JPH0740098B2 - カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 - Google Patents
カイラルスメクチック液晶素子の製造方法Info
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- JPH0740098B2 JPH0740098B2 JP27535286A JP27535286A JPH0740098B2 JP H0740098 B2 JPH0740098 B2 JP H0740098B2 JP 27535286 A JP27535286 A JP 27535286A JP 27535286 A JP27535286 A JP 27535286A JP H0740098 B2 JPH0740098 B2 JP H0740098B2
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- liquid crystal
- heat
- color filter
- resin
- chiral smectic
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、液晶表示素子や液晶−光シャッターアレイ等
のカイラルスメクチック液晶素子の製造方法に関し、更
に詳しくは、液晶分子の初期配向状態を改善することに
より、配向欠陥のない均一なモノドメインの液晶相を
得、表示ならびに駆動特性を改善したカラーフィルター
を有する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子の製造
方法に関するものである。
のカイラルスメクチック液晶素子の製造方法に関し、更
に詳しくは、液晶分子の初期配向状態を改善することに
より、配向欠陥のない均一なモノドメインの液晶相を
得、表示ならびに駆動特性を改善したカラーフィルター
を有する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子の製造
方法に関するものである。
［従来の技術］ 従来の液晶素子としては、例えばエム・シャット（M.Sc
hadt）とダブリュー・ヘルフリッヒ（W.Helfrich）著
“アプライド・フィジックス・レターズ”（“Applied
Physics Letters"）第18巻、第４号（1971年２月15日発
行）、第127頁〜128頁の“ボルテージ・ディペンダント
・オプティカル・アクティビティー・オブ・ア・ツイス
テッド・ネマチック・リキッド・クリスタル（“Voltag
e Dependent Optical Activity of a Twisted Nematic
Liquid Crystal"）に示されたツイステッド・ネマチッ
ク（twisted nematic）液晶を用いたものが知られてい
る。このTN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極
構造を用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する
問題点があるため、画素数が制限されていた。
hadt）とダブリュー・ヘルフリッヒ（W.Helfrich）著
“アプライド・フィジックス・レターズ”（“Applied
Physics Letters"）第18巻、第４号（1971年２月15日発
行）、第127頁〜128頁の“ボルテージ・ディペンダント
・オプティカル・アクティビティー・オブ・ア・ツイス
テッド・ネマチック・リキッド・クリスタル（“Voltag
e Dependent Optical Activity of a Twisted Nematic
Liquid Crystal"）に示されたツイステッド・ネマチッ
ク（twisted nematic）液晶を用いたものが知られてい
る。このTN液晶は、画素密度を高くしたマトリクス電極
構造を用いた時分割駆動の時、クロストークを発生する
問題点があるため、画素数が制限されていた。
また、各画素に薄膜トランジスタによるスイッチング素
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成す
ることが難しい問題点がある。
子を接続し、各画素毎をスイッチングする方式の表示素
子が知られているが、基板上に薄膜トランジスタを形成
する工程が極めて煩雑な上、大面積の表示素子を作成す
ることが難しい問題点がある。
これらの問題点を解決するものとして、クラーク（Clar
k）等により米国特許第4,367,924号明細書で強誘電性液
晶素子が提案されている。
k）等により米国特許第4,367,924号明細書で強誘電性液
晶素子が提案されている。
第２図は強誘電性液晶の動作説明のために、セルの例を
模式的に描いたものである。21aと21bは、In2O3、SnO2
やITO（Indium Tin Oxide）等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板（ガラス板）であり、その間に複数の
液晶分子層22がガラス面に垂直になる様に配向したSmC
＊相またはSmH＊相の液晶が封入されている。太線で示
した線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
は、その分子に直交した方向に双極子モーメント
（Ｐ⊥）24を有している。基板21aと21b上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23のらせん
構造がほどけ、双極子モーメント（Ｐ⊥）24はすべて電
界方向に向くよう、液晶分子23の配向方向を変えること
ができる。液晶分子23は細長い形状を有しており、その
長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例え
ばガラス面の上下に互いにクロスニコルの位置関係に配
置した偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは容易に理解され
る。
模式的に描いたものである。21aと21bは、In2O3、SnO2
