JPS6035408B2 - 溶銑の連続処理法および装置 - Google Patents
溶銑の連続処理法および装置Info
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- JPS6035408B2 JPS6035408B2 JP955178A JP955178A JPS6035408B2 JP S6035408 B2 JPS6035408 B2 JP S6035408B2 JP 955178 A JP955178 A JP 955178A JP 955178 A JP955178 A JP 955178A JP S6035408 B2 JPS6035408 B2 JP S6035408B2
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- hot metal
- tank
- zone
- dephosphorization
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- Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は溶銑の脱燐と脱硫を同時に行なうための溶鉄の
連続処理方法および装置に関するものである。
連続処理方法および装置に関するものである。
近年、低硫および低燐鋼の要請が強くなってきているの
に対し、高炉の原料事情から溶銑中の硫黄および燐の含
有量は高くなる傾向にあり、溶鉄を主原料とする転炉製
鋼法においては十分な低硫、低燐鋼を得ることが困難に
なっている。
に対し、高炉の原料事情から溶銑中の硫黄および燐の含
有量は高くなる傾向にあり、溶鉄を主原料とする転炉製
鋼法においては十分な低硫、低燐鋼を得ることが困難に
なっている。
このため、ダブルスラグ法やＬＤ−ＡＣ法などの転炉製
錬法の改良が提案されているが、これらの方法は製造コ
ストが高くなり、また精錬時間が長くなることによる熔
鋼組成や溶鋼温度の調整が困難化するといった問題があ
る。したがって転炉装入前の溶銑に対して効果的な脱硫
脱燐処理が望まれる。だが、港銑の脱硫と脱燐のため条
件は相反するので、同時的な処理と行なうことは実現し
得ないものと考えられていた。すなわち、港銃の脱硫は
高塩基性スラグを用いて還元性雰囲気のもとで実施する
もことが望ましく、ＣやＳｉなどの硫黄の活量を高める
元素の共存によって脱硫効率が向上するが（このため溶
鉄の炉外脱硫が一般に行なわれている）、これに対し、
溶銑の脱燐は、Ｐの酸化除去を行なうために酸化性雰囲
気下での塩基性スラグ処理が必要であり、Ｃ，Ｓｉ，Ｍ
ｎなどの酸素との親和力と大きな元素の含有量が高い熔
銑では効果的な脱燐を実施することができない。
錬法の改良が提案されているが、これらの方法は製造コ
ストが高くなり、また精錬時間が長くなることによる熔
鋼組成や溶鋼温度の調整が困難化するといった問題があ
る。したがって転炉装入前の溶銑に対して効果的な脱硫
脱燐処理が望まれる。だが、港銑の脱硫と脱燐のため条
件は相反するので、同時的な処理と行なうことは実現し
得ないものと考えられていた。すなわち、港銃の脱硫は
高塩基性スラグを用いて還元性雰囲気のもとで実施する
もことが望ましく、ＣやＳｉなどの硫黄の活量を高める
元素の共存によって脱硫効率が向上するが（このため溶
鉄の炉外脱硫が一般に行なわれている）、これに対し、
溶銑の脱燐は、Ｐの酸化除去を行なうために酸化性雰囲
気下での塩基性スラグ処理が必要であり、Ｃ，Ｓｉ，Ｍ
ｎなどの酸素との親和力と大きな元素の含有量が高い熔
銑では効果的な脱燐を実施することができない。
したがって、脱燐処理にとつては、ＣやＳｉ，Ｍｎをで
きるだけ低めることが大切であり、脱硫の場合とは全く
