CN107490894B - 彩膜基板及其制造方法、显示面板 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制造方法、显示面板，属于显示领域。该方法包括：在衬底基板上形成黑矩阵；采用热熔性材料在黑矩阵所在区域内形成屏蔽膜层，屏蔽膜层包括多个屏蔽挡墙；在屏蔽挡墙限定出的区域内形成彩色滤光溶液，其中，彩色滤光溶液中不同颜色的溶液被多个屏蔽挡墙隔挡；对屏蔽膜层和彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，熔融层包括多个熔融部；其中，屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在彩色滤光层远离衬底基板的表面上形成熔融部，屏蔽挡墙的其他部分形成目标屏蔽挡墙。本发明减小了屏蔽层与彩色滤光层之间的段差，保证了显示面板的显示性能。

Description

彩膜基板及其制造方法、显示面板
技术领域
本发明涉及显示领域，特别涉及一种彩膜基板及其制造方法、显示面板。
背景技术
薄膜晶体管液晶显示器(英文：Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay；简称：TFT-LCD)的显示面板是由阵列基板和彩膜基板取向并对盒后，在中间加入液晶形成的。其中，取向的目的是使液晶能够按照一定方向排列，彩膜基板包括依次层叠设置在衬底基板上的黑矩阵和彩色滤光层(也称色阻层)等膜层，该黑矩阵在衬底基板上的正投影限定出多个阵列排布的像素区域，该彩色滤光层包括多种颜色的彩色滤光片，且每个像素区域中设置有一个彩色滤光片。
相关技术中，可以采用喷墨工艺制造彩色滤光层，具体地：可以将溶解有制造某颜色的彩色滤光片的材料的溶液喷涂至像素区域中，然后再对其进行烘烤处理以得到该颜色的滤光片。并且，为了在像素区域中形成预设颜色的彩色滤光片，相关技术中将黑矩阵用作像素区域之间的屏蔽膜层，以防止喷涂至某一像素区域中的溶液流动至用以设置其他颜色的彩色滤光片的像素区域中。
但是，由黑矩阵充当的屏蔽膜层的厚度较大，其与形成的彩色滤光层之间具有较大的段差，导致彩膜基板表面的平坦性较差，影响彩膜基板的取向效果，使得液晶排列出现异常，进而影响显示面板的显示性能。
发明内容
本发明实施例提供了一种彩膜基板及其制造方法、显示面板，可以解决相关技术中由黑矩阵充当的屏蔽膜层与形成的彩色滤光层之间具有较大的段差，导致彩膜基板表面的平坦性较差，影响彩膜基板的取向效果，使得液晶排列出现异常，进而影响显示面板的显示性能的问题。所述技术方案如下：
第一方面，提供了一种彩膜基板的制造方法，所述方法包括：
在衬底基板上形成黑矩阵；
采用热熔性材料在所述黑矩阵所在区域内形成屏蔽膜层，所述屏蔽膜层包括多个屏蔽挡墙；
在所述屏蔽挡墙限定出的区域内形成彩色滤光溶液，其中，所述彩色滤光溶液中不同颜色的溶液被所述多个屏蔽挡墙隔挡；
对所述屏蔽膜层和所述彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，所述屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，所述熔融层包括多个熔融部；
其中，所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成所述多个熔融部，所述多个屏蔽挡墙的其他部分形成所述多个目标屏蔽挡墙。
可选地，所述对所述屏蔽膜层和所述彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，包括：
采用第一温度对所述彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到所述彩色滤光层，所述第一温度低于所述热熔性材料的熔点；
采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，以得到所述屏蔽层和所述熔融层，所述第二温度高于所述热熔性材料的熔点。
可选地，所述采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，以得到所述屏蔽层和所述熔融层，包括：
采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，使得所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化，直至融化后的多个屏蔽挡墙对应的热熔性材料在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成为一个整体，停止烘烤。