やITO（Indium Tin Oxide）等の薄膜からなる透明電極
で被覆された基板（ガラス板）であり、その間に複数の
液晶分子層22がガラス面に垂直になる様に配向したSmC
＊相またはSmH＊相の液晶が封入されている。太線で示
した線23が液晶分子を表わしており、この液晶分子23
は、その分子に直交した方向に双極子モーメント
（Ｐ⊥）24を有している。基板21aと21b上の電極間に一
定の閾値以上の電圧を印加すると、液晶分子23のらせん
構造がほどけ、双極子モーメント（Ｐ⊥）24はすべて電
界方向に向くよう、液晶分子23の配向方向を変えること
ができる。液晶分子23は細長い形状を有しており、その
長軸方向と短軸方向で屈折率異方性を示し、従って例え
ばガラス面の上下に互いにクロスニコルの位置関係に配
置した偏光子を置けば、電圧印加極性によって光学特性
が変わる液晶光学変調素子となることは容易に理解され
る。
本発明において強誘電性液晶素子で好ましく用いられる
液晶セルは、その厚さを充分に薄く（例えば10μ以下）
することができる。このように液晶相が薄くなるにした
がい、第３図に示すように電界を印加していない状態で
も液晶分子のらせん構造はほどけ、非らせん構造とな
り、その双極子モーメントPa又はPbは上向き（34a）又
は下向き（34b）のどちらかの状態をとる。このような
セルに、第３図に示す如く一定の閾値以上の極性の異な
る電界EaまたはEbを付与すると、双極子モーメントは、
電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応して上向き34a又
は、下向き34bと向きを変え、それに応じて液晶分子は
第一の安定状態33a、あるいは第二の安定状態33bの何れ
か一方に配向する。
液晶セルは、その厚さを充分に薄く（例えば10μ以下）
することができる。このように液晶相が薄くなるにした
がい、第３図に示すように電界を印加していない状態で
も液晶分子のらせん構造はほどけ、非らせん構造とな
り、その双極子モーメントPa又はPbは上向き（34a）又
は下向き（34b）のどちらかの状態をとる。このような
セルに、第３図に示す如く一定の閾値以上の極性の異な
る電界EaまたはEbを付与すると、双極子モーメントは、
電界Ea又はEbの電界ベクトルに対応して上向き34a又
は、下向き34bと向きを変え、それに応じて液晶分子は
第一の安定状態33a、あるいは第二の安定状態33bの何れ
か一方に配向する。
このような強誘電性液晶を光学変調素子として用いるこ
との利点は、先に述べたが２つある。その第１は、応答
速度が極めて速いことであり、第２は液晶分子の配向が
双安定性を有することである。第２の点を、例えば第３
図によって更に説明すると、電界Eaを印加すると液晶分
子は第一の安定状態33aに配向するが、この状態は電界
を切っても安定である。又、逆向きの電界Ebを印加する
と、液晶分子は第二の安定状態33bに配向して、その分
子の向きを変えるが、やはり電界を切ってもこの状態に
留っている。また、与える電界Eaが一定の閾値を越えな
い限り、それぞれの配向状態にやはり維持されている。
このような応答速度の速さと、双安定性が有効に実現さ
れるには、セルとしては出来るだけ薄い方が好ましい。
との利点は、先に述べたが２つある。その第１は、応答
速度が極めて速いことであり、第２は液晶分子の配向が
双安定性を有することである。第２の点を、例えば第３
図によって更に説明すると、電界Eaを印加すると液晶分
子は第一の安定状態33aに配向するが、この状態は電界
を切っても安定である。又、逆向きの電界Ebを印加する
と、液晶分子は第二の安定状態33bに配向して、その分
子の向きを変えるが、やはり電界を切ってもこの状態に
留っている。また、与える電界Eaが一定の閾値を越えな
い限り、それぞれの配向状態にやはり維持されている。
このような応答速度の速さと、双安定性が有効に実現さ
れるには、セルとしては出来るだけ薄い方が好ましい。
この強誘電性液晶素子が所定の駆動特性を発揮するため
には、一対の平行基板間に配置される強誘電性液晶が、
電界の印加状態とは無関係に、上記２つの安定状態の間
での変換が効果的に起こるような分子配列状態にあるこ
とが必要である。例えばカイラルスメクティック相を有
する強誘電性液晶については、カイラルスメクティック
相の液晶分子層が基板面に対して垂直で、したがって液
晶分子軸が基板面にほぼ平行に配列した領域（モノドメ
イン）が形成される必要がある。しかしながら、これま
での強誘電性液晶素子においては、このようなモノドメ
イン構造を有する液晶の配向状態が、必ずしも満足に形
成されなかったために、充分な特性が得られなかった実
情である。
には、一対の平行基板間に配置される強誘電性液晶が、
電界の印加状態とは無関係に、上記２つの安定状態の間
での変換が効果的に起こるような分子配列状態にあるこ
とが必要である。例えばカイラルスメクティック相を有
する強誘電性液晶については、カイラルスメクティック
相の液晶分子層が基板面に対して垂直で、したがって液
晶分子軸が基板面にほぼ平行に配列した領域（モノドメ
イン）が形成される必要がある。しかしながら、これま
での強誘電性液晶素子においては、このようなモノドメ
イン構造を有する液晶の配向状態が、必ずしも満足に形
成されなかったために、充分な特性が得られなかった実
情である。
第４図は従来の強誘電性液晶素子の断面図を表わし、第
５図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の状
態を表わす概略説明図である。
５図は従来の強誘電性液晶素子に現われた配向欠陥の状
態を表わす概略説明図である。
すなわち、第４図に示す従来の強誘電性液晶素子40は、
一対の平行基板41と42を有しており、基板41と42にはそ
れぞれマトリクス電極構造をなすストライプ状の透明電
極43と44が設けられている。
一対の平行基板41と42を有しており、基板41と42にはそ
れぞれマトリクス電極構造をなすストライプ状の透明電
極43と44が設けられている。
一般に、カラーフィルターは赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青
