JPH0737426B2 - 新規ベンジルアンモニウム塩 - Google Patents
新規ベンジルアンモニウム塩Info
- Publication number
- JPH0737426B2 JPH0737426B2 JP1142541A JP14254189A JPH0737426B2 JP H0737426 B2 JPH0737426 B2 JP H0737426B2 JP 1142541 A JP1142541 A JP 1142541A JP 14254189 A JP14254189 A JP 14254189A JP H0737426 B2 JPH0737426 B2 JP H0737426B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- hexafluoroantimonate
- group
- chloride
- synthesis
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Polyethers (AREA)
- Polymerization Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 本発明の背景 これまでカチオン重合し得るモノマーのカチオン重合反
応の開始剤としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト触媒、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、
光で開裂するオニウム塩(イオウ、セレン、テルル)ま
たはジアリルヨードニウム塩、熱的に開裂する芳香族ま
たは脂肪酸スルホニウム塩などが知られている。これら
のうち熱的に開裂してカルボニウムカチオンを生じ得る
開始剤(熱潜在性カチオン開始剤)は、例えば一液型エ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用すると常温では反応せ
ず、120℃以上のような高温において重合反応を開始さ
せるので、ポットライフおよび貯蔵安定性を向上させる
硬化剤として注目されている。特開昭58−37003および
同58−37004参照。しかしながらスルホニウム塩型開始
剤は副生するイオン化合物が悪臭を発し、使用面で制約
を受ける。
応の開始剤としては、塩化アルミニウム等のフリーデル
クラフト触媒、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体、
光で開裂するオニウム塩(イオウ、セレン、テルル)ま
たはジアリルヨードニウム塩、熱的に開裂する芳香族ま
たは脂肪酸スルホニウム塩などが知られている。これら
のうち熱的に開裂してカルボニウムカチオンを生じ得る
開始剤(熱潜在性カチオン開始剤)は、例えば一液型エ
ポキシ樹脂の硬化剤として使用すると常温では反応せ
ず、120℃以上のような高温において重合反応を開始さ
せるので、ポットライフおよび貯蔵安定性を向上させる
硬化剤として注目されている。特開昭58−37003および
同58−37004参照。しかしながらスルホニウム塩型開始
剤は副生するイオン化合物が悪臭を発し、使用面で制約
を受ける。
本発明者らの特願平1−79468号は、悪臭を発生しない
熱潜在性カチオン開始剤としてベンジルアンモニウム塩
型化合物を開示している。またこの化合物は重合物(硬
化物)を着色しない利点がある。
熱潜在性カチオン開始剤としてベンジルアンモニウム塩
型化合物を開示している。またこの化合物は重合物(硬
化物)を着色しない利点がある。
本発明者はその後の研究により、このベンジルアンモニ
ウム塩型化合物のベンジル基のα位へ置換基を導入する
ことにより、開裂してベンジルカチオンを発生する温度
を低くすることに成功した。
ウム塩型化合物のベンジル基のα位へ置換基を導入する
ことにより、開裂してベンジルカチオンを発生する温度
を低くすることに成功した。
本発明の開示 本発明は、式I の新規ベンジルアンモニウム塩を提供する。
式中、R1,R2,R3は水素,塩素,メチル基またはニトロ基
から選ばれる基であり、 R4,R5は一方が水素で他方が塩素またはメチル基から選
ばれる基であるか、または両方が塩素またはメチル基か
ら選ばれる基であり、 R6,R7,R8はメチル基,エチル基,2−ヒドロキシエチル基
またはフェニル基から選ばれる基であり、 MはAs,Sb,BまたはPであり、 Xはハロゲンであり、 nはMがBである時は4であり、他の場合は6である。
から選ばれる基であり、 R4,R5は一方が水素で他方が塩素またはメチル基から選
ばれる基であるか、または両方が塩素またはメチル基か
ら選ばれる基であり、 R6,R7,R8はメチル基,エチル基,2−ヒドロキシエチル基
またはフェニル基から選ばれる基であり、 MはAs,Sb,BまたはPであり、 Xはハロゲンであり、 nはMがBである時は4であり、他の場合は6である。
式Iにおいてアルキルおよびアルケニル(それから誘導
される基のアルキル部分を含む)の炭素数は好ましくは
4以下である。
される基のアルキル部分を含む)の炭素数は好ましくは
4以下である。
式Iの化合物は、式II (式中、R6,R7,R8は前記に同じ。)の3級アミンを、式
III (式中、R1,R2,R3,R4,R5は前記に同じ。)のα−置換ベ
ンジルハライドで4級化し、生成する4級アンモニウム
のハライド陰イオンをMXn-陰イオンで交換することがで
きる。すなわち式Iのアンモニウム塩の対応するアンモ
ニウムハライドに、MXn-イオンのアルカリ金属塩を反応
させる。
III (式中、R1,R2,R3,R4,R5は前記に同じ。)のα−置換ベ
ンジルハライドで4級化し、生成する4級アンモニウム
のハライド陰イオンをMXn-陰イオンで交換することがで
きる。すなわち式Iのアンモニウム塩の対応するアンモ
ニウムハライドに、MXn-イオンのアルカリ金属塩を反応
させる。
式Iの化合物は、温度が上昇するとき開裂して対応する
カルボニウムカチオン、式 を生じ、オレフィン類、ビニルエーテル、スチレン誘導
体、ジエン類、カルボニル化合物、環状エーテル、エポ
キシド、環状エステル、環状アミドなどのカチオン重合
し得るモノマーの重合連鎖反応を開始させる。しかし常
温では殆ど不活性であるが、加熱して始めて開始剤とし
ての機能を発揮するので、例えば一液型エポキシ樹脂の
硬化剤などその熱潜在性を利用する用途に適している。
カルボニウムカチオン、式 を生じ、オレフィン類、ビニルエーテル、スチレン誘導
体、ジエン類、カルボニル化合物、環状エーテル、エポ
キシド、環状エステル、環状アミドなどのカチオン重合
し得るモノマーの重合連鎖反応を開始させる。しかし常
温では殆ど不活性であるが、加熱して始めて開始剤とし
ての機能を発揮するので、例えば一液型エポキシ樹脂の
硬化剤などその熱潜在性を利用する用途に適している。
実施例1 N−α−メチルベンジル−N,N−ジメチルアニリニウム
ヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−メチルベンジルクロライド4.218g(0.03mol)及び
N,N−ジメチルアニリン3.638g(0.03mol)をメタノール
40mlに溶解し、40℃で3日間反応させた。
ヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−メチルベンジルクロライド4.218g(0.03mol)及び