可选地，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为多个沿第一方向排布的条状投影，每两个条状投影之间的间隙区域覆盖多个沿第二方向排布的所述像素区域，且每个间隙区域中设置有一个彩色滤光片，所述第一方向和所述第二方向交叉。
可选地，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为网状投影，所述网状投影包括阵列排布的多个开口区域，每个开口区域覆盖一个所述像素区域，且每个开口区域中设置有一个彩色滤光片。
第二方面，提供了一种彩膜基板，所述彩膜基板包括：
设置在衬底基板上的黑矩阵；
设置有所述黑矩阵的所述衬底基板上设置有依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，所述彩色滤光层包括多个彩色滤光片，所述屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，所述熔融层包括多个熔融部；
其中，所述多个熔融部为多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上的形成的，所述多个屏蔽挡墙属于采用热熔性材料在所述黑矩阵所在区域内形成的屏蔽膜层，所述多个目标屏蔽挡墙是所述多个屏蔽挡墙的其他部分形成的，所述彩色滤光层中不同颜色的彩色滤光片被所述多个目标屏蔽挡墙隔挡。
可选地，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为多个沿第一方向排布的条状投影，每两个条状投影之间的间隙区域覆盖多个沿第二方向排布的所述像素区域，且每个间隙区域中设置有一个彩色滤光片，所述第一方向和所述第二方向交叉；
或者，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为网状投影，所述网状投影包括阵列排布的多个开口区域，每个开口区域覆盖一个所述像素区域，且每个开口区域中设置有一个彩色滤光片。
可选地，所述熔融层为一体结构，所述熔融层远离所述衬底基板的表面与所述衬底基板的表面平行。
可选地，所述热熔性材料为透明的材料。
第三方面，提供了一种显示面板，包括：第二方面任一所述的彩膜基板。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：
本发明实施例提供的彩膜基板及其制造方法、显示面板，通过该方法制造的彩膜基板包括依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，且熔融层包括多个熔融部，该多个熔融部是由多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，形成在彩色滤光层远离衬底基板的表面上的，由于热熔性材料熔化后的液体在重力作用下会流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，使得其凝固后形成的熔融部的高度小于该熔融部对应的屏蔽挡墙的高度，也即是，熔融层的厚度小于相关技术中制造相同厚度的彩色滤光层时所需的屏蔽膜层(即黑矩阵)的厚度，有效地减小了屏蔽膜层与彩色滤光层之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性，减小了该平坦性对彩膜基板的取向效果的影响，使得液晶能够按照预设方向排列，从而保证了显示面板的显示性能。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是相关技术的彩膜基板的结构示意图；
图2-1为本发明实施例提供的一种彩膜基板的制造方法的流程图；
图2-2是本发明实施例提供的一种彩膜基板的结构示意图；
图3-1为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图；
图3-2为本发明实施例提供的一种在衬底基板上形成黑矩阵后的结构示意图；
图3-3为图3-2所示的彩膜基板沿AB方向的截面示意图；
图3-4为本发明实施例提供的一种在形成有黑矩阵的衬底基板上形成屏蔽膜层后的结构示意图；
图3-5是本发明实施例提供的一种屏蔽挡墙在衬底基板上的正投影的示意图；
图3-6为本发明实施例提供的另一种屏蔽挡墙在衬底基板上的正投影的示意图；
图3-7为本发明实施例提供的一种在屏蔽膜层限定出的区域内形成彩色滤光溶液后的结构示意图；
图3-8为本发明实施例提供的一种采用第一温度对图3-7所示的彩色滤光溶液进行烘烤处理后得到彩色滤光层的结构示意图；