（Ｂ）の色素またはこれを含む層からなっているが、各
色素層の膜厚はその形成法にかかわらずそれぞれ異なる
ので、2000Å〜１μｍ程度の段差Ａが形成される。この
結果、降温過程を利用して配向制御を行うと、上述の段
差Ａが原因となって、その段差Ａを境にして強誘電性液
晶47に配向欠陥を生じることになる。また、この段差Ａ
が存在する基板41と42の上にそれぞれ配向制御膜45と46
を設けると、この配向制御膜にも段差Ａに応じて形成さ
れた段差Ｃが画素のほぼ膜厚分で生じ、上述の同様に強
誘電性液晶47に配向欠陥を生じる。
（Ｂ）の色素またはこれを含む層からなっているが、各
色素層の膜厚はその形成法にかかわらずそれぞれ異なる
ので、2000Å〜１μｍ程度の段差Ａが形成される。この
結果、降温過程を利用して配向制御を行うと、上述の段
差Ａが原因となって、その段差Ａを境にして強誘電性液
晶47に配向欠陥を生じることになる。また、この段差Ａ
が存在する基板41と42の上にそれぞれ配向制御膜45と46
を設けると、この配向制御膜にも段差Ａに応じて形成さ
れた段差Ｃが画素のほぼ膜厚分で生じ、上述の同様に強
誘電性液晶47に配向欠陥を生じる。
第５図は、上記強誘電性液晶素子をクロスニコルの偏光
顕微鏡で観察した時のスケッチで、図中の白線51は液晶
素子に使用したスペーサー（図示せず）のラインに対応
し、線52及び53は第４図の基板41上の段差Ｃに対応して
観察されている。また、図中の部分54は対向電極間には
さまれた強誘電性液晶である。偏光顕微鏡中に多数現出
した刃状線55は強誘電性液晶の配向欠陥を表わしてい
る。
顕微鏡で観察した時のスケッチで、図中の白線51は液晶
素子に使用したスペーサー（図示せず）のラインに対応
し、線52及び53は第４図の基板41上の段差Ｃに対応して
観察されている。また、図中の部分54は対向電極間には
さまれた強誘電性液晶である。偏光顕微鏡中に多数現出
した刃状線55は強誘電性液晶の配向欠陥を表わしてい
る。
この様に強誘電性液晶の接する面で1000Å以上の段差が
存在すると、その段差から配向欠陥を生じ、強誘電性液
晶のモノメイン形成は阻害される。
存在すると、その段差から配向欠陥を生じ、強誘電性液
晶のモノメイン形成は阻害される。
［発明が解決しようとする問題点］ 本発明者等は、この様な基板上の段差、特に、カラーフ
ィルターの各画素間に生じる間隙の段差が強誘電性液晶
に対する配向欠陥を発生させる原因となっていることを
実験により明らかにした。
ィルターの各画素間に生じる間隙の段差が強誘電性液晶
に対する配向欠陥を発生させる原因となっていることを
実験により明らかにした。
本発明の目的は、上記の配向欠陥の発生を防止し、強誘
電性液晶素子が本来もっている高速応答性とメモリー効
果特性を充分に発揮することのできる強誘電性カイラル
スメクチック液晶素子を提供することにある。
電性液晶素子が本来もっている高速応答性とメモリー効
果特性を充分に発揮することのできる強誘電性カイラル
スメクチック液晶素子を提供することにある。
［問題点を解決するための手段］ 本発明者等は、とくに強誘電性液晶が等方相（高温状
態）より液晶相（低温状態）へ移行する降温過程におけ
る初期配向性に着目し、強誘電性液晶の双安定性に基づ
く素子の作動特性と液晶層のモノドメイン性を両立し得
る構造を有する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子
を見出したものである。
態）より液晶相（低温状態）へ移行する降温過程におけ
る初期配向性に着目し、強誘電性液晶の双安定性に基づ
く素子の作動特性と液晶層のモノドメイン性を両立し得
る構造を有する強誘電性カイラルスメクチック液晶素子
を見出したものである。
本発明は、このような知見に基づくものであり、より詳
しくは、液晶層と接する面に段差がなく、つまり液晶層
の膜厚に急激な変化を生じさせなくすることにより降温
過程における初期配向性を良好な状態とし、配向欠陥の
ないモノドメインを形成する点に特徴を有している。
しくは、液晶層と接する面に段差がなく、つまり液晶層
の膜厚に急激な変化を生じさせなくすることにより降温
過程における初期配向性を良好な状態とし、配向欠陥の
ないモノドメインを形成する点に特徴を有している。
すなわち、本発明は、一対の基板及びカイラルスメクチ
ック液晶を有し、該一対の基板間の間隔をカイラルスメ
クチック液晶のらせん配列構造の形成が抑制されるのに
十分に小さく設定させてなる液晶素子の製造方法におい
て、少なくとも一方の基板上にカラーフィルター単位を
複数配置してカラーフィルター層を形成し、該カラーフ
ィルター層上に熱溶融した熱溶融性樹脂を塗布した後、
加熱加圧して、隣り合うカラーフィルター単位間の該間
隙を熱溶融性樹脂層で埋めると共にカラーフィルター層
の表面を覆い、次いで熱溶融性樹脂層を冷却によって硬
化させ、該硬化した熱溶融性樹脂層の上に透明電極及び
配向制御膜を設けることを特徴とするカイラルスメクチ
ック液晶素子の製造方法である。
ック液晶を有し、該一対の基板間の間隔をカイラルスメ
クチック液晶のらせん配列構造の形成が抑制されるのに
十分に小さく設定させてなる液晶素子の製造方法におい
て、少なくとも一方の基板上にカラーフィルター単位を
複数配置してカラーフィルター層を形成し、該カラーフ
ィルター層上に熱溶融した熱溶融性樹脂を塗布した後、
加熱加圧して、隣り合うカラーフィルター単位間の該間
隙を熱溶融性樹脂層で埋めると共にカラーフィルター層
の表面を覆い、次いで熱溶融性樹脂層を冷却によって硬
化させ、該硬化した熱溶融性樹脂層の上に透明電極及び
配向制御膜を設けることを特徴とするカイラルスメクチ
ック液晶素子の製造方法である。
以下、本発明を図面に基ずき説明する。
第１図は本発明のカラーフィルター基板を用いた強誘電
性液晶素子の基本構成を示す断面図である。第１図にお
いて、強誘電性液晶素子１はガラス板またはプラスチッ
ク板などの透明板を用いた基板２と３を有し、その間に
は強誘電性液晶４が挟持されている。各基板２と３には
マトリクス電極構造を形成するストライプ状のパターン
形状の透明電極５と６が配設され、この透明電極の上に
は配向制御膜７及び８が形成されている。Ｒ（赤）,G
