JPH0749391B2 - 含フッ素化合物及びその製法 - Google Patents

含フッ素化合物及びその製法

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JPH0749391B2
JPH0749391B2 JP62140570A JP14057087A JPH0749391B2 JP H0749391 B2 JPH0749391 B2 JP H0749391B2 JP 62140570 A JP62140570 A JP 62140570A JP 14057087 A JP14057087 A JP 14057087A JP H0749391 B2 JPH0749391 B2 JP H0749391B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規含フツ素化合物及びその製法に関する。
本発明の新規含フツ素化合物、就中2,3,3,3−テトラフ
ルオロプロパン酸モノクロロメチルは、アミンと反応さ
せることにより容易に2,3,3,3−テトラフルオロプロペ
ンに導くことができる。
2,3,3,3−テトラフルオロプロペンは、テトラフルオロ
エチレン、トリフルオロエチレン、ビニリデンフルオラ
イド等の共重合単量体として有用である。又、2,3,3,3
−テトラフルオロプロペンは、例えばエチレン/テトラ
フルオロエチレン共重合体の改質用単量体として共重合
体に少量添加することにより該重合体の高温での強度、
耐クラツク性等を著しく改善することができ、改質用単
量体としても有用な化合物である。
このように、本発明の新規含フツ素化合物、就中2,3,3,
3−テトラフルオロプロパン酸モノクロロメチルは、2,
3,3,3−テトラフルオロプロペンの合成中間体として有
用である。
〔従来の技術〕
本発明の含フツ素化合物は、従来知られていない。
〔発明の目的〕
本発明の目的は、2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの
中間体として有用な新規含フツ素化合物及びその製法を
提供することにある。
〔発明の構成〕
本発明の要旨は、一般式 CF3CHFCO2CClX1X2 (I) 〔式中、X1及びX2は同一又は相異なり、水素原子又は塩
素原子を表す。〕 で示される新規含フツ素化合物、及び2,3,3,3−テトラ
フルオロプロパン酸メチルを光の照射下に塩素と接触さ
せることを特徴とする一般式(I)で示される新規含フ
ツ素化合物の製法、及び1−モノクロロメトキシ−1,1,
2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンを酸触媒存在下で加
水分解することを特徴とする2,3,3,3−テトラフルオロ
プロパン酸モノクロロメチルの製法に存する。
本発明の新規含フツ素化合物は、一般式(I)で示され
るが、具体的には、2,3,3,3−テトラフルオロプロパン
酸モノクロロメチル、2,3,3,3−テトラフルオロプロパ
ン酸ジクロロメチル及び2,3,3,3−テトラフルオロプロ
パン酸トリクロロメチルである。
本発明の新規含フツ素化合物は、2,3,3,3−テトラフル
フルオロプロパン酸メチルを光の照射下に塩素と接触さ
せることにより得られる。原料である2,3,3,3−テトラ
フルオロプロパン酸メチルは、例えば1−メトキシ−1,
1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンを酸触媒の存在下
に加水分解することにより得られる。
本発明の前記光塩素化反応は、気相又は液相で行うこと
ができる。光塩素化反応の際の光源は、492nm以下の波
長の光を発するもの、具体的には水銀灯、キセノン灯等
が好ましい。光反応槽の材質としては、パイレツクス、
コアレツクス、石英、サプラシル等が使用可能である。
反応温度は、通常0〜400℃、好ましくは20〜150℃であ
る。圧力は常圧乃至少加圧が採用される。
また、本発明の新規含フツ素化合物のうちのひとつであ
る2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸モノクロロメチ
ルは、1−モノクロロメトキシ−1,1,2,2,3,3,3−ヘキ
サフルオロプロパンを酸触媒存在下で加水分解すること
によっても得られる。原料である1−モノクロロメトキ
シ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパンは、例えば
1−メトキシ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン
を光塩素化することにより得られる。
本発明の前記加水分解反応は、通常、水の存在下、酸触
媒を使用して行われる。水の量は、1−モノクロロメト
キシ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン1モルに
対して1〜10モルが好ましい。あるいは、水のかわりに
二酸化ケイ素等の酸化物を使用してもよい。酸触媒とし
ては、硫酸、フルオロ硫酸、トリフルオロメタンスルホ
ン酸等が好ましい。酸触媒の使用量は、1−モノクロロ
メトキシ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン1モ
ルに対して0.0001〜2モルが好ましい。反応温度は通常
20〜200℃、反応時間は通常0.5〜50時間である。
〔実施例〕
以下、本発明を参考例及び実施例によって更に具体的に
説明する。
参考例1 温度計、コンデンサー及び撹拌機を備えた1四つ口フ
ラスコに、二酸化ケイ素36.0g(0.60モル)及び濃硫酸6
0.0g(0.61モル)を仕込み、系内を温度50℃に加熱し
て、1−メトキシ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン182g(1.0モル)を滴下した。滴下終了後、2時間
後撹拌した。反応が終了した後、蒸留によって2,3,3,3