图3-9为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的结构示意图；
图3-10是本发明实施例提供的又一种彩膜基板的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
相关技术中，采用喷墨工艺制造彩膜基板上的彩色滤光层时，可以使用喷墨口向像素区域中喷涂溶解有制造彩色滤光层的材料的溶液，并且，为了在衬底基板101的像素区域中形成预设颜色的彩色滤光片102，可以将图1中的黑矩阵103用作像素区域之间的屏蔽层，以防止不同颜色的彩色滤光片的溶液在像素区域之间串流。但是，在溶液热固化成固体状的彩色滤光片的过程中，该溶液中的溶剂会减少，使得最终形成的彩色滤光片的厚度小于溶液的高度，且该彩色滤光片的厚度也小于黑矩阵的厚度，导致黑矩阵与形成的彩色滤光片之间具有较大的段差，例如：当黑矩阵的厚度为8.5微米，溶液的高度为8微米，其热固化形成的彩色滤光片的厚度为2微米时，黑矩阵与形成的彩色滤光片之间的段差为6.5微米，进而导致彩膜基板表面的平坦性较差，影响彩膜基板的取向效果，使得液晶排列出现异常，进而影响显示面板的显示性能。
虽然，相关技术中的彩膜基板上还可以设置有上层覆盖层，但是，由于黑矩阵与彩色滤光层之间的段差过大，该上层覆盖层也无法有效弥补两者之间的段差。并且，若设置的上层覆盖层厚度过大，在彩膜基板与阵列基板对盒后该上层覆盖层可能会脱落，导致对盒失败。
针对该问题，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制造方法，如图2-1所示，该方法可以包括：
步骤201、在衬底基板上形成黑矩阵。
步骤202、采用热熔性材料在黑矩阵所在区域内形成屏蔽膜层。
其中，屏蔽膜层包括多个屏蔽挡墙。
步骤203、在屏蔽挡墙限定出的区域内形成彩色滤光溶液。
其中，彩色滤光溶液中不同颜色的溶液被多个屏蔽挡墙隔挡。
步骤204、对屏蔽膜层和彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层。
其中，屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，熔融层包括多个熔融部，多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在彩色滤光层远离衬底基板的表面上形成多个熔融部，多个屏蔽挡墙的其他部分形成多个目标屏蔽挡墙。
示例地，请参考图2-2，其示出了本发明实施例提供的一种彩膜基板00的结构示意图，该彩膜基板00采用上述彩膜基板的制造方法形成，该彩膜基板00包括依次叠加在衬底基板001上的黑矩阵002、屏蔽层、彩色滤光层004和熔融层，且屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙0031，熔融层包括多个熔融部0032。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过该方法制造的彩膜基板包括依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，且熔融层包括多个熔融部，该多个熔融部是由多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，形成在彩色滤光层远离衬底基板的表面上的，由于热熔性材料熔化后的液体在重力作用下会流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，使得其凝固后形成的熔融部的高度小于该熔融部对应的屏蔽挡墙的高度，也即是，熔融层的厚度小于相关技术中制造相同厚度的彩色滤光层时所需的屏蔽膜层(即黑矩阵)的厚度，有效地减小了屏蔽膜层与彩色滤光层之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性，减小了该平坦性对彩膜基板的取向效果的影响，使得液晶能够按照预设方向排列，从而保证了显示面板的显示性能。
图3-1为本发明实施例提供的另一种彩膜基板的制造方法的流程图，如图3-1所示，该方法可以包括：
步骤301、提供一衬底基板。
其中，衬底基板可以为透明基板，其具体可以是采用玻璃、石英、透明树脂等具有一定硬度的导光且非金属材料制成的基板。
步骤302、在衬底基板上形成黑矩阵。
可以采用磁控溅射、热蒸发或者等离子体增强化学气相沉积法(英文：PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition；简称：PECVD)等方法在衬底基板上沉积一层具有一定厚度的黑矩阵材料，得到黑矩阵膜层，然后通过一次构图工艺对黑矩阵膜层进行处理得到黑矩阵。其中，一次构图工艺可以包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离。