N,N−ジメチルアニリン3.638g(0.03mol)をメタノール
40mlに溶解し、40℃で3日間反応させた。
反応終了溶液をエバポレーターで揮散させ、水−エーテ
ルを加え未反応物をエーテル層へ抽出し塩化物を精製し
た。
ルを加え未反応物をエーテル層へ抽出し塩化物を精製し
た。
水層の塩化物にソジウムヘキサフルオロアンチモネート
7.77g(0.03mol)を加え、表記化合物を得た。
7.77g(0.03mol)を加え、表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),3.6ppm(s,6H,Me),4.8−4.9ppm
(q,1H,CH),7.1−7.6ppm(m,10H,Ph) 実施例2 N−2−ヒドロキシエチル−N−α−メチルベンジル−
N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネ
ートの合成 α−メチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノー
ルアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを
用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得た。
(q,1H,CH),7.1−7.6ppm(m,10H,Ph) 実施例2 N−2−ヒドロキシエチル−N−α−メチルベンジル−
N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネ
ートの合成 α−メチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノー
ルアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを
用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),2.9−3.0(t,6H,Me),3.1ppm(s,6
H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,CH2),
4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例3 N−α−メチルベンジル−N,N,N−トリメチルアンモニ
ウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−メチルベンジルクロライド,トリメチルアミン及び
ソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて実施例
1と同様の方法により表記化合物を得た。
H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,CH2),
4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例3 N−α−メチルベンジル−N,N,N−トリメチルアンモニ
ウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−メチルベンジルクロライド,トリメチルアミン及び
ソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて実施例
1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),3.1ppm(s,9H,Me),4.8ppm(q,1H,C
H),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例4 N−2−ヒドロキシエチル−N−p−クロロ−α−メチ
ルベンジル−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオ
ロアンチモネートの合成 p−クロロ−α−メチルベンジルクロライド,ジメチル
エタノールアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモ
ネートを用いて実施例1と同様の方法により表記化合物
を得た。
H),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例4 N−2−ヒドロキシエチル−N−p−クロロ−α−メチ
ルベンジル−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオ
ロアンチモネートの合成 p−クロロ−α−メチルベンジルクロライド,ジメチル
エタノールアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモ
ネートを用いて実施例1と同様の方法により表記化合物
を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),2.9−3.0ppm(t,6H,Me),3.1ppm
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例5 N−p−メチル−α−メチルベンジル−N,N,N−トリメ
チルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 p−メチル−α−メチルベンジルクロライド,トリメチ
ルアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを
用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得た。
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例5 N−p−メチル−α−メチルベンジル−N,N,N−トリメ
チルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 p−メチル−α−メチルベンジルクロライド,トリメチ
ルアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを
用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),2.3ppm(s,3H,Me),3.1ppm(s,9H、
Me),4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例6 N−α−メチルベンジル−N,N,N−トリメチルアンモニ
ウムヘキサフルオロフォスフェートの合成 α−メチルベンジルクロライド,トリメチルアミン及び
ソジウムヘキサフルオロフォスフェートを用いて実施例
1と同様の方法により表記化合物を得た。
Me),4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例6 N−α−メチルベンジル−N,N,N−トリメチルアンモニ
ウムヘキサフルオロフォスフェートの合成 α−メチルベンジルクロライド,トリメチルアミン及び
ソジウムヘキサフルオロフォスフェートを用いて実施例
1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),3.1ppm(s,9H,Me),4.8ppm(q,1H,C
H),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例7 N−2−ヒドロキシエチル−N−p−クロロ−α−メチ