（緑）,B（青）の各カラーフィルターをほぼバインドす
る形で熱溶融性樹脂層10が形成され、さらにその上層に
保護膜または平坦化膜９が形成されている。R,G,Bから
なる３つのカラーフィルター単位で１つの画素を構成す
る。
性液晶素子の基本構成を示す断面図である。第１図にお
いて、強誘電性液晶素子１はガラス板またはプラスチッ
ク板などの透明板を用いた基板２と３を有し、その間に
は強誘電性液晶４が挟持されている。各基板２と３には
マトリクス電極構造を形成するストライプ状のパターン
形状の透明電極５と６が配設され、この透明電極の上に
は配向制御膜７及び８が形成されている。Ｒ（赤）,G
（緑）,B（青）の各カラーフィルターをほぼバインドす
る形で熱溶融性樹脂層10が形成され、さらにその上層に
保護膜または平坦化膜９が形成されている。R,G,Bから
なる３つのカラーフィルター単位で１つの画素を構成す
る。
上記の構成による基板では、カラーフィルターの膜厚及
び画素間の窪みによる段差が熱溶融性樹脂層によって補
正されているため、画素上に透明電極、配向制御膜を順
に形成しても、基板面をほぼ平坦に保つことができる。
び画素間の窪みによる段差が熱溶融性樹脂層によって補
正されているため、画素上に透明電極、配向制御膜を順
に形成しても、基板面をほぼ平坦に保つことができる。
本発明では、前述の平坦化により、カラーフィルター基
板の段差を1000Å以下とすることができるが、好ましく
は500Å以下とするのが望ましい。この段差が1000Åを
こえると、特に1200Å以上で形成された非平坦化層を用
いた液晶素子は、前述の第５図で示した刃状線の配向欠
陥を生じることになる。
板の段差を1000Å以下とすることができるが、好ましく
は500Å以下とするのが望ましい。この段差が1000Åを
こえると、特に1200Å以上で形成された非平坦化層を用
いた液晶素子は、前述の第５図で示した刃状線の配向欠
陥を生じることになる。
本発明に用いられる配向制御膜の材料としては、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミ
ド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユ
リア樹脂、アクリル樹脂などの樹脂類、あるいは感光性
ポリイミド、感光性ポリアミド、環状ゴム系フォトレジ
スト、フェノールノボラック系フォトレジストあるいは
電子線フォトレジスト（ポリメチルメタクリレート、エ
ポキシ化−1,4−ポリブタジエンなど）などから選択し
て形成することができる。配向制御膜７は、強誘電性液
晶の膜厚にも依存するが、一般的には10Å〜１μｍ、好
適には100Å〜3000Åの範囲に設定する。
ば、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミドイ
ミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミ
ド、ポリスチレン、セルロース樹脂、メラミン樹脂、ユ
リア樹脂、アクリル樹脂などの樹脂類、あるいは感光性
ポリイミド、感光性ポリアミド、環状ゴム系フォトレジ
スト、フェノールノボラック系フォトレジストあるいは
電子線フォトレジスト（ポリメチルメタクリレート、エ
ポキシ化−1,4−ポリブタジエンなど）などから選択し
て形成することができる。配向制御膜７は、強誘電性液
晶の膜厚にも依存するが、一般的には10Å〜１μｍ、好
適には100Å〜3000Åの範囲に設定する。
本発明に用いられるカラーフィルターは、熱溶融性樹脂
の加熱工程（150℃以下）において、変退色、パターン
くずれ、クラック等の問題を生じないものであれば、特
に限定されるものでなく、例えば、アゾ系、アントラキ
ノン系，フタロシアニン系，キナクリドン系，イソイン
ドリノン系，ジオキサジン系，ペリレン系，ペリノン
系，チオインジゴ系，ピロコリン系，フルオルビン系，
キノフタロン系等の色素材料を真空蒸着法により薄膜形
成してつくられるカラーフィルターや、前記色素材料
と、例えば、ゼラチン、カゼイン等の天然タンパク類、
あるいはポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタール、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース
樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂、ウレ
タン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂類、あるいは感光性ポ
リイミド、感光性ポリアミド、環状ゴム系フォトレジス
ト、フェノールノボラック系フォトレジスト、電子線フ
ォトレジスト等の感光性樹脂類のバインダーとから形成
されるカラーフィルター等がある。カラーフィルターの
層厚は所望とする分光特性から決定されるが、通常は0.
3〜３μｍ程度が望ましい。
の加熱工程（150℃以下）において、変退色、パターン
くずれ、クラック等の問題を生じないものであれば、特
に限定されるものでなく、例えば、アゾ系、アントラキ
ノン系，フタロシアニン系，キナクリドン系，イソイン
ドリノン系，ジオキサジン系，ペリレン系，ペリノン
系，チオインジゴ系，ピロコリン系，フルオルビン系，
キノフタロン系等の色素材料を真空蒸着法により薄膜形
成してつくられるカラーフィルターや、前記色素材料
と、例えば、ゼラチン、カゼイン等の天然タンパク類、
あるいはポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニ
ルアセタール、ポリアミド、ポリスチレン、セルロース
樹脂、メラミン樹脂、ユリヤ樹脂、アクリル樹脂、ウレ
タン樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂類、あるいは感光性ポ
リイミド、感光性ポリアミド、環状ゴム系フォトレジス
ト、フェノールノボラック系フォトレジスト、電子線フ
ォトレジスト等の感光性樹脂類のバインダーとから形成
されるカラーフィルター等がある。カラーフィルターの
層厚は所望とする分光特性から決定されるが、通常は0.