可选地，该黑矩阵材料可以为吸光度大于预设光密度(英文：Optical Density；缩写：OD)值的材料，例如：该黑矩阵材料可以为OD值大于4的遮光材料。且该黑矩阵的厚度可以根据实际需要进行调整，例如：该黑矩阵的厚度可以为1微米。
示例地，请参考图3-2，其示出了本发明实施例提供的一种在衬底基板001上形成黑矩阵002后的俯视示意图，图3-3为图3-2所示的彩膜基板沿AB方向的截面示意图，如图3-2和图3-3所示，黑矩阵002在衬底基板001上的正投影限定出多个阵列排布的像素区域S。该黑矩阵能够将非像素区域覆盖起来，起到防止光泄漏和提高显示面板的显示对比度的作用，从而保证了图像的显示质量。
步骤303、采用热熔性材料在黑矩阵所在区域内形成屏蔽膜层。
可以采用磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在黑矩阵所在区域内沉积一层具有一定厚度的热熔性材料，得到屏蔽薄膜层，然后通过一次构图工艺对屏蔽薄膜层进行处理得到屏蔽膜层。其中，屏蔽膜层包括多个屏蔽挡墙，黑矩阵在衬底基板上的正投影覆盖该屏蔽膜层在衬底基板上的正投影，且屏蔽膜层在垂直于衬底基板的表面的截面可以呈矩形或者梯形。
可选地，热熔性材料可以为受热融化后具有较好的流动性的材料，以便于该材料受热熔化后的液体能够流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，以减小形成的熔融层与彩色滤光层之间的段差。
并且，为了保证彩色滤光层表面的熔融部不会对透过彩色滤光层的光形成遮挡，该热熔性材料还可以为透明的材料，以便于透过彩色滤光层的光能够经过该熔融部射出，从而保证显示面板的显示效果。
同时，该热熔性材料还可以为具有较高解析度的材料，使得显示面板显示的图像具有较高的解析度，以提高显示面板的显示效果。示例地，该热熔性材料可以为制成上层覆盖(英文：Over Cover；简称：OC)层的材料与光起始剂(也称为：光引发剂)的混合物，例如：该材料可以为聚甲基丙烯酸甲酯(英文：polymethyl methacrylate；简称：PMMA)和光起始剂的混合物。
该屏蔽膜层的厚度可以大于或等于需要制造预设厚度的彩色滤光层时所需的溶液的高度。实际应用中，可以根据产品的实际需求确定需要制造的彩色滤光层的厚度，然后根据该彩色滤光层的厚度确定需要喷涂至像素区域中的溶液的高度，再根据该确定的溶液的高度确定屏蔽膜层的厚度。示例地，假设需要制造的彩色滤光片的厚度为n微米，制造该n微米厚的彩色滤光片所需的溶液的高度为4n微米，则为了防止不同颜色的彩色滤光层的溶液在像素区域之间串流，该屏蔽膜层的厚度应大于或等于4n微米，通常地，该屏蔽膜层的厚度可以为(1.0～1.3)*4n微米。例如：需要制造的某彩色滤光片的厚度为2微米，制造该2微米厚的彩色滤光片所需的溶液的高度为8微米，则该屏蔽膜层的厚度可以为8.5微米。
示例地，请参考图3-4，其示出了本发明实施例提供的一种在形成有黑矩阵002的衬底基板001上形成屏蔽膜层P后的结构示意图。
可选地，彩膜基板上形成的彩色滤光层可以包括多个彩色滤光片，并且，根据彩色滤光片的不同设置方式，上述屏蔽膜层可以按照以下两种方式设置在衬底基板上：
在第一种设置方式中，多个屏蔽挡墙在衬底基板001上的正投影请参考图3-5(为便于观看，图3-5中未示出黑矩阵)，多个屏蔽挡墙在衬底基板001上的正投影为多个沿第一方向A1排布的条状投影0031b，每两个条状投影0031b之间的间隙区域Q1覆盖多个沿第二方向A2排布的像素区域S，且每个间隙区域Q1中可以设置有一个彩色滤光片，也即是，每个间隙区域Q1覆盖的多个像素区域S中设置的彩色滤光片为一体结构，且第一方向A1和第二方向A2交叉，如图3-5所示，该第一方向A1与该第二方向A2垂直。可选地，该每个间隙区域Q1中设置的彩色滤光片可以为红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片中的任一种。
当目标屏蔽挡墙0031按照该第一种设置方式设置时，由于每个间隙区域Q1覆盖的多个像素区域S中设置的彩色滤光片为一体结构，该多个像素区域S之间无需设置目标屏蔽挡墙0031，使得该多个像素区域S中设置的彩色滤光片远离衬底基板001的表面为一平面(也即是每个间隙区域Q1上形成的彩色滤光片为整层结构)，该平面能够进一步地提高彩膜基板表面的平坦性，并且，还能够简化彩色滤光层004的制造工艺。