逆の条件が必要である。このため、脱硫と脱燐を同時に
行なうことは困難とされていた。例えば従来の溶銑の脱
硫方法としては、 ＣａＣ２，Ｃａ０，Ｎａ２Ｃ０３などを溶銑中に投入し
て鍵拝する方法、またはこれらの物質を不活性ガスによ
って吹込む方法などが知られているが、この脱硫方法で
は脱燐は全く期待できない。
きるだけ低めることが大切であり、脱硫の場合とは全く
逆の条件が必要である。このため、脱硫と脱燐を同時に
行なうことは困難とされていた。例えば従来の溶銑の脱
硫方法としては、 ＣａＣ２，Ｃａ０，Ｎａ２Ｃ０３などを溶銑中に投入し
て鍵拝する方法、またはこれらの物質を不活性ガスによ
って吹込む方法などが知られているが、この脱硫方法で
は脱燐は全く期待できない。
また従釆の溶銑の脱燐方法としては、Ｆｅ２０３を多量
に含む塩基性スラグを投入して縄拝を行なう方法、塩基
性スラグを投入して酸素を吹込む方法などの溶鉄中のＰ
を酸化除去する方法が知られているが、この場合には脱
硫はほとんど望めない。
に含む塩基性スラグを投入して縄拝を行なう方法、塩基
性スラグを投入して酸素を吹込む方法などの溶鉄中のＰ
を酸化除去する方法が知られているが、この場合には脱
硫はほとんど望めない。
しかもこれらの熔銑の脱燐処理では、転炉製鋼法での重
要な熱源となるＣ，Ｓｉ，Ｍｎ含有量の減少が余儀なく
される。本発明は、溶銘の脱硫と脱燐を同時にしかも連
続的に行なう方法および装置を提供するもので、先に侍
豚昭５１一４４７８３号および持願昭５１−１０３４３
１号で提案した方法の知見事実を基礎として、これを一
層発展させ、実操業上有利に脱燐脱硫処理を行なえるよ
うにしたものである。
要な熱源となるＣ，Ｓｉ，Ｍｎ含有量の減少が余儀なく
される。本発明は、溶銘の脱硫と脱燐を同時にしかも連
続的に行なう方法および装置を提供するもので、先に侍
豚昭５１一４４７８３号および持願昭５１−１０３４３
１号で提案した方法の知見事実を基礎として、これを一
層発展させ、実操業上有利に脱燐脱硫処理を行なえるよ
うにしたものである。
すなわち本発明は、港銑が実質上連続して流れる一連の
流れ過程において外気と遮断した少なくとも２つの独立
した帯城を形成し、第１の帯域内の溶鉄に対して酸素源
を導入することによってＳｉ含有量が０．０５〜０．３
０％の港鉄に塔製し、引続く第２の帯域内の該溶銑に対
して溶銑トン当り１０〜６０ｋ９のＮａ２Ｃ０３を投入
することによって脱燐と脱硫の反応を進行させることを
特徴とする溶銑の連続処理法を提供するもので、この方
法の実施に好適な装置として、１つの槽内をもぐり堰に
よって少なくとも３つの小檀に分割し、そのうち少なく
とも２つの小槽に蓋を敬付けて閉塞構造に小槽に形成し
、各閉塞構造の小槽に気体、固体または液体状の物質を
導入するための物質供給口を設置するとともに擬淫口を
設け、かっこの各閉塞構造の小槽に櫨梓手段を取付けて
なる溶銑の脱燐脱硫用達続処理装置を開発したものであ
る。以下に本発明の詳細ならびに原理について述べる。
流れ過程において外気と遮断した少なくとも２つの独立
した帯城を形成し、第１の帯域内の溶鉄に対して酸素源
を導入することによってＳｉ含有量が０．０５〜０．３
０％の港鉄に塔製し、引続く第２の帯域内の該溶銑に対
して溶銑トン当り１０〜６０ｋ９のＮａ２Ｃ０３を投入
することによって脱燐と脱硫の反応を進行させることを
特徴とする溶銑の連続処理法を提供するもので、この方
法の実施に好適な装置として、１つの槽内をもぐり堰に
よって少なくとも３つの小檀に分割し、そのうち少なく
とも２つの小槽に蓋を敬付けて閉塞構造に小槽に形成し
、各閉塞構造の小槽に気体、固体または液体状の物質を
導入するための物質供給口を設置するとともに擬淫口を
