、ベンジル基R6は木炭上パラジウム触媒の存在下で
室温にて水素化により除去することができ、この場合９
−フルオレニル−メトキシカルボニルR5及び保護基R3は
維持される。９−フルオレニル−メトキシカルボニルR5
は方法ａ）に記載したように除去することができる。保
護基の除去収率は理論量の約90〜99％である。
式（Ｉ）の化合物は方法ａ）により、そして特にａ）に
より製造される。
追加の操作 塩形成基を有する式（Ｉ）の化合物の塩はそれ自体既知
の方法により製造することができる。すなわち、酸基を
有する式（Ｉ）の化合物の塩は適当な塩基との反応によ
り、例えば適当な金属化合物、例えば適当な有機カルボ
ン酸のアルカリ金属塩、例えばα−エチルカプロン酸の
ナトリウム塩、又は適当な無機アルカリ金属塩もしくは
アルカリ土類金属塩、特に、好ましくは揮発性の弱酸に
由来するそれ、例えば炭酸水素ナトリウム、又はアンモ
ニアもしくは適当な有機アミンとの塩であり、この場
合、化学量論的量又はわずかに過剰量の塩形成剤を用い
るのが好ましい。式（Ｉ）の化合物の酸付加塩は、常法
に従って、例えば酸で処理することにより又は適当な陰
イオン交換試薬で処理することにより得られる。例えば
遊離カルボキシル基及び遊離アミノ基を含有する式
（Ｉ）の化合物の内部塩は、例えば、塩、例えば酸付加
塩を弱塩基により等電点に中和することにより、又は液
体イオン交換剤による処理することにより生成せしめる
ことができる。塩の形成は実質的に定量的に行われる。
塩は常法に従って実質上定量的に遊離化合物に転換する
ことができ、例えば金属塩及びアンモニウム塩は例えば
適当な酸で処理することにより、そして酸付加塩は例え
ば適当な塩基性剤で処理することにより遊離化合物に転
換することができる。
R2が水素である式（Ｉ）の化合物の反応性カルボン酸誘
導体は、反応性カルボン酸誘導体の詳細な特徴付けのた
めにすでに記載したようにして製造される。この目的の
ため、例えばR1が適当なアミノ保護基でありそしてR2が
水素である式（Ｉ）の化合物から出発することができ
る。反応性カルボン酸誘導体の収率は理論量の約85〜98
％である。
保護基の除去及び追加の工程を含めての前記の方法は特
にことわらない限り、それ自体既知の方法により、例え
ば、好ましくは不活性溶剤及び稀釈剤の存在下で、必要
により縮合剤又は触媒の存在下で、低温又は高温におい
て、例えば約−20℃〜約150℃、特に０℃〜＋70℃、好
ましくは約＋10℃〜約＋50℃の温度において、主として
室温で、適当な容器中でそして必要により不活性ガス、
例えば窒素雰囲気下で行われる。
分子中に存在するすべての置換基を考慮して、所望によ
り、例えば容易に加水分解する基の存在下では、特に穏
和な反応条件、例えば短い反応時間、低濃度での穏和な
酸性剤及び塩基性剤、化学量論的量、適当な触媒、溶
剤、温度及び／又は圧力条件の選択が必要である。
本発明はまた、方法の任意の段階で中間体として得られ
る化合物から出発して残りの工程を行い、あるいは工程
を任意の段階で停止せしめ、あるいは出発物質を反応条
件下で生成せしめ、又は反応性誘導体又は塩の形で使用
する態様をも含む。これは好ましくは特に好ましいとし
て前に記載した化合物を導く出発物質から出発するのが
特に好ましい。
本発明はまた、例えばMerrifield合成のごとき、特に固
相でのペプチドの合成のための式（Ｉ）の化合物の使
用、特にR1がアミノ保護基、例えばベンジルオキシカル
ボニル、アリルオキシカルボニル、tert−ブトキシカル
ボニル、又は特に９−フルオレニル−メトキシカルボニ
ルであり、R2が水素であり、そしてR3が４−モノメトキ
シトリチル、4,4′−ジメトキシトリチル、又は特にト
リフェニルメチル（トリチル）である式（Ｉ）の化合物
の使用、及びこれらの化合物の反応性カルボン酸誘導体
の使用に関する。
本発明はまた、次の式（VII）： （式中、ｎは１又は２であり、R3はトリフェニルメチ
ル、４−モノメトキシ−トリチル又は4,4′−ジメトキ
シ−トリチルである） で表わされる二価基を少なくとも１個含有する物質、そ
の製造方法、及びペプチド合成のためのその使用に関す
る。これらの物質は主としてペプチド誘導体であり、例
えばペプチド合成における中間体として製造される。従
って、これらのペプチド誘導体は合成樹脂に結合するこ
とができる。
次に、実施例により本発明を具体的に説明するが、これ
により本発明の範囲を限定するものではない。温度は℃
で示す。
略号 But＝tert−ブチル Boc＝tert−ブトキシカルボニル Bzl＝ベンジル Dhbt＝3,4−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−
1,2,3−ベンゾトリアジニル FAB−MS＝ファスト・アトム・ボンバードメント・質量
スペクトル Fmoc＝９−フルオレニル−メトキシカルボニル HPLC＝高圧液体クロマトグラフィー conc＝濃厚 Pfp＝ペンタフルオロフェニル Pmc＝2,2,5,7,8−ペンタノチル−クロマン−６−スルホ
ニル m.p.＝融点 Tcp＝2,4,5−トリクロロフェニル THF＝テトラヒドロフラン Tmob＝2,4,6−トリメトキシ−ベンジル Trt＝トリチル（トルフェニル−メチル） Ｚ＝ベンジルオキシカルボニル 実施例1. Ｚ−Asn（Trt）−OH 13.3g（50mmol）のＺ−Asn−OH,26g（100mmol）のトリ
フェニルメタノール、150mlの酢酸及び9.5ml（100mmo