在第二种设置方式中，多个屏蔽挡墙在衬底基板001上的正投影请参考图3-6(为便于观看，图3-6中未示出黑矩阵)，多个屏蔽挡墙在衬底基板001上的正投影为网状投影0031c，该网状投影0031c包括阵列排布的多个开口区域Q2，其中，每个开口区域Q2覆盖一个像素区域S，且每个开口区域Q2中可以设置有一个彩色滤光片。可选地，该每个开口区域Q2中设置的彩色滤光片可以为红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片中的任一种。
步骤304、在屏蔽挡墙限定出的区域内形成彩色滤光溶液。
可选地，可以采用喷墨工艺向屏蔽挡墙限定出的区域内喷涂溶解有制造彩色滤光层的材料的溶液，以得到彩色滤光溶液。其中，彩色滤光溶液中不同颜色的溶液被多个屏蔽挡墙隔挡。
示例地，请参考图3-7，其示出了本发明实施例提供的一种在屏蔽膜层P限定出的区域内形成彩色滤光溶液C后的结构示意图。
步骤305、对屏蔽膜层和彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层。
实际应用中，对屏蔽膜层和彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，至少可以有以下两种可实现方式：
第一种可实现方式，先采用第一温度对彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到彩色滤光层，然后，采用第二温度对屏蔽膜层进行烘烤处理，以得到屏蔽层和熔融层。其中，第一温度低于热熔性材料的熔点，第二温度高于热熔性材料的熔点，示例地，假设热熔性材料的熔点为140摄氏度，则该第一温度可以为100摄氏度，该第二温度可以为150摄氏度。
采用第一温度对彩色滤光溶液进行烘烤处理的过程中，该彩色滤光溶液中的溶剂受热会蒸发，且该溶剂蒸发后彩色滤光溶液会热固化成彩色滤光层。示例地，图3-8为采用第一温度对图3-7所示的彩色滤光溶液C进行烘烤处理后得到的彩色滤光层004的结构示意图，将图3-7和图3-8进行对比可以看出：彩色滤光层004的厚度明显小于彩色滤光溶液C的厚度。
采用第二温度对屏蔽膜层进行烘烤处理的过程中，多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端(即未与彩色滤光层接触的部分)受热会熔化，熔化后的液体在重力作用下会流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，并且，在停止烘烤后，该熔化的部分会重新凝固成固体，该凝固后的固体即为形成在彩色滤光层远离衬底基板的表面上的多个熔融部，且该多个熔融部仍保持着流至彩色滤光层远离衬底基板的表面的状态，其高度小于该熔融部对应的屏蔽挡墙熔化之前的高度，也即是，熔融部的高度小于相关技术中制造相同厚度的彩色滤光层时所需的屏蔽膜层(即黑矩阵)的厚度，即有效地减小了屏蔽膜层与彩色滤光层之间的段差。
经过烘烤处理后，屏蔽膜层与彩色滤光层接触的部分未发生形变，该部分形成为屏蔽层，该屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，且该目标屏蔽挡墙在衬底基板上的正投影与步骤303中形成的多个屏蔽挡墙在衬底基板上的正投影的形状相同。
示例地，采用第二温度对图3-8所示的屏蔽膜层P进行烘烤处理后得到的屏蔽层和熔融层的结构示意图请参考图2-2，其中，屏蔽层包括多个目标目标屏蔽挡墙0031，熔融层包括多个熔融部0032，且将图3-8与图2-2进行对比可以看出：得到的屏蔽层和熔融层的总厚度(即目标目标屏蔽挡墙0031和熔融部0032的总厚度)明显小于屏蔽膜层P的厚度，有效地减小了熔融层与彩色滤光层之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性。
第二种可实现方式，先采用第一温度对彩色滤光溶液进行预烘烤处理，以蒸发彩色滤光溶液中的部分溶剂，然后，采用第二温度对彩色滤光溶液和屏蔽膜层进行烘烤处理，以得到屏蔽层、彩色滤光层和熔融层。其中，得到屏蔽层、彩色滤光层和熔融层的原理请参考第一种可实现方式中得到屏蔽层、彩色滤光层和熔融层的原理，此处不再赘述。
需要说明的是，在预烘烤处理过程中蒸发的部分溶剂的量需要满足：在采用第二温度进行烘烤处理时，蒸发了部分溶剂后的彩色滤光溶液中的溶液与熔化后的屏蔽膜层的液体不会混合。实际应用中，该蒸发的部分溶剂的量可以根据彩色滤光溶液中溶液的性质和热熔性材料的性质确定。
相较于第一种可实现方式，该第二种可实现方式能同时对彩色滤光溶液和屏蔽膜层进行烘烤处理，能够缩短彩膜基板的制造时间。
步骤306、在形成有彩色滤光层的衬底基板上形成上层覆盖层。
