JPH0745956Y2 - キャリア洗浄処理装置 - Google Patents
キャリア洗浄処理装置Info
- Publication number
- JPH0745956Y2 JPH0745956Y2 JP1987067625U JP6762587U JPH0745956Y2 JP H0745956 Y2 JPH0745956 Y2 JP H0745956Y2 JP 1987067625 U JP1987067625 U JP 1987067625U JP 6762587 U JP6762587 U JP 6762587U JP H0745956 Y2 JPH0745956 Y2 JP H0745956Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- carrier
- cleaning
- pressure
- cleaning liquid
- pressure injection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ この考案は、キャリア洗浄処理装置に関し、特に半導体
装置の製造過程において、ウエハ処理用のキャリアを洗
浄するためのキャリア洗浄処理装置に関する。
装置の製造過程において、ウエハ処理用のキャリアを洗
浄するためのキャリア洗浄処理装置に関する。
［従来の技術］ 従来、半導体装置の製造において、ウエハ処理用のキャ
リアを洗浄にするキャリア洗浄処理装置として第２図お
よび第３図に示すようなものがあった。第２図はキャリ
アを洗浄する装置の断面を示し、第３図は洗浄されたキ
ャリアを乾燥させる装置の断面を示している。まず、第
２図に示すように、洗浄槽４内に収納されたキャリア１
は、洗浄槽４の内部側壁に設けられたシャワーノズル２
から出射されるシャワーと、回転しながらキャリア１の
内面に沿って走査するブラシ３とによって洗浄される。
この洗浄が終了すると、キャリア１は第３図に示す乾燥
槽６の内部に収納される。そして、キャリア１は回転さ
れ、その遠心力によって水滴を飛ばして乾燥される。こ
のとき、乾燥槽６の内部に設けられた補助ヒータ７によ
って乾燥の速度が促進される。
リアを洗浄にするキャリア洗浄処理装置として第２図お
よび第３図に示すようなものがあった。第２図はキャリ
アを洗浄する装置の断面を示し、第３図は洗浄されたキ
ャリアを乾燥させる装置の断面を示している。まず、第
２図に示すように、洗浄槽４内に収納されたキャリア１
は、洗浄槽４の内部側壁に設けられたシャワーノズル２
から出射されるシャワーと、回転しながらキャリア１の
内面に沿って走査するブラシ３とによって洗浄される。
この洗浄が終了すると、キャリア１は第３図に示す乾燥
槽６の内部に収納される。そして、キャリア１は回転さ
れ、その遠心力によって水滴を飛ばして乾燥される。こ
のとき、乾燥槽６の内部に設けられた補助ヒータ７によ
って乾燥の速度が促進される。
［考案が解決しようとする問題点］ 上記回転ブラシ３による洗浄は、キャリア１の内面の洗
浄は可能であるが、キャリア１の外面の洗浄ができない
という問題点があった。また、回転ブラシ３を回転させ
ながら走査するため構造が複雑となり、そのため操作が
面倒であるという問題点もあった。
浄は可能であるが、キャリア１の外面の洗浄ができない
という問題点があった。また、回転ブラシ３を回転させ
ながら走査するため構造が複雑となり、そのため操作が
面倒であるという問題点もあった。
この考案は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、簡単な構成でキャリアの内面および外面を洗
浄できるようなキャリア洗浄処理装置を提供することを
目的とする。
たもので、簡単な構成でキャリアの内面および外面を洗
浄できるようなキャリア洗浄処理装置を提供することを
目的とする。
［問題点を解決するための手段］ この考案にかかるキャリア洗浄処理装置は、洗浄槽の上
部に高圧噴射ノズルを設け、この高圧噴射ノズルから洗
浄液を加圧噴射するとともにこの高圧噴射ノズルを水平
方向に移動させるとともに、ウェハ処理用キャリアをそ
の内面及び外面が高圧噴射ノズルから噴射された洗浄液
に直接当たるように所定角度の範囲内で揺動させること
によって、ウェハ処理用キャリアの内面及び外面のすべ
てを洗浄し、かつ、洗浄液を出射するシャワーノズルに
てウェハ処理用キャリアを洗い流すようにしたものであ
る。
部に高圧噴射ノズルを設け、この高圧噴射ノズルから洗
浄液を加圧噴射するとともにこの高圧噴射ノズルを水平
方向に移動させるとともに、ウェハ処理用キャリアをそ
の内面及び外面が高圧噴射ノズルから噴射された洗浄液
に直接当たるように所定角度の範囲内で揺動させること
によって、ウェハ処理用キャリアの内面及び外面のすべ
てを洗浄し、かつ、洗浄液を出射するシャワーノズルに
てウェハ処理用キャリアを洗い流すようにしたものであ
る。
［作用］ 洗浄槽上部に設けた高圧噴射ノズルから加圧した洗浄液
を噴射し、この高圧噴射ノズルを水平方向に移動させる
とともにウェハ処理用キャリアをその内面及び外面が高
圧噴射ノズルから噴射された洗浄液に直接当たるように
所定角度の範囲内で揺動させることによって、キャリア
の内外面に付着している塵埃を噴射の圧力で排除すると
ともに、キャリア外面が噴射洗浄によって再汚染される
のを防ぐため、洗浄槽側壁に設けたシャワーノズルで洗