l）の無水酢酸の混合物を50℃にて15分間攪拌する。0.2
5mlの濃硫酸の添加が５分間後に透明な黄色溶液をもた
らす。1.5時間後、これを冷却し、そして1.5lの氷水に
そそぐ。沈澱を濾取し、水で十分に洗浄し、そして約50
0mlの酢酸エチルに溶解する。有機相を飽和塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして
減圧条件下で250gに濃縮する。250mlのヘキサンを添加
することによりＺ−Asn（Trt）−OHが結晶化する。融点
195℃〜196℃。
実施例2. Ｈ−Asn（Trt）−OH 120mlのメタノール及び20mlの1M塩酸水溶液中10.2g（20
mmol）のＺ−Asn（Trt）−OHの懸濁液を、木炭上10％パ
ラジウム0.5gの存在下で室温にて大気圧下で水素化し
た。水素の取り込みが完了した後、触媒を濾去し、そし
てメタノールで十分に洗浄し、そして濾液を減圧濃縮し
て100gの重量にした。2.8mlのトリエチルアミン（20mmo
l）の添加の後さらに50gに濃縮し、そして結晶性沈澱を
濾取し、そしてメタノールと水との1:1混合物で洗浄し
そして次に水により塩素がなくなるまで洗浄した。Ｈ−
Asn（Trt）−OHは0.5モルの水を含有し、そして220℃よ
り高温で徐々に分解する。
実施例3. Fmoc−Asn（Trt）−OH 20mlのテトラヒドロフラン、10mlの水及び1.4ml（10mmo
l）のトリエチルアミン中3.8g（10mmol）のＨ−Asn（Tr
t）−OHの激しく攪拌された溶液に、3.4g（10mmol）の
９−フルオレニルメチルＮ−サクシンイミジルカルボネ
ートを加え、そして同時に1.4mlのトリエチルアミンをp
Hが8.3〜8.7になるように添加する。20分間後、混合物
を氷浴及び酢酸エチル中で冷却し、そして25mlの1M炭酸
水素ナトリウム水溶液を加える。硫酸基がなくなるまで
有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、そして
減圧下で約50gに濃縮する。ジイソプロプルエーテルを
徐々に添加することによりFmoc−Asn（Trt）−OHを結晶
化させることができる。融点210℃〜211℃（分解）。
実施例4. Fmoc−Asn（Trt）−OH 30mlの酢酸及び1.9ml（20mmol）の無水酢酸中3.54g（10
mmol）のFmoc−Asn−OH及び5.2g（20mmol）のトリフェ
ニルメタノールの懸濁液を50℃にて15分間攪拌し、そし
て次に5mlの酢酸中0.05mlの濃硫酸の溶液を加えた。50
℃にて約１時間の後溶液が生成し、そして1.5時間後沈
澱が生成し始めた。３時間後、この懸濁液に200mlの氷
冷水を氷冷しながら徐々に加え、混合物を短時間攪拌
し、そして沈澱を濾取しそして水で十分に洗浄した。湿
った物質を酢酸エチルに溶解し、そして有機相を塩化ナ
トリウム飽和水溶液により洗浄し、硫酸ナトリウムで乾
燥し、そして減圧下で濃縮した。生成物が結晶化を始め
る前に溶液を1,2−ジクロロエタンで稀釈し、再び濃縮
し、そして50gのシリカゲルを通して濾過した。過剰の
トリフェニルメタノールを200mlの1,2−ジクロロエタン
で溶出し、そして次にFmoc−Asn（Trt）−OHを500mlず
つの98:2及び96:4の1,2−ジクロロエタン／メタノール
混合物で溶出した。蒸発乾固後の残渣を10mlのテトラヒ
ドロフランに溶解し、30mlの酢酸エチルを加え、溶液を
20gに濃縮し、そしてジイソプロピルエーテルを加えて
結晶化した。こうして得られるFmoc−Asn（Trt）−OHの
融点は210℃〜211℃（分解）である。
実施例5. Fmoc−Asn（Trt）−OH メタノールと水の9:1混合物10ml中0.69gのFmoc−Asn（T
rt）−OBzlの溶液を、木炭上10％パラジウム触媒0.07g
の存在下で室温にて常圧下で、出発物質が薄層クロマト
グラム（溶剤：トルエン／アセトン1:1混合物）中でも
はや見えなくなるまで水素化した。濾過によって触媒を
除去した後の濾液を蒸発せしめ、そして残渣を1,2−ジ
クロロエタン／メタノール96:4混合物に溶解し、そして
小シリカゲルを通して濾過した。濾液を蒸発させてFmoc
−Asn（Trt）−OHを得た。融点210℃〜211℃（分解）。
出発物質は次の様にして得ることができる。
段階5.1 1.12gのＨ−Asp−OBzl（5mmol）及び1.05gの炭酸水素ナ
トリウムをジオキサン／水9:1混合物25mlに懸濁し、1.8
5gの固体９−フルオレニルメチルＮ−サクシンイミジル
カルボネートを加え、そしてこの混合物を室温にて15時
間攪拌する。溶液を濃縮し、そして次に酢酸エチルで稀
釈し、有機相を0.5M硫酸水素ナトリウム水溶液及び水で
洗浄し、そして硫酸ナトリウムで乾燥しそして濃縮し
た。石油エーテルを添加した後Fmoc−Asp−OBzlが結晶
化した。
段階5.2 0.8mlの１−クロロ−N,N,2−ジメチル−プロプ−１−エ
ニルアミン（A.Devosら、J.Chem.Soc.Chem.Commun.Vol
1979、1180頁）を、20mlの1,2−ジクロロエタン中2.09g
のFmoc−Asp−OBzlの攪拌された溶液にアルゴン雰囲気
下で加える。10分間の後、4mlの1,2−ジクロロエタン中
1.2gのトリチルアミンの溶液を加え、そして次にこの混
合物を２時間攪拌し、酢酸エチルで稀釈し、そして水で
洗浄した。有機相を乾燥しそして蒸発させた。残渣をク