可以采用磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在衬底基板上沉积一层具有一定厚度的上层覆盖层材料，得到上层覆盖膜层，然后通过烘烤处理对上层覆盖膜层进行处理得到上层覆盖层。其中，上层覆盖层材料可以为聚甲基丙烯酸甲酯，且该上层覆盖膜层的厚度可以根据实际需要进行调整。
步骤307、在形成有上层覆盖层的衬底基板上形成隔垫物。
可选地，可以采用磁控溅射、热蒸发或者PECVD等方法在形成有上层覆盖层的衬底基板上沉积一层具有一定厚度的聚甲基丙烯酸甲酯或其他树脂材料，得到隔垫物材料层，然后通过一次构图工艺对隔垫物材料层进行处理得到隔垫物(英文：Photo Spacer；简称：PS)。示例地，在形成有彩色滤光层004的衬底基板001上依次形成上层覆盖层005和隔垫物006后的结构示意图请参考图3-9。
需要说明的是，在执行步骤305时，可以通过控制热熔性材料的用量和对屏蔽膜层进行烘烤处理的时长，使最终形成在衬底基板上的熔融层为一体结构(请参考图3-10)，且使该熔融层远离衬底基板的表面与衬底基板001的表面平行(理想状态下，该两个表面是平行的，但在实际应用中，由于工艺误差等因素的存在，该两个表面之间可能存在微小的夹角，此时，也可以将该两个表面视为平行)。例如：采用第二温度对屏蔽膜层进行烘烤处理，以得到屏蔽层和熔融层的过程，可以包括：采用第二温度对屏蔽膜层进行烘烤处理，使得多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化，直至融化后的多个屏蔽挡墙对应的热熔性材料在彩色滤光层远离衬底基板的表面上形成为一个整体，停止烘烤。待融化的热熔性材料凝固后，即可得到形成为一体结构且远离衬底基板的表面与衬底基板的表面平行的熔融层。
当熔融层为一体结构且远离衬底基板的表面与衬底基板的表面平行时，可将该熔融层用作上层覆盖层，这样就无需再在彩色滤光层上形成上层覆盖层，即无需执行步骤306，减少了制造上层覆盖层的制造过程，能够简化彩膜基板的制造工艺。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法，通过该方法制造的彩膜基板包括依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，且熔融层包括多个熔融部，该多个熔融部是由多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，形成在彩色滤光层远离衬底基板的表面上的，由于热熔性材料熔化后的液体在重力作用下会流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，使得其凝固后形成的熔融部的高度小于该熔融部对应的屏蔽挡墙的高度，也即是，熔融层的厚度小于相关技术中制造相同厚度的彩色滤光层时所需的屏蔽膜层(即黑矩阵)的厚度，有效地减小了屏蔽膜层与彩色滤光层之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性，减小了该平坦性对彩膜基板的取向效果的影响，使得液晶能够按照预设方向排列，从而保证了显示面板的显示性能。
需要说明的是，本发明实施例提供的彩膜基板的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，例如：在实际应用中可以选择不执行步骤306。任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本发明的保护范围之内，因此不再赘述。
本发明实施例提供了一种彩膜基板，请参考图2-2，该彩膜基板00可以包括：
设置在衬底基板001上的黑矩阵002。
设置有黑矩阵002的衬底基板上设置有依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层004和熔融层，彩色滤光层004包括多个彩色滤光片，屏蔽层包括多个目标目标屏蔽挡墙0031，熔融层包括多个熔融部0032。
其中，多个熔融部0032为多个屏蔽挡墙远离衬底基板001的一端受热熔化并凝固后，在彩色滤光层004远离衬底基板001的表面上的形成的，多个屏蔽挡墙属于采用热熔性材料在黑矩阵002所在区域内形成的屏蔽膜层，多个目标屏蔽挡墙0031是多个屏蔽挡墙的其他部分形成的，彩色滤光层004中不同颜色的彩色滤光片被多个目标屏蔽挡墙0031隔挡。该目标目标屏蔽挡墙0031在垂直于衬底基板001的表面的截面可以呈矩形或者梯形。