JPH0741875A - 溶湯の精錬方法および精錬装置 - Google Patents

溶湯の精錬方法および精錬装置

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JPH0741875A
JPH0741875A JP6111098A JP11109894A JPH0741875A JP H0741875 A JPH0741875 A JP H0741875A JP 6111098 A JP6111098 A JP 6111098A JP 11109894 A JP11109894 A JP 11109894A JP H0741875 A JPH0741875 A JP H0741875A
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民也 岸田
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克己 金元
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空または低酸素分圧雰囲気下精錬での溶湯
から一旦分離され、再混入した不純物等出湯に対して有
効な溶湯の精錬方法および精錬装置を提供する。 【構成】 溶湯を真空または低酸素分圧雰囲気中で予備
精錬後、造滓剤を添加して不活性ガスプラズマ加熱を行
ない、再精錬する溶湯の精錬方法であり、予備精錬は
加熱手段を有する炉によるもの、および容器を更新し
て再精錬するものである。溶湯を予備精錬した後、さら
に再精錬するための精錬装置であって、真空誘導加熱に
よる予備精錬炉および不活性ガスプラズマ加熱装置と副
原料投入装置とを備えた再精錬炉からなり、これら両炉
を近接して配置したことを特徴とする溶湯の精錬装置で
ある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は溶湯を、真空、または数
100Torr以下の不活性ガス雰囲気等の低酸素分圧雰囲気
下で精錬した後、大気圧付近でさらに精錬する溶湯の精
錬方法およびその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】真空または低酸素分圧雰囲気下での精錬
法(以下、真空または低酸素分圧下精錬と記す)では、
高レベルの清浄鋼等を容易に得ることができることから
広く用いられており、真空誘導加熱炉(VIFとも称さ
れる)はその一つの手段である。この真空または低酸素
分圧下精錬において、ある種の不純物は、それ自身また
は酸化物等の化合物となって、溶湯から蒸発、飛散また
は浮上して分離されることにより、精錬が進行する。そ
して、この場合、精錬が進行した状態では、溶湯中の不
純物(本発明で不純物とは不純元素や非金属介在物の原
因となる物質を総称する)を非常に低いレベルにするこ
とができる。
【0003】真空または低酸素分圧下精錬において、精
錬炉の炉壁フリーボード部分には蒸発、飛散成分の一部
が凝縮してスカム状に付着している。また、精錬炉中の
溶湯液面には、別種の蒸発できないドロス状等の不純成
分が浮上して分離されている。精錬炉の傾注により出湯
する場合、溶湯流によりこれらの付着物や浮遊物が洗い
流されて溶湯中に再度取り込まれ、溶湯中に再混入す
る。さらに、受湯容器である取鍋またはタンディシュの
内張り耐火物は、それが受湯前に十分加熱されていない
場合、活性ガス成分を吸着しており、またこの耐火物は
受湯後、真空または低酸素分圧下での処理により活性化
した溶湯と一部反応し、または溶湯に侵食されて、これ
ら活性ガス、反応生成物、侵食物により溶湯を汚染す
る。また、真空または低酸素分圧下精錬後、そのまま大
気圧に解放した場合、前記の蒸発できないドロス状等の
不純物は溶湯中に再溶解する。
【0004】前記の再混入の防止方法として今日まで試
みられた方法には、精錬炉の炉底出湯を行なうととも
に、浮遊不純物の混入防止のため溶湯を一部炉内に残留
させる方法、インダクションスカル炉により溶湯を空中