ロロホルムに溶解し、そして250gのシリカゲル上でクロ
マトグラフ処理した。Fmoc−Asn（Trt）−OBzlを含有す
る画分を一緒にし、そして蒸発せしめ、生成物が非晶質
泡状物として得られた。
実施例6. Ｚ−Gln（Trt）−OH 1.1mlの無水酢酸（12mmol）を、30mlの酢酸中2.8g（10m
mol）のＺ−Gln−OH及び5.2g（20mmol）のトリフェニル
メタノールの混合物に加え、そしてこの混合物を50℃に
て15分間攪拌した。次に0.05ml（約1mmol）の濃硫酸を
加え、数分間後に透明な黄色溶液が生じた。２時間後、
溶液を、攪拌及び氷冷しながら、500mlの水に滴加し、
そして沈澱を濾取しそして水で十分に洗浄した。湿った
物質を酢酸エチルに溶解し、水相を分離し、そして有機
相を塩化ナトリウム飽和水溶液で一回洗浄し、硫酸ナト
リウムで乾燥し、そして減圧下で20gに濃縮した。ヘキ
サンを少しずつ添加することによりＺ−Gln（Trt）−OH
が結晶化した。融点161℃〜162℃。
実施例7. Ｈ−Gln（Trt）−OH メタノール／水9:1混合物180ml及び20mlの1N塩酸水溶液
中10.4g（20mmol）のＺ−Gln（Trt）−OHの懸濁液を、
室温にて常圧下で、木炭上60％パラジウム触媒0.5gの存
在下で水素化し、水素の取り込みが完了した後出発物質
が溶解した。触媒を濾取し、そしてメタノールで洗浄
し、濾液を200gに濃縮し、そして60℃にて2.8ml（20mmo
l）のトルエチルアミンを加え、この後ずぐに生成物は
結晶化し始めた。混合物を100gに濃縮し、そしてある時
間にわたり約４℃に保持し、そして結晶を濾取し、そし
て塩素がなくなるまでメタノールと水との混合物で洗浄
した。こうして得られるＨ−Gln（Trt）−OHは0.5モル
の水を含有し、そして融点は233℃（分解）である。
実施例8. Fmoc−Gln（Trt）−OH 20mlのテトラヒドロフラン及び10mlの1N水酸化ナトリウ
ム水溶液中4g（10mmol）のHGln（Trt）−OHの半水和物
の激しく攪拌された溶液に、3.4g（10mmol）の９−フル
オレニルメチルＮ−サクシンイミジルカーボネートを添
加し、そして同時に1.4mlのトリエチルアミンを滴加し
てpHを約8.5とした。20分間後、この混合物を氷浴中で
冷却し、酢酸エチル層で覆い、そして25mlの1M硫酸水素
ナトリウム水溶液によりpH2〜2.5に酸性化した。有機相
を水で中性になるまで洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、そして減圧下で30gに濃縮した。35mlのジイソプロ
ピルエーテルを少しずつ添加することにより生成物の結
晶化を誘導した。長時間冷却した後、結晶物質を濾取
し、そして酢酸エチル／ジイソプロピルエーテル1:4混
合物中で１回そしてジイソプロピルエーテルで３回洗浄
した。高真空下60℃にて長時間乾燥した後でさえFmoc−
Gln（Trt）−OHはなお0.5モルのジイソプロピルエーテ
ルを含有している。融点125℃より高い（ジイソプロピ
ルエーテルを喪失しながら徐々に融解する）。
実施例9. Fmoc−Gln（Trt）−OH 300ml（20mmol）の酢酸中7.4gのFmoc−Gln−OH及び10.4
g（40mmol）のトリフェニルメタノールの混合物を100℃
にて10分間攪拌した。0.1mlの濃硫酸を添加した後、100
℃にてさらに15分間攪拌して透明な黄色溶液を得た。こ
れを60℃にて減圧下で蒸発せしめ、そして次に残渣を減
圧下で10分間乾燥させた。固体残渣を60mlの酢酸に60℃
にて溶解し、60℃に20分間保持し、次に2ml（20mmol）
の無水酢酸を加え、そして60℃にて１時間後、この混合
物を減圧下で蒸発させた。油状残渣を60℃にて10分間乾
燥させ、次に100mlの酢酸に溶解し、そして500mlの氷冷
水に滴加した。沈澱を濾取し、水で十分に洗浄し、そし
て酢酸エチル中に溶解し、水相を分離し、そして有機相
を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄した。有機溶液を硫
酸ナトリウムで乾燥し、そして次に蒸発乾燥し、そして
残渣を50mlの1,2−ジクロロエタンに溶解し、そして100
gのシリカゲルに適用し、そして1,2−ジクロロエタン、
及び２％そして次に４％のメタノールを含有する1,2−
ジクロロエタンにより溶出した。Fmoc−Gln（Trt）−OH
を含有する画分を減圧下で蒸発せしめ、そして生成物を
酢酸エチルとジイソプロピルエーテルとの混合物から結
晶化する。融点125℃より高い。
実施例10. Ｈ−Gln−Gln−Gln−Gln−Gln−Ser−Leu−
Gly−OH ペプチドをMerrifield固相合成により２回、１つの合成
ではFmoc−Gln−OHを用い、他方ではFmoc−Gln（Trt）
−OHを用いて調整した。
Novabiochem（スイス、Ｌufelfingen）から供給され
た1gのいわゆるFmoc−Gly−ｐ−ベンジルオキシベンジ
ルエステル−ポリスチレン樹脂（１％架橋）〔アミノ基
が９−フルオレニル−メトキシカルボニル（Fmoc）によ
り保護されているグリシンのカルボキシル基が４−メト
キシ−ベンジルアルコールによりエステル化されてお
り、メトキシ基の炭素原子がポリスチレン樹脂の芳香族
環に連結されており、該樹脂ジビニルベンゼンにより１
％架橋されておりそして同時に支持体材料として役立
つ〕から出発してMerrifield合成によりペプチド分子を