3〜３μｍ程度が望ましい。
本発明で用いられる熱溶融性樹脂層を形成する熱溶融性
樹脂としては、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化酢酸ビニル、ポリ
アミド、フェノキシ樹脂、エチルセルロース、ポリイソ
ブチレン、ポリエステル、テルペン樹脂、ロジン及びそ
の誘導体、石油樹脂等が単独で又は混合したもので用い
られる。また、望ましくは透明性の高い樹脂を使うこと
が効果的である。
樹脂としては、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル
共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化酢酸ビニル、ポリ
アミド、フェノキシ樹脂、エチルセルロース、ポリイソ
ブチレン、ポリエステル、テルペン樹脂、ロジン及びそ
の誘導体、石油樹脂等が単独で又は混合したもので用い
られる。また、望ましくは透明性の高い樹脂を使うこと
が効果的である。
熱溶融性樹脂層の形成方法としては、基板上にカラーフ
ィルターパターンを形成した後、熱溶融性樹脂溶液を用
いてスピンコート、ロールコート、ディッピング等の塗
布方法にて、0.5〜５μｍ程度の膜厚で樹脂層を形成す
る。次いで、熱溶融性樹脂の溶融温度下にて、加熱処理
あるいは熱プレス処理、あるいはエアーブロー等を利用
した方法により、溶融した樹脂をカラーフィルターパタ
ーンの間隙に埋め込むとともに、表面層を平坦化させた
後、常温までもどして固定化する。
ィルターパターンを形成した後、熱溶融性樹脂溶液を用
いてスピンコート、ロールコート、ディッピング等の塗
布方法にて、0.5〜５μｍ程度の膜厚で樹脂層を形成す
る。次いで、熱溶融性樹脂の溶融温度下にて、加熱処理
あるいは熱プレス処理、あるいはエアーブロー等を利用
した方法により、溶融した樹脂をカラーフィルターパタ
ーンの間隙に埋め込むとともに、表面層を平坦化させた
後、常温までもどして固定化する。
なお、場合によっては、表示特性を向上させる為に遮光
層を、各色カラーフィルターパターン間隙に、クロム、
アルミニウム等の遮光能力をもつ金属膜を蒸着法で、あ
るいは感光性ポリアミノ系樹脂中にカーボンブラック、
複合酸化物黒顔料、金属粉等の遮光能力をもつ材料を分
散させた遮光樹脂層を塗布法で形成することができる。
層を、各色カラーフィルターパターン間隙に、クロム、
アルミニウム等の遮光能力をもつ金属膜を蒸着法で、あ
るいは感光性ポリアミノ系樹脂中にカーボンブラック、
複合酸化物黒顔料、金属粉等の遮光能力をもつ材料を分
散させた遮光樹脂層を塗布法で形成することができる。
更に、熱溶融性樹脂あるいはカラーフィルター層と下地
の基板間との接着性を更に増す必要がある場合には、基
板上にあらかじめシランカップリング剤で薄く塗布した
後に熱溶融性樹脂あるいはカラーフィルター層を形成す
るか、または、あらかじめ熱溶融性樹脂あるいはカラー
フィルター層中にシランカップリング剤等を少量添加し
たものを用いると一層効果的である。
の基板間との接着性を更に増す必要がある場合には、基
板上にあらかじめシランカップリング剤で薄く塗布した
後に熱溶融性樹脂あるいはカラーフィルター層を形成す
るか、または、あらかじめ熱溶融性樹脂あるいはカラー
フィルター層中にシランカップリング剤等を少量添加し
たものを用いると一層効果的である。
また、より各種の環境条件からカラーフィルター層及び
熱溶融性樹脂層を保護することと、さらに表面上をより
平坦化にするために、熱溶融性樹脂層及びカラーフィル
ター層表面に、ポリアミド，ポリイミド，ポリウレタ
ン，ポリカーボネート，シリコン系等の有機樹脂膜をス
ピンコート、ロールコートの塗布法によって、通常は、
0.5〜５μｍ程度の膜厚範囲で保護膜または平坦化膜と
して設けることができる。
熱溶融性樹脂層を保護することと、さらに表面上をより
平坦化にするために、熱溶融性樹脂層及びカラーフィル
ター層表面に、ポリアミド，ポリイミド，ポリウレタ
ン，ポリカーボネート，シリコン系等の有機樹脂膜をス
ピンコート、ロールコートの塗布法によって、通常は、
0.5〜５μｍ程度の膜厚範囲で保護膜または平坦化膜と
して設けることができる。
本発明で用いる液晶材料として、とくに適したものは双
安定性を有する液晶であって、強誘電性を有するもので
ある。具体的にはカイラルスメクティックＣ相（Sm
C＊）,H相（SmH＊）,I相（SmI＊）,J相（SmJ＊）,K相
（SmK＊）,G相（SmG＊）またはＦ相（SmF＊）の液晶を
用いることができる。
安定性を有する液晶であって、強誘電性を有するもので
ある。具体的にはカイラルスメクティックＣ相（Sm
C＊）,H相（SmH＊）,I相（SmI＊）,J相（SmJ＊）,K相
（SmK＊）,G相（SmG＊）またはＦ相（SmF＊）の液晶を
用いることができる。
この強誘電性液晶については、“ル・ジュールナル・ド
・フィジーク・ルテール”（“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRES"）1975年、36（Ｌ−69）号、「フェロエレク
トリック・リキッド・クリスタルス」（「Ferroelectri
c Liquid Crystals」）；“アプライド・フィジックス
・レターズ”（“Applied Physics Letters"）1980年、
36（11）号、「サブミクロ・セカンド・バイステイブル
・エレクトロオプチック・スイッチング・イン・リキッ
ド・クリスタルス」（「Submicro Second Bistable Ele
ctrooptic Switching in Liquid Crystals」）；“固体
物理"1981年 16（141）号、「液晶」等に記載されてお
り、本発明においては、これらに開示された強誘電性液
晶を使用することができる。
・フィジーク・ルテール”（“LE JOURNAL DE PHYSIQUE
LETTRES"）1975年、36（Ｌ−69）号、「フェロエレク
トリック・リキッド・クリスタルス」（「Ferroelectri
c Liquid Crystals」）；“アプライド・フィジックス
・レターズ”（“Applied Physics Letters"）1980年、
36（11）号、「サブミクロ・セカンド・バイステイブル
・エレクトロオプチック・スイッチング・イン・リキッ
ド・クリスタルス」（「Submicro Second Bistable Ele
ctrooptic Switching in Liquid Crystals」）；“固体
物理"1981年 16（141）号、「液晶」等に記載されてお
り、本発明においては、これらに開示された強誘電性液
晶を使用することができる。
強誘電性液晶の具体例としては、例えばデシロキシベン
ジリデン−ｐ′−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
ト（DOBAMBC）、ヘキシルオキシベンジリデン−ｐ ′