い流すようにしている。
を噴射し、この高圧噴射ノズルを水平方向に移動させる
とともにウェハ処理用キャリアをその内面及び外面が高
圧噴射ノズルから噴射された洗浄液に直接当たるように
所定角度の範囲内で揺動させることによって、キャリア
の内外面に付着している塵埃を噴射の圧力で排除すると
ともに、キャリア外面が噴射洗浄によって再汚染される
のを防ぐため、洗浄槽側壁に設けたシャワーノズルで洗
い流すようにしている。
［実施例］ 第１図はこの考案の一実施例におけるキャリア洗浄処理
装置の洗浄槽の構造を示す断面図である。図において、
洗浄槽40の内部にはキャリア１を１点鎖線で示すごとく
揺動させるための揺動装置（図示せず）が設けられる。
また、洗浄槽40の内部側壁には、複数個のシャワーノズ
ル２が設けられる。また、洗浄槽40の上部には洗浄液を
高圧噴射するための高圧噴射ノズル８が配置される。さ
らに、高圧噴射ノズル８の上部には、この高圧噴射ノズ
ル８を水平方向に移動させるためのＸ−Ｙ駆動装置９が
設けられる。
装置の洗浄槽の構造を示す断面図である。図において、
洗浄槽40の内部にはキャリア１を１点鎖線で示すごとく
揺動させるための揺動装置（図示せず）が設けられる。
また、洗浄槽40の内部側壁には、複数個のシャワーノズ
ル２が設けられる。また、洗浄槽40の上部には洗浄液を
高圧噴射するための高圧噴射ノズル８が配置される。さ
らに、高圧噴射ノズル８の上部には、この高圧噴射ノズ
ル８を水平方向に移動させるためのＸ−Ｙ駆動装置９が
設けられる。
上記のような構成において、洗浄槽40内に収納されたキ
ャリア１を図示しない揺動装置で揺動させながら、高圧
噴射ノズル８から約30kg/cm2に加圧した洗浄液を噴射さ
せる。このとき、Ｘ−Ｙ駆動装置９によって高圧噴射ノ
ズル８を水平方向に移動させる。この高圧噴射ノズル８
の水平方向の平面移動と、キャリア１の揺動とによっ
て、キャリア１の内外面のすべての部分に高圧噴射され
た洗浄液が当たることになる。このようにして、高圧噴
射した洗浄液の圧力でキャリア１の内外面に付着した塵
埃を排除する。また、洗浄槽40の内側壁に設けたシャワ
ーノズル２からシャワーを出射させることによって、上
記高圧噴射による再汚染がないようにキャリア１の表面
を洗い流す。なお、洗浄液に超純水を用いて高圧噴射す
ると、キャリア１が帯電して再汚染の原因になるため、
洗浄液の比抵抗は0.1MΩ以下に下げて用いる方が良い。
また、上記揺動装置は約90°の回転角度を有している。
ャリア１を図示しない揺動装置で揺動させながら、高圧
噴射ノズル８から約30kg/cm2に加圧した洗浄液を噴射さ
せる。このとき、Ｘ−Ｙ駆動装置９によって高圧噴射ノ
ズル８を水平方向に移動させる。この高圧噴射ノズル８
の水平方向の平面移動と、キャリア１の揺動とによっ
て、キャリア１の内外面のすべての部分に高圧噴射され
た洗浄液が当たることになる。このようにして、高圧噴
射した洗浄液の圧力でキャリア１の内外面に付着した塵
埃を排除する。また、洗浄槽40の内側壁に設けたシャワ
ーノズル２からシャワーを出射させることによって、上
記高圧噴射による再汚染がないようにキャリア１の表面
を洗い流す。なお、洗浄液に超純水を用いて高圧噴射す
ると、キャリア１が帯電して再汚染の原因になるため、
洗浄液の比抵抗は0.1MΩ以下に下げて用いる方が良い。
また、上記揺動装置は約90°の回転角度を有している。
洗浄を終了したキャリア１は、第３図に示す従来と同様
の方法により乾燥槽に移して乾燥させる。
の方法により乾燥槽に移して乾燥させる。
［考案の効果］ 以上のように、この考案によれば、移動機構を介して高
圧噴射ノズルを水平方向に移動させ、かつ、揺動機構に
よってキャリアを揺動させることによって、高圧噴射ノ
ズルから高圧噴射された洗浄液がウェハ処理用キャリア
の内面及び外面のすべての部分を洗浄し、洗浄液のシャ
ワーによってキャリアの表面を洗い流すようにしている
ので、従来に比べて簡単な構成でキャリアの内面および
外面を洗浄することができる。
圧噴射ノズルを水平方向に移動させ、かつ、揺動機構に
よってキャリアを揺動させることによって、高圧噴射ノ
ズルから高圧噴射された洗浄液がウェハ処理用キャリア
の内面及び外面のすべての部分を洗浄し、洗浄液のシャ
ワーによってキャリアの表面を洗い流すようにしている
ので、従来に比べて簡単な構成でキャリアの内面および
外面を洗浄することができる。
第１図はこの考案の一実施例によるキャリア洗浄処理装
置の洗浄槽の構成を示す図である。第２図および第３図
は従来のキャリア洗浄処理装置における洗浄槽および乾
燥槽を示す図である。 図において、１はキャリア、２はシャワーノズル、８は
高圧噴射ノズル、９はＸ−Ｙ駆動装置、40は洗浄槽を示
す。
置の洗浄槽の構成を示す図である。第２図および第３図
は従来のキャリア洗浄処理装置における洗浄槽および乾
燥槽を示す図である。 図において、１はキャリア、２はシャワーノズル、８は
高圧噴射ノズル、９はＸ−Ｙ駆動装置、40は洗浄槽を示