組立てた。アミノ保護基（本件の場合Fmoc基）の除去と
Ｎ−Fmoc保護されたアミノ酸化合物のカップリングを交
互に行うのに適した自動ペプチド合成装置を用いた。第
一段階において、Fmoc−Gly−ｐ−ベンジルオキシベン
ジルエステル−ポリスチレン樹脂中のFmoc保護基を除去
し、そしてこうして得られたＨ−Gly−ｐ−ベンジルオ
キシベンジルエステル−ポリスチレン樹脂にFmoc−Leu
−OHをカップリングさせ、そして次に更なるＮ−Fmoc−
アミノ酸を段階的にカップリングさせ、順々に、Fmoc−
Ser（But）−OHそして次にFmoc−Gln−OH,Fmoc−Gln−O
H,Fmoc−Gln−OH,Fmoc−Gln−OH and Fmoc−Gln−OH、
又はFmoc−Gln（Trt）−OH,Fmoc−Gln（Trt）−OH,Fmoc
−Gln（Trt）−OH,Fmoc−Gln（Trt）−OH及びFmoc−Gln
（Trt）−OHを各場合に得られたペプチド／樹脂中間体
にカップリングさせる。個々の段階は次のスキームに従
って、各場合に約10mlの洗浄液を用い、個々の操作は特
にことわらない限り室温において行い、そして各場合に
おいて反応混合物は規則的に振とうした。
1gの前記のFmoc−Gly/樹脂出発材料から出発して、次の
工程段階を行い各回に各段階を反復した。
1.イソプロパノールにより0.8分間１回洗浄； 2.減圧下で脱気した（ジメチルアミン不含有）ジメチル
アセタミドにより0.5分間ずつ３回洗浄； 3.ピペリジンとジメチルアセタミドとの1:4混合物によ
り1.7分間ずつ５回処理（Fmoc保護基の除去）； 4.イソプロパノールにより0.8分間１回洗浄； 5.減圧下で脱気した（ジメチルアミン不含有）ジメチル
アセタミドで0.5分間ずつ５回洗浄； 6.イソプロパノールにより0.8分間１回洗浄； 7.ピペリジンとジメチルアセタミドとの1:4混合物で1.7
分間ずつ３回処理（Fmoc保護基の完全な除去のため）； 8.減圧下で脱気した（ジメチルアミン不含有）ジメチル
アセタミドで0.5分間ずつ２回洗浄； 9.イソプロパノールで0.8分間１回洗浄； 10.減圧下で脱気した（ジメチルアミン不含有）ジメチ
ルアセタミドで0.5分間ずつ５回洗浄； 11.インテリム中にすでに作られたカップリング剤の添
加。インテリムは次の様にして得られる:1.4mmolの特定
のFmoc−Ｌ−アミノ酸、1.4mmolの１−ヒドロキシ−1H
−ベンゾトリアゾール及び1.55mmolのジイソプロピルカ
ルボジイミドの4mlのジメチルアセタミド（ジメチルア
ミン不含有）中の混合物を室温に約30分間置き、そして
使用する。カップリング反応自体は室温にて約60分間を
要する。
12.無水酢酸、ピリジン及びジメチルアセタミド（ジメ
チルアミン不含有）の1:1:8混合物により５分間１回ア
セチル化； 13.減圧下で脱気した（ジメチルアミン不含有）ジメチ
ルアセタミドで0.5分間ずつ３回洗浄； 14.イソプロパノールで0.8分間１回洗浄；及び 15.減圧下で脱気した（ジメチルアミン不含有）ジメチ
ルアセタミドで0.5分間２回洗浄。
最終アミノ酸がカップリングした後、上記処理段階１〜
10をFmoc基の除去の目的でもう一度行う。
Fmoc−Gln−OH又はFmoc−Gln（Trt）−OHによる最後の
５カップリング段階の各々の収率を、Fmoc基の各除去に
伴う副産物として生成する１−（９−フルオレニル）−
ピペリジンにより決定した。この目的のため、段階３〜
10からの濾液を一緒にしたものの各々を一定体積に稀釈
し、そしてUV光度法（λmax＝299.8mm、ε＝7,800）に
より評価した。Fmoc−Gln−OHを用いる一連の収量は99
％、97％、98％、49％及び72％であり、そしてFmoc−Gl
n（Trt）−OHを用いた場合のそれは100％、100％、99
％、99％及び100％であった。
トリフルオロ酢酸／水/1,2−エタンジチオール（90:5:
5）混合物約10mlにより８分間処理することにより、樹
脂からペプチドを除去し、反応混合物を濾過し、濾液を
減圧濃縮し、そしてジイソプロピルエーテル／ヘキサン
の1:1混合物によりペプチドを沈澱せしめそして乾燥し
た。トリフルオロ酢酸／水/1,2−エタンジチオールによ
る上記の処理自体がトリチル基（存在する場合）及びte
rt−ブチル基の部分的除去をもたらす。この除去は、ト
リフルオロ酢酸／水/1,2−エタンジオール（90:5:5）中
でペプチドの沈澱を30℃にて30分間加熱することにより
完了した。トリチル保護基を用いての又は用いない合成
からの得られた粗生成物HPLC（カラム:Nucleosil 5C18,
250×4.6mm;移動相:A＝水中0.1％トリフルオロ酢酸;B＝
アセトニトリル中0.1％トリフルオロ酢酸。勾配:O→40
％B/30分間；流速1ml/分；検出:215mm）により調べた。
目的の標記化合物は17.98分間の保持時間を有してい
た。グルタミン残基のトリチル保護を用いる合成からの
粗生成物のHPLCプロフィールは、標記生成物（92％）の
ほかに18.65分の保持時間にシグナル（８％）を示し
た。グルタミン残基のトリチル保護を用いない合成から
の粗生成物のPHLCプロフィールは標記生成物（わずか30
％）のほかに18.38分の保持時間を有するシグナル（70
％）を示した。
実施例11. Ｈ−Arg−Arg−Ser−Asn−Gln−Val−Ser−
Gln−Asn−Tyr−Pro−Ile−Val−Gln−Asn−Ile−Gln−