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板，该彩膜基板包括依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，且熔融层包括多个熔融部，该多个熔融部是由多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，形成在彩色滤光层远离衬底基板的表面上的，由于热熔性材料熔化后的液体在重力作用下会流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，使得其凝固后形成的熔融部的高度小于该熔融部对应的屏蔽挡墙的高度，也即是，熔融层的厚度小于相关技术中制造相同厚度的彩色滤光层时所需的屏蔽膜层(即黑矩阵)的厚度，有效地减小了屏蔽膜层与彩色滤光层之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性，减小了该平坦性对彩膜基板的取向效果的影响，使得液晶能够按照预设方向排列，从而保证了显示面板的显示性能。
可选地，彩色滤光层004可以包括多个彩色滤光片，根据彩色滤光片的不同设置方式，上述目标屏蔽挡墙0031可以按照以下两种方式设置在衬底基板上：
在第一种设置方式中，目标屏蔽挡墙0031在衬底基板001上的正投影请参考图3-5，多个目标屏蔽挡墙0031在衬底基板001上的正投影为多个沿第一方向A1排布的条状投影0031b，每两个条状投影0031b之间的间隙区域Q1覆盖多个沿第二方向A2排布的所述像素区域S，且每个间隙区域Q1中设置有一个彩色滤光片(也即是每个间隙区域Q1上形成的彩色滤光片为整层结构)，该第一方向A1和该第二方向A2交叉，如图3-5所示，该第一方向A1与该第二方向A2垂直。可选地，该每个间隙区域Q1中设置的彩色滤光片可以为红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片中的任一种。
在第二种设置方式中，目标屏蔽挡墙0031在衬底基板001上的正投影请参考图3-6，其正投影为网状投影0031c，该网状投影0031c包括阵列排布的多个开口区域Q2，其中，每个开口区域Q2覆盖一个像素区域S，且每个开口区域Q2中设置有一个彩色滤光片。可选地，该每个开口区域Q2中设置的彩色滤光片可以为红色彩色滤光片、绿色彩色滤光片和蓝色彩色滤光片中的任一种。
该屏蔽材料可以为热熔性材料，或者，该屏蔽材料也可以为透明的热熔性材料，或者，该屏蔽材料还可以为较高解析度的热熔性材料。示例地，该热熔性材料可以为制成上层覆盖层的材料与光起始剂的混合物，例如：该材料可以为聚甲基丙烯酸甲酯和光起始剂的混合物。
进一步地，请参考图3-9，该彩膜基板还可以包括：依次层叠设置在彩色滤光层004上的上层覆盖层005和隔垫物006。可选地，该彩膜基板远离衬底基板001的表面上还可以形成有取向层，以实现彩膜基板的取向。并且，由于熔融部0032有效地减小了熔融部0032与彩色滤光层004之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性，因此，该形成在彩膜基板表面的取向层可以具有较好的均一性，能够保证彩膜基板的取向效果。或者，该取向层也可以形成在上层覆盖层005和隔垫物006之间，本发明实施例对其不作具体限定。
可选地，请参考图3-10，熔融层可以为一体结构，也即是，熔融层中的多个熔融部0032可以为一体结构，且熔融层远离衬底基板001的表面与衬底基板001的表面平行。
当熔融层为一体结构，且该熔融层远离衬底基板001的表面与衬底基板001的表面平行时，可将该熔融层用作彩膜基板上的上层覆盖层，这样就无需再在彩色滤光层004上设置上层覆盖层，能够简化彩膜基板的制造工艺。
综上所述，本发明实施例提供的彩膜基板，该彩膜基板包括依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，且熔融层包括多个熔融部，该多个熔融部是由多个屏蔽挡墙远离衬底基板的一端受热熔化并凝固后，形成在彩色滤光层远离衬底基板的表面上的，由于热熔性材料熔化后的液体在重力作用下会流至彩色滤光层远离衬底基板的表面，使得其凝固后形成的熔融部的高度小于该熔融部对应的屏蔽挡墙的高度，也即是，熔融层的厚度小于相关技术中制造相同厚度的彩色滤光层时所需的屏蔽膜层(即黑矩阵)的厚度，有效地减小了屏蔽膜层与彩色滤光层之间的段差，提高了彩膜基板表面的平坦性，减小了该平坦性对彩膜基板的取向效果的影响，使得液晶能够按照预设方向排列，从而保证了显示面板的显示性能。
本发明实施例还提供了一种显示面板，其包括本发明实施例提供的任一彩膜基板。该显示面板可以为：液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件的显示面板。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在衬底基板上形成黑矩阵；