す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 大森 寿朗 兵庫県伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)考案者 柳 基典 兵庫県伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)考案者 福本 隼明 兵庫県伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (72)考案者 浜 正治 兵庫県伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機 株式会社エル・エス・アイ研究所内 (56)参考文献 特開 昭57−83036（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−18958（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−276326（ＪＰ，Ａ) 実開 昭61−88235（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭57−191042（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭56−149446（ＪＰ，Ｕ)
Claims (2)
- 【請求項１】内面及び外面を有するウェハ処理用キャリ
アを洗浄するキャリア洗浄処理装置であって、 前記ウェハ処理用キャリアを収納する洗浄槽と、 前記洗浄槽の上部に配置され、加圧した洗浄液を下方へ
向かって噴射する高圧噴射ノズルと、 前記高圧噴射ノズルから洗浄液を高圧噴射している間、
前記高圧噴射ノズルを水平方向に移動させる移動機構
と、 前記高圧噴射ノズルから洗浄液を高圧噴射している間、
前記高圧噴射ノズルの下方の前記洗浄槽内に収納される
前記ウェハ処理用キャリアを、その内面及び外面が前記
高圧噴射ノズルから噴射された洗浄液に直接当たるよう
に所定角度の範囲内で揺動させる揺動機構と、 前記洗浄槽内の側壁に設けられ、かつ洗浄液を出射する
シャワーノズルとを備えた、キャリア洗浄処理装置。 - 【請求項２】高圧噴射ノズルから噴射される洗浄液の比
抵抗は0.1MΩ以下であることを特徴とする実用新案登録
請求の範囲第１項記載のキャリア洗浄処理装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987067625U JPH0745956Y2 (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | キャリア洗浄処理装置 |
| DE3815018A DE3815018A1 (de) | 1987-05-06 | 1988-05-03 | Traegerreinigungs- und -trocknungsvorrichtung |
| US07/402,988 US4941489A (en) | 1987-05-06 | 1989-09-05 | Carrier cleaning and drying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987067625U JPH0745956Y2 (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | キャリア洗浄処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63177031U JPS63177031U (ja) | 1988-11-16 |
| JPH0745956Y2 true JPH0745956Y2 (ja) | 1995-10-18 |
Family
ID=30906703
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987067625U Expired - Lifetime JPH0745956Y2 (ja) | 1987-05-06 | 1987-05-06 | キャリア洗浄処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745956Y2 (ja) |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS56149446U (ja) * | 1980-04-08 | 1981-11-10 | ||
| JPS5783036A (en) * | 1980-11-10 | 1982-05-24 | Seiichiro Sogo | Cleaning device for semiconductor material |
| JPS57191042U (ja) * | 1981-05-28 | 1982-12-03 | ||
| JPS6118958A (ja) * | 1984-07-04 | 1986-01-27 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置用ガラスマスクの洗浄方法 |
| JPS6188235U (ja) * | 1984-11-15 | 1986-06-09 |
-
1987
- 1987-05-06 JP JP1987067625U patent/JPH0745956Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63177031U (ja) | 1988-11-16 |
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