Gly−Arg−Arg−OH 標記ペプチドを実施例10に記載した合成のスキームによ
り２回調整した。まず、保護されていないFmoc−Asn−O
H及びFmoc−Gln−OHを用い、そして第二にFmoc−Asn（T
rt）−OH及びFmoc−Gln（Trt）−OHを用いた。Fmoc−Ar
g（Pmc）−樹脂（Novabiochem）から出発して次のアミ
ノ酸を逐状縮合させた： Fmoc−Arg（Pmc）,Fmoc−Gly,Fmoc−Gln or Fmoc−Gln
（Trt）,Fmoc−Ile,Fmoc−Asn又はFmoc−Asn（Trt）,Fm
oc−Gln or Fmoc−Gln（Trt）,Fmoc−Val,Fmoc−Ile、F
moc−Pro,Fmoc−Tyr（But）,Fmoc−Asn or Fmoc−Asn
（Trt）,Fmoc−Gln又はFmoc−Gln（Trt）,Fmoc−Ser（B
ut）,Fmoc−Val,Fmoc−Gln or Fmoc−Gln（Trt）,Fmoc
−Asn or Fmoc−Asn（Trt）,Fmoc−Ser（But）,Fmoc−A
rg（Pmc）及びFmoc−Arg（Pmc）。
トリフルオロ酢酸／水/1.2−エタンジチオール（90:5:
5）により８分間Ｎ−末端Fmoc基の除去の後樹脂からペ
プチドを除去し、そして次にトリフルオロ酢酸／水/1,2
−エタンジチオール/4−メチルメルカプトフェノール
（90:5:3:2）により30℃にて90分間残りの保護基を除去
した。合成ａ（トリチル保護を用いる）からの粗生成物
はFAB−MSにおいて2414.1（計算分子量2413.7）に(M+H)
+シグナルをもたらした。両合成（a:Asn及びGlnのため
にトリチル保護を用いる;b:Asn及びGlnのためにトリチ
ル保護を用いない）からの粗生成物のHPLCプロフィール
（カラム:Nucleosil 7C18,125×4.6mm;移動相:A＝水中
0.1％トリフルオロ酢酸;B＝アセトニトリル中0.1％トリ
フルオロ酢酸。勾配:O→90％B/30分間;1.5ml/分検出:21
5mm）を第１図に示す。この図中、横軸に保持時間
（分）を示す。
実施例12. Fmoc−Lys−Gln−His−Asn−Pro−Lys−Tyr
−Gln−Trp−Asn−IH 3.35ml（23.4mmol）の2,6−ジクロロ−ベンゾイルクロ
リド（Fluka）を４回に分けて５時間以内に、60mlのジ
メチルアセタミド中10gのいわゆる４−ベンジルオキシ
ベンジルアルコール−ポリスチレン（0.78mmol OH/g;ジ
ビニルベンゼンにより１％架橋；ポリスチレンのフェニ
ル基は４位において４−ヒドロキシメチルフェニルオキ
シメチルにより置換されている;Novabiochem）、9.3g
（15.6mmol）のFmoc−Asn（Trt）−OH及び3.1ml（38.5m
mol）のピリジンの懸濁液に添加し、そしてこの混合物
を24時間攪拌した。樹脂を濾取し、そしてメタノール及
び1,2−ジクロロエタンにより非常に十分に洗浄した。
樹脂への負荷は0.48mmol/gであった（測光法によるFmoc
の測定）。残留OH基を無水酢酸／ピリジン／ジメチルア
セタミド1:1:8によりアセチル化した後にペプチド合成
を開始した。類似の方法で（Fmoc−Asn（Trt）−OHの代
りにFmoc−Asn（Tmob）−OHを用いて）Fmoc−Asn（Tmo
b）−樹脂を調製した。後者は0.44mmol/gの負荷を有し
ていた。0.5gのFmoc−Asn（Trt）−樹脂（0.24mmolのAs
n）及び0.5gのFmoc−Asn（Tmob）−樹脂（0.22mmolのAs
n）を、実施例10に記載した合成法により次のアミノ酸
1:Fmoc−Trp,Fmoc−Gln（Trt）又はFmoc−Gln（Tmob）,
Fmoc−Tyr（But）,Fmoc−Lys（Boc）,Fmoc−Pro,Fmoc−
Asn（Trt）又はFmoc−Asn（Tmob）,Fmoc−His（Trt）,F
moc−Gln（Trt） or Fmoc−Gln（Tmob）、及びFmoc−Ly
s（Boc）を用いて逐次カップリングさせた。
生ずるペプチド樹脂をトリフルオロ酢酸／ジメチルスル
フィド/1,2−エタンジチオール（77:20:3）と共に15分
間振とうしてペプチドを樹脂から切り離した。次に、残
った保護基をトリフルオロ酢酸／水/1,2−エタンジオー
ル（90:5:5）により室温にて40分間除去した。
一方においてAsn及びGln上のトリチル保護を用いた合成
から生じた粗生成物（粗生成物Ａ）、並びに他方におい
て、Asn及びGln上のTmob保護を用いた合成から生じた粗
生成物（粗生成物Ｂ）をHPLC（カラム:Nucleosil 5C18,
250×4.6mm;移動相:A＝水中0.1％トリフルオロ酢酸;B＝
アセトニトリル中0.1％トリフルオロ酢酸。勾配Ｏ→90
％B/30分間;1ml/分。検出:215mm）により調べた。目的
とする標記生成物は29.8分間の保持時間を有していた。
トリチル保護を用いる合成からの粗生成物（粗生成物
Ａ）のHPLCプロフィールは、標記生成物〔95％;FAB−MS
における(M+H)+＝1565.4（計算分子量:1564.7）のほか
に、30.9分間の保持時間における、 のシグナルを示した。粗生成物Ｂ（Tmob保護）のHPLCプ
ロフィールは、標記化合物（わずか約８％）のシグナル
のほかに、33.7分間の保持時間における、 のシグナル〔FAB−MSにおける(M+H)+＝1745.6;計算分子