−アミノ−２−クロルプロピルシンナメート（HOBACP
C）、４−ｏ−（２−メチル）−ブチルレゾルシリデン
−４′−オクチルアニリン（MBRA8）が挙げられる。
ジリデン−ｐ′−アミノ−２−メチルブチルシンナメー
ト（DOBAMBC）、ヘキシルオキシベンジリデン−ｐ ′
−アミノ−２−クロルプロピルシンナメート（HOBACP
C）、４−ｏ−（２−メチル）−ブチルレゾルシリデン
−４′−オクチルアニリン（MBRA8）が挙げられる。
これらの材料を用いて素子を構成する場合、液晶化合物
がカイラルスメクティック相となるような温度状態に保
持するため、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれ
たブロック等により支持することができる。
がカイラルスメクティック相となるような温度状態に保
持するため、必要に応じて素子をヒーターが埋め込まれ
たブロック等により支持することができる。
［作 用］ 本発明の強誘電性カイラルスメクチック液晶素子は少な
くともカラーフィルターの各素間隙に熱溶融性樹脂層が
設けられいるので、基板の平面性が良好となるために液
晶相と接する面に段差がなくなり、平面性のよい前記基
板に挟持された液晶相は等方相より、液晶相に移行する
降温過程において、徐冷することにより、液晶相領域が
次第に広がり均一なモノドメインの液晶相を形成するよ
うになる。
くともカラーフィルターの各素間隙に熱溶融性樹脂層が
設けられいるので、基板の平面性が良好となるために液
晶相と接する面に段差がなくなり、平面性のよい前記基
板に挟持された液晶相は等方相より、液晶相に移行する
降温過程において、徐冷することにより、液晶相領域が
次第に広がり均一なモノドメインの液晶相を形成するよ
うになる。
例えば、液晶として強誘電性液晶相を示す前述のDOBAMB
Cを例にあげて説明すると、DOBAMBCの等方相より徐冷し
ていくとき、約115℃でスメクティックＡ相（SmA相）に
相転移する。このとき、基板にラビングあるいはSiO2斜
め蒸着などの配向処理が施されていると、液晶分子の分
子軸が基板に、平行で、かつ一方向に配向したモノドメ
インが形成される。さらに、冷却を進めていくと、液晶
層の厚みに依存する約90〜75℃の間の特定温度でカイラ
ルスメクティックＣ相（SmC＊相）に相転移する。ま
た、液晶層の厚みを約２μｍ以下とした場合は、SmC＊
相のらせんが解け、双安定性を示す。
Cを例にあげて説明すると、DOBAMBCの等方相より徐冷し
ていくとき、約115℃でスメクティックＡ相（SmA相）に
相転移する。このとき、基板にラビングあるいはSiO2斜
め蒸着などの配向処理が施されていると、液晶分子の分
子軸が基板に、平行で、かつ一方向に配向したモノドメ
インが形成される。さらに、冷却を進めていくと、液晶
層の厚みに依存する約90〜75℃の間の特定温度でカイラ
ルスメクティックＣ相（SmC＊相）に相転移する。ま
た、液晶層の厚みを約２μｍ以下とした場合は、SmC＊
相のらせんが解け、双安定性を示す。
［実施例］ 以下、実施例を示し本発明をさらに具体的に説明する。
実施例１ 第６図（ａ）〜（ｆ）は、R,G,B3色のカラーフィルター
層と熱溶融性樹脂層を含む第２の形成工程を示す工程図
である。
層と熱溶融性樹脂層を含む第２の形成工程を示す工程図
である。
まず、コーニング社の＃7059ガラス基板71上に、所望の
分光特性を得ることのできる青色着色樹脂材［ヘリオゲ
ン ブルー （Heliogen Blue）L7080（商品名,BASF社
製,C.I.No.74160）をPA−1000C（商品名，宇部興産社
製，ポリマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン、顔料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感
光性の着色樹脂材］をスピンナー塗布法により、1.5μ
ｍの膜厚に塗布して着色樹脂膜72を形成した。（第６図
（ａ）参照） 次に該着色樹脂膜72に80℃、30分間のプリベークを行な
った後、形成しようとするパターン形状に対応したフォ
トマスク73を介して高圧水銀灯にて露光した。（第６図
（ｂ）参照） 露光終了後、第６図（ｃ）のごとく、光硬化部分72aを
有する着色樹脂層72の未露光部のみを溶解する専用現像
液（Ｎ−メチル−２−ピロリドンを主成分とする現像
液）にて超音波を使用して現像し、専用リンス液（例え
ば、イソプロピルアルコールを主成分とするリンス液）
で処理した後、150℃、30分間のポストベークを行な
い、パターン形状を有する青色着色樹脂膜からなる青色
のパターン状着色樹脂層74を形成した。（第６図（ｄ）
参照） 続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上
に、第２色目として緑色着色樹脂材［リオノール グリ
ーン（Lionol Green）6YK（商品名，東洋インキ社製,C.
I.No.74265）をPA−1000 C（商品名，宇部興産社製，ポ
リマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリドン、顔
料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感光性の
着色樹脂材］を用いる以外は、上記と同様にして、緑色
のパターン状着色樹脂層75を基板上の所定の位置に形成
した。
分光特性を得ることのできる青色着色樹脂材［ヘリオゲ
ン ブルー （Heliogen Blue）L7080（商品名,BASF社
製,C.I.No.74160）をPA−1000C（商品名，宇部興産社
製，ポリマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン、顔料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感
光性の着色樹脂材］をスピンナー塗布法により、1.5μ
ｍの膜厚に塗布して着色樹脂膜72を形成した。（第６図
（ａ）参照） 次に該着色樹脂膜72に80℃、30分間のプリベークを行な
った後、形成しようとするパターン形状に対応したフォ
トマスク73を介して高圧水銀灯にて露光した。（第６図
（ｂ）参照） 露光終了後、第６図（ｃ）のごとく、光硬化部分72aを
有する着色樹脂層72の未露光部のみを溶解する専用現像
液（Ｎ−メチル−２−ピロリドンを主成分とする現像
液）にて超音波を使用して現像し、専用リンス液（例え
ば、イソプロピルアルコールを主成分とするリンス液）
で処理した後、150℃、30分間のポストベークを行な
い、パターン形状を有する青色着色樹脂膜からなる青色
のパターン状着色樹脂層74を形成した。（第６図（ｄ）
参照） 続いて、青色着色パターンの形成されたガラス基板上
に、第２色目として緑色着色樹脂材［リオノール グリ
ーン（Lionol Green）6YK（商品名，東洋インキ社製,C.