設け、かっこの各閉塞構造の小槽に櫨梓手段を取付けて
なる溶銑の脱燐脱硫用達続処理装置を開発したものであ
る。以下に本発明の詳細ならびに原理について述べる。
Ｎａ２Ｃ０３を溶銑中に投入すると、次の【１）〜糊の
反応が同時に進行する。
反応が同時に進行する。
Ｎａ２Ｃ０３（１）→Ｎａ２Ｃ０３（ｇ） ．・．．
・・‘１）がａ２Ｃ０３十Ｓｉ→Ｎａ４Ｓｉ０４十本０
（ｇ）・・・…【２’９Ｎａ２Ｃ０３十が一２Ｎａ３Ｐ
０４十２Ｎａ２０十９Ｃ０（ｇ）．・・．・・‘３｝ Ｎａ２ＣＱは脱ＣおよびＭｎを起すことなく、脱Ｐおよ
び脱Ｓの作用効果を供するが、上記■式の如き脱Ｓｉと
、｛１）〜‘３｝式の如くガス発生を伴う。
・・‘１）がａ２Ｃ０３十Ｓｉ→Ｎａ４Ｓｉ０４十本０
（ｇ）・・・…【２’９Ｎａ２Ｃ０３十が一２Ｎａ３Ｐ
０４十２Ｎａ２０十９Ｃ０（ｇ）．・・．・・‘３｝ Ｎａ２ＣＱは脱ＣおよびＭｎを起すことなく、脱Ｐおよ
び脱Ｓの作用効果を供するが、上記■式の如き脱Ｓｉと
、｛１）〜‘３｝式の如くガス発生を伴う。
この脱Ｓｉとガス発生は実操業において問題となる。脱
Ｓｉについては、Ｎａ２Ｃ０３はＳｉとの親和力が強い
ので、溶銑中Ｓｉ％が高い場合にはこれが避けられず、
Ｓｉとの反応によってＮａ２Ｃ０３の消費量が増加して
脱Ｐ効果が低下する。このため、効果的な脱Ｐ処理には
何らかのＳｉ対策が必要とされる。本発明者らの実験に
よると、溶銑中のＳｉ％を０．３０％以下に低下すれば
、脱Ｐ率の高い処理ができることを確認している。一方
、ガス発生については、種々の調査の結果、ダスト分と
ガス分に区別され、ダスト分はＮａ２ＣＱの気化反応に
より生成する高純度のＮａ２Ｃ０３であり、ガス分は９
０〜９５％のＣＯであることを確認した。
Ｓｉについては、Ｎａ２Ｃ０３はＳｉとの親和力が強い
ので、溶銑中Ｓｉ％が高い場合にはこれが避けられず、
Ｓｉとの反応によってＮａ２Ｃ０３の消費量が増加して
脱Ｐ効果が低下する。このため、効果的な脱Ｐ処理には
何らかのＳｉ対策が必要とされる。本発明者らの実験に
よると、溶銑中のＳｉ％を０．３０％以下に低下すれば
、脱Ｐ率の高い処理ができることを確認している。一方
、ガス発生については、種々の調査の結果、ダスト分と
ガス分に区別され、ダスト分はＮａ２ＣＱの気化反応に
より生成する高純度のＮａ２Ｃ０３であり、ガス分は９
０〜９５％のＣＯであることを確認した。
したがって、このダストについては乾式集塵機により回
収し再利用すればＮａ２Ｃ０３原単位の低下ができ、ま
た集塵後の排ガスはこれを熱源として再利用可能である
。本発明は「 この事実にもとずき、熔銃の脱Ｐと脱Ｓ
を一連の連続処理によって効果的に行なえるようにした
ものである。
収し再利用すればＮａ２Ｃ０３原単位の低下ができ、ま
た集塵後の排ガスはこれを熱源として再利用可能である
。本発明は「 この事実にもとずき、熔銃の脱Ｐと脱Ｓ
を一連の連続処理によって効果的に行なえるようにした
ものである。
図示の装置に従って具体的に説明しよう。第１〜２図に
示すように、反応装置は耐火レンガで内張りした水平な
容器１からなり、この容器内をもぐり堰構造２，２′に
よって溶鉄の流れの順に３個の小槽Ａ，Ｂ，Ｃに分割し
、小槽ＢおよびＣには蓋体３を取付けることによって閉
塞構造の反応槽に構成してある。そして、閉塞構造の小
槽Ｂの蓋部には送酸ランス４およびスケール供給口５が
設けられ、閉塞構造の小槽Ｃの蓋体にはＮａ２Ｃ０３供
給口６が設けられている。また各小槽Ａ，Ｂ，Ｃのスラ
グ浴面に相当する位置に各々スラグ排出口７，８，９を
設け、小槽ＢとＣの底面には不活性ガス吹込用のポーラ
スプラグ１０および１１を取付けてある。この容器１内
に溶銑は溶銑注入ロー２から連続注入され、もぐり堰構
造の各達通孔１３および１４を経て出鉄ロー５に導かれ