量1744.9〕及び他の非常に小さい複数のシグナルを示し
た。
実施例13. Fmoc−Asn（Trt）−OTcp 10mlのテトラヒドロフラン中1.5g（2.51mmol）のFmoc−
Asn（Trt）−OH及び0.54g（2.75mmol）の2,4,5−トリク
ロロ−フェノールの溶液を０℃に冷却した、0.57g（2.7
5mmol）の固体ジシクロヘキシルカルボジイミドを添加
し、そしてこの混合物を０℃にて30分間、室温にて２時
間、そして再び０℃にて30分間攪拌し、そして次に生じ
たジシクロヘキシル尿素を濾去した。60mlのヘキサンを
加えることにより濾液からFmoc−Asn（Trt）−OTcpが結
晶化した。融点133℃〜135℃；▲〔α〕20 D▼＝＋51.1
°（THF）。
実施例14. Fmoc−Gln（Trt）−OTcp 10g（15.1mmol）のFmoc−Gln（Trt）−OH・0.5ジイソプ
ロピルエーテル及び3.26g（16.6mmol）の2,4,5−トリク
ロロ−フェノールを100mlのテトラヒドロフランに溶解
し、そして０℃に冷却した。3.41g（16.6mmol）の固体
ジシクロヘキシルカルボジイミドを添加した後、０℃に
て１時間、室温にて２時間、そして再び０℃にて30分間
攪拌した。結晶化したジシクロヘキシル尿素を濾去し、
750mlの石油エーテルを添加することによりFmoc−Gln
（Trt）−OTcpを濾液からゲルとして沈澱せしめ、そし
て濾取し、乾燥し、そして塩化メチレン／ヘキサンから
結晶化した。融点166℃；▲〔α〕20 D▼＝−16.1°（TH
F）。
実施例15. Fmoc−Asn（Trt）−OPfp 1.5g（2.51mmol）のFmoc−Asn（Trt）−OHを15mlのテト
ラヒドロフランに溶解した。0.51g（2.76mmol）のペン
タフルオロ−フェノールを添加し、この溶液を０℃に冷
却し、そして次に0.57g（2.76mmol）の固体ジシクロヘ
キシルカルボジイミドを添加した。これを０℃にて30分
間、室温にて２時間、そして再び０℃にて30分間攪拌し
た。結晶化したジシクロヘキシル尿素を濾去し、そして
濾液を蒸発乾燥し、そして40mlのジイソプロピルエーテ
ルと共にすりつぶした。粉末状残渣を濾取し、乾燥し、
そして塩化メチレン／石油エーテルから再結晶化し、Fm
oc−Asn（Trt）−OPfpを得た。融点154−156℃；▲
〔α〕20 D▼＝−7.8°（THF）。
実施例16. Fmoc−Gln（Trt）−OPfp 1.5g（2.27mmol）のFmoc−Gln（Trt）−OH・0.5ジイソ
プロピルエーテル及び0.46g（2.5mmol）のペンタフルオ
ロ−フェノールを35mlの酢酸エチルに溶解し、０℃に冷
却し、そして攪拌しながら0.52g（2.5mmol）のジシクロ
ヘキシルカルボジイミドを加えた。この混合物を０℃に
て１時間及び室温にて３時間攪拌し、そして不溶物を濾
去し、そしてテトラヒドロフランにより洗浄した。濾液
を蒸発乾燥し、そして残渣を30mlのテトラヒドロフラン
に溶解した。攪拌しながら石油エーテルを徐々に添加し
てFmoc−Gln（Trt）−OPfpを結晶化させた。融点185℃
〜187℃；▲〔α〕20 D▼＝−16.4°（THF）。
実施例17. Fmoc−Asn（Trt）−ODhbt 1.5g（2.51mmol）のFmoc−Asn（Trt）−OHを10mlのテト
ラヒドロフランに溶解し、そして5mlのジメチルホルム
アミド中0.45g（2.76mmol）の3,4−ジヒドロ−３−ヒド
ロキシ−４−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジンの溶液
と混合した。この混合物を０℃に冷却し、そして0.57g
（2.76mmol）の固体ジシクロヘキシルカルボジイミドを
添加し、そしてこの混合物を０℃にて１時間、室温にて
３時間、そして再び０℃にて１時間攪拌した。分離した
ジシクロヘキシル尿素を濾去し、濾液を蒸発乾固し、そ
して残渣を30mlのジイソプロピルエーテルと共にすりつ
ぶし、濾取し、そして乾燥した。粗生成物を塩化メチレ
ン／ヘキサンからの沈澱により精製した。Fmoc−Asn（T
rt）−ODhbtを非晶質粉末として得た。融点約140℃；▲
〔α〕20 D▼＝−40.8°（THF）。
実施例18. Fmoc−Gln（Trt）−ODhbt 1g（1.51mmol）のFmoc−Gln（Trt）−OH・0.5ジイソプ
ロピルエーテルを10mlの酢酸エチルに溶解した。0.27g
（1.66mmol）の3,4−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−
オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジンを微粉末の形で加
え、この懸濁液を０℃に冷却した後、0.34g（1.66mmo
l）の固体ジシクロヘキシルカルボジイミドさらに加え
た。０℃にて１時間攪拌した後、さらに10mlの酢酸エチ
ルを加え、この混合物を室温にて３時間攪拌し、そして
ジシクロヘキシル尿素を濾去しそして酢酸エチルで洗浄
した。濾液を約10mlに濃縮し、そして50mlの石油エーテ
ルを加えることにより濃縮液からFmoc−Gln（Trt）−OD
hbtを結晶化させた。融点約130〜133℃；▲〔α〕20 D▼
＝−53.7°（THF）。
実施例19. Ｈ−Asn（Trt）−OH・0.5H2O 20g（0.1515mole）のＨ−Asn−OH及び78.8g（0.303mol