出湯する方法、また、取鍋またはタンディッシュ内にお
いては、セラミックフィルタにより微小非金属介在物原
因物質を除去する方法などが提案され一部実用化されて
いるが、種々の制約があり、未だ広く採用されるに至っ
ていない。また、これらの方法はすべての再混入物質や
汚染物質等に対して有効ではないので、前記各再混入物
質等に対して有効ならしめるためには、これらを組み合
わせることが必要である。しかし、これらは組み合わせ
るほど、費用が嵩む等の問題を生ずる。
【0005】一方、真空精錬後、黒鉛電極アーク加熱方
式の取鍋精錬炉、ASEA−SKF法などで再精錬する
ことで再混入物質等を除去することも考えられるが、こ
れらの方法では溶湯中への炭素のピックアップの問題が
生ずる。特開平4-318118号は、真空脱ガス処理により溶
湯を脱炭した後、sol.Al≧0.2wt%を含有させた状態で、
プラズマ加熱し、塩基度8以上のスラグの存在下で撹拌
し、脱硫する極低炭、極低硫鋼の製造方法を提案してい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前記提案の方法は、特
殊鋼メーカにおけるごとく、取扱い材質や要求精錬レベ
ルが多岐にわたる場合、または比較的小容量の炉の場合
には不適当であることが判った。すなわち、材質、精錬
レベルによって真空脱ガス処理時間が大幅に変化し、か
つ予定時間より長引くことが多く、また小容量の炉の場
合、特に溶湯の温度低下のため、所期の真空脱ガス効果
が得られない場合が多いからである。また、真空誘導加
熱精錬炉等溶湯容器の内壁が直接真空にさらされる炉の
場合、その容器をそのまま使用すると、スカム状等の不
純物でスラグが大幅に汚染されるので、精錬効率が低
く、また特に高い到達精錬レベルを要求する場合には不
適当であることがわかった。
【0007】すなわち、容器を更新することなく、造滓
剤を添加すると、スラグの液面レベルが上昇し、これに
よりフリーボート部に凝縮して折角分離されたスカム状
の不純物等が多量にスラグに混入してこれを汚染するか
らである。本発明は、前述炭素のピックアップの問題が
なく、取扱い溶湯の材質や精錬レベルの変化、小容量炉
での精錬、高レベルの精錬等の場合にも柔軟に対応でき
る溶湯の精錬方法およびその装置を提供することを目的
とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本願の第1発明は、前述
の予備精錬が溶湯の温度低下により、精錬不能となる事
態があることを見出したことから、加熱手段を有する容
器により真空または低酸素分圧雰囲気中で精錬すること
により、所定のレベルの予備精錬を達成し、その際、溶
湯から一旦分離されてはいるが、いまだその容器内に止
り、スカム状、ドロス状等として存在する不純物の混入
は、ある程度やむを得ないものとして、そのままの容器
中で、または傾注その他の出湯法で溶湯を特に残留させ
ることなく排出(容器更新)し、造滓剤を添加してこの
溶湯中に混入した各不純物を再精錬により、効率的に除
去し、またはさらに高レベルに精錬する精錬方法であ
る。
【0009】また、本願の第2発明は、本発明が造滓剤
を添加して再精錬するものであるから、前記のように容
器を更新しない場合、この添加によりスラグ液面が上昇
し、フリーボード部にスカム状として折角分離された不
純物がスラグを汚染してしまうことを見出したことに基
づくものである。このため、第2発明は、真空または低
酸素分圧下で精錬された溶湯を容器を更新して第1発明
と同様に再精錬するものである。すなわち、本願の第1
発明は、溶湯を加熱手段を有する容器中で真空または低
酸素分圧雰囲気で予備精錬した後、該溶湯に造滓剤を添
加し、不活性ガスプラズマにより加熱して再精錬するこ
とを特徴とする溶湯の精錬方法、ならびに第2発明は、
真空または低酸素分圧雰囲気中に置かれた容器中の溶湯
を前記雰囲気中で予備精錬した後、前記溶湯を前記容器
とは別容器に移すとともに造滓剤を添加し、不活性ガス
プラズマにより加熱して再精錬することを特徴とする溶