るのであるが、この間、小槽Ａはスラグーメタル分離槽
の機能を果たし、小槽Ｂは脱Ｓｉ槽、小槽Ｃは脱Ｐ脱Ｓ
槽の機能を果たすようになっている。運適孔１３，運通
孔１４および出鉄ロー５は順次その高さが若干低くなる
ように設けられ、蓮通孔１３と１４は第２図で明らかな
ように、スラグ排出口８および９よりも若干遠ざかる位
置に偏位して設けられている。このように、反応装置は
溶鉄が実質上連続して流れる一連の流れ過程において外
気と遮断した２つの独立した帯城（４・檀ＢとＣ）を形
成するのであるが、そる実施にさしては、小槽Ｂ内の溶
鉄に対してスケール供給口５からスケールを連続的に投
入するか送酸ランス４から純酸素を送酸することによっ
てＳｊ含有量が０．０５〜０．３０％の港銑に溶製し、
引続く小槽Ｃ内の熔銑に対してＮａ２Ｃ０３投入口６か
ら熔鉄トン当り１０〜６０ｋ９のＮａ２Ｃ０３を連続投
入することによって脱Ｐと脱Ｓの反応を進行させる。
示すように、反応装置は耐火レンガで内張りした水平な
容器１からなり、この容器内をもぐり堰構造２，２′に
よって溶鉄の流れの順に３個の小槽Ａ，Ｂ，Ｃに分割し
、小槽ＢおよびＣには蓋体３を取付けることによって閉
塞構造の反応槽に構成してある。そして、閉塞構造の小
槽Ｂの蓋部には送酸ランス４およびスケール供給口５が
設けられ、閉塞構造の小槽Ｃの蓋体にはＮａ２Ｃ０３供
給口６が設けられている。また各小槽Ａ，Ｂ，Ｃのスラ
グ浴面に相当する位置に各々スラグ排出口７，８，９を
設け、小槽ＢとＣの底面には不活性ガス吹込用のポーラ
スプラグ１０および１１を取付けてある。この容器１内
に溶銑は溶銑注入ロー２から連続注入され、もぐり堰構
造の各達通孔１３および１４を経て出鉄ロー５に導かれ
るのであるが、この間、小槽Ａはスラグーメタル分離槽
の機能を果たし、小槽Ｂは脱Ｓｉ槽、小槽Ｃは脱Ｐ脱Ｓ
槽の機能を果たすようになっている。運適孔１３，運通
孔１４および出鉄ロー５は順次その高さが若干低くなる
ように設けられ、蓮通孔１３と１４は第２図で明らかな
ように、スラグ排出口８および９よりも若干遠ざかる位
置に偏位して設けられている。このように、反応装置は
溶鉄が実質上連続して流れる一連の流れ過程において外
気と遮断した２つの独立した帯城（４・檀ＢとＣ）を形
成するのであるが、そる実施にさしては、小槽Ｂ内の溶
鉄に対してスケール供給口５からスケールを連続的に投
入するか送酸ランス４から純酸素を送酸することによっ
てＳｊ含有量が０．０５〜０．３０％の港銑に溶製し、
引続く小槽Ｃ内の熔銑に対してＮａ２Ｃ０３投入口６か
ら熔鉄トン当り１０〜６０ｋ９のＮａ２Ｃ０３を連続投
入することによって脱Ｐと脱Ｓの反応を進行させる。
そのさし、、小槽ＢおよびＣのポーラスプラグ１０およ
び１１からＮ２ガスを吹込んで鷹梓を行なうとともに、
各小槽Ａ，Ｂ，Ｃにおいて各々滞積または生成するスラ
グ分はスラグ排出口７，８，９から各々出律し、小槽Ｂ
において発生するガスは排ガスロー６から集塵機（図示
しない）に導かれ、他方小槽Ｃにおいて発生するガスは
排ガスロー７からダストガス回収装置（図示しない）に
導かれ、Ｎａ２Ｃ０３とＣＯの回収が行なわれ、再生Ｎ
ａ２Ｃ０３は小槽に再投入される。小槽Ｂにおける脱Ｓ
ｉ操業のさし、、Ｓｉ％を０．０５％以下にまで減少さ
せると、Ｃ，Ｍｎの低下が大きくなり、本発明法の特徴
の１つが失なわれることになる。
び１１からＮ２ガスを吹込んで鷹梓を行なうとともに、
各小槽Ａ，Ｂ，Ｃにおいて各々滞積または生成するスラ
グ分はスラグ排出口７，８，９から各々出律し、小槽Ｂ
において発生するガスは排ガスロー６から集塵機（図示
しない）に導かれ、他方小槽Ｃにおいて発生するガスは
排ガスロー７からダストガス回収装置（図示しない）に