e）のTrt−OHを455mlの酢酸に懸濁した。9.28ml（0.174
mole）の濃H2SO4を加え、次に28.6ml（0.303mole）の無
水酢酸を加え、そしてこの混合物を60℃にて75分間攪拌
した。約40〜50分間の後、すべてが溶解した。910mlの
氷冷水に徐々に導入することにより反応生成物を沈澱さ
せた。次に、850mlの1ON NaOHによりpHを約６に調整し
た。０℃にて約１時間攪拌し、次に濾過し、水で散回洗
浄し、そして次に、濾液がもはやTrt−OHを含有しなく
なるまでトルエンで洗浄した。生ずる標記生成物は220
℃より高温で徐々に分解した。
実施例20. Boc−Asn（Trt）−OH 3.83g（10mmol）のＨ−Asn（Trt）−OH及び1.37ml（10m
mol）のトリエチルアミンを38mlの90％濃度のテトラヒ
ドロフランに溶解した。2.2ml（10mmol）のジ−tertブ
チルジカーボネートを添加し、次に1.37mlのトリエチル
アミンを加えた。反応を2.5時間室温にて行い、そして
次にこの混合物を250mlの酢酸エチル及び125mlの1M KHS
O4水溶液により抽出した。有機相を中性になるまで沈澱
し、Na2SO4により乾燥し、そして蒸発乾固した。この過
渣をメタノール／酢酸エチル／ヘキサンから結晶化し
た。融点201℃〜203℃；▲〔α〕20 D▼＝−17.7±°（T
HF）。
実施例21. Boc−Gln（Trt）−OH 3.98g（10mmol）のＨ−Gln（Trt）−OH・0.5H2O及び1.3
8ml（10mmol）のトリエチルアミンを60mlの90％濃度の
テトラヒドロフランに懸濁し、次に2.28ml（10.2mmol）
の(Boc)2O及びさらに1.38mlのトリエチルアミンを加
え、そしてこの混合物を室温にて２時間攪拌する。約30
分間後に透明な溶液が生成する。次に実施例20に記載し
たのと同様にし、但つ残渣をメタノール／CH2Cl2／石油
エーテルから結晶化せしめる。融点約112℃；▲〔α〕
20 D▼＝−２±１（THF）。
【図面の簡単な説明】
第１図において、（ａ）はトリチル保護されたAsn及びG
lnを用いて固相合成したペプチドのHPLCの溶出の様子を
示し、（ｂ）はトリチル保護されていないAsn及びGlnを
用いて固相合成したペプチドのHPLCの溶出の様子を示
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｋ 1/08

Claims (24)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】次の式（Ｉ）： （式中、ｎは１又は２であり、R1は水素又はアミノ保護
    基であり、R2は水素又はカルボキシ保護基であり、そし
    てR3はトリフェニルメチル、４−モノメトキシ−トリチ
    ル又は4,4′−ジメトキシ−トリチルである） で表わされる化合物、R2が水素である該化合物の塩、並
    びにR2が水素でありそしてR1がアミノ保護基である式
    （Ｉ）の前記化合物の反応性カルボン酸誘導体。
  2. 【請求項２】R1がアミノ保護基であり、R2が水素であ
    り、そしてR3がトリフェニルメチル、４−モノメトキシ
    −トリチル又は4,4′−ジメトキシ−トリチルである式
    （Ｉ）の請求項１に記載の化合物、又はその金属塩もし
    くはアンモニウム塩。
  3. 【請求項３】R1がベンジルオキシカルボニル、９−フル
    オレニル−メトキシカルボニル、アリルオキシカルボニ
    ル又はtert−ブトキシカルボニルであり、R2が水素であ
    り、そしてR3がトリフェニルメチルである式（Ｉ）の請
    求項１に記載の化合物、又はその金属塩もしくはアンモ
    ニウム塩。
  4. 【請求項４】R1が９−フルオレニル−メトキシカルボニ
    ルである式（Ｉ）の請求項１〜３のいずれか１項に記載
    の化合物、又はR2が水素である該化合物の金属塩もしく
    はアンモニウム塩。
  5. 【請求項５】ベンジルオキシカルボニル−Asn（トリフ
    ェニルメチル）−OHである請求項１に記載の化合物、又
    はその金属塩もしくはアンモニウム塩。
  6. 【請求項６】９−フルオレニル−メトキシカルボニル−
    Asn（トリフェニルメチル）−OHである請求項１に記載
    の化合物、又はその金属塩もしくはアンモニウム塩。
  7. 【請求項７】Ｈ−Asn（トリフェニルメチル）−OHであ
    る請求項１に記載の化合物又はその塩。
  8. 【請求項８】tert−ブトキシカルボニル−Asn（トリフ
    ェニルメチル）−OHである請求項１に記載の化合物又は
    その塩。
  9. 【請求項９】ベンジルオキシカルボニル−Gln（トリフ
    ェニルメチル）−OHである請求項１に記載の化合物、又
    はその金属塩もしくはアンモニウム塩。
  10. 【請求項１０】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Gln（トリフェニルメチル）−OHである請求項１に記
    載の化合物、又はその金属塩もしくはアンモニウム塩。
  11. 【請求項１１】Ｈ−Gln（トリフェニルメチル）−OHで
    ある請求項１に記載の化合物又はその塩。
  12. 【請求項１２】tert−ブトキシカルボニル−Gln（トリ
    フェニルメチル）−OHである請求項１に記載の化合物又