I.No.74265）をPA−1000 C（商品名，宇部興産社製，ポ
リマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリドン、顔
料：ポリマー＝1:2配合）に分散させ作製した感光性の
着色樹脂材］を用いる以外は、上記と同様にして、緑色
のパターン状着色樹脂層75を基板上の所定の位置に形成
した。
さらに、この様にして青色及び緑色パターンの形成され
ている基板上に、第３色目として、赤色着色樹脂材［イ
ルガジン レッド（Irgazin Red）BPT（商品名，チバガ
イギー（Ciba−Geigy）社製,C.I.No.71127）をPA−1000
C（商品名，宇部興産社製，ポリマー分＝10％、溶剤:N
−メチル−２−ピロリドン、顔料：ポリマー＝1:2配
合）に分散させ作製した感光性の着色樹脂材］を用いる
以外は、上記と同様にして、赤色のパターン状着色樹脂
層76を基板上の所定の位置に形成し、Ｒ（赤）,G
（緑）,B（青）の３色ストライプの着色パターンを得
た。（第６図（ｅ）参照） 次いで、得られたカラーフィルター上にエチレン−酢酸
ビニル共重合体樹脂の酢酸メチル溶液をスピンナーを用
いて1.5μｍの層厚に塗布し、約150℃の熱プレスにか
け、カラーフィルター画素間隙に熱溶融性樹脂77を埋め
た後、常温にもどし、カラーフィルターがバインドされ
た層を形成した（第６図（ｆ）参照）。
ている基板上に、第３色目として、赤色着色樹脂材［イ
ルガジン レッド（Irgazin Red）BPT（商品名，チバガ
イギー（Ciba−Geigy）社製,C.I.No.71127）をPA−1000
C（商品名，宇部興産社製，ポリマー分＝10％、溶剤:N
−メチル−２−ピロリドン、顔料：ポリマー＝1:2配
合）に分散させ作製した感光性の着色樹脂材］を用いる
以外は、上記と同様にして、赤色のパターン状着色樹脂
層76を基板上の所定の位置に形成し、Ｒ（赤）,G
（緑）,B（青）の３色ストライプの着色パターンを得
た。（第６図（ｅ）参照） 次いで、得られたカラーフィルター上にエチレン−酢酸
ビニル共重合体樹脂の酢酸メチル溶液をスピンナーを用
いて1.5μｍの層厚に塗布し、約150℃の熱プレスにか
け、カラーフィルター画素間隙に熱溶融性樹脂77を埋め
た後、常温にもどし、カラーフィルターがバインドされ
た層を形成した（第６図（ｆ）参照）。
この様にして得られたカラーフィルターパターン上に、
保護膜または平坦化膜78として着色樹脂材に用いたもの
と同様の透明樹脂材［PA−1000 C（商品名，宇部興産社
製、ポリマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン）］をスピンナー塗布法により約0.5μｍの膜厚にて
形成した。（第６図（ｆ）参照） 以上により、同一平面化されたカラーフィルター基板を
形成することができた。
保護膜または平坦化膜78として着色樹脂材に用いたもの
と同様の透明樹脂材［PA−1000 C（商品名，宇部興産社
製、ポリマー分＝10％、溶剤:N−メチル−２−ピロリド
ン）］をスピンナー塗布法により約0.5μｍの膜厚にて
形成した。（第６図（ｆ）参照） 以上により、同一平面化されたカラーフィルター基板を
形成することができた。
次に第１図に示す様に、ITOを500Åの厚さにスパッタリ
ング法により成膜し、透明電極５とした。この上に配向
制御膜７として、ポリイミド形成溶液（日立化成工業
「PIQ」）を3000rpmで回転するスピンナーで塗布し、15
0℃で30分間加熱を行って2000Åのポリイミド被膜を形
成した。しかる後、このポリイミド被膜表面をラビング
処理した。
ング法により成膜し、透明電極５とした。この上に配向
制御膜７として、ポリイミド形成溶液（日立化成工業
「PIQ」）を3000rpmで回転するスピンナーで塗布し、15
0℃で30分間加熱を行って2000Åのポリイミド被膜を形
成した。しかる後、このポリイミド被膜表面をラビング
処理した。
このようにして形成したカラーフィルター基板と、対向
する基板３を貼り合せてセル組し、強誘電性液晶を注
入、封口して液晶素子を得た。この液晶素子をクロスニ
コルの偏光顕微鏡で観察したところ、内部の液晶分子は
配向欠陥を生じていないことが確認された。
する基板３を貼り合せてセル組し、強誘電性液晶を注
入、封口して液晶素子を得た。この液晶素子をクロスニ
コルの偏光顕微鏡で観察したところ、内部の液晶分子は
配向欠陥を生じていないことが確認された。
［発明の効果］ 以上説明したように、本発明によれば基板上のカラーフ
ィルター層の膜厚の差及びカラーフィルター画素間隙を
熱溶融性樹脂にて埋めていることにより、大きな段差を
生じることがない上、さらに必要に応じて保護膜・平坦
化膜を設けることにより、カラーフィルター各画素間に
生じる微小な段差をもなくすことが可能となり、また配
向欠陥の発生を防止することができ、強誘電性液晶の特
性を十分に発揮し得るカラーフィルターを有するカイラ
ルスメクチック液晶素子を提供することができる。
ィルター層の膜厚の差及びカラーフィルター画素間隙を
熱溶融性樹脂にて埋めていることにより、大きな段差を
生じることがない上、さらに必要に応じて保護膜・平坦
化膜を設けることにより、カラーフィルター各画素間に
生じる微小な段差をもなくすことが可能となり、また配
向欠陥の発生を防止することができ、強誘電性液晶の特
性を十分に発揮し得るカラーフィルターを有するカイラ
ルスメクチック液晶素子を提供することができる。
第１図は本発明に係わる強誘電性液晶素子の基本構成を
示す示す断面図、第２図及び第３図は本発明に係わる強
誘電性液晶を模式的に表わした斜視図、第４図は従来の
強誘電性液晶素子の断面図、第５図は従来の強誘電性液
晶素子に現われた配向欠陥の状態を表わす概略説明図、
第６図（ａ）〜（ｆ）は各々本発明の色画素の形成工程
を示す工程図である。 1,40……強誘電性液晶素子 2,3,41,42,61,71……基板 4,47……強誘電性液晶 5,6,43,44……透明電極 7,8,45,46……配向制御膜 9,48,78……保護膜（平坦化膜） 10……熱溶融性樹脂層 77……熱溶融性樹脂
示す示す断面図、第２図及び第３図は本発明に係わる強
誘電性液晶を模式的に表わした斜視図、第４図は従来の
強誘電性液晶素子の断面図、第５図は従来の強誘電性液
晶素子に現われた配向欠陥の状態を表わす概略説明図、
第６図（ａ）〜（ｆ）は各々本発明の色画素の形成工程
を示す工程図である。 1,40……強誘電性液晶素子 2,3,41,42,61,71……基板 4,47……強誘電性液晶 5,6,43,44……透明電極 7,8,45,46……配向制御膜 9,48,78……保護膜（平坦化膜） 10……熱溶融性樹脂層 77……熱溶融性樹脂
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 美樹 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 村田 辰雄 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 関村 信行 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 菊地 良喜 東京都大田区下丸子３丁目30番２号 キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭61−6624（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−100728（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−166523（ＪＰ，Ａ)