導かれ、Ｎａ２Ｃ０３とＣＯの回収が行なわれ、再生Ｎ
ａ２Ｃ０３は小槽に再投入される。小槽Ｂにおける脱Ｓ
ｉ操業のさし、、Ｓｉ％を０．０５％以下にまで減少さ
せると、Ｃ，Ｍｎの低下が大きくなり、本発明法の特徴
の１つが失なわれることになる。
また、この小槽ＢにおいてＳｊを０．３０％以下に減少
させないで、これ以上のＳｉ％のまま小槽Ｃに流入する
と、小槽Ｃにおいて、脱Ｐよりも脱Ｓｉが優先し、Ｎａ
２Ｃ０３が脱Ｓｊのために消費されるので、脱Ｐ率が急
激に低下する。この小槽Ｂにおける脱Ｓｉ反応を行なわ
せるために、通常の高炉熔銃を使用する場合、スケール
投入量は溶鉄トン当り５〜２０ｋ９、または送酸を行な
う場合には溶銑トン当り３〜卵での送酸量が適当である
。この脱Ｓｉ溶鉄に対する４・糟Ｃでの脱Ｐ脱Ｓ操業は
Ｎａ２Ｃ０３の投入量を溶銑トン当り１０〜６０ｋ９の
範囲で行なうのが肝要である。１０ｋ９未満であると脱
Ｐ効果は急激に低下する。
させないで、これ以上のＳｉ％のまま小槽Ｃに流入する
と、小槽Ｃにおいて、脱Ｐよりも脱Ｓｉが優先し、Ｎａ
２Ｃ０３が脱Ｓｊのために消費されるので、脱Ｐ率が急
激に低下する。この小槽Ｂにおける脱Ｓｉ反応を行なわ
せるために、通常の高炉熔銃を使用する場合、スケール
投入量は溶鉄トン当り５〜２０ｋ９、または送酸を行な
う場合には溶銑トン当り３〜卵での送酸量が適当である
。この脱Ｓｉ溶鉄に対する４・糟Ｃでの脱Ｐ脱Ｓ操業は
Ｎａ２Ｃ０３の投入量を溶銑トン当り１０〜６０ｋ９の
範囲で行なうのが肝要である。１０ｋ９未満であると脱
Ｐ効果は急激に低下する。
また６０ｋ９を超える量で添加しても脱Ｐ効果はほとん
ど変わず、Ｎａ２Ｃ０３の気化に伴う発煙が激しくなる
ばかりで、作業性を著しく悪くすることになる。なお、
このＮａ２Ｃ０３の投入にあっては、予め別個の炉にお
いて溶融したＮａ２Ｃ０３を投入するようにしてもよい
。この場合にも固体状のＮａ２Ｃ０３の投入の場合と比
べて脱Ｐ脱Ｓ効果に実質上の差異はあらわれず、溶銑の
温度低下を避けることができる上では有利である。なお
、小槽ＢおよびＣにおける縄拝はポーラスプラグによる
ガス燈梓以外の手段によってもよいし、場合によっては
無蝿拝でも所期の効果を得ることができる。このように
して、本発明によるときは、 Ｎａ２Ｃ０３の循環再利用とＣＯガス回収を計りながら
、脱Ｐ脱Ｓ銑が一連の連続処理によって出銑口から連続
的に出銑され、次工程の転炉に廻される。
ど変わず、Ｎａ２Ｃ０３の気化に伴う発煙が激しくなる
ばかりで、作業性を著しく悪くすることになる。なお、
このＮａ２Ｃ０３の投入にあっては、予め別個の炉にお
いて溶融したＮａ２Ｃ０３を投入するようにしてもよい
。この場合にも固体状のＮａ２Ｃ０３の投入の場合と比
べて脱Ｐ脱Ｓ効果に実質上の差異はあらわれず、溶銑の
温度低下を避けることができる上では有利である。なお
、小槽ＢおよびＣにおける縄拝はポーラスプラグによる
ガス燈梓以外の手段によってもよいし、場合によっては
無蝿拝でも所期の効果を得ることができる。このように
して、本発明によるときは、 Ｎａ２Ｃ０３の循環再利用とＣＯガス回収を計りながら
、脱Ｐ脱Ｓ銑が一連の連続処理によって出銑口から連続
的に出銑され、次工程の転炉に廻される。
本発明の適用によって、所望の低域値のＰ，Ｓ含有量の
溶鉄が制御性よく得られるので、転炉製鋼での負荷は大
中に低減する。以下に実施例を述べる。
溶鉄が制御性よく得られるので、転炉製鋼での負荷は大
中に低減する。以下に実施例を述べる。
実施例
第１〜２図に示す構造を有し、その俗の形状が、スラグ
ーメタル分離槽Ａ；３０狐中×５の柴さ×１５０伽長さ
、脱Ｓｉ槽Ｂ；３０伽中×２５肌深さ×２００弧長さ、
脱Ｐ脱Ｓ槽Ｃ；３０伽中×２０弧深さ×２００弧長さ、
である試験反応装置を用い、下記第１表に各々表示の化