    はその塩。
  13. 【請求項１３】請求項２〜６、８〜10、及び12のいずれ
    か１項に記載の化合物の反応性カルボン酸誘導体。
  14. 【請求項１４】2,4,5−トリクロロ−フェニルエステ
    ル、ペンタフルオロ−フェニルエステル、酸塩化物、対
    称無水物、１−ヒドロキシベンゾトリアゾールとのエス
    テル、3,4−ジヒドロ−３−ヒドロキシ−４−オキソ−
    1,2,3−ベンゾトルアジンとのエステル又はＮ−ヒドロ
    キシ−５−ノルボルネン−2,3−ジカルボキシミドとの
    エステルの形態である、請求項13に記載の反応性カルボ
    ン酸エステル。
  15. 【請求項１５】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Asn（トリフェニルメチル）−Ｏ−2,4,5−トリクロロ
    フェニルである請求項１に記載の化合物。
  16. 【請求項１６】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Gln（トリフェニルメチル）−Ｏ−2,4,5−トリクロロ
    フェニルである請求項１に記載の化合物。
  17. 【請求項１７】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Asn（トリフェニルメチル）−Ｏ−ペンタフルオロ−
    フェニルである請求項１に記載の化合物。
  18. 【請求項１８】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Gln（トリフェニルメチル）−Ｏ−ペンタフルオロ−
    フェニルである請求項１に記載の化合物。
  19. 【請求項１９】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Asn（トリフェニルメチル）−Ｏ−3,4−ジヒドロ−３
    −ヒドロキシ−４−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジニ
    ルである請求項１に記載の化合物。
  20. 【請求項２０】９−フルオレニル−メトキシカルボニル
    −Gln（トリフェニルメチル）−Ｏ−3,4−ジヒドロ−３
    −ヒドロキシ−４−オキソ−1,2,3−ベンゾトリアジニ
    ルである請求項１に記載の化合物。
  21. 【請求項２１】次の式（VII）： （式中、ｎは１又は２であり、そしてR3はトリフェニル
    メチル、４−モノメトキシ−トリチル又は4,4′−ジメ
    トキシ−トリチルである） で表わされる二価基を少なくとも１個含有する物質。
  22. 【請求項２２】次の式（Ｉ）： （式中、ｎは１又は２であり、R1は水素又はアミノ保護
    基であり、R2は水素又はカルボキシル保護基であり、そ
    してR3はトリフェニルメチル、４−モノメトキシ−トリ
    チル又は4,4′−ジメトキシ−トリチルである） で表わされる化合物、R2が水素である該化合物の塩、あ
    るいはR2が水素でありそしてR1がアミノ保護基である該
    化合物の反応性カルボン酸誘導体の製造方法であって、 ａ）次の式（II）： （式中、R4は水素又は反応条件下で安定なアミノ保護基
    であり、そしてｎ及びR2は前記の意味を有する） で表わされる化合物を、次の式（III）： R3−OH （III） （式中R3は前記の意味を有する） で表わされる化合物と反応せしめ、そして得られた化合
    物から式（Ｉ）の目的最終生成物の部分を構成しない保
    護基を除去し；あるいは ｂ）R1がアミノ保護基である式（Ｉ）の化合物を製造す
    るために、次の式（IV）： （式中、R2及びR3は前記の意味を有する） で表わされる化合物にアミノ保護基を導入し；あるいは ｃ）次の式（Ｖ）： （式中、ｎは前記の意味を有し、R5は反応条件下で安定
    なアミノ保護基であり、そしてR6は反応条件下で安定な
    カルボキシ保護基である） で表わされる化合物を、次の式（VI）： R3−NH2 （VI） （式中、R3は前記の意味を有する） で表わされる化合物と反応せしめ、そして得られた化合
    物から式（Ｉ）の目的最終生成物の部分を構成しない保
    護基を除去し； そして所望により、方法ａ）,b）、又はｃ）のいずれか
    を行った後、塩形成基を有する式（Ｉ）の得られる化合
    物をその塩に転換し、又は得られる塩を遊離化合物に転
    換し、又はR2が水素でありそしてR1がアミノ保護基であ
    る式（Ｉ）の得られる化合物を反応性カルボン酸誘導体
    に転換する； ことを特徴とする方法。
  23. 【請求項２３】R4がベンジルオキシカルボニル又は９−
    フルオレニル−メトキシカルボニルである式（II）の化
    合物を、適当な有機溶剤中、触媒量の無水強ルイス酸の
    存在下、及び脱水剤の存在下で、＋20℃〜＋70℃におい
    て反応せしめることを特徴とする、請求項22に記載の方
    法。
  24. 【請求項２４】請求項１〜20のいずれかに記載の、R2が
    水素である式（Ｉ）の化合物又はR1がアミノ保護基であ
    る式（Ｉ）の化合物の反応性カルボン酸誘導体を使用す
    ることを特徴とする、固相上でのペプチドの合成方法。
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