Claims (2)
- 【請求項１】一対の基板及びカイラルスメクチック液晶
を有し、該一対の基板間の間隔をカイラルスメクチック
液晶のらせん配列構造の形成が抑制されるのに十分に小
さく設定させてなる液晶素子の製造方法において、少な
くとも一方の基板上にカラーフィルター単位を複数配置
してカラーフィルター層を形成し、該カラーフィルター
層上に熱溶融した熱溶融性樹脂を塗布した後、加熱加圧
して、隣り合うカラーフィルター単位間の該間隙を熱溶
融性樹脂層で埋めると共にカラーフィルター層の表面を
覆い、次いで熱溶融性樹脂層を冷却によって硬化させ、
該硬化した熱溶融性樹脂層の上に透明電極及び配向制御
膜を設けることを特徴とするカイラルスメクチック液晶
素子の製造方法。 - 【請求項２】前記硬化した熱溶融性樹脂層の上に、有機
樹脂膜を成膜した後、透明電極を設ける特許請求の範囲
第１項記載のカイラルスメクチック液晶素子の製造方
法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27535286A JPH0740098B2 (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 |
| US07/090,703 US4917471A (en) | 1986-08-30 | 1987-08-28 | Liquid crystal device |
| US07/416,034 US5101289A (en) | 1986-08-30 | 1989-10-02 | Chiral smectic color display device with interval between color filters: color filter film thickness ratio of 0-5 |
| US08/238,345 US5398126A (en) | 1986-08-30 | 1994-05-05 | Ferroelectric color liquid crystal device lacking alignment defects |
| US08/352,756 US5548424A (en) | 1986-08-30 | 1994-12-05 | Liquid crystal device having two resins films formed from solutions of different viscosities |
| US08/430,422 US5568293A (en) | 1986-08-30 | 1995-04-28 | Liquid crystal display having trapezoidal color filters formed from a low-temperature curing polyamino resin having a photosensitive group |
| US08/430,418 US5500751A (en) | 1986-08-30 | 1995-04-28 | Ferroelectric liquid crystal color filter surrounded by a heat fusible resin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27535286A JPH0740098B2 (ja) | 1986-11-20 | 1986-11-20 | カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63129321A JPS63129321A (ja) | 1988-06-01 |
| JPH0740098B2 true JPH0740098B2 (ja) | 1995-05-01 |
Family
ID=17554275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27535286A Expired - Fee Related JPH0740098B2 (ja) | 1986-08-30 | 1986-11-20 | カイラルスメクチック液晶素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0740098B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107490894A (zh) * | 2017-09-28 | 2017-12-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制造方法、显示面板 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0721563B2 (ja) * | 1987-07-24 | 1995-03-08 | 凸版印刷株式会社 | カラ−フイルタ− |
| JPH0272303A (ja) * | 1988-09-07 | 1990-03-12 | Konica Corp | カラーフィルターおよび液晶カラー表示装置 |
| US5194976A (en) * | 1989-07-25 | 1993-03-16 | Casio Computer Co., Ltd. | Liquid crystal display device and method of manufacturing the same |
| JP2808480B2 (ja) * | 1990-07-18 | 1998-10-08 | キヤノン株式会社 | 液晶カラー表示素子用基板の製造方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS616624A (ja) * | 1984-06-21 | 1986-01-13 | Sony Corp | 液晶カラ−表示素子の製造方法 |
| JPS61100728A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-19 | Citizen Watch Co Ltd | カラ−液晶パネル |
| JPS61166523A (ja) * | 1985-01-18 | 1986-07-28 | Canon Inc | 画像形成装置 |
-
1986
- 1986-11-20 JP JP27535286A patent/JPH0740098B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107490894A (zh) * | 2017-09-28 | 2017-12-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制造方法、显示面板 |
| CN107490894B (zh) * | 2017-09-28 | 2020-07-07 | 京东方科技集团股份有限公司 | 彩膜基板及其制造方法、显示面板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63129321A (ja) | 1988-06-01 |
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