采用热熔性材料在所述黑矩阵所在区域内形成屏蔽膜层，所述屏蔽膜层包括多个屏蔽挡墙；
在所述屏蔽挡墙限定出的区域内形成彩色滤光溶液，其中，所述彩色滤光溶液中不同颜色的溶液被所述多个屏蔽挡墙隔挡，所述屏蔽膜层的厚度大于或等于制造预设厚度的彩色滤光层时所需的彩色滤光溶液的高度；
采用第一温度对所述彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到彩色滤光层，所述第一温度低于所述热熔性材料的熔点，采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，使得所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化，直至融化后的多个屏蔽挡墙对应的所述热熔性材料在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成为一个整体，停止烘烤，得到屏蔽层和熔融层，所述第二温度高于所述热熔性材料的熔点，所述屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，所述熔融层包括多个熔融部；
其中，所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成所述多个熔融部，所述多个屏蔽挡墙的其他部分形成所述多个目标屏蔽挡墙。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为多个沿第一方向排布的条状投影，每两个条状投影之间的间隙区域覆盖多个沿第二方向排布的所述像素区域，且每个间隙区域中设置有一个彩色滤光片，所述第一方向和所述第二方向交叉。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为网状投影，所述网状投影包括阵列排布的多个开口区域，每个开口区域覆盖一个所述像素区域，且每个开口区域中设置有一个彩色滤光片。
4.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
设置在衬底基板上的黑矩阵；
设置有所述黑矩阵的所述衬底基板上设置有依次叠加的屏蔽层、彩色滤光层和熔融层，所述彩色滤光层包括多个彩色滤光片，所述屏蔽层包括多个目标屏蔽挡墙，所述熔融层包括多个熔融部；
其中，所述多个熔融部为多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化并凝固后，在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上的形成的，所述多个屏蔽挡墙属于采用热熔性材料在所述黑矩阵所在区域内形成的屏蔽膜层，所述多个目标屏蔽挡墙是所述多个屏蔽挡墙的其他部分形成的，所述彩色滤光层中不同颜色的彩色滤光片被所述多个目标屏蔽挡墙隔挡；
所述屏蔽膜层的厚度大于或等于制造预设厚度的彩色滤光层时所需的彩色滤光溶液的高度，采用第一温度对彩色滤光溶液进行烘烤处理，以得到所述彩色滤光层，所述第一温度低于所述热熔性材料的熔点，采用第二温度对所述屏蔽膜层进行烘烤处理，使得所述多个屏蔽挡墙远离所述衬底基板的一端受热熔化，直至融化后的多个屏蔽挡墙对应的所述热熔性材料在所述彩色滤光层远离所述衬底基板的表面上形成为一个整体，停止烘烤，所述第二温度高于所述热熔性材料的熔点。
5.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影限定出阵列排布的多个像素区域，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为多个沿第一方向排布的条状投影，每两个条状投影之间的间隙区域覆盖多个沿第二方向排布的所述像素区域，且每个间隙区域中设置有一个彩色滤光片，所述第一方向和所述第二方向交叉；
或者，所述多个目标屏蔽挡墙在所述衬底基板上的正投影为网状投影，所述网状投影包括阵列排布的多个开口区域，每个开口区域覆盖一个所述像素区域，且每个开口区域中设置有一个彩色滤光片。
6.根据权利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述熔融层为一体结构，所述熔融层远离所述衬底基板的表面与所述衬底基板的表面平行。
7.根据权利要求4至6任一所述的彩膜基板，其特征在于，
所述热熔性材料为透明的材料。
8.一种显示面板，其特征在于，包括：权利要求4至7任一所述的彩膜基板。
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