ルベンジル−N,N−ジメチルアンモニウムテトラフルオ
ロボレートの合成 p−クロロ−α−メチルベンジルクロライド,ジメチル
エタノールアミン及びソジウムテトラフルオロボレート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
H),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例7 N−2−ヒドロキシエチル−N−p−クロロ−α−メチ
ルベンジル−N,N−ジメチルアンモニウムテトラフルオ
ロボレートの合成 p−クロロ−α−メチルベンジルクロライド,ジメチル
エタノールアミン及びソジウムテトラフルオロボレート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(d,3H,Me),2.9−3.0ppm(t,6H,Me),3.1ppm
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例8 N−α−ジメチルベンジル−N,N−ジメチルアニリニウ
ムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルアニリ
ン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて
実施例1と同様の方法により表記化合物を得た。
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),4.8ppm(q,1H,CH),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例8 N−α−ジメチルベンジル−N,N−ジメチルアニリニウ
ムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルアニリ
ン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて
実施例1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),3.6ppm(s,6H,Me),7.1−7.6ppm
(m,10H,Ph) 実施例9 N−2−ヒドロキシエチル−N−α−ジメチルベンジル
−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオロアンチモ
ネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノ
ールアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
(m,10H,Ph) 実施例9 N−2−ヒドロキシエチル−N−α−ジメチルベンジル
−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオロアンチモ
ネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノ
ールアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),2.9−3.0ppm(t,6H,Me),3.1ppm
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例10 N−α−ジメチルベンジル−N,N,N−トリエチルアンモ
ニウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,トリエチルアミン及
びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて実施
例1と同様の方法により表記化合物を得た。
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例10 N−α−ジメチルベンジル−N,N,N−トリエチルアンモ
ニウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,トリエチルアミン及
びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて実施
例1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),2.9−3.0ppm(t,9H,Me),3.3−3.4p
pm(q,6H,CH2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例11 N−α−ジメチルベンジル−N,N,N−トリメチルアンモ
ニウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,トリメチルアミン及
びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて実施
例1と同様の方法により表記化合物を得た。
pm(q,6H,CH2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例11 N−α−ジメチルベンジル−N,N,N−トリメチルアンモ
ニウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,トリメチルアミン及
びソジウムヘキサフルオロアンチモネートを用いて実施
例1と同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),3.1ppm(s,9H,Me),7.5−7.6ppm
(m,5H,Ph) 実施例12 N−p−ニトロ−α−ジメチルベンジル−N,N−ジメチ
ルアニリウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 p−ニトロ−α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジ
メチルアニリン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネ
ートを用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を
得た。
(m,5H,Ph) 実施例12 N−p−ニトロ−α−ジメチルベンジル−N,N−ジメチ
ルアニリウムヘキサフルオロアンチモネートの合成 p−ニトロ−α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジ
メチルアニリン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネ
ートを用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を
得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),3.6ppm(s,6H,Me),7.1−7.6ppm
(m,9H,Ph) 実施例13 N−2−ヒドロキシエチル−N−p−メチル−α−ジメ
チルベンジル−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフル
オロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノ
ールアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
(m,9H,Ph) 実施例13 N−2−ヒドロキシエチル−N−p−メチル−α−ジメ
チルベンジル−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフル
オロアンチモネートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノ
ールアミン及びソジウムヘキサフルオロアンチモネート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),2.9−3.0ppm(t,6H,Me),3.1−3.2p
pm(s,9H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2
H,CH2),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例14 N−2−ヒドロキシエチル−N−α−ジメチルベンジル
−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオロフォスフ
ェートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノ
ールアミン及びソジウムヘキサフルオロフォスフェート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
pm(s,9H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2
H,CH2),7.5−7.6ppm(m,4H,Ph) 実施例14 N−2−ヒドロキシエチル−N−α−ジメチルベンジル
−N,N−ジメチルアンモニウムヘキサフルオロフォスフ
ェートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,N,N−ジメチルエタノ
ールアミン及びソジウムヘキサフルオロフォスフェート
を用いて実施例1と同様の方法により表記化合物を得
た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),2.9−3.0ppm(t,6H,Me),3.1ppm
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例15 N−α−ジメチルベンジル−N,N,N−トリエチルアンモ
ニウムテトラフルオロボレートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,トリエチルアミン及
びソジウルテトラフルオロボレートを用いて実施例1と
同様の方法により表記化合物を得た。
(s,6H,Me),3.3−3.4ppm(q,2H,CH2),3.9ppm(q,2H,C
H2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph) 実施例15 N−α−ジメチルベンジル−N,N,N−トリエチルアンモ
ニウムテトラフルオロボレートの合成 α−ジメチルベンジルクロライド,トリエチルアミン及
びソジウルテトラフルオロボレートを用いて実施例1と
同様の方法により表記化合物を得た。
この化合物のNMRスペクトルを以下に示した。
1.7ppm(s,6H,Me),2.9−3.0ppm(t,9H,Me),3.3−3.4p
pm(q,6H,CH2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph)
pm(q,6H,CH2),7.5−7.6ppm(m,5H,Ph)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08G 65/02 NQE
Claims (1)
- 【請求項1】式 の新規ベンジルアンモニウム塩。 式中、R1,R2,R3は水素,塩素,メチル基またはニトロ基
から選ばれる基であり、 R4,R5は一方が水素で他方が塩素またはメチル基から選
ばれる基であるか、または両方が塩素またはメチル基か
ら選ばれる基であり、 R6,R7,R8はメチル基,エチル基,2−ヒドロキシエチル基
またはフェニル基から選ばれる基であり、 MはAs,Sb,BまたはPであり、 Xはハロゲンであり、 nはMがBである時は4であり、他の場合は6である。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1142541A JPH0737426B2 (ja) | 1989-06-05 | 1989-06-05 | 新規ベンジルアンモニウム塩 |
AU56126/90A AU627316B2 (en) | 1989-06-05 | 1990-05-31 | Antimony, arsenic, boron and phosphorous halide salts of quaternary ammonium compounds |
US07/532,716 US5132377A (en) | 1989-06-05 | 1990-06-04 | Heat-latent, cationic polymerization initiator and resin compositions containing the same |
CA002018173A CA2018173C (en) | 1989-06-05 | 1990-06-04 | Heat-latent, cationic polymerization initiator and resin compositions containing the same |
EP90110649A EP0401770B1 (en) | 1989-06-05 | 1990-06-05 | Heat-latent, cationic polymerization initiator and resin composition containing the same |
EP95100720A EP0651002A3 (en) | 1989-06-05 | 1990-06-05 | Heat latent, cationic polymerization initiator and resin compositions containing the same. |
DE69030600T DE69030600T2 (de) | 1989-06-05 | 1990-06-05 | Wärmelatenter, kationischer Polymerisationsinitiator und diesen enthaltende Harzzusammensetzungen |
KR1019900008291A KR0157622B1 (ko) | 1989-06-05 | 1990-06-05 | 잠열형 양이온 중합 개시제 및 이것을 함유하는 수지합성물 |
AU17227/92A AU640085B2 (en) | 1989-06-05 | 1992-05-28 | Antimony, arsenic, boron and phosphorous halide salts of oxazolidinium compounds and resin compositions containing the same |
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