学成分値を有する製鋼用溶鉄を３５０ｋ９／ｍｉｎの速
度で連続的に供給しながら、脱Ｓｉ槽Ｂおよび脱Ｐ脱Ｓ
槽Ｃにおいて脱Ｓｉ剤（酸素源）およびＮａ２Ｃ０３を
第１表に示した投入量で連続的に投入し、各投入物質の
投入量（投入速度）が異る５種の試験を行なって、各段
階での溶銑成分の変化を調べた。
ーメタル分離槽Ａ；３０狐中×５の柴さ×１５０伽長さ
、脱Ｓｉ槽Ｂ；３０伽中×２５肌深さ×２００弧長さ、
脱Ｐ脱Ｓ槽Ｃ；３０伽中×２０弧深さ×２００弧長さ、
である試験反応装置を用い、下記第１表に各々表示の化
学成分値を有する製鋼用溶鉄を３５０ｋ９／ｍｉｎの速
度で連続的に供給しながら、脱Ｓｉ槽Ｂおよび脱Ｐ脱Ｓ
槽Ｃにおいて脱Ｓｉ剤（酸素源）およびＮａ２Ｃ０３を
第１表に示した投入量で連続的に投入し、各投入物質の
投入量（投入速度）が異る５種の試験を行なって、各段
階での溶銑成分の変化を調べた。
第１表における比較例は、Ｎａ２Ｃ０３の投入量が本発
明で規定する量よりも少量である場合の例である。
明で規定する量よりも少量である場合の例である。
脳
船
第１表の結果から明らかなように、本発明に従う実施例
１〜４においては、ＣおよびＭｎの低下をきたすことな
く非常に高い脱Ｐ率で脱Ｐが行なわれ、同時に大中な脱
Ｓも進行して、低Ｐ低Ｓ銑が得られる。
１〜４においては、ＣおよびＭｎの低下をきたすことな
く非常に高い脱Ｐ率で脱Ｐが行なわれ、同時に大中な脱
Ｓも進行して、低Ｐ低Ｓ銑が得られる。
しかし比較例においては脱Ｐが不十分である。
第１図は本発明に従う装置の断面図、第２図は第１図の
ローロ線矢視断面図である。 １・・・・・・反応容器、２，２′…・・・もぐり堰、
３・・・蓋体、４・・・・・・送酸ランス、５・・・・
・・スケール供給口、６……Ｎａ２ＣＱ供給口、７，８
，９……スラグ排出口、１０，１１……ポーラスプラグ
、１２・・・・・・溶鉄注入口、１３，１４・・・・・
・連通孔、１５・・・・・・出銑口、１６・・・・・・
集塵機に通ずる排ガス口、１７・・・・・・ダスト回収
装置に通ずる排ガス口、Ａ・・・・・・スラグーメタル
分離槽、Ｂ・・・・・・脱Ｓｉ槽、Ｃ・・・・・・脱Ｐ
脱Ｓ槽。 第１図 第２図
ローロ線矢視断面図である。 １・・・・・・反応容器、２，２′…・・・もぐり堰、
３・・・蓋体、４・・・・・・送酸ランス、５・・・・
・・スケール供給口、６……Ｎａ２ＣＱ供給口、７，８
，９……スラグ排出口、１０，１１……ポーラスプラグ
、１２・・・・・・溶鉄注入口、１３，１４・・・・・
・連通孔、１５・・・・・・出銑口、１６・・・・・・
集塵機に通ずる排ガス口、１７・・・・・・ダスト回収
装置に通ずる排ガス口、Ａ・・・・・・スラグーメタル
分離槽、Ｂ・・・・・・脱Ｓｉ槽、Ｃ・・・・・・脱Ｐ
脱Ｓ槽。 第１図 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 溶銑が実質上連続して流れる一連の流れ過程におい
て外気と遮断した少なくとも２つの独立した帯域を形成
し、第１の帯域内の溶銑に対して酸素源を導入すること
によつてＳｉ含有量が０．０５〜０．３０％の溶銑に溶
製し、引続く第２の帯域内の該溶銑に対して溶銑トン当
り１０〜６０ｋｇのＮａ＿２ＣＯ＿３を投入することに
よつて脱燐と脱硫の反応を進行させることを特徴とする
溶銑の連続処理法。 ２ 酸素源は酸化鉄および／または気体酸素である特許
請求の範囲第１項記載の処理法。 ３ 第１の帯域および第２の帯域において排滓処理を伴
う特許請求の範囲第１項または第２項記載の処理法。 ４ １つの槽内をもぐり堰によつて少なくとも３つの小
槽に分割し、その内少なくとも２つの小槽に蓋を取付け
た閉塞構造の小槽に形成し、各閉塞構造の小槽に気体、