湯の精錬方法である。
【0010】第1、第2発明において、予備精錬として
誘導加熱方法によるものが望ましい。また、第2発明に
おいて、更新容器はその内面を十分に加熱しておくこと
が望ましく、この場合特に不活性ガスプラズマ加熱法に
より、例えば600℃またはそれ以上の温度に予熱してお
くのがよい。また、更新容器は予備精錬でのスプラッシ
ュやヒューム等による汚染を受けないように準備すると
よい。また、本願の精錬方法および装置において、再精
錬は、ポーラスプラグ、その他の方法によるガス吹込み
法や誘導法等による撹拌条件下で行なうことが望まし
く、また再精錬容器からの出湯は、容器底に設けたスラ
イディングノズル方式によるものが傾注法やストッパ形
式のものによるそれぞれスラグの混入やプラズマ加熱に
よるストッパの損傷等の不都合がなく適当である。
【0011】次に、本発明の精錬装置は、溶湯の予備精
錬用の真空誘導加熱精錬炉と不活性ガスプラズマ加熱装
置を有する再精錬装置とで構成した、溶湯を予備精錬し
た後、さらに再精錬するための精錬装置である。すなわ
ち、本願の精錬装置は、溶湯を予備精錬した後、さらに
再精錬するための精錬装置であって、真空誘導加熱によ
る予備精錬炉、および不活性ガスプラズマ加熱装置と副
原料投入装置とを備えた再精錬炉からなり、これら両炉
を近接して配置したことを特徴とする溶湯の精錬装置で
ある。なお、本発明において、副原料とは、造滓剤や添
加元素成分を含むものである。本願の精錬装置におい
て、予備精錬装置は、その容器全体を大気遮断室内に設
けたものとすること、再精錬装置は大気遮断室内に設け
ること(特に予備精錬装置のものとは別の大気遮断室内
に設けるとよい)、等が望ましい。
【0012】
【作用】本願の第1発明の精錬方法において予備精錬
は、加熱手段を有する容器中で行なわれるから、前述の
ように、多岐に亘る材質や要求精錬レベルに対しても、
比較少量の溶湯に対しても、要すれば加熱手段を用いる
ことにより、溶湯の温度低下が防止され、これにより柔
軟に対応して所定の精錬レベルの溶湯を得ることができ
る。もちろん、冷材によるスタートアップも可能であ
る。また、第2発明の精錬方法において、再精錬は、更
新されて望ましくは新鮮な容器中で行なわれるから、造
滓剤の添加によるスラグレベルの上昇によってもスカム
状不純物によるスラグの汚染はなく、高レベルに精錬さ
れた溶湯が容易に得られる。
【0013】本願の方法発明における再精錬は、予備精
錬段階で一旦分離された不純物が溶湯中へ溶解してしま
う以前に不活性ガスプラズマ加熱により活性化させたス
ラグにより効果的に吸収させることにより行なわれる。
すなわち、本発明において、スラグは不活性ガスプラズ
マ加熱により十分加熱されて低粘性かつ活性化されるこ
とにより、前記付着物、浮遊物等の再混入物質および耐
火物に起因する汚染物質を効果的に捕集することがで
き、望ましくは後述の不活性ガス吹込み等による十分な
撹拌により、溶湯と十分に相互に交換しつつ接触し、高
い精錬効果を生ずる。
【0014】また、不活性ガスプラズマ加熱法は、上述
のようにスラグを効果的に加熱する一方、溶湯やスラグ
の表面を被覆して溶湯の酸化やスラグが酸化性となるこ
とを防ぎつつ、溶湯を昇温し、または温度低下を補償
し、かつ、黒鉛電極アーク加熱法のごとく、炭素のピッ
クアップ等の再汚染の危険がない。なお、本発明方法で
は、後述の実施例のように予備精錬以上の高レベルにま
で精錬を行なうものも含む。なお、本発明の精錬方法に
おいて、再精錬は受湯後可能の限り早期に開始すること
が肝要である。すなわち、前記の付着物および浮遊物等
の汚染物質は、時間の経過と共に溶湯内に均一に溶解し
ていくから、効果的精錬は、これらが溶解してしまう以
前に行なうことにより、達成されるからである。
【0015】本発明の精錬方法における望ましい態様で
ある撹拌の方法は、炉底に設けたポーラスプラグからの
不活性ガスによるものが、撹拌効果の点から望ましい。
また、電磁撹拌装置を単独または併用して用いてもよ