−テトラフルオロプロパン酸メチル144g(収率90%)を
得た。沸点96℃。
参考例2 温度計、コンデンサー及び塩素導入管を備えた500ml四
つ口フラスコ(パイレツクス製)に、1−メトキシ−1,
1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン600g(3.30モル)
を仕込んだ。75ワツト高圧水銀灯照射下、塩素導入管よ
り塩素を112cc/min(5ミリモル/min)の割合で前記フ
ラスコ内に送り込み、45℃で7時間反応させた。反応終
了後蒸留により、1−モノクロロメトキシ−1,1,2,3,3,
3−ヘキサフルオロプロパン314g(沸点87℃)及び1−
ジクロロメトキシ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロ
パン28g(沸点95℃)を得た。なお、同時に未反応の1
−メトキシ−1,1,2,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン25g
を回収した。
実施例1 温度計、コンデンサー及び塩素導入管を備えた500ml四
つ口フラスコ(パイレツクス製)に、参考例1で得た2,
3,3,3−テトラフルオロプロパン酸メチル544g(3.40モ
ル)を仕込んだ。次に75ワツト高圧水銀灯照射下、塩素
導入管より塩素を224cc/min(10ミリモル/min)の割合
で、前記フラスコ内に送り込み、50℃で12時間反応させ
た。反応終了後蒸留により、2,3,3,3−テトラフルオロ
プロパン酸モノクロロメチル68g(沸点125℃)、2,3,3,
3−テトラフルオロプロパン酸ジクロロメチル460g(沸
点132℃)、2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸トリク
ロロメチル105g(沸点152℃)を得た。
元素分析(%) C4H3F4O2Clとして 計算値 実測値 C 24.68 24.45 H 1.54 1.76 F 34.07 39.06 O 16.45 16.63 Cl 18.25 18.10 C4H2F4O2Cl2として 計算値 実測値 C 20.96 20.77 H 0.87 0.88 F 33.19 33.15 O 13.97 14.06 Cl 31.00 31.14 C4HF4O2Cl3として 計算値 実測値 C 18.22 18.14 H 0.38 0.42 F 28.84 28.98 O 12.14 12.27 Cl 40.42 40.19 実施例2 実施例1と同様にして、2,3,3,3−テトラフルオロプロ
パン酸メチル544g(3.40モル)を仕込んだ。次に75ワツ
ト高圧水銀灯照射下、塩素を112cc/min(5ミリモル/mi
n)の割合で仕込み、40℃で7時間反応させた。反応終
了後蒸留により、2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸
モノクロロメチル292g及び2,3,3,3−テトラフルオロプ
ロパン酸ジクロロメチル21gを得た。なお、同時に未反
応の2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸メチル226gを
回収した。
実施例3 温度計、コンデンサー及び撹拌機を備えた1四つ口フ
ラスコに、二酸化ケイ素36.0g(0.60モル)及び濃硫酸6
0.0g(0.61モル)を仕込み、系内を60℃に加熱して、参
考例2で得た1−モノクロロメトキシ−1,1,2,3,3,3−
ヘキサフルオロプロパン216.5g(1.0モル)を滴下し
た。滴下終了後、2時間撹拌した。反応が終了した後、
蒸留によって2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸モノ
クロロメチル161.4g(収率83%)を得た。
実施例4 温度計、コンデンサー及び撹拌機を備えた1四つ口フ
ラスコに、二酸化ケイ素36.0g(0.60モル)及びフルオ
ロ硫酸30.0g(0.30モル)を仕込み、系内を55℃に加熱
して、参考例2で得た1−モノクロロメトキシ−1,1,2,
3,3,3−ヘキサフルオロプロパン216.5g(1.0モル)を滴
下した。滴下終了後、4時間撹拌した。反応が終了した
後、蒸留によって2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸
モノクロロメチル165.3g(収率85%)を得た。
〔発明の効果〕
本発明によれば、2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの
中間体として有用な新規含フツ素化合物を容易に提供す
ることができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C07B 61/00 300

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】一般式 CF3CHFCO2CClX1X2 〔式中、X1及びX2は同一又は相異なり、水素原子又は塩
    素原子を表す。〕 で示される新規含フツ素化合物。
  2. 【請求項2】2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸メチ
    ルを光の照射下に塩素と接触させることを特徴とする一
    般式 CF3CHFCO2CClX1X2 〔式中、X1及びX2は同一又は相異なり、水素原子又は塩
    素原子を表す。〕 で示される新規含フツ素化合物の製法。
  3. 【請求項3】1−モノクロロメトキシ−1,1,2,3,3,3−
    ヘキサフルオロプロパンを酸触媒存在下で加水分解する
    ことを特徴とする2,3,3,3−テトラフルオロプロパン酸
    モノクロロメチルの製法。
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