固体または液体状の物質を導入するための物質供給口を
設置するとともに排滓口を設け、かつこの各閉塞構造の
小槽に撹拌手段を取付けてなる溶銑の脱燐脱硫用連続処
理装置。 ５ 撹拌手段は小槽底部に設けられた不活性ガス吹込用
ポーラスプラグである特許請求の範囲第４項記載の処理
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP955178A JPS6035408B2 (ja) | 1978-01-31 | 1978-01-31 | 溶銑の連続処理法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP955178A JPS6035408B2 (ja) | 1978-01-31 | 1978-01-31 | 溶銑の連続処理法および装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54102217A JPS54102217A (en) | 1979-08-11 |
| JPS6035408B2 true JPS6035408B2 (ja) | 1985-08-14 |
Family
ID=11723405
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP955178A Expired JPS6035408B2 (ja) | 1978-01-31 | 1978-01-31 | 溶銑の連続処理法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6035408B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020239554A1 (en) * | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Tata Steel Nederland Technology B.V. | Device and method for continuous desulphurisation of liquid hot metal |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60184613A (ja) * | 1984-03-02 | 1985-09-20 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 溶銑の予備処理方法 |
| JPS61210110A (ja) * | 1985-03-14 | 1986-09-18 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 出銑樋の途中において溶銑中の硫黄を除去する方法 |
-
1978
- 1978-01-31 JP JP955178A patent/JPS6035408B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020239554A1 (en) * | 2019-05-24 | 2020-12-03 | Tata Steel Nederland Technology B.V. | Device and method for continuous desulphurisation of liquid hot metal |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54102217A (en) | 1979-08-11 |
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