い。不活性ガスプラズマ加熱装置は、前述のようにバー
ナのごとく、CO2、H2O、遊離O2等の酸化性ガスを
発生せず、かつ高温加熱に適すから、本発明において再
精錬に用いることはもちろん、容器を更新する場合は予
備精錬継続中に、他方でこの加熱装置(形式にもよる
が)を用いて再精錬容器を高清浄かつ高温に予熱するの
に用いることが望ましい。この加熱装置を用いれば、再
精錬容器を1200℃以上に予熱することは十分可能で、こ
れにより吸着ガスの離脱、溶湯の冷却防止を図ることが
できる。
【0016】本発明の精錬装置は、前記方法発明を実施
する具体的装置であり、真空または低酸素分圧下の予備
精錬用の炉として、特に誘導加熱精錬炉を用い、この炉
と再精錬炉を近接して設けたものである。誘導加熱精錬
炉は、加炭作用がなく、また溶解原料を要すれば溶解
し、比較的低い不純物値まで高能率かつ低コストで精錬
することが可能である。本発明装置において、誘導加熱
精錬炉はその加熱能力により、溶湯の温度低下を防止し
て本願の第1発明の目的の達成を可能とする。両炉を近
接して設けたことにより、予備精錬を完了された溶湯
は、速やかに再精錬を開始されることができ、前述の効
果的精錬を達成することができ、また、高温に予熱した
更新容器は過度に冷却することなく、速やかに受湯する
ことができる。
【0017】本発明の精錬炉の好ましい実施態様とし
て、再精錬は更新容器内で専用の大気遮断室内で行なう
ようにし、この遮断室と、誘導加熱精錬炉用の大気遮断
室とを隣接または一体的に、各々の室間をバルブ等で開
閉可能にして設け、このバルブの開口を通して更新容器
を移動して誘導加熱精錬炉から受湯できるようにすると
よい。
【0018】こうすると、再精錬側の大気遮断室を空気
排除状態に保つことにより、再精錬容器の予備精錬室へ
の出入に際し、予備精錬室が空気で汚染されることが防
止され、また、再精錬は不活性ガス雰囲気中で行なうこ
とが可能となり、さらに両室を、遮断可能としたこと
で、例えば一方で一次精錬、他方で内張り耐火物の予熱
と、それぞれ独立に互いに干渉することなく、かつ、再
精錬容器は予備精錬によるスプラッシュやヒュームから
独立に保持することが可能である。上記実施態様の精錬
装置においては、真空または低酸素分圧下精錬後の溶湯
を、傾注により出湯形式とすると、該精錬炉が単純化さ
れるので望ましい。
【0019】
【実施例】先ず、本発明の精錬装置の代表的実施例から
説明する。図1は、本発明の精錬装置の一配置例を示す
図である。真空または低酸素分圧下精錬装置1は、側壁
に仕切りバルブ4を有する大気遮断室本体2および蓋体
3からなる大気遮断室a、該大気遮断室a内に設けられ
た誘導加熱精錬炉5、バルブを含む真空排気系6a、造
滓剤またはさらに合金等の副原料の投入系8(誘導加熱
精錬炉用),9(再精錬容器用)およびバルブを含む不
活性ガス導入系7aからなっている。
【0020】再精錬装置20は次の装置等からなる。す
なわち、前述の大気遮断室aに隣接して設けられ、一方
端側に仕切りドア22を有し、かつ仕切りバルブ4を介
して前記大気遮断室aと接続されることにより、大気遮
断室aとの間に連通と遮断が可能とされた大気遮断室
b、該大気遮断室bの天井部に昇降可能に設けられた不
活性ガスプラズマ加熱装置23、前記誘導加熱精錬炉5
の傾注による受湯位置(27′で示す)と、前記不活性
ガスプラズマ加熱装置23の直下部での再精錬位置(2
7で示す)間を、前記バルブ4の開口を経て、軌条およ
び台車24により移動可能とされ、容器底にポーラスプ
ラグ28とスライディングノズル29を有する再精錬容
器27、バルブを含む排気系6b、バルブを含む不活性
ガス供給系7b、鋳造用インゴットケース30とその台
車31からなっている。
【0021】図1に示す設備において、以下に示す手順
で操業を行なう。誘導加熱精錬炉5に、蓋体3を除去し
た状態で固体原料またはアーク炉等で溶解し、一次精錬
された溶湯を取鍋により供給する。続いて、蓋体3を施
し、真空排気系6aにより大気遮断室a内を真空とし、
またはさらに所定ガスを供給して不活性雰囲気とした
後、誘導加熱炉により精錬を開始する。すなわち、大気
遮断室aにおいて誘導加熱精錬炉5により、1Torr以下
の真空または200Torr以下程度の不活性ガス等の雰囲気
において所要温度に保持しつつ所要時間溶湯の予備精錬
を行なう。この予備精錬は、誘導加熱の加熱能力によ
り、精錬温度、時間はほぼ自由に選定できるから、確実
に所定精錬レベルの溶湯を得ることができる。
【0022】並行的に大気遮断室bにおいては、予め外
部で予熱された再精錬容器をセットする。場合により大
気圧付近の不活性ガス雰囲気において、不活性ガスプラ
ズマ加熱装置23を用いて再精錬容器5の内張り耐火物
を溶湯のない状態で加熱し、例えば、出湯温度と同程度
またはそれ以上等適当な温度に加熱することにより、耐
火物を、空気や燃焼生成ガス等によるごとき汚染のない
状態で不動態化し、溶湯を受湯した場合の溶湯の汚染
と、温度低下を最少にするべく加熱待機する。大気遮断
室aでの精錬が完了すると、大気遮断室bの不活性ガス
プラズマ加熱装置23の運転を停止すると同時に大気遮
断室bを真空排気系6bで排気することにより、両室を
同圧力として仕切バルブ4を開放し、その開口を経て再
精錬容器27を軌条および台車24により大気遮断室a
の位置27′へ移動する。
【0023】誘導加熱精錬炉5を傾動する等により、溶
湯を再精錬容器27へ出湯する(容器更新)。出湯後副原
料投入系9により造滓剤、必要によってはさらに合金原
料を添加する(容器が更新されているので、この造滓材
の添加によってもスカム等によるスラグの汚染はな
い)。その後、軌条および台車24により、溶湯を保持
した再精錬容器を速やかに再精錬位置(27)へ移動
し、不活性ガスプラズマ加熱装置により加熱して造滓剤
の溶融、加熱を行ない、かつ不活性ガス導入系7bを経
てポーラスプラグ28からガス吹込み撹拌することによ
り、傾動等による出湯により再精錬容器27内に溶湯と
共に流れ込んだドロス状、スカム状浮遊物や付着物、ま
たはさらに自身の耐火物に起因する汚染物が溶湯内に溶
融拡散する以前に新鮮で活性なスラグで吸収する。この
ことが最大の再精錬効果を生むこととなる。場合によっ
ては、予備精錬レベル以上のレベルに精錬する。再精錬
が終了し、所定の鎮静を行なった後、スライディングノ
ズル29を経てインゴットケース30に鋳造する。
【0024】インゴットケース30内への溶湯の鋳込み
を能率化するために、大気遮断室b内には、インゴット
ケース30をセットできるよう鋳造台車31を設けるこ
とが望ましく、また、仕切ドア22を設けて水平方向に
搬入搬出可能とすることが望ましい。なお、この再精錬
を完了した溶湯は再精錬容器27を天井クレーンなどで
運搬し、大気中で鋳造した場合でも同様に良好な結果が
得られる。次に本願の方法発明の効果を各種のテスト例
で説明する。いずれも、実験に用いた溶湯は、ばね用高
級炭素鋼および高Niステンレス鋼であり、以下の各図
において、○印は、溶湯中O2ガス濃度、×印は同N2
度を表し、また破線は前記高Niステンレス鋼、実線は
ばね用高級炭素鋼を表す。
【0025】図2は、アーク炉で1次精錬した後、真空
誘導加熱精錬炉に受湯して引続き本発明の予備精錬をし
た時の経過時間に対する精錬の進行度合を、鋼中のO2
およびN2ガス濃度で測定した結果を示した図である。
図2から、真空精錬により経過時間とともに、精錬が急
速に進行していることがわかる。図3は、上記により予
備精錬(60分間)した溶湯を傾注により、内張り耐火
物を加熱して準備した再精錬容器に受湯し、そのまま6
0分間放置した時の、ガス濃度の測定結果を示したもの
である。これによると、受湯直後のガス濃度は、本精錬
完了時点のそれとほぼ同様であるが、放置時間の経過と
ともにガス濃度が増加している。この増加は、傾注に伴
って発生した不純物の溶湯への再混入に起因するものと
推定される。
【0026】図4は、前記予備精錬と同一条件で精錬し
た溶湯を予め不活性ガスプラズマ加熱装置で内張り耐火
物を加熱した再精錬容器へ上述と同一条件の傾注により
受湯し、造滓剤を添加すると共に、炉底のポーラスプラ
グによるアルゴンガス撹拌と溶湯上面からの不活性ガス
プラズマ加熱を行ないつつ、本発明における再精錬を行
なった時のガス濃度の変化を示すものである。この図か
ら、本発明に係る再精錬で再混入物の再溶解は防止さ
れ、時間の経過とともに、ガス濃度はむしろ徐々に低下
しており、予備精錬のレベル以上に精錬が進行している
ことがわかる。なお、本発明における再精錬時間は30
〜60分間程度で十分である。
【0027】図5は、鋳造に先立って行なう鎮静処理の
影響を見るために、前記本発明の再精錬に引き続いて、
図3で述べたのと同一条件で再精錬容器中でそのまま鎮
静保持した時の、鎮静保持時間と溶湯中のガス濃度との
関係を示したものである。これによると、本発明におけ
る60分間の再精錬後の溶湯は、60分間の鎮静におい
ても溶湯中のガス濃度の上昇は、図3に比較し非常に低
く、かつ絶対値レベルも低い。したがって、再精錬状態
のままの清浄度を有するインゴットを得ることができる
ことがわかる。同様にして、再精錬時間を30分間と
し、その後同様に鎮静した実験でも上記とほぼ同様の結
果が得られた。
【0028】次に図6は、アーク炉で予備精錬した溶湯
(図2で述べた実験に用いたものとほぼ同様)を真空精
錬することなく、直接本発明における再精錬容器に受湯
し、図4で述べた前述の実験と同条件(スラグ存在下、
ガス吹込み撹拌、不活性ガスプラズマ加熱、以下不活性
ガスプラズマ精錬と記す)で精錬した時の溶湯中ガス濃
度を精錬時間の経過と共に測定した結果を示すものであ
る。これによると、不活性ガスプラズマ精錬法は、かな
り高い精錬作用を有するが、精錬速度的には真空精錬法
にははるかに及ばず、したがって低精錬レベル範囲まで
は、真空精錬法を用い、その後傾注等に伴う再混入分程
度を不活性ガスプラズマ精錬法で再精錬することの有利
性が理解できる。
【0029】なお、以上の実施例において、予備精錬の
例として真空精錬法を用いた例で述べたが、本発明はこ
れに限定されない。すなわち、精錬対象である溶湯が含
有する合金成分元素によっては、その成分の蒸発等によ
る損失を防止抑制するため、通常、絶対圧力で200Torr
程度以下の不活性ガス雰囲気が適宜選定されており、こ
の精錬法に関しては、本発明も例外ではないからであ
る。また、上記実施例において、真空精錬用溶湯は、他
の溶解炉で溶解および一次精錬したものを用いたが、本
発明はこれにも限定されず、冷原料を用いて、溶解と予
備精錬をするものであってもよい。
【0030】
【発明の効果】以上述べたように、本願の第1の方法発
明は、加熱手段を有する精錬炉を用いることにより材質
や要求、精錬レベルの広い範囲に亘り、真空または200T
orr程度以下等のの不活性ガス雰囲気を含む低酸素分圧
下の予備精錬法で、先ず能率的に比較的高い所要のレベ
ルまで確実に精錬した後連続して、炉体壁付着物や浮遊
物等の再混入物質を、それが溶湯全体に均一に溶解しな
いうちに効果的に不活性ガスプラズマ加熱しつつ、スラ
グ存在下で精錬することにより精錬除去可能とするもの
である。
【0031】また、第2の方法発明は、容器を更新する
ことで、造滓剤の添加によるスラグの汚染を防止して第
1発明と同様の不活性ガスプラズマによる再精錬に移行
するものである。これにより、材質や要求精錬レベル、
さらには炉容量の限定を受けず、柔軟に対応して高度に
精錬された溶湯が得られ、健全なインゴット、鋳造品を
得ることを可能とするものである。また、本願の装置発
明は、方法の発明の予備精錬を誘導加熱炉として、これ
を不活性ガスプラズマ再精錬炉を近接して設けたので、
予備精錬後、短時間内に再精錬を開始することができ、
本願の方法発明を効果的に実施することを可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本願の装置発明の一配置例を示す図である。
【図2】アーク炉で予備精錬した溶湯を真空誘導炉で本
精錬した時の、精錬経過時間に対する精錬の進行度合を
鋼中のO2およびN2ガス濃度で示した図である。
【図3】上記本精錬(図2)後、炉体の傾注により受湯
し、放置した時の再汚染状況を示す図である。
【図4】上記本精錬(図2)後、本発明の再精錬を行な
った時の溶湯中ガス濃度を示す図である。
【図5】上記本発明の再精錬(図4)後、そのまま鎮静
し、その経過時間と溶湯中ガス濃度との関係を示す図で
ある。
【図6】アーク炉で予備精錬した溶湯を本発明における
再精錬と同条件で精錬した時の精錬時間と溶湯中ガス濃
度との関係を示す図である。
【符号の説明】
1 真空または低酸素分圧下精錬装置、2 大気遮断室
本体、3 蓋体、4仕切りバルブ、5 誘導加熱精錬
炉、6a 真空排気系、6b 真空排気系、7a 不活
性ガス導入系、7b 不活性ガス導入系、8 副原料投
入系、9 副原料投入系、20 再精錬装置、22 仕
切りドア、23 不活性ガスプラズマ加熱装置、24
軌条および台車、27 再精錬容器(再精錬位置)、2
8 ポーラスプラグ、29 スライディングノズル、3
0 インゴットケース、31 台車、a 大気遮断室、
b 大気遮断室
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 充 島根県安来市安来町2107番地の2 日立金 属株式会社安来工場内 (72)発明者 金元 克己 島根県安来市安来町2107番地の2 日立金 属株式会社安来工場内 (72)発明者 向井 孝 島根県安来市安来町2107番地の2 日立金 属株式会社安来工場内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 溶湯を、加熱手段を有する容器中で真空
    または低酸素分圧雰囲気で予備精錬した後、該溶湯に造
    滓剤を添加し、不活性ガスプラズマにより加熱して再精
    錬することを特徴とする溶湯の精錬方法。
  2. 【請求項2】 予備精錬の加熱手段は誘導加熱によるも
    のである請求項1の溶湯の精錬方法。
  3. 【請求項3】 真空または低酸素分圧雰囲気中に置かれ
    た容器中の溶湯を前記雰囲気中で予備精錬した後、前記
    溶湯を前記容器とは別容器に移すとともに造滓剤を添加
    し、不活性ガスプラズマにより加熱して再精錬すること
    を特徴とする溶湯の精錬方法。
  4. 【請求項4】 溶湯を予備精錬した後、さらに再精錬す
    るための精錬装置であって、真空誘導加熱による予備精
    錬炉および不活性ガスプラズマ加熱装置と副原料投入装
    置とを備えた再精錬炉からなり、これら両炉を近接して
    配置したことを特徴とする溶湯の精錬装置。
  5. 【請求項5】 溶湯を予備精錬した後、さらに再精錬す
    るための精錬装置であって、互いに連通と遮断が可能と
    され、いずれも排気系を有する二つの大気遮断室を接近
    して設け、その一方に、収容した溶湯を出湯可能にして
    誘導加熱精錬炉を、他方に、不活性ガスプラズマ加熱装
    置をそれぞれ設けるとともに、前記精錬炉から受湯する
    位置と前記不活性ガスプラズマ加熱装置を用いて再精錬
    する位置との間を移動可能にして再精錬容器を設け、さ
    らに前記再精錬容器へ造滓剤を包含する副原料を供給可
    能に副原料投入装置を設けたことを特徴とする請求項4
    の溶湯の精錬装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101015019B1 (ko) * 2007-12-07 2011-02-16 김주용 이중 버블링 필터를 구비한 정련 장치
JP2016172911A (ja) * 2015-03-18 2016-09-29 日立金属株式会社 鋳造装置および鋳造方法
CN111235405A (zh) * 2020-03-20 2020-06-05 四川博鑫铜业有限公司 一种低氧铜杆